JP6941420B2 - ウェハの表面処理装置 - Google Patents
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Description
11a、11b カセット
12a〜12d チャック部(基板保持機構)
13 ターンテーブル
14 洗浄ユニット
15 搬送ロボット
16 粗研削ユニット
17 仕上げ研削ユニット
18 研磨・テクスチャリングユニット
20 EGパッドユニット
21 アーム(トラバース機構)
22 モータ
22a 出力軸
23 パッド支持体
24 サブパッド
25 樹脂性接着剤
26 EGパッド(表面処理パッド)
26a 加工面
27 樹脂性接着剤
28 供給ライン
30 パットドレスユニット
31 支持部材
32 ドレッサヘッド
33 不織布
Claims (1)
- 表面にデバイス領域が形成されたウェハの裏面にゲッタリング層を生成するウェハの表面処理装置であって、
前記ウェハを保持して回転させる基板保持機構と、
前記ウェハを押圧して前記ゲッタリング層を生成する表面処理パッドと、
前記ウェハが前記表面処理パッドに押圧されている際に、前記基板保持機構の回転中心と前記表面処理パッドの回転中心との間のオフセット量が減少するように前記表面処理パッドを前記基板保持機構に対して相対的に移動させるトラバース機構と、
を備え、
前記トラバース機構は、前記表面処理パッドを前記基板保持機構に対して相対的に移動させる際に、前記表面処理パッドを一時的に上昇させて所望の位置まで水平移動させてから下降させることを特徴とするウェハの表面処理装置。
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JP2016166279A JP6941420B2 (ja) | 2016-08-26 | 2016-08-26 | ウェハの表面処理装置 |
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2016166279A JP6941420B2 (ja) | 2016-08-26 | 2016-08-26 | ウェハの表面処理装置 |
Publications (2)
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JP6941420B2 true JP6941420B2 (ja) | 2021-09-29 |
Family
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2016166279A Active JP6941420B2 (ja) | 2016-08-26 | 2016-08-26 | ウェハの表面処理装置 |
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