JP6942722B2 - 基材から材料を除去するための水溶液及びプロセス - Google Patents
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Description
DBU=1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン
DBO=1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン
TEPA=テトラエチレンペンタミン
MEA=モノエタノールアミン
TMAH=水酸化テトラメチルアンモニウム
TEAH=水酸化テトラエチルアンモニウム
DMDPAH=水酸化ジメチルジプロピルアンモニウム
ETMAH=水酸化エチルトリメチルアンモニウム
Claims (14)
- フォトレジスト洗浄溶液であって、
前記溶液の全質量の3wt%〜8wt%の量の水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化ジメチルジプロピルアンモニウム、若しくは水酸化エチルトリメチルアンモニウム、又は、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化ジメチルジプロピルアンモニウム、若しくは水酸化エチルトリメチルアンモニウムのうちの少なくとも2つの組み合わせと、
前記溶液の全質量の0.8wt%〜5wt%の量のアミンであって、モノエタノールアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン若しくはテトラエチレンペンタミン、又は、モノエタノールアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン若しくはテトラエチレンペンタミンのうちの少なくとも2つの組み合わせを含むアミンと、
C4〜C14二塩基酸若しくはそれらのアミン塩、又は、C4〜C14二塩基酸若しくはそれらのアミン塩の組み合わせと、
水とを含む、溶液(但し、過酸化水素を含むフォトレジスト洗浄溶液を除く)。 - フォトレジスト洗浄溶液であって、
前記溶液の全質量の3wt%〜8wt%の量の水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化ジメチルジプロピルアンモニウム、若しくは水酸化エチルトリメチルアンモニウム、又は、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化ジメチルジプロピルアンモニウム、若しくは水酸化エチルトリメチルアンモニウムのうちの少なくとも2つの組み合わせと、
前記溶液の全質量の0.8wt%〜5wt%の量のモノエタノールアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン若しくはテトラエチレンペンタミン、又は、モノエタノールアミン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン若しくはテトラエチレンペンタミンのうちの少なくとも2つの組み合わせと、
C 4 〜C 14 二塩基酸若しくはそれらのアミン塩、又は、C 4 〜C 14 二塩基酸若しくはそれらのアミン塩の組み合わせと、
水とを含み、
前記C4〜C14二塩基酸が、ドデカン二酸、セバシン酸、又はウンデカン二酸である、溶液(但し、過酸化水素を含むフォトレジスト洗浄溶液を除く)。 - 糖アルコールをさらに含む、請求項1または2に記載の溶液。
- 前記糖アルコールがグリセリン、ソルビトール、又はキシリトールである、請求項3に記載の溶液。
- フォトレジスト洗浄溶液であって、
前記溶液の全体重量の3〜8wt%の量で、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化ジメチルジプロピルアンモニウム、若しくは水酸化エチルトリメチルアンモニウム、又は、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化ジメチルジプロピルアンモニウム、若しくは水酸化エチルトリメチルアンモニウムのうちの少なくとも2つの組み合わせと、
前記溶液の全体重量の0.8〜5wt%の量で、アミンであって、モノエタノールアミン、テトラエチレンペンタミン若しくは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、又は、モノエタノールアミン、テトラエチレンペンタミン若しくは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エンのうちの少なくとも2つの組み合わせを含むアミンと、
前記溶液の全体重量の0.1〜9wt%の量で、C4〜C14二塩基酸又はそれらのアミン塩と、
前記溶液の全体重量の15wt%未満の量で、糖アルコールと、
100wt%に対して残りの水とを含む、溶液(但し、過酸化水素を含むフォトレジスト洗浄溶液を除く)。 - 前記糖アルコールがグリセリン、ソルビトール、又はキシリトールである、請求項5に記載の溶液。
- フォトレジスト洗浄溶液であって、
前記溶液の全体重量の3〜8wt%の量で、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化ジメチルジプロピルアンモニウム、若しくは水酸化エチルトリメチルアンモニウム、又は、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム、水酸化ジメチルジプロピルアンモニウム、若しくは水酸化エチルトリメチルアンモニウムのうちの少なくとも2つの組み合わせと、
前記溶液の全体重量の0.8〜5wt%の量で、モノエタノールアミン、テトラエチレンペンタミン若しくは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、又は、モノエタノールアミン、テトラエチレンペンタミン若しくは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エンのうちの少なくとも2つの組み合わせと、
前記溶液の全体重量の0.1〜9wt%の量で、C 4 〜C 14 二塩基酸又はそれらのアミン塩と、
前記溶液の全体重量の15wt%未満の量で、糖アルコールと、
100wt%に対して残りの水とを含み、
前記C4〜C14二塩基酸が、ドデカン二酸、セバシン酸、又はウンデカン二酸である、溶液(但し、過酸化水素を含むフォトレジスト洗浄溶液を除く)。 - フォトレジスト洗浄溶液であって、
前記溶液の全体重量の3〜5wt%の、水酸化テトラメチルアンモニウム又は水酸化テトラエチルアンモニウム又はそれらの組み合わせと、
前記溶液の全体重量の2〜4wt%の、モノエタノールアミン、テトラエチレンペンタミン若しくは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エン、又は、モノエタノールアミン、テトラエチレンペンタミン若しくは1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ−7−エンのうちの少なくとも2つの組み合わせと、
前記溶液の全体重量の0.1〜2wt%の、ドデカン二酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、又は、ドデカン二酸、セバシン酸、ウンデカン二酸若しくはそれらのアミン塩の混合物と、
100wt%に対して残りの水とを含む、溶液(但し、過酸化水素を含むフォトレジスト洗浄溶液を除く)。 - 前記溶液の全体重量の1〜3wt%の糖アルコールをさらに含む、請求項8に記載の溶液。
- 前記糖アルコールがグリセリン、ソルビトール、又はキシリトールである、請求項9に記載の溶液。
- 前記糖アルコールがグリセリンである、請求項9に記載の溶液。
- フォトレジスト洗浄溶液であって、
前記溶液の全体重量の3〜5wt%の水酸化テトラエチルアンモニウムと、
前記溶液の全体重量の2〜5wt%のモノエタノールアミンと、
前記溶液の全体重量の0.1〜2wt%の、ドデカン二酸、セバシン酸、若しくはウンデカン二酸、又は、ドデカン二酸、セバシン酸、ウンデカン二酸若しくはそれらのアミン塩の組み合わせと、
前記溶液の全体重量の0.1〜2wt%の糖アルコールと、
100wt%に対して残りの水とを含む、溶液(但し、過酸化水素を含むフォトレジスト洗浄溶液を除く)。 - 前記糖アルコールがグリセリンである、請求項12に記載の溶液。
- 前記溶液の全体重量の3〜5wt%の量で、前記水酸化テトラエチルアンモニウムが存在し、
前記溶液の全体重量の2〜4wt%の量で、前記モノエタノールアミンが存在し、
前記溶液の全体重量の0.1〜1wt%の量で、前記セバシン酸又はそれらのアミン塩が存在し、
前記溶液の全体重量の0.1〜2wt%の量で存在する前記糖アルコールがグリセリンであり、
100wt%に対して残りが水である、請求項12に記載の溶液。
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