JP6975463B2 - 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法 - Google Patents

金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6975463B2
JP6975463B2 JP2018507595A JP2018507595A JP6975463B2 JP 6975463 B2 JP6975463 B2 JP 6975463B2 JP 2018507595 A JP2018507595 A JP 2018507595A JP 2018507595 A JP2018507595 A JP 2018507595A JP 6975463 B2 JP6975463 B2 JP 6975463B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal layer
etch resist
chemically
activated
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2018507595A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2018527463A (ja
JP2018527463A5 (ja
Inventor
シュパイスマン、ナバ
フレンケル、モシェ
Original Assignee
カティーバ, インコーポレイテッド
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by カティーバ, インコーポレイテッド filed Critical カティーバ, インコーポレイテッド
Publication of JP2018527463A publication Critical patent/JP2018527463A/ja
Publication of JP2018527463A5 publication Critical patent/JP2018527463A5/ja
Priority to JP2021121139A priority Critical patent/JP7288644B2/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6975463B2 publication Critical patent/JP6975463B2/ja
Priority to JP2023083553A priority patent/JP2023116478A/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/92Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof prepared from printing surfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • C23F1/02Local etching
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41MPRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
    • B41M5/00Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
    • B41M5/0041Digital printing on surfaces other than ordinary paper
    • B41M5/0058Digital printing on surfaces other than ordinary paper on metals and oxidised metal surfaces
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/02Printing inks
    • C09D11/10Printing inks based on artificial resins
    • C09D11/101Inks specially adapted for printing processes involving curing by wave energy or particle radiation, e.g. with UV-curing following the printing
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09DCOATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D11/00Inks
    • C09D11/30Inkjet printing inks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23FNON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
    • C23F1/00Etching metallic material by chemical means
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2014Contact or film exposure of light sensitive plates such as lithographic plates or circuit boards, e.g. in a vacuum frame
    • G03F7/2016Contact mask being integral part of the photosensitive element and subject to destructive removal during post-exposure processing
    • G03F7/2018Masking pattern obtained by selective application of an ink or a toner, e.g. ink jet printing
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0002Apparatus or processes for manufacturing printed circuits for manufacturing artworks for printed circuits
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0011Working of insulating substrates or insulating layers
    • H05K3/0017Etching of the substrate by chemical or physical means
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/0073Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces
    • H05K3/0079Masks not provided for in groups H05K3/02 - H05K3/46, e.g. for photomechanical production of patterned surfaces characterised by the method of application or removal of the mask
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • H05K3/06Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding the conductive material being removed chemically or electrolytically, e.g. by photo-etch process
    • H05K3/061Etching masks
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10KORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K71/00Manufacture or treatment specially adapted for the organic devices covered by this subclass
    • H10K71/10Deposition of organic active material
    • H10K71/12Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating
    • H10K71/13Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing
    • H10K71/135Deposition of organic active material using liquid deposition, e.g. spin coating using printing techniques, e.g. ink-jet printing or screen printing using ink-jet printing
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/01Tools for processing; Objects used during processing
    • H05K2203/0104Tools for processing; Objects used during processing for patterning or coating
    • H05K2203/013Inkjet printing, e.g. for printing insulating material or resist
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/03Metal processing
    • H05K2203/0392Pretreatment of metal, e.g. before finish plating, etching
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/05Patterning and lithography; Masks; Details of resist
    • H05K2203/0562Details of resist
    • H05K2203/0582Coating by resist, i.e. resist used as mask for application of insulating coating or of second resist
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/11Treatments characterised by their effect, e.g. heating, cooling, roughening
    • H05K2203/1173Differences in wettability, e.g. hydrophilic or hydrophobic areas

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)

Description

本発明の実施形態は、インクジェット印刷などのノンインパクト配向(非衝撃式の方向付け)を使用したエッチングレジストマスクの適用によるプリント回路基板の製造に関する。
プリント回路基板(PCB)は、ほとんどの電子製品で広く使用されている。PCBの製造は、ポイント・ツー・ポイント構成などの他の配線方法を使用する場合よりも、より安価で、迅速で、正確であると考えられている。それでも、高品質を維持するとともに、コスト効率の良い小さいバッチ、スループットの高いより大きいバッチ、オンデマンド基板、より高密度の配線を有する基板、より細い線を有する基板その他の製造を含む特定の要件に応じたPCBの生産を可能とする、より簡単でコスト効率の高い製造プロセスの探索が続けられている。
PCBの製造プロセスにおける銅線パターニングは、通常、絶縁材料基板に積層された銅層上にエッチレジストフォトマスクを適用し、露出した銅部分をエッチングプロセスによって除去し、所望の銅線のみを導電経路として残す(イメージパターニングともいう)ことによって行われる。エッチレジストパターンは、例えば銅層上にノンインパクト印刷(例えば、インクジェット印刷)によって、アディティブ法によって適用することもできる。従来のインクジェット材料は比較的低粘度であり、従ってインク液滴が銅表面のような非吸収性表面に当たると、通常は、制御されていない液滴の拡散とともに、クラスタリング、インク合体および広範なドットゲイン等の他の現象が発生する。従って、インクジェット印刷技術によって形成された印刷パターンは、細部が不足し、線幅が不均一であり、ラインエッジ平滑性が不十分であり、隣接する導電線間の短絡およびパターン線の断線の発生など銅線の品質低下が生ずる可能性がある。
本発明の実施形態は、基板上に金属パターンを形成する方法を含む。前記方法は、金属表面を化学的に活性化させる活性化剤を有する化学的表面活性化溶液を前記基板に結合された前記金属表面上に適用するステップと、活性化された前記金属表面上にエッチレジストインクをノンインパクト印刷して、所定のパターンに従ってエッチレジストマスクを生成するステップであって、前記エッチレジストインク中の少なくとも1つのインク成分が、活性化された前記金属表面と化学反応を起こして前記エッチレジストインクの液滴を固定化する、該ステップと、前記エッチレジストマスクで覆われていない非マスクの金属部分を除去するエッチングプロセスを行うステップと、前記エッチレジストマスクを除去するステップとを含むことを特徴とし得る。
一部の実施形態では、本発明の実施形態に従って形成される前記金属パターンは、50μm未満の幅を有する金属線を含む。一部の実施形態では、本発明の実施形態に従って製造される前記エッチレジストマスクは、50μm未満の幅を有する線を含む。一部の実施形態では、本発明の実施形態に従って形成される前記金属パターンは、30μm未満の幅を有する金属線を含む。一部の実施形態では、本発明の実施形態に従って製造される前記エッチレジストマスクは、30μm未満の幅を有する線を含む。
一部の実施形態では、前記方法は、印刷する前に、溶媒を用いて前記金属表面から前記化学的表面活性化溶液を除去するステップをさらに含む。一部の実施形態では、前記化学反応を起こす前記インク成分はアニオン陰イオン成分である。一部の実施形態では、活性化された前記金属表面との化学反応を起こす前記インク成分は、アクリレート、ホスフェート、スルホネートまたはそれらの混合物から選択されるポリマー成分である。一部の実施形態では、前記活性化剤は、銅塩、第二鉄塩、クロム硫酸、過硫酸塩、亜塩素酸ナトリウムおよび過酸化水素の少なくとも1つまたはそれらの混合物を含む。
一部の実施形態では、前記適用するステップは、約10〜60秒間、前記化学的表面活性化溶液を含む槽に前記金属表面を浸漬するステップを含む。一部の実施形態では、前記適用するステップは、前記化学的表面活性化溶液を前記金属表面の上にスプレーするステップを含む。一部の実施形態では、前記ノンインパクト印刷が、インクジェット印刷を含む。
本発明とみなされる主題は、本明細書の結論部分において特に指摘され明確に主張される。しかし、本発明は、構成および動作方法の両方に関して、それらの目的、特徴、および利点とともに、添付の図面を参照しながら以下の詳細な説明を参照することによって最もよく理解することができる。
説明を簡単かつ明瞭にするために、図面に示される要素は、必ずしも縮尺通りに描かれていないことを理解されたい。例えば、いくつかの要素の寸法は、明確化のために他の要素に対して大きく誇張されていることがある。更に、適切であると考えられる場合には、複数の図面で同じ参照番号を使用して、対応するまたは類似の要素を示していることがある。
図1は、本発明のいくつかの実施形態によるエッチレジストマスクの製造方法の流れ図である。 図2Aは、非活性化銅の上に印刷された例示的なエッチレジストマスクの写真を示す図である。 図2Bは、本発明の実施形態による活性化された銅表面に印刷された例示的なエッチレジストマスクの写真を示す図である。
以下の詳細な説明では、本発明が完全に理解されるようにするため、多数の特定の詳細が記載されている。しかし、当業者であれば、本発明はこれらの具体例の通りでなくても実施できることを理解するであろう。他の例では、本発明が不明確にならないように、周知の方法、手順、および構成要素については詳細に説明していない。
本発明の実施形態は、例えばプリント回路基板(PCB)の製造中に、インクジェット印刷などのノンインパクト印刷によって金属層上にエッチレジストマスクを形成または適用する方法に関する。本発明の実施形態による金属表面上にエッチレジストマスクを適用する方法では、第1の反応性成分を含む第1の液体組成物を表面に適用してプライマー層を形成した後、プライマー層上に第2の反応性成分を含む第2の液体組成物を印刷して、所定のパターンに従ったエッチレジストマスクを生成する。金属表面の上に化学的表面活性化溶液を適用して前記金属表面を化学的に活性化した後、化学的表面活性化溶液を表面から除去/洗浄し、活性化された表面の上にエッチレジストインクを印刷(例えばインクジェット印刷)することを含む。本発明の実施形態によれば、エッチレジストインクの反応性成分は、表面に当たったときに活性化表面との化学反応を起こし、エッチレジストインクの液体組成物の液滴を固定化する。前記化学反応は、活性化された表面に当たったときに瞬時にインク液滴の粘度を著しく(例えば、1桁または2桁の大きさだけ)増加させ得る。
いくつかの実施形態では、エッチレジストインク(インク成分)中の反応性成分はエッチレジスト成分であってよく、他の実施形態では、反応成分はエッチレジスト成分とは異なっていてもよい。いくつかの実施形態によれば、エッチレジストインクの2以上の反応性成分が、活性化された表面上の成分と化学反応を起こすことができる。
金属層は、絶縁性の非導電性基板上に積層された銅層であり得る。説明を容易にするために、以下の説明では金属層表面である形態を参照する。但し、アルミニウム表面、ステンレス鋼表面、金の表面などの他の金属表面も同様に本発明の実施形態に適用可能であることを理解されたい。
本発明のいくつかの実施形態によるエッチレジストマスクの製造方法の流れ図である図1を参照する。本発明の実施形態によれば、ボックス110に示すように、この方法は、エッチレジストパターンが印刷される金属表面上に化学的表面活性化溶液を適用(塗布)するステップを含み得る。いくつかの実施形態では、化学的表面活性化溶液は、化学的に表面を活性化することができる任意のエッチング溶液であり得るか、そのような液を含み得る。化学的に活性化された表面は、表面活性化に先立ってエッチレジストインク材料と反応しないが、表面活性化後に反応してエッチレジストインク液滴の固定化を引き起こす表面と定義することができる。表面活性化溶液としては、例えば、銅塩、第二鉄塩、クロム硫酸、過硫酸塩、亜塩素酸ナトリウムおよび過酸化水素等を挙げることができる。いくつかの実施形態では、化学的に活性化する溶液を適用することは、化学的表面活性化溶液を含む槽に表面を浸漬することと、化学的表面活性化溶液を表面に噴霧することと、任意の他の適切な方法とを含み得る。いくつかの実施形態では、この方法は、例えば、10秒間、20秒間、30秒間、60秒間またはそれ以上の時間、金属表面を化学的に活性化する溶液に(例えば、浸漬、噴霧などによって)曝すことを含み得る。
ボックス115に示すように、いくつかの実施形態では、この方法は、選択に応じて、例えばアルコール溶液を用いて化学的表面活性化溶液を除去することを含み得る。例えば、この方法は、エタノールを用いて表面から化学的に表面を活性化する溶液の残りを除去することを含み得る。いくつかの実施形態では、化学的に活性化する溶液を表面から除去することは、例えばプロピルアルコール、イソプロピルアルコール、アセトンなどの他のアルコール溶液や、アルコール溶液以外の液体を用いて行うことができる。
ボックス120に示すように、いくつかの実施形態では、この方法は、所定のパターンに従ってエッチレジストマスクを生成するために、活性化された表面上にエッチレジストインクをノンインパクト印刷(例えば、インクジェット印刷)によって印刷することを含み得る。エッチレジストインクは、活性化された表面に当たるときにエッチレジストインクの液滴を固定化するために、活性化された表面との化学反応を起こすエッチレジストポリマー成分を含むことができる。いくつかの実施形態では、エッチレジスト成分とは異なる別のインク成分が、活性化表面に当たったときに活性化表面と化学反応を起こしてエッチレジストインクの液滴を固定化する。
エッチレジストポリマー反応性成分の非限定的な例としては、アクリレート、スチレンアクリレート、ホスフェートおよびスルホネートポリマーであって、分子量(Mw)が1000〜17000となるものが挙げられる。
いくつかの実施形態では、エッチレジスト反応性ポリマー成分は、水溶性であってもよく、反応性アニオン成分を含んでいてもよい。アニオン性エッチレジスト反応性成分の非限定的な例としては、pHが7.0より高く(塩基性の)少なくとも1つのアニオン性ポリマーを挙げることができる。アニオン性ポリマーは、溶解した塩の形態のアクリル樹脂およびスチレン−アクリル樹脂、溶解した塩の形態のスルホン樹脂(例えばナトリウム、アンモニウムまたはアミンで中和された形態)から選択されたもの等であり得る。特定の理論的メカニズムに縛られることを意図するものではないが、これらの樹脂は反応性(活性化)表面との反応を起こし得る。例えば、銅金属表面が活性化されて銅の上に銅カチオンを形成し、アクリルポリマー(エッチレジストインク中に含まれる)が表面に当たると、アニオン性アクリレートが銅イオンと反応してポリマーマトリックスを形成し、これは液滴の粘度を劇的に増加させよう。
いくつかの実施形態では、活性化された表面に当たるときにエッチレジストインクの液滴を固定するために表面活性化成分と化学反応を起こすインク成分は、エッチレジスト成分とは異なることがある。
ボックス130に示すように、マスクされた銅板は、金属層の露出したマスクされていない(非マスクの)部分を除去するために、金属エッチング(例えば、酸性銅エッチング)溶液によってさらにエッチングされ得る。次に、ボックス140に示すように、エッチレジストマスクを除去して、基板、すなわち絶縁基板上の配線パターンを露出させることができる。
エプソン製stylus(登録商標)4900インクジェットプリンタを使用して、例示的な液体組成物(本明細書に記載のエッチレジストインク組成物)を、18μmの銅厚さを有するFR4銅クラッド基板上に印刷した。いくつかの試験では、銅表面を活性化するために化学的に表面活性化する溶液を適用することによって銅をまず化学的に活性化した。エッチレジストインクの液体組成物を、インクジェット印刷技術を使用して、活性化または不活性化状態された銅表面のいずれかの上に所定のパターンに従って選択的に印刷した。以下の説明において、%(w/w)は、組成物の重量に対する重量%で表す物質の濃度の尺度である。Amza[pernix 166](商標)によって供給されたボーメ度42の塩化鉄(II)エッチャント溶液を含むエッチャント浴を用いて、マスクされていない露出領域から銅をエッチング除去した。エッチングは、Walter Lemmen GMBHによって供給されたSpray Developer S31(商標)中、35℃の温度で3分間行った。エッチレジストマスクを、25℃の温度で1%(w/w)NaOH水溶液に浸漬し、続いてFR4銅基板を水で洗浄し、25℃で空気乾燥させることにより除去した。
実施例1−室温で液体組成物の形態であるエッチレジストインクを、未処理の(不活性化状態の)銅FR4板の上に印刷した。液体組成物は、10%プロピレングリコール(保湿剤として)、並びに1%(w/w)2−アミノ−2−メチルプロパノール、BYKによって供給される0.3%(w/w)のBYK348および2%(w/w)のBayscript(登録商標)BAシアンを用いて調製した。これらの物質を、アニオン性反応性成分として24%Joncryl(商標)8085スチレンアクリル樹脂溶液を含む水に溶解した。エプソン製stylus(登録商標)4900インクジェットプリンタを使用して、エッチングレジスト組成物を18μmの厚さを有するFR4銅クラッド基板上に印刷して、エッチレジストマスクを製造した。
エッチレジストマスクを視覚的に検査した。図2Aに示されているように、印刷されたパターンは非常に悪い印刷品質を示し、ライン定義精度とライン切れが非常に悪くライン間の短絡状態が非常に悪いものであった。
実施例2−液体組成物は実施例1に詳述したように調製した。FR4銅クラッド板表面を、銅クラッドを0.5%(w/w)のCuCl水溶液に30秒間ディッピング(例えば、浸漬)して活性化させた後、工業用エタノールで銅ボードを洗浄した。
エプソン製stylus(登録商標)4900インクジェットプリンタを使用して、
処理した銅板の上に液体組成物を印刷し、80℃で乾燥させて不溶性エッチレジストマスクを製造した。エッチレジストパターンは、図2Bに示されているように、鋭いエッジを有し、ライン切れがなく、50μmまでの細い線幅を有し、明確に画定された薄いラインを有する高い印刷品質を示していた。露出した銅のエッチングおよびエッチレジストマスクの除去を、実施例1に詳述したように行った。板上の配線パターンは、鋭いエッジを有し、ライン切れがなく、50μmまでの細い線幅を有し、明確に画定された細いラインを示していた。
実施例3−液体組成物は実施例1に詳述したように調製した。銅表面を、20%(w/w)FeCl水溶液を含有する槽に10秒間浸漬することによって活性化させた後、工業用エタノールで銅板を洗浄した。
実施例2と同様に、液体組成物をコーティングされた銅基板上にインクジェット印刷し、80℃で乾燥させて、不溶性エッチレジストマスクを生成した。エッチレジストパターンは、鋭いエッジを有し、ライン切れがなく、50μmまでの細い線幅を有し、明確に画定された細いラインを示していた。露出した銅のエッチングとエッチレジストマスクの除去は実施例1に詳述したように行った。板上の配線パターンは、鋭いエッジを有し、ライン切れがなく、30μmまでの細い線幅を有し、明確に画定された細いラインを示していた。
実施例4−液体組成物は実施例1に詳述したように調製した。FR4銅クラッド板表面を、銅クラッドを1%(w/w)のNa水溶液に30秒間浸漬して活性化させた後、工業用エタノールで銅ボードを洗浄した。
エプソン製stylus(登録商標)4900インクジェットプリンタを使用して、
処理した銅板の上に液体組成物を印刷し、80℃で乾燥させて不溶性エッチレジストマスクを製造した。エッチレジストパターンは、鋭いエッジを有し、ライン切れがなく、50μmまでの細い線幅を有し、明確に画定された薄いラインを有する高い印刷品質を示していた。露出した銅のエッチングおよびエッチレジストマスクの除去を、実施例1に詳述したように行った。板上の配線パターンは、鋭いエッジを有し、ライン切れがなく、30μmまでの細い線幅を有し、明確に画定された細いラインを示していた。
本発明の実施形態で使用される化学的表面活性化成分のいくつかの非限定的な例、および本発明のいくつかの実施形態による表面活性化溶液中のそれらの相対重量濃度並びに提示された浸漬時間を、以下の表1に列挙する。
Figure 0006975463
エッチレジストインクのいくつかの非限定的な例を表2に列挙する。
Figure 0006975463
本発明の特定の特徴を本明細書および図面において説明されてきたが、当業者であれば多くの改変態様、要素の置換および変更、および均等物を容易に想到されよう。従って、添付の特許請求の範囲は、本発明の精神の範囲に含まれる、あらゆるそのような修正および変更を含むことが意図されていることを理解されたい。
本発明は、例えば、以下を提供する:
(項目1)
基板上に金属パターンを形成する方法であって、
金属表面を化学的に活性化させる活性化剤を有する化学的表面活性化溶液を前記基板に結合された前記金属表面上に適用するステップと、
活性化された前記金属表面上にエッチレジストインクをノンインパクト印刷して、所定のパターンに従ってエッチレジストマスクを生成するステップであって、前記エッチレジストインク中の少なくとも1つのインク成分が、活性化された前記金属表面と化学反応を起こして前記エッチレジストインクの液滴を固定化する、該ステップと、
前記エッチレジストマスクで覆われていない非マスクの金属部分を除去するエッチングプロセスを行うステップと、
前記エッチレジストマスクを除去するステップとを含むことを特徴とする方法。
(項目2)
項目1に記載の方法であって、
前記金属パターンは、50μm未満の幅を有する金属線を含むことを特徴とする方法。
(項目3)
項目1に記載の方法であって、
前記エッチレジストマスクは、50μm未満の幅を有する線を含むことを特徴とする方法。
(項目4)
項目1に記載の方法であって、
前記金属パターンは、30μm未満の幅を有する金属線を含むことを特徴とする方法。
(項目5)
項目1に記載の方法であって、
前記エッチレジストマスクは、30μm未満の幅を有する線を含むことを特徴とする方法。
(項目6)
項目1に記載の方法であって、
印刷する前に、溶媒を用いて前記金属表面から前記化学的表面活性化溶液を除去するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
(項目7)
項目1に記載の方法であって、
前記化学反応を起こす前記インク成分はアニオン成分であることを特徴とする方法。
(項目8)
項目1に記載の方法であって、
活性化された前記金属表面との化学反応を起こす前記インク成分は、アクリレート、ホスフェート、スルホネートまたはそれらの混合物から選択されるポリマー成分であることを特徴とする方法。
(項目9)
項目1に記載の方法であって、
前記活性化剤は、銅塩、第二鉄塩、クロム硫酸、過硫酸塩、亜塩素酸ナトリウムおよび過酸化水素の少なくとも1つまたはそれらの混合物を含むことを特徴とする方法。
(項目10)
項目1に記載の方法であって、
前記適用するステップは、約10〜60秒間、前記化学的表面活性化溶液を含む槽に前記金属表面を浸漬するステップを含むことを特徴とする方法。
(項目11)
項目1に記載の方法であって、
前記適用するステップは、前記化学的表面活性化溶液を前記金属表面の上にスプレーするステップを含むことを特徴とする方法。
(項目12)
項目1に記載の方法であって、
前記ノンインパクト印刷が、インクジェット印刷を含むことを特徴とする方法。

Claims (12)

  1. 基板上に金属パターンを形成する方法であって、
    無機活性化剤を含む化学的表面活性化水溶液を、前記基板に結合された金属層の表面上に適用するステップであって、前記無機活性化剤は、前記金属層を化学的に活性化させて、前記金属層の表面に金属のイオンを形成するステップと、
    前記金属層を化学的に活性化させた後に、前記金属層の表面上に反応性成分を含みかつ開始剤を含まないインクをノンインパクト印刷して、所定のパターンに従ってエッチレジストマスクを生成するステップであって、前記インクの液滴が前記金属層の表面に当たるときに、前記反応性成分が、前記金属層と化学反応を起こして前記インクの液滴を固定化するステップと、
    前記金属層の、前記エッチレジストマスクで覆われていない部分を除去するエッチングプロセスを行うステップと、
    前記エッチレジストマスクを除去して、前記金属パターンを形成するステップと、
    を含むことを特徴とする方法。
  2. 請求項1に記載の方法であって、
    前記エッチングプロセスを行うステップによって形成される前記金属パターンは、50μm未満の幅を有する複数の金属線を含むことを特徴とする方法。
  3. 請求項1に記載の方法であって、
    前記ノンインパクト印刷から生成される前記エッチレジストマスクは、50μm未満の幅を有する複数の線を含むことを特徴とする方法。
  4. 請求項1に記載の方法であって、
    前記エッチングプロセスを行うステップによって形成される前記金属パターンは、30μm未満の幅を有する複数の金属線を含むことを特徴とする方法。
  5. 請求項1に記載の方法であって、
    前記ノンインパクト印刷から生成される前記エッチレジストマスクは、30μm未満の幅を有する複数の線を含むことを特徴とする方法。
  6. 請求項1に記載の方法であって、
    印刷する前に、溶媒を用いて、前記金属層の活性化された前記表面から前記化学的表面活性化水溶液を除去するステップをさらに含むことを特徴とする方法。
  7. 請求項1に記載の方法であって、
    前記金属層の活性化された前記表面との化学反応を起こす前記反応性成分は、アニオン成分であることを特徴とする方法。
  8. 請求項1に記載の方法であって、
    前記金属層の活性化された前記表面との化学反応を起こす前記反応性成分は、アクリレート、ホスフェート、スルホネートまたはそれらの任意の組み合わせを含むポリマー成分であることを特徴とする方法。
  9. 請求項1に記載の方法であって、
    前記無機活性化剤は、銅塩、第二鉄塩、クロム硫酸、過硫酸塩、亜塩素酸ナトリウムおよび過酸化水素の少なくとも1つまたはそれらの混合物を含むことを特徴とする方法。
  10. 請求項1に記載の方法であって、
    前記化学的表面活性化水溶液を適用するステップは、約10〜約60秒間、前記化学的表面活性化水溶液を含む槽に前記金属層の表面を浸漬するステップを含むことを特徴とする方法。
  11. 請求項1に記載の方法であって、
    前記化学的表面活性化水溶液を適用するステップは、前記化学的表面活性化水溶液を前記金属層の表面にスプレーするステップを含むことを特徴とする方法。
  12. 請求項1に記載の方法であって、
    前記金属層の活性化された前記表面上に前記インクをノンインパクト印刷するステップが、インクジェット印刷を含むことを特徴とする方法。
JP2018507595A 2015-08-13 2016-07-27 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法 Active JP6975463B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021121139A JP7288644B2 (ja) 2015-08-13 2021-07-23 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法
JP2023083553A JP2023116478A (ja) 2015-08-13 2023-05-21 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201562204508P 2015-08-13 2015-08-13
US62/204,508 2015-08-13
PCT/IL2016/050820 WO2017025949A1 (en) 2015-08-13 2016-07-27 Methods for producing an etch resist pattern on a metallic surface

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021121139A Division JP7288644B2 (ja) 2015-08-13 2021-07-23 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2018527463A JP2018527463A (ja) 2018-09-20
JP2018527463A5 JP2018527463A5 (ja) 2019-08-29
JP6975463B2 true JP6975463B2 (ja) 2021-12-01

Family

ID=57983031

Family Applications (3)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018507595A Active JP6975463B2 (ja) 2015-08-13 2016-07-27 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法
JP2021121139A Active JP7288644B2 (ja) 2015-08-13 2021-07-23 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法
JP2023083553A Pending JP2023116478A (ja) 2015-08-13 2023-05-21 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法

Family Applications After (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021121139A Active JP7288644B2 (ja) 2015-08-13 2021-07-23 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法
JP2023083553A Pending JP2023116478A (ja) 2015-08-13 2023-05-21 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法

Country Status (6)

Country Link
US (4) US10806035B2 (ja)
EP (2) EP3866572B1 (ja)
JP (3) JP6975463B2 (ja)
KR (3) KR20240014578A (ja)
CN (2) CN108027553B (ja)
WO (1) WO2017025949A1 (ja)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20240014607A (ko) * 2015-06-04 2024-02-01 카티바, 인크. 금속 표면 상에서 에치 레지스트 패턴의 제조 방법
KR20240014578A (ko) 2015-08-13 2024-02-01 카티바, 인크. 금속 표면 상에 에치 레지스트 패턴을 형성하는 방법
US10398034B2 (en) 2016-12-12 2019-08-27 Kateeva, Inc. Methods of etching conductive features, and related devices and systems
JP6710402B2 (ja) * 2017-10-23 2020-06-17 メック株式会社 膜形成基材の製造方法及び表面処理剤
GB2583778B (en) * 2019-03-29 2023-05-24 Pierce Protocols Ltd Glass etching preparation method and system
WO2020250784A1 (ja) * 2019-06-11 2020-12-17 三菱瓦斯化学株式会社 水性組成物、これを用いたステンレス鋼表面の粗化処理方法、ならびに粗化処理されたステンレス鋼およびその製造方法
CN110468413A (zh) * 2019-09-10 2019-11-19 四会富仕电子科技股份有限公司 一种金属基表面粗化的方法
US11826775B2 (en) * 2022-03-07 2023-11-28 CatMarks Manufacturing, LLC Automotive part identification marking system

Family Cites Families (69)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4015706A (en) 1971-11-15 1977-04-05 Chemcut Corporation Connecting modules for an etching system
US4127438A (en) * 1977-11-07 1978-11-28 International Business Machines Corporation Adhesion promoter for additively plated printed circuit boards
DE3402883A1 (de) 1984-01-27 1985-08-01 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Leiterplatten aus schichtpressstoffen
CA1282272C (en) 1985-06-07 1991-04-02 Shigeru Danjo Photocurable composition
US4946711A (en) 1987-10-14 1990-08-07 Desoto, Inc. Masking compositions and method for applying the same
JP2585070B2 (ja) 1988-08-02 1997-02-26 日本ペイント株式会社 画像形成方法
JPH06504628A (ja) 1990-12-20 1994-05-26 エクソン・ケミカル・パテンツ・インク リソグラフィー及び腐食防止コーティング用途向けのuv/eb硬化性ブチルコポリマー
GB9425031D0 (en) 1994-12-09 1995-02-08 Alpha Metals Ltd Printed circuit board manufacture
DE69635203T2 (de) 1995-07-11 2006-06-29 Delphi Technologies, Inc., Troy Beschichtungen und Verfahren, insbesondere für Leiterplatten
DE69800652T2 (de) 1997-02-25 2001-08-23 Du Pont Flexible, flammhemmende fotopolymerisierbare Zusammensetzung zur Beschichtung von Leiterplatten
US6222136B1 (en) 1997-11-12 2001-04-24 International Business Machines Corporation Printed circuit board with continuous connective bumps
IL129307A0 (en) * 1999-04-04 2000-02-17 Scitex Corp Ltd Process for direct digital printing of circuit boards
GB9916060D0 (en) * 1999-07-08 1999-09-08 Isis Innovation Printed circuit fabrication
WO2001008895A1 (fr) 1999-07-30 2001-02-08 Seiko Epson Corporation Procede d'enregistrement comprenant des supports d'enregistrement et d'impression avec deux composes liquides
US6399273B1 (en) 1999-08-13 2002-06-04 Board Of Regents, University Of Texas System Water-processable photoresist compositions
ATE268015T1 (de) 2000-03-29 2004-06-15 Univ Kanagawa Durch licht und wärme aushärtbare harzzusammensetzung, aus dieser hergestellte lichtempfindliche trockenfolie und verfahren zur bildung eines musters damit
DE10066028C2 (de) * 2000-07-07 2003-04-24 Atotech Deutschland Gmbh Kupfersubstrat mit aufgerauhten Oberflächen
JP3754303B2 (ja) 2001-02-16 2006-03-08 株式会社日立インフォメーションテクノロジー Sdramリフレッシュ回路
JP2003012971A (ja) 2001-06-28 2003-01-15 Konica Corp インクジェット記録方法
EP1563119A4 (en) 2001-08-31 2006-03-22 Semitool Inc APPARATUS AND METHOD FOR DISPERSING AN ELECTROPHORETIC EMULSION
US20030177639A1 (en) * 2002-03-19 2003-09-25 Berg N. Edward Process and apparatus for manufacturing printed circuit boards
US6709962B2 (en) * 2002-03-19 2004-03-23 N. Edward Berg Process for manufacturing printed circuit boards
SG107593A1 (en) * 2002-06-04 2004-12-29 Agency Science Tech & Res Method for electroless metalisation of polymer substrate
GB0221891D0 (en) 2002-09-20 2002-10-30 Avecia Ltd Process
TWI291726B (en) 2002-10-25 2007-12-21 Nanya Technology Corp Process for etching metal layer
US7005241B2 (en) 2003-06-09 2006-02-28 Shinko Electric Industries Co., Ltd. Process for making circuit board or lead frame
JP2005033049A (ja) 2003-07-08 2005-02-03 Nec Toppan Circuit Solutions Inc プリント配線板の配線パターン形成方法及びプリント配線板の製造方法
JP2005079479A (ja) 2003-09-02 2005-03-24 Asahi Kasei Electronics Co Ltd レジスト直描用レジストインク
US7477627B2 (en) 2003-09-10 2009-01-13 Intel Corporation Method and device of adaptive control of data rate, fragmentation and request to send protection in wireless networks
US20050067378A1 (en) * 2003-09-30 2005-03-31 Harry Fuerhaupter Method for micro-roughening treatment of copper and mixed-metal circuitry
JP4642771B2 (ja) 2003-10-22 2011-03-02 ネックス システムズ インコーポレイテッド ワークピースを流体処理する方法及び装置
GB0324947D0 (en) 2003-10-25 2003-11-26 Avecia Ltd Process
KR100707236B1 (ko) 2004-01-15 2007-04-13 마쯔시다덴기산교 가부시키가이샤 금속 패턴 및 그 제조 방법
CN1899003B (zh) 2004-03-03 2010-12-29 揖斐电株式会社 蚀刻液、蚀刻方法以及印刷电路板
KR100585138B1 (ko) 2004-04-08 2006-05-30 삼성전자주식회사 반도체 소자 제조용 마스크 패턴 및 그 형성 방법과 미세패턴을 가지는 반도체 소자의 제조 방법
US20050250052A1 (en) 2004-05-10 2005-11-10 Nguyen Khe C Maskless lithography using UV absorbing nano particle
GB0414840D0 (en) 2004-07-02 2004-08-04 Ncr Int Inc Self-service terminal
KR100733920B1 (ko) * 2004-09-17 2007-07-02 주식회사 엘지화학 에칭 레지스트용 잉크 조성물, 이를 이용한 에칭 레지스트패턴 형성 방법 및 미세 유로 형성 방법
US20090163615A1 (en) 2005-08-31 2009-06-25 Izhar Halahmi Uv curable hybridcuring ink jet ink composition and solder mask using the same
KR100643934B1 (ko) * 2005-09-02 2006-11-10 삼성전기주식회사 인쇄회로기판의 회로패턴 형성방법
US7686986B2 (en) 2006-01-05 2010-03-30 Headwaters Technology Innovation, Llc Magnesium hydroxide nanoparticles, methods of making same and compositions incorporating same
JP2007250884A (ja) * 2006-03-16 2007-09-27 Shirai Denshi Kogyo Kk フレキシブルプリント基板およびその製造方法
US20070237899A1 (en) * 2006-04-05 2007-10-11 David Sawoska Process for creating a pattern on a copper surface
US20080308003A1 (en) 2007-06-13 2008-12-18 Krol Andrew M UV inkjet resist
JP5454834B2 (ja) 2007-08-30 2014-03-26 日立化成株式会社 粗化処理装置
JP2009158593A (ja) 2007-12-25 2009-07-16 Tessera Interconnect Materials Inc バンプ構造およびその製造方法
WO2009116401A1 (ja) 2008-03-17 2009-09-24 日立化成工業株式会社 感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性エレメント、ソルダーレジスト及びプリント配線板
KR100986287B1 (ko) 2008-05-09 2010-10-07 삼성전기주식회사 잉크젯 토출장치
WO2010086850A2 (en) 2009-01-29 2010-08-05 Digiflex Ltd. Process for producing a photomask on a photopolymeric surface
JP2011171323A (ja) * 2010-02-16 2011-09-01 Mitsubishi Paper Mills Ltd 銅又は銅合金のエッチング方法
JP2011243256A (ja) 2010-05-19 2011-12-01 Dainippon Printing Co Ltd サスペンション用フレキシャー基板、サスペンション、ヘッド付サスペンション、およびハードディスクドライブ
KR20130088166A (ko) 2010-11-17 2013-08-07 히타치가세이가부시끼가이샤 감광성 수지 조성물, 감광성 엘리먼트, 레지스트 패턴의 형성 방법 및 프린트 배선판의 제조 방법
US20120288683A1 (en) 2011-05-10 2012-11-15 Chin-Te Kuo Protuberant structure and method for making the same
WO2013004624A1 (en) * 2011-07-07 2013-01-10 Atotech Deutschland Gmbh Method for providing organic resist adhesion to a copper or copper alloy surface
US9352544B2 (en) * 2011-08-24 2016-05-31 Digiflex Ltd. Process for dry-coating flexographic surfaces
WO2013030931A1 (ja) 2011-08-29 2013-03-07 日本碍子株式会社 積層焼結セラミック配線基板、及び当該配線基板を含む半導体パッケージ
US9683305B2 (en) * 2011-12-20 2017-06-20 Apple Inc. Metal surface and process for treating a metal surface
KR20140092917A (ko) 2012-01-31 2014-07-24 아그파-게바에르트 엔.브이. 방사선 경화성 내에칭성 잉크젯 잉크 프린팅
JP2013162007A (ja) * 2012-02-07 2013-08-19 Toppan Printing Co Ltd 微細配線パターンの製造方法
US20140252571A1 (en) 2013-03-06 2014-09-11 Maxim Integrated Products, Inc. Wafer-level package mitigated undercut
JP6164614B2 (ja) 2013-12-06 2017-07-19 メック株式会社 エッチング液、補給液及び銅配線の形成方法
KR101964901B1 (ko) 2013-12-06 2019-04-02 후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨. 표면 잔류물 제거용 세정 제형
TWI500806B (zh) 2014-03-10 2015-09-21 Nat Univ Tsing Hua 碳化矽薄膜的製造方法
KR20150109932A (ko) 2014-03-21 2015-10-02 삼성전기주식회사 에칭액 조성물 및 이를 이용한 회로 패턴의 제조방법
WO2016039259A1 (ja) 2014-09-08 2016-03-17 国立大学法人九州大学 有機マイクロディスク構造体の製造方法
GB2538522B (en) 2015-05-19 2019-03-06 Dst Innovations Ltd Electronic circuit and component construction
KR20240014607A (ko) 2015-06-04 2024-02-01 카티바, 인크. 금속 표면 상에서 에치 레지스트 패턴의 제조 방법
KR20240014578A (ko) 2015-08-13 2024-02-01 카티바, 인크. 금속 표면 상에 에치 레지스트 패턴을 형성하는 방법
US10398034B2 (en) 2016-12-12 2019-08-27 Kateeva, Inc. Methods of etching conductive features, and related devices and systems

Also Published As

Publication number Publication date
US11807947B2 (en) 2023-11-07
KR20240014578A (ko) 2024-02-01
EP3866572A2 (en) 2021-08-18
US20180242457A1 (en) 2018-08-23
EP3335079A4 (en) 2019-03-27
US11255018B2 (en) 2022-02-22
JP2018527463A (ja) 2018-09-20
JP2023116478A (ja) 2023-08-22
KR102626521B1 (ko) 2024-01-17
US20210007225A1 (en) 2021-01-07
JP2021192427A (ja) 2021-12-16
US20220136113A1 (en) 2022-05-05
KR20180074666A (ko) 2018-07-03
EP3335079A1 (en) 2018-06-20
US10806035B2 (en) 2020-10-13
EP3866572B1 (en) 2024-01-03
EP3866572A3 (en) 2021-09-29
CN108027553A (zh) 2018-05-11
KR102508824B1 (ko) 2023-03-09
CN108027553B (zh) 2021-12-31
EP3335079B1 (en) 2021-05-12
CN114397795A (zh) 2022-04-26
US20240035167A1 (en) 2024-02-01
KR20230036169A (ko) 2023-03-14
JP7288644B2 (ja) 2023-06-08
WO2017025949A1 (en) 2017-02-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6975463B2 (ja) 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法
JP7426735B2 (ja) 金属表面上のエッチレジストパターンの製造方法
JP2018527463A5 (ja)
JP6325274B2 (ja) ポリイミド樹脂表面改質剤及びポリイミド樹脂表面改質方法
JP2023139049A (ja) 導電性特徴をエッチングする方法、ならびに関連するデバイスおよびシステム
TW201828358A (zh) 蝕刻導電特徵之方法及相關裝置與系統

Legal Events

Date Code Title Description
RD03 Notification of appointment of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423

Effective date: 20180627

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20180628

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190719

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190719

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20200703

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20200717

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200727

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20200825

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20201027

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201224

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20210326

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210723

C60 Trial request (containing other claim documents, opposition documents)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C60

Effective date: 20210723

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20210803

C21 Notice of transfer of a case for reconsideration by examiners before appeal proceedings

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: C21

Effective date: 20210806

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20211001

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211029

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6975463

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150