JP6956604B2 - 基板処理装置および物品製造方法 - Google Patents
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Description
Claims (13)
- 基板をチャックするチャック面を有する基板チャックを保持する基板ステージと、
前記基板ステージを駆動するステージ駆動機構と、
前記チャック面をクリーニングするためのクリーニング面を有するクリーニングプレートを駆動するプレート駆動機構と、
前記クリーニングプレートに対して前記基板チャックが相対的に移動することによって前記チャック面がクリーニングされるように、前記ステージ駆動機構および前記プレート駆動機構の少なくとも一方の動作を制御する制御部と、を備え、
前記制御部は、前記チャック面の高さ分布を示すチャック面情報と前記クリーニング面の高さ分布を示すクリーニング面情報とに基づいて前記動作を制御する、
ことを特徴とする基板処理装置。 - 前記クリーニング面は、有効領域と、非有効領域とを含み、前記非有効領域は、前記有効領域より窪んだ窪み領域を含み、
前記チャック面は、第1領域と、前記第1領域より突出した第2領域とを含み、
前記制御部は、前記チャック面情報に基づいて前記第2領域を特定し、前記有効領域によって前記第2領域がクリーニングされるように前記動作を制御する、
ことを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記非有効領域は、前記クリーニングプレートに対して前記基板チャックが相対的に移動する期間の一部において前記窪み領域が前記チャック面に対面する対面領域を含む、
ことを特徴とする請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記クリーニングプレートに対する前記基板チャックの相対的な移動において前記チャック面の中心が前記中心からずれた点の周りを公転するように前記ステージ駆動機構の動作を制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記クリーニングプレートに対する前記基板チャックの相対的な移動において前記クリーニング面の中心が前記中心からずれた点の周りを公転するように、前記プレート駆動機構の動作を制御する、
ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記チャック面情報および前記クリーニング面情報に基づいて前記チャック面に対する前記クリーニング面の相対的な方位角を決定する、
ことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 前記チャック面情報を計測によって生成する計測器を更に備える、
ことを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 前記計測器は、前記チャック面によって保持された前記基板の表面の高さ分布を計測した結果に基づいて前記チャック面情報を生成する、
ことを特徴とする請求項7に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記チャック面のクリーニングの後における前記チャック面情報に基づいて前記クリーニング面情報を更新する、
ことを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記クリーニングの後における前記チャック面情報に基づいてクリーニング不良が発生した不良発生領域を特定し、前記クリーニング面のうち前記クリーニングにおいて前記不良発生領域に対面させた領域が他の領域より窪んだ領域であるものとして前記クリーニング面情報を更新する、
ことを特徴とする請求項9に記載の基板処理装置。 - 前記制御部は、前記チャック面情報を前記基板チャックと対応付けて管理する管理部を含む、
ことを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 前記基板にパターンを形成するパターン形成装置として構成されている、
ことを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の基板処理装置。 - 請求項12に記載の基板処理装置によって前記基板にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板の処理を行う工程と、
を含み、前記処理が行われた前記基板から物品を製造することを特徴とする物品製造方法。
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