JP4316595B2 - 液浸補助板の洗浄方法と液浸露光方法及びパターン形成方法 - Google Patents
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Description
また、本発明の別の一態様は、ステージ上に載置され液浸露光に供される被処理基板の周りに配置される液浸補助板を洗浄する方法であって、
前記ステージ上に前記被処理基板又はダミー基板を載置し、前記被処理基板又はダミー基板の周りに前記液浸補助板を配置した状態で、前記被処理基板又はダミー基板と前記液浸補助板との境界に沿って、洗浄液排水部を有する洗浄治具を移動させつつ前記境界を含む領域に洗浄液を流し、且つ前記洗浄治具の洗浄液排水部を前記被処理基板又はダミー基板と前記液浸補助具との境界付近に一致させて、前記洗浄治具の前記洗浄液排水部から前記洗浄液の回収を行い、前記液浸補助板を洗浄することを特徴とする。
図1は、液浸露光方法で露光を実施中の被処理基板に対する上面説明図である。液浸露光ステージ上(被処理基板下に設置)には被露光基板としての被処理基板11が保持されている。被処理基板11の外周部を露光するときには液浸領域が基板外にはみ出すため、基板外で液浸領域が乱れないように液浸補助板12が、被処理基板11の周辺に配置されている。
本実施形態は、液浸補助板のエッジ部分の汚れを洗浄する手法に関する。図6に示すように露光ステージ上に被処理基板11の代わりに洗浄用基板(ダミー基板)61を配置したのち、液浸領域51を形成している洗浄治具の液排水部を洗浄用基板61と液浸補助板12との境界に概ね一致させるように洗浄治具をセットする。なお、洗浄治具は液浸露光装置自体であってもよい、専用の治具であってもよい。
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。洗浄治具の構造は前記図5に示したものに何ら限定されるものではなく、仕様に応じて適宜変更可能である。また、洗浄の時期としては通常は、複数枚の被処理基板に対する第1の露光が終了し、複数枚の被処理基板に対する第2の露光を開始する前に行えばよい。但し、これに限らず、液浸補助板上のパーティクルや析出物が露光に影響を及ぼすと考えられる場合に適宜洗浄を行うようにしてもよい。
以上説明したように本発明は、請求項1〜5に記載したことを特徴とするが、それ以外に次の点を特徴としている。
(2) 請求項1において、液浸領域接触部は、複数の基板を露光する際に少なくとも一度液が接触する領域である。
(5) (3)において、洗浄は、液浸領域接触部から液浸補助板のエッジにむけて洗浄液を流して行う。
12…液浸補助板
13…露光のための液浸領域
14…露光領域
15…液浸境界
16…液浸領域接触部
17…液浸領域非接触部
18…液浸補助板のエッジ部分の汚れ
21…第1の液浸境界
22…第2の液浸境界
23,24…洗浄領域
41…露光レンズ
42…液浸領域形成治具
43…液浸液
44…液浸液排水部
51…洗浄のための液浸領域
61…洗浄用基板(ダミー基板)
Claims (5)
- 液浸露光に供される被処理基板の周囲に配置される液浸補助板を洗浄する液浸補助板を洗浄する方法であって、
予め定められた露光領域と露光マップに従い液浸領域を移動させたときに形成される前記液浸補助板上の液浸領域接触部と液浸領域非接触部との液浸境界を求めておき、前記求めた前記液浸境界に沿って洗浄冶具を移動させながら前記液浸補助板上の前記液浸境界の少なくとも一部を洗浄することを特徴とする液浸補助板の洗浄方法。 - ステージ上に載置された被処理基板の周りに液浸補助板を配置し、予め定められた露光領域と露光マップに従い液浸領域を移動させることにより被処理基板を露光する液浸露光装置において、前記液浸補助板を定期的に洗浄する方法であって、
前記露光のために前記液浸領域を移動させたときに形成される前記液浸補助板上の液浸領域接触部と液浸領域非接触部との液浸境界を抽出する工程と、
前記抽出した液浸境界に基づき洗浄冶具の移動経路を該境界に沿うように決定する工程と、
前記ステージ上に前記被処理基板又はダミー基板を載置し、該基板の周りに前記液浸補助板を配置した状態で、前記移動経路に基づき洗浄冶具を移動させて前記液浸補助板を洗浄する工程と、
を含むことを特徴とする液浸補助板の洗浄方法。 - ステージ上に載置された被処理基板の周りに液浸補助板を配置し、予め定められた露光領域と露光マップに従い液浸領域を移動させることにより被処理基板を露光する液浸露光方法であって、
前記液浸補助板を定期的に洗浄するために、
前記露光のために前記液浸領域を移動させたときに形成される前記液浸補助板上の液浸領域接触部と液浸領域非接触部との液浸境界を抽出する工程と、
前記抽出した液浸境界に基づき洗浄冶具の移動経路を該境界に沿うように決定する工程と、
前記ステージ上に前記被処理基板又はダミー基板を載置し、該基板の周りに前記液浸補助板を配置した状態で、前記移動経路に基づき洗浄冶具を移動させて前記液浸補助板上の前記液浸境界の少なくとも一部を洗浄する工程と、
を含むことを特徴とする液浸露光方法。 - ステージ上に載置され液浸露光に供される被処理基板の周りに配置される液浸補助板を洗浄する方法であって、
前記ステージ上に前記被処理基板又はダミー基板を載置し、前記被処理基板又はダミー基板の周りに前記液浸補助板を配置した状態で、前記被処理基板又はダミー基板と前記液浸補助板との境界に沿って、洗浄液排水部を有する洗浄治具を移動させつつ前記境界を含む領域に洗浄液を流し、且つ前記洗浄治具の洗浄液排水部を前記被処理基板又はダミー基板と前記液浸補助板との境界付近に一致させて、前記洗浄治具の前記洗浄液排水部から前記洗浄液の回収を行い、前記液浸補助板を洗浄することを特徴とする液浸補助板の洗浄方法。 - 被処理基板上に、レジスト膜又はレジスト膜とその上の液浸保護膜からなるレジスト層を形成する工程と、
前記レジスト層が形成された被処理基板を液浸露光装置のステージ上に載置し、かつ該被処理基板の周りに液浸補助板を配置する工程と、
予め定められた露光領域と露光マップに従い液浸領域を移動させたときに形成される、前記液浸補助板上の液浸領域接触部と液浸領域非接触部との液浸境界を求める工程と、
前記求めた前記液浸境界に沿って洗浄冶具を移動させながら、前記液浸補助板上の前記液浸境界の少なくとも一部を洗浄する工程と、
前記液浸補助板の洗浄後に、前記ステージ上に載置された被処理基板に対し、前記レジスト層上に液浸領域を形成すると共に、予め定められた露光領域と露光マップに従い液浸領域を移動させつつ、該液浸領域を介して液浸露光を行う工程と、
前記露光されたレジスト層の現像を行ってレジストパターンを形成する工程と、
を含むことを特徴とするパターン形成方法。
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