JP6965391B2 - ガス流量比制御のための方法及びアセンブリ - Google Patents
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Description
[001]本願は、2016年3月15日出願の「 METHODS AND ASSEMBLIES FOR GAS FLOW RATIO CONTROL」(代理人整理番号第23700−01/USA号)と題する米国特許仮出願第15/070,332号から優先権を主張し、あらゆる目的のためにその全体が参照により本書に組み込まれている。
Claims (15)
- 複数のゾーンを含む処理チャンバへのガスの流れを制御する方法であって、
前記処理チャンバと分配マニホールドとの間に流体連結された複数の質量流コントローラの各々を通るガスの流れを制御することであって、前記複数の質量流コントローラのうちの第1の質量流コントローラは、前記複数のゾーンのうちの第1の一部のゾーン内への第1のガスの流れを、第1の動的に制御可能な流量設定点に制御するように構成されており、前記複数の質量流コントローラのうちの第2の質量流コントローラは、前記複数のゾーンのうちの第2の一部のゾーン内への第2のガスの流れを、第2の動的に制御可能な流量設定点に制御するように構成されている、制御することと、
前記分配マニホールドに流体連結された背圧コントローラの上流の背圧を、背圧設定点に制御することと、
前記処理チャンバの前記複数のゾーンのうちの第3の一部のゾーンであって、前記第1の一部のゾーンまたは前記第2の一部のゾーンに含まれるいずれのゾーンも含まない第3の一部のゾーン内への第3のガスの流れを、前記背圧コントローラを介して制御することと
を含む方法。 - 分配マニホールドに、キャリアガス供給部を介してキャリアガスを、および処理ガス供給部を介して一または複数の処理ガスを、提供することと、
前記分配マニホールドに流体連結された背圧センサによって、前記分配マニホールドの背圧を感知することと、
前記背圧センサによって、前記背圧に少なくとも部分的に基づいて、第1のコントローラに信号を提供することと、
前記第1のコントローラによって、前記信号に少なくとも部分的に基づいて、背圧設定点を決定することと、
一または複数の質量流コントローラによって、前記キャリアガスと前記一または複数の処理ガスとを含む混合ガスの、処理チャンバの一または複数のゾーン内への流れを制御することであって、前記一または複数の質量流コントローラは、前記分配マニホールドと前記処理チャンバとの間に流体連結されている、制御することと、
前記分配マニホールドと前記キャリアガス供給部とに流体連結されている圧力コントローラによって、前記背圧設定点に基づいて、前記キャリアガスの流れを制御することと
を含む方法であって、
前記一または複数の質量流コントローラ、および前記圧力コントローラは、前記第1のコントローラに動作可能に接続されている、
方法。 - 前記第1のコントローラによって、前記一または複数の質量流コントローラの各々を通る流量設定点を設定することをさらに含み、前記第1のコントローラはプロセッサを含むデジタルコントローラである、請求項2に記載の方法。
- 前記一または複数の質量流コントローラによって、前記混合ガスを、90slmを上回る流量で流すことをさらに含む、請求項2または3に記載の方法。
- 前記圧力コントローラによって、前記背圧設定点に応じて、前記一または複数の処理ガスと混合される前記キャリアガスの前記流れを制御することをさらに含む、請求項2から4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記処理チャンバが複数のゾーンを含み、前記一または複数の質量流コントローラが複数の質量流コントローラを含み、前記複数の質量流コントローラの各質量流コントローラが、前記複数のゾーンのそれぞれのゾーン内への前記混合ガスの流れを制御するように構成されている、請求項2から5のいずれか一項に記載の方法。
- 処理ガス供給部によって、処理チャンバに連結された分配マニホールドに、キャリアガスと一または複数の処理ガスとを提供することであって、前記処理ガス供給部は、一または複数の第1の質量流コントローラによって流れが制御される前記一または複数の処理ガスと前記キャリアガスとに動作可能に連結された上流圧力コントローラを含む、提供することと、
前記処理チャンバと前記分配マニホールドとの間に流体連結された一または複数の第2の質量流コントローラの各々を通る、前記一または複数の処理ガスと前記キャリアガスとを含む混合ガスの流れを、動的に制御可能な流量設定点に制御することと、
前記上流圧力コントローラによりキャリアガスの流れを制御することによって、前記分配マニホールドの背圧を背圧設定点に制御することと
を含む方法。 - 前記一または複数の第2の質量流コントローラを通って、前記処理チャンバの一または複数のゾーン内へと、前記混合ガスを流すことをさらに含む、請求項7に記載の方法。
- 前記キャリアガスと前記一または複数の処理ガスとが混合されて前記混合ガスを形成する接合部への前記キャリアガスの流れを、前記上流圧力コントローラによって制御することをさらに含む、請求項7または8に記載の方法。
- ガス流制御アセンブリであって、
第1のコントローラと、
キャリアガスと一または複数の処理ガスとを含む処理ガス供給部であって、該処理ガス供給部は、一または複数の第1の質量流コントローラをさらに含み、前記一または複数の第1の質量流コントローラの各第1の質量流コントローラは、前記第1のコントローラに連結されている、処理ガス供給部と、
前記処理ガス供給部に流体連結された分配マニホールドと、
前記第1のコントローラに接続され且つ前記分配マニホールドに流体接続された背圧センサであって、前記分配マニホールドの背圧を感知するように構成され、さらに、感知された背圧に少なくとも部分的に基づいて前記第1のコントローラに信号を提供するように構成された、背圧センサと、
複数のゾーンを含む処理チャンバと、
複数の第2の質量流コントローラであって、該第2の質量流コントローラの各々は、前記分配マニホールドと前記処理チャンバとの間に動作可能に流体接続され、前記処理チャンバの前記複数のゾーン内へのガス流を制御するように構成されている、複数の第2の質量流コントローラと、
前記分配マニホールドに動作可能に流体接続された上流圧力コントローラであって、前記第1のコントローラにより供給された背圧設定点に応じて、前記キャリアガスの流れを制御するように構成されている、上流圧力コントローラと
を備えるガス流制御アセンブリ。 - 前記第1のコントローラが、前記複数の第2の質量流コントローラの各々を通る流量設定点を設定するように構成されており、前記第1のコントローラはプロセッサを含むデジタルコントローラである、請求項10に記載のガス流制御アセンブリ。
- 前記複数の第2の質量流コントローラの各々は、前記処理ガス供給部からのガスを、90slmを上回る流量で流すように構成されている、請求項10または11に記載のガス流制御アセンブリ。
- 前記上流圧力コントローラは、前記第1のコントローラからの前記背圧設定点に応じて、一または複数の処理ガスと混合される前記キャリアガスの流れを制御するように構成されている、請求項10から12のいずれか一項に記載のガス流制御アセンブリ。
- ガス流制御アセンブリであって、
第1のコントローラと、
キャリアガスと一または複数の処理ガスとを含む処理ガス供給部と、
前記処理ガス供給部に流体連結された分配マニホールドと、
前記第1のコントローラに接続され且つ前記分配マニホールドに流体接続された背圧センサであって、前記分配マニホールドの背圧を感知するように構成され、さらに、感知された背圧に少なくとも部分的に基づいて前記第1のコントローラに信号を提供するように構成された、背圧センサと、
複数のゾーンを含む処理チャンバと、
複数の質量流コントローラであって、該質量流コントローラの各々は、前記分配マニホールドと前記処理チャンバとの間に動作可能に流体接続され、前記処理チャンバの前記複数のゾーン内へのガス流を制御するように構成されている、複数の質量流コントローラと、
前記分配マニホールドに動作可能に流体接続された上流圧力コントローラであって、前記第1のコントローラにより供給された背圧設定点に応じて、前記キャリアガスの流れを制御するように構成されている、上流圧力コントローラと、
前記上流圧力コントローラと流体並行関係に配設された、キャリアガス質量流コントローラと
を備えるガス流制御アセンブリ。 - ガス流制御アセンブリであって、
第1のコントローラと、
接合部において混合されるように構成されたキャリアガスと一または複数の処理ガスとを含む処理ガス供給部であって、該処理ガス供給部は、一または複数の第1の質量流コントローラをさらに含み、前記一または複数の第1の質量流コントローラの各第1の質量流コントローラは、前記第1のコントローラに連結されている、処理ガス供給部と、
前記接合部の下流において前記処理ガス供給部に流体連結された分配マニホールドであって、複数の排気口を有する分配マニホールドと、
前記第1のコントローラに動作可能に接続され、前記分配マニホールドの背圧を感知するように構成された、背圧センサと、
複数のゾーンを含む処理チャンバと、
一または複数の第2の質量流コントローラであって、前記一または複数の第2の質量流コントローラの各々は、前記複数のゾーンの各々へのガス流量比を制御するために、前記分配マニホールドの排気口と、前記複数のゾーンのうちの1つとに、動作可能に流体接続されている、一または複数の第2の質量流コントローラと、
前記接合部の上流において前記キャリアガスに流体接続され、且つ前記第1のコントローラに動作可能に接続された上流圧力コントローラであって、該上流圧力コントローラは、前記背圧センサからの出力信号に応じる前記第1のコントローラからの出力信号に応じた背圧設定点に、前記背圧を制御するように構成されている、上流圧力コントローラと
を備えるガス流制御アセンブリ。
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