JP6945244B2 - レーザ処理装置 - Google Patents
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Description
2…照射ユニット
24…対物レンズ
25…カメラ
3…第一のXYステージ兼第一のZ軸調節機構(ピエゾXYZステージ)
4…変位計
6…第二のZ軸調節機構(ねじ送り機構)
7…第二のXYステージ
9…架台
91…防振部材
0…被処理物
L…レーザ光
Claims (3)
- 被処理物上の目標位置に向けてレーザ光を照射して行う処理を実施するレーザ処理装置であって、
レーザ光を被処理物上の目標位置に向けて集光するための対物レンズを有する照射ユニットと、
前記照射ユニットの少なくとも対物レンズを被処理物に対して相対的にレーザ光軸と平行または略平行な方向に移動させることができるZ軸調節機構と、
前記照射ユニットから被処理物までの距離を計測する変位計とを具備し、
前記照射ユニットを、前記変位計に依拠せずに、前記対物レンズを通じて被処理物に照射されるレーザ光の焦点が被処理物上の目標位置に合うように位置付けた状態で、前記変位計により照射ユニットから被処理物までの距離を計測し、その距離を目標距離に設定した上、
前記変位計が現在計測している距離と前記目標距離との偏差を縮小するべく前記Z軸調節機構により前記照射ユニットの対物レンズの位置を調節するフィードバック制御を実行しながら、レーザ光を被処理物に照射し、
前記照射ユニットの少なくとも対物レンズを被処理物に対して相対的にレーザ光軸と直交または略直交する二次元方向に移動させることができるXYステージを具備し、
前記XYステージにより前記照射ユニットを前記対物レンズを通じて被処理物に照射されるレーザ光の照射位置が被処理物上の目標位置に合うように位置付け、かつ前記Z軸調節機構により照射ユニットをレーザ光の焦点が被処理物上の目標位置に合うように位置付けた状態で、前記変位計により照射ユニットから被処理物までの距離を計測し、その距離を前記目標距離に設定するレーザ処理装置。 - 被処理物、前記照射ユニット、前記Z軸調節機構及び前記変位計を支持する架台と床面との間に介在し、周波数が所定値よりも高い振動が床面から架台に伝わることを抑制する防振部材を具備する請求項1記載のレーザ処理装置。
- 液晶ディスプレイモジュール、プラズマディスプレイモジュール、有機ELディスプレイモジュール、無機ELディスプレイモジュール、マイクロLEDディスプレイモジュール、透明導電膜基板またはカラーフィルタ等に生ずる不良箇所にレーザ光を照射するレーザリペア装置である請求項1または2記載のレーザ処理装置。
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