JP6899236B2 - 関係特定方法、関係特定装置、関係特定プログラム、補正方法、補正装置、及び補正用プログラム - Google Patents
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Description
図1は、第1実施形態に係る三次元測定システムSの構成を示す図である。
三次元測定システムSは、三次元測定機1と、関係特定装置及び補正装置としてのコンピュータ2とを備える。
ステージ11は、ワークWを載置するための測定盤である。
白色干渉計12は、照射部121と、コリメータレンズ122と、ビームスプリッタ123と、対物レンズ部124と、撮像部129とを備える。
コリメータレンズ122は、入射した白色光を平行光として出射する。
ビームスプリッタ123は、コリメータレンズ122から出射された白色光を反射し、対物レンズ部124に入射する。また、ビームスプリッタ123は、対物レンズ部124から入射する白色光を透過させて撮像部129に入射させる。
対物レンズ125は、ビームスプリッタ123から入射する白色光を収束し、ガラス基板126に入射させる。
ガラス基板126は、入射した白色光を透過させる。ガラス基板126の上面には、参照ミラー127が載置される。参照ミラー127は、ビームスプリッタ128から反射した白色光をビームスプリッタ128に反射する。
また、ビームスプリッタ128は、ワークWから反射した反射光を透過させて、対物レンズ125に入射させる。
コンピュータ2は、記憶部21と、制御部22とを備える。
記憶部21は、例えば、ROM及びRAM等である。記憶部21は、コンピュータ2を機能させるための各種プログラムを記憶する。記憶部21は、制御部22を、干渉波形取得部221、位相オフセット特定部222、関係特定部223、及び補正部224として機能させる関係特定プログラム及び補正用プログラムとしての三次元測定用プログラムを記憶する。
まず、傾斜角度と位相オフセットとの関係を特定する処理の流れを説明しながら、当該処理に係る干渉波形取得部221、位相オフセット特定部222、関係特定部223の機能について説明する。図5は、第1実施形態に係るコンピュータ2による、傾斜角度と位相オフセットとの関係を特定する処理の流れを示すフローチャートである。
まず、作業者が、校正用ワークをステージ10に載置する(S10)。校正用ワークは、例えば、傾斜角度が可変の平面状のワークである。
具体的には、まず、作業者は、校正用ワークの傾斜角度を固定した状態で白色干渉計12を白色光の照射方向に移動させながら、白色干渉計12の撮像部129に撮像画像を生成させる。
具体的には、関係特定部223は、傾斜角度をφとした場合の、位相オフセットを示す関数Ψ(φ)を特定する。例えば、傾斜角度φに依存する位相オフセットの成分に対応するパラメータをα、傾斜角度φに依存しない位相オフセットの成分としての定数をγとし、位相オフセットを以下の式(1)で示す関数で表わす。
Ψ(φ)=αφ+γ・・・(1)
続いて、位相オフセットの補正に係る処理について説明する。
干渉波形取得部221は、白色干渉計12を白色光の照射方向に移動させながら撮像したワークの複数の撮像画像に基づいて、当該撮像画像に含まれる複数の画素のそれぞれに対応する干渉波形を取得する。
まず、作業者が、測定対象のワークWをステージ10に載置する(S110)。
続いて、補正部224は、撮像画像に含まれる複数の画素のうち、位相オフセットの補正が行われていない1つの画素を選択する(S130)。
続いて、補正部224は、全ての画素について干渉波形を補正したか否かを判定する(S170)。補正部224は、全ての画素について干渉波形を補正したと判定すると、本フローチャートに係る処理を終了し、全ての画素について干渉波形を補正していないと判定すると、S130に処理を移す。
以上のとおり、本実施形態に係るコンピュータ2は、三次元測定機1に載置されたワークWの傾斜角度を変化させた場合の、複数の傾斜角度のそれぞれに対応する干渉波形を取得し、複数の傾斜角度で取得された複数の干渉波形のそれぞれと基準干渉波形との間の複数の位相オフセットを特定し、複数の傾斜角度と複数の位相オフセットとに基づいて、傾斜角度と位相オフセットとの関係を特定する。このようにすることで、コンピュータ2は、傾斜角度と位相オフセットとの関係に基づいて、干渉波形を補正可能にすることができる。
[ビームスプリッタ128の歪みに依存する位相オフセットの補正を可能にする]
続いて、第2実施形態に係る三次元測定システムSについて説明する。第1実施形態において、コンピュータ2は、ワークの傾斜角度と位相オフセットとの関係について特定した。しかしながら、位相オフセットには、ビームスプリッタ128の歪みに依存する成分が含まれている場合があり、当該成分によって測定精度が悪化するおそれがある。これに対して、第2実施形態に係る三次元測定システムSでは、コンピュータ2が、ビームスプリッタ128の歪みに依存する位相オフセットの補正を可能にする。以下、第1実施形態と異なる部分について説明を行う。第1実施形態と同じ部分については適宜説明を省略する。
Ψ(θ,φ)=αcos(θ−β)φ+γ・・・(2)
続いて、関係特定部223は、複数の傾斜角度と複数の位相オフセットとに基づいて、傾斜角度と位相オフセットとの関係を特定する(S280)。S280に係る処理は、図5に示すS40に係る処理と同一であるので詳細な説明を省略する。
以上のとおり、本実施形態に係るコンピュータ2は、校正用ワークの傾斜角度を固定した状態で、校正用ワークの傾斜方向を変化させた場合の、複数の傾斜方向のそれぞれに対応する干渉波形を取得し、複数の傾斜方向で取得された複数の干渉波形のそれぞれと、基準干渉波形との間の複数の位相オフセットを特定し、複数の傾斜方向と複数の位相オフセットとに基づいて、傾斜方向と位相オフセットとの関係を特定する。このようにすることで、コンピュータ2は、干渉波形に含まれる、ビームスプリッタ128に依存する位相オフセットを特定し、干渉波形を補正可能にすることができる。
[ビームスプリッタ128の歪みに依存せず、ワークの傾斜角度に依存する位相オフセットの補正を可能にする]
続いて、第3実施形態に係る三次元測定システムSについて説明する。第2実施形態において、コンピュータ2は、ワークの傾斜方向と位相オフセットとの関係について特定することにより、ビームスプリッタ128の歪みに依存する位相オフセットを補正可能とした。しかしながら、位相オフセットには、ビームスプリッタ128の歪みに依存せず、ワークの傾斜角度に依存する成分が含まれている場合があり、当該成分によって測定精度が悪化するおそれがある。これに対して、第3実施形態に係る三次元測定システムSでは、コンピュータ2が、ビームスプリッタ128の歪みに依存せず、ワークの傾斜角度に依存する位相オフセットの補正を可能にする。
S310からS330までの処理の流れは、図7に示すS210からS230までの処理の流れと同じであるので説明を省略する。
Ψ(θ,φ)=(αcos(θ−β)+δ)φ+γ・・・(3)
Ψ(θ,φ)=δφ+γ・・・(4)
続いて、位相オフセット特定部222は、複数の傾斜角度で取得された干渉波形のそれぞれと、基準干渉波形との間の複数の位相オフセットを特定する(S370)。
続いて、干渉波形取得部221は、校正用ワークの傾斜角度を変化させた場合の、複数の傾斜角度のそれぞれに対応する干渉波形を取得する(S400)。
続いて、位相オフセット特定部222は、複数の傾斜角度で取得された干渉波形のそれぞれと、基準干渉波形との間の複数の位相オフセットを特定する(S410)。
関係特定部223は、複数の傾斜角度と複数の位相オフセットとに基づいて、傾斜角度と位相オフセットとの関係を特定する(S420)。S390からS420に係る処理は、図7に示すS250からS280に係る処理と同一であるので詳細な説明を省略する。
以上のとおり、本実施形態に係るコンピュータ2は、校正用ワークの傾斜角度を固定した状態で、校正用ワークの傾斜方向を変化させた場合の、複数の傾斜方向のそれぞれに対応する干渉波形を取得し、複数の傾斜方向で取得された複数の干渉波形のそれぞれと、基準干渉波形との間の複数の位相オフセットを特定し、複数の傾斜方向と複数の位相オフセットとの関係に基づいて、傾斜方向と位相オフセットとの関係を特定する。このようにすることで、コンピュータ2は、ビームスプリッタ128の歪みに依存せず、ワークの傾斜角度に依存する位相オフセットを補正可能にすることができる。
Claims (9)
- コンピュータが実行する、
白色干渉計を備える三次元測定機において、前記白色干渉計が照射する白色光の光路に対する前記三次元測定機に載置されたワークの角度である傾斜角度を変化させた場合の、複数の前記傾斜角度のそれぞれに対応する干渉波形を取得する第1取得ステップと、
複数の前記傾斜角度で取得された複数の干渉波形のそれぞれと基準干渉波形との間の複数の位相オフセットを特定する第1特定ステップと、
前記複数の傾斜角度と前記複数の位相オフセットとに基づいて、前記傾斜角度と前記位相オフセットとの関係を特定する第2特定ステップと、
を有する関係特定方法。 - 前記傾斜角度を固定した状態で、前記白色光の照射方向を中心軸とした前記ワークの傾斜方向を変化させた場合の、複数の前記傾斜方向のそれぞれに対応する干渉波形を取得する第2取得ステップと、
複数の前記傾斜方向で取得された複数の干渉波形のそれぞれと、前記基準干渉波形との間の複数の位相オフセットを特定する第3特定ステップと、
前記複数の傾斜方向と前記複数の位相オフセットとに基づいて、前記傾斜方向と前記位相オフセットとの関係を特定する第4特定ステップとをさらに有する、
請求項1に記載の関係特定方法。 - 前記第1取得ステップにおいて、前記傾斜方向を、前記位相オフセットが最大となるときの前記傾斜方向に固定した状態で、前記傾斜角度を変化させながら、前記干渉波形を取得する、
請求項2に記載の関係特定方法。 - 前記傾斜方向に依存する前記位相オフセットの成分が0となるように前記傾斜方向を固定した状態で、前記傾斜角度を変化させながら前記干渉波形を取得する第3取得ステップと、
前記第3取得ステップにおいて取得された複数の干渉波形のそれぞれと前記基準干渉波形との間の複数の位相オフセットを特定する第5特定ステップと、
前記複数の傾斜角度と、前記第5特定ステップにおいて特定された前記複数の位相オフセットとに基づいて、前記傾斜角度と、前記傾斜方向に依存せず前記傾斜角度に依存する前記位相オフセットの成分との関係を特定する第6特定ステップとをさらに有する、
請求項2又は3に記載の関係特定方法。 - 白色干渉計を備える三次元測定機において、前記白色干渉計が照射する白色光の光路に対する前記三次元測定機に載置されたワークの角度である傾斜角度を変化させた場合の、複数の前記傾斜角度のそれぞれに対応する干渉波形を取得する取得部と、
複数の前記傾斜角度で取得された複数の干渉波形のそれぞれと基準干渉波形との間の複数の位相オフセットを特定する位相オフセット特定部と、
前記複数の傾斜角度と前記複数の位相オフセットとに基づいて、前記傾斜角度と前記位相オフセットとの関係を特定する関係特定部と、
を有する関係特定装置。 - コンピュータを、
白色干渉計を備える三次元測定機において、前記白色干渉計が照射する白色光の光路に対する前記三次元測定機に載置されたワークの角度である傾斜角度を変化させた場合の、複数の前記傾斜角度のそれぞれに対応する干渉波形を取得する取得部、
複数の前記傾斜角度で取得された複数の干渉波形のそれぞれと基準干渉波形との間の複数の位相オフセットを特定する位相オフセット特定部、及び、
前記複数の傾斜角度と前記複数の位相オフセットとに基づいて、前記傾斜角度と前記位相オフセットとの関係を特定する関係特定部、
として機能させる関係特定プログラム。 - コンピュータが、白色干渉計を用いた三次元測定機において、前記白色干渉計が照射する白色光の光路に対する、前記三次元測定機に載置されたワークの角度である傾斜角度に伴う干渉波形の位相オフセットを補正する補正方法であって、
前記白色干渉計を前記白色光の照射方向に移動させながら撮像した前記ワークの複数の撮像画像に基づいて、前記撮像画像に含まれる複数の画素のそれぞれに対応する干渉波形を取得するステップと、
前記複数の画素のそれぞれに対応する前記ワークの位置における前記傾斜角度を特定するステップと、
予め特定された前記傾斜角度と前記位相オフセットとの関係に基づいて、複数の画素のそれぞれに対して特定された前記傾斜角度に対応する前記位相オフセットを特定するステップと、
特定された前記位相オフセットに基づいて、複数の画素のそれぞれに対応する前記干渉波形を補正するステップと、
を備える補正方法。 - 白色干渉計を用いた三次元測定機において、前記白色干渉計が照射する白色光の光路に対する、前記三次元測定機に載置されたワークの角度である傾斜角度に伴う干渉波形の位相オフセットを補正する補正装置であって、
前記白色干渉計を前記白色光の照射方向に移動させながら撮像した前記ワークの複数の撮像画像に基づいて、前記撮像画像に含まれる複数の画素のそれぞれに対応する干渉波形を取得する取得部と、
前記複数の画素のそれぞれに対応する前記ワークの位置における前記傾斜角度を特定する傾斜角度特定部と、
予め特定された前記傾斜角度と前記位相オフセットとの関係に基づいて、複数の画素のそれぞれに対して特定された前記傾斜角度に対応する前記位相オフセットを特定するオフセット特定部と、
特定された前記位相オフセットに基づいて、複数の画素のそれぞれに対応する前記干渉波形を補正する補正部と、
を備える補正装置。 - 白色干渉計を用いた三次元測定機において、前記白色干渉計が照射する白色光の光路に対する、前記三次元測定機に載置されたワークの角度である傾斜角度に伴う干渉波形の位相オフセットを補正するコンピュータを、
前記白色干渉計を前記白色光の照射方向に移動させながら撮像した前記ワークの複数の撮像画像に基づいて、前記撮像画像に含まれる複数の画素のそれぞれに対応する干渉波形を取得する取得部、
前記複数の画素のそれぞれに対応する前記ワークの位置における前記傾斜角度を特定する傾斜角度特定部、
予め特定された前記傾斜角度と前記位相オフセットとの関係に基づいて、複数の画素のそれぞれに対して特定された前記傾斜角度に対応する前記位相オフセットを特定するオフセット特定部、及び、
特定された前記位相オフセットに基づいて、複数の画素のそれぞれに対応する前記干渉波形を補正する補正部、
として機能させる補正用プログラム。
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