JP6854456B2 - ガス吸着ユニットの製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、ガス吸着ユニットの製造方法に関する。

特許文献１には、一対のガラスパネルの間に真空空間が形成されたガラスパネルユニットを製造する方法が開示されている。この製造方法では、第１ガラス基板と第２ガラス基板とが枠体を介して対向するように配置され、この後、枠体が加熱されて溶融することで、第１ガラス基板と第２ガラス基板とが気密に接合される。次に、第１ガラス基板と第２ガラス基板との間に形成された内部空間が排気されて真空空間とされ、この後、真空空間が密閉されて組立て品が得られる。そして、この組立て品の一部が切り出されることで、ガラスパネルユニットが得られる。

前記ガラスパネルユニットの真空空間には、枠体等から放出されたガスを吸着するためのガス吸着体が配置されている。このガス吸着体はゼオライトであるゲッターを含んでいる。ゲッターは、前記製造方法において前記内部空間が排気される時に加熱されることで、活性化され、これにより、枠体等から放出されたガスがゲッターに吸着される。

ところで、前記ガス吸着体は、ガスを吸着するために、ゲッターを活性化温度以上となる温度まで加熱して活性化する必要がある。このため、例えばガス吸着体を高温に加熱することができない場合には利用できない等、利用が制限されやすい。

日本国公開特許公報２０１６−１０８７９９号

本開示は前記事情に鑑みてなされたものであって、ゲッターの活性化処理を行うことなく利用可能なガス吸着ユニットを容易に製造することができるガス吸着ユニットの製造方法を提供することを目的とする。

前記目的を達成するために本開示に係る一態様のガス吸着ユニットの製造方法は、準備工程、活性化工程及び封止工程を備える。前記準備工程では、パッケージ材でゲッターを包む。前記活性化工程では、前記パッケージ材で包まれた前記ゲッターを加熱して前記ゲッターを活性化する。前記封止工程では、前記パッケージ材を加熱して溶融することで、前記活性化工程により活性化された前記ゲッターを前記パッケージ材により封止する。

また、本開示に係る一態様のガラスパネルユニットの製造方法は、配置工程、接合工程、減圧密閉工程及び開封工程を備える。前記配置工程では、ガラスパネルを含む第一基板と、ガラスパネルを含む第二基板とを枠状の封止材を介して対向させ、前記第一基板と前記第二基板と前記封止材とで囲まれた内部空間を形成する。前記接合工程では、前記第一基板、前記第二基板及び前記封止材を含むガラス複合物を加熱して前記封止材を溶融し、この封止材により前記第一基板と前記第二基板とを気密に接合する。前記減圧密閉工程では、前記内部空間を減圧して封止する。前記配置工程では、前記ガス吸着ユニットを、枠状の前記封止材の内側に位置するように配置する。前記ガス吸着ユニットは、パッケージと、前記ゲッターとを含む。前記パッケージは、前記パッケージ材で構成されている。前記開封工程では、前記減圧密閉工程以後において、前記パッケージに熱応力を生じさせ、この熱応力により前記パッケージを破断して前記パッケージによる前記ゲッターの封止を解く。

また、本開示に係る一態様の建具の製造方法は、嵌込工程を備える。嵌込工程は、前記ガラスパネルユニットの製造方法で製造されたガラスパネルユニットに、建具枠を嵌め込む工程である。

図１は、本開示に係る実施形態のガラスパネルユニットの斜視図である。 図２は、同上のガラスパネルユニットの製造に用いられるガス吸着ユニットの断面図である。 図３は、同上のガス吸着ユニットの製造工程において、基体にゲッターを積層した状態を示した断面図である。 図４Ａ〜図４Ｃは、同上のガス吸着ユニットの製造工程を順に示した拡大断面図である。 図５は、同上のガラスパネルユニットの平面図である。 図６は、同上のガラスパネルユニットの分解斜視図である。 図７は、図５のＡ−Ａ線断面図である。 図８は、同上のガラスパネルユニットのガス吸着ユニットを示した断面図である。 図９Ａ及び図９Ｂは、同上のガラスパネルユニットの製造方法を順に示した断面図である。 図１０は、同上のガラスパネルユニットの製造工程において得られたガラス複合物における要部の断面図である。 図１１は、同上のガラスパネルユニットの製造工程におけるガラス複合物の加熱温度の変化を示したグラフである。 図１２は、図９ＢのＢ部拡大図である。 図１３は、変形例１のガラスパネルユニットの製造工程において得られたガラス複合物における要部の断面図である。 図１４は、変形例２のガラスパネルユニットの製造工程において得られたガラス複合物における要部の断面図である。 図１５は、変形例６のガラスパネルユニットの平面図である。 図１６は、図１５のＣ−Ｃ線断面図である。 図１７は、同上のガラスパネルユニットを備えた建具の平面図である。

以下に示す実施形態は、ゲッターを備えたガス吸着ユニットの製造方法、ガス吸着ユニットを備えたガラスパネルユニットの製造方法及びガラスパネルユニットを備えた建具の製造方法に関する。

（ガス吸着ユニット）
本実施形態のガス吸着ユニット３は、例えば、図１に示すガラスパネルユニット１に形成された内部空間１４に存在するガスを吸着するために用いられる。

本実施形態のガス吸着ユニット３は、図２に示すように、ゲッター３０とパッケージ３１とを含んでいる。

ゲッター３０は、例えば、非金属ゲッター（蒸発型ゲッター）又は金属ゲッター（非蒸発型ゲッター）であり、あるいは非金属ゲッター及び金属ゲッターの両者を備えたゲッターである。

非金属ゲッターは、多孔質であって、気体分子がファンデルワールス力によって物理的に吸着するゲッターである。非金属ゲッターは、例えば、ゼオライト、活性炭又は酸化マグネシウムを含むゲッターである。

ゼオライトは、イオン交換されたゼオライトであってもよいし、イオン交換されていないゼオライトであってもよい。イオン交換されたゼオライトは、イオン交換物質として、例えば、銅イオン、カリウムイオン、アンモニウムイオン、バリウムイオン、ストロンチウムイオン、ナトリウムイオン、カルシウムイオン、鉄イオン、アルミニウムイオン、マグネシウムイオン、リチウムイオン、又は水素イオン等を含む。

金属ゲッターは、気体分子が化学的に吸着するように設けられた金属表面を有するゲッターである。金属ゲッターは、例えば、Ｚｒ−Ａｌゲッター又はＺｒ−Ｖ−Ｆｅゲッター等のジルコニウム系合金ゲッター、あるいはチタン系合金ゲッターである。

ゲッター３０は、活性化処理により活性化された状態で、パッケージ３１に収納されている。非金属ゲッターは、所定温度（活性化温度）以上に加熱されることで、吸着された分子（ガス）を放出する。このため、非金属ゲッターは、例えば前記所定温度以上に加熱されることで、吸着能力が回復し、吸着能力が高まった活性化状態となる。また、金属ゲッターは、例えば所定温度（活性化温度）以上に加熱されることで、表面で吸着されたガスが内部に拡散し、表面が高い吸着能力を有する活性化状態となる。

本実施形態のゲッター３０は、イオン交換されたゼオライトであり、詳しくは、胴イオンでイオン交換されたゼオライトである。このため、ゲッター３０は、窒素、酸素、水、水素、メタン、エタン、及びアンモニア等を吸着可能である。

ゲッター３０は、外気に触れないように全体がパッケージ３１によって包み込まれている。これにより、ゲッター３０は活性化された状態で、パッケージ３１により封止されている。このため、パッケージ３１内のゲッター３０は、活性化状態が維持される。

本実施形態のパッケージ３１は、基体３１１と保護層３１２とを含んでいる。基体３１１は、例えば、金属、ガラス又はセラミックス等の材料から形成された部材である。

本実施形態では、ゲッター３０が基体３１１の厚み方向の一方の面３１３に積層されており、ゲッター３０は基体３１１の面３１３に沿った層状に形成されている。ゲッター３０は基体３１１の面３１３の周縁部を除く部分の全体に亘っている。

保護層３１２は、例えば、ガラス又はセラミックス等から形成されている。本実施形態の保護層３１２は、ゲッター３０の外面において基体３１１で覆われていない部分の全体に亘るように、ゲッター３０に積層されている。保護層３１２の周縁部は、基体３１１の面３１３の周縁部に積層されている。保護層３１２は、概ね基体３１１の面３１３に沿った層状に形成されている。ゲッター３０は、基体３１１と保護層３１２とで封止されている。

（ガス吸着ユニットの製造方法）
本実施形態のガス吸着ユニットの製造方法は、準備工程、活性化工程、封止工程及びパッケージ材冷却工程を備えている。

（準備工程）
準備工程は、パッケージ材３１４でゲッター３０を包む工程である。パッケージ材３１４は、パッケージ３１の材料であり、準備工程、活性化工程、封止工程及びパッケージ材冷却工程を経て、パッケージ３１となる。

本実施形態のパッケージ材３１４は、基体３１１と、保護層材料３１５とを含んでいる。本実施形態の基体３１１は、金属箔である。

保護層材料３１５は、保護層３１２の材料であり、保護層材料３１５の硬化物が保護層３１２である。

本実施形態の保護層材料３１５は、ガラス又はセラミックスである粉末３１６（図４Ａ参照）と、粉末３１６の分散性を高めるバインダーとを含んだペースト状の材料である。粉末３１６の軟化点は、ゲッター３０が活性化する温度（活性化温度）よりも高い。本実施形態のゲッター３０の活性化温度は、約３５０℃であり、粉末３１６の軟化点は、約６００℃である。

本実施形態の保護層材料３１５としては、保護層３１２の熱膨張係数が、基体３１１の熱膨張係数と略同じになるような材料が用いられる。

具体的に本実施形態の保護層材料３１５は、粉末３１６としてガラス粉末（熱溶融性ガラス）を含むガラスペーストである。このガラスペーストとしては、例えば、主成分として、酸化バリウム、酸化ホウ素及び酸化亜鉛を含んだガラスペーストが用いられる。

本実施形態の保護層材料３１５は、基体３１１の一面の範囲内に塗布され、基体３１１の周縁部は、基体３１１の厚み方向に見て、保護層材料３１５の外側に位置する。このため、後述する活性化工程において保護層３１２が破断したときに、保護層３１２の破片が、基体３１１に当たりやすくなり、保護層３１２の破片が飛び散り難くなる。

本実施形態の準備工程は、第一積層工程と、第二積層工程とを備えている。第一積層工程は、図３に示すように、基体３１１にゲッター３０を積層する工程である。第二積層工程は、基体３１１に積層されたゲッター３０に保護層材料３１５を積層して、基体３１１と保護層材料３１５とでゲッター３０を包む工程である（図４Ａ参照）。

本実施形態のゲッター３０は、粉体のゲッター３０を含む液体からなるゲッター材３０１の硬化物である。ゲッター材３０１は、例えば、ゲッター３０となる粉体を液体に分散して得られた分散液、又はゲッター３０となる粉体を液体に溶解させて得られた溶液である。

本実施形態の第一積層工程では、図３に示すように、基体３１１の面３１３に、ゲッター材３０１を塗布し、この後、ゲッター材３０１を乾燥させて硬化させる。これにより、基体３１１には、ゲッター材３０１からなるゲッター３０が積層される。

第二積層工程は、第一積層工程の後に行われる。本実施形態の第二積層工程では、第一積層工程において基体３１１に積層されたゲッター３０の表面に、保護層材料３１５を塗布し、この後、保護層材料３１５を乾燥させる（図４Ａ参照）。これにより、保護層材料３１５がゲッター３０に積層され、ゲッター３０と、このゲッター３０を包むパッケージ材３１４（基体３１１と保護層材料３１５）とを含む複合体３３が得られる。

（活性化工程）
準備工程の後に、活性化工程が行われる。活性化工程は、図４Ａに示すように、パッケージ材３１４（基体３１１と保護層材料３１５）で包まれたゲッター３０を加熱してゲッター３０を活性化する工程である。

本実施形態の活性化工程では、準備工程で得られた複合体３３の全体を、図示しない減圧チャンバー（真空チャンバー）内に形成した減圧雰囲気（減圧された空間）中において、加熱することにより、ゲッター３０を活性化する。

上記のように複合体３３が加熱されると、ゲッター３０は、図４Ａに示すように、当該ゲッター３０に吸着されたガスを放出する。また、この複合体３３の加熱により、保護層材料３１５に含まれるバインダーが除去される。

上記のようにゲッター３０から放出されたガスは、乾燥した保護層材料３１５の隣り合う粉末３１６同士の間を通ってパッケージ材３１４の外部に排出される。これにより、ゲッター３０は適切に活性化されて、ガスの吸着能力が高まった活性化状態となる。

図４Ｂは上記の複合体３３の加熱により、ゲッター３０が活性化された状態を示している。

（封止工程）
活性化工程の後に、封止工程が行われる。封止工程は、パッケージ材３１４を加熱して溶融させることで、活性化工程により活性化されたゲッター３０をパッケージ材３１４により封止する工程である。

本実施形態の封止工程では、前記活性化工程において前記減圧チャンバー内に形成された減圧雰囲気中で活性化された状態にあるゲッター３０を含む複合体３３の全体を、活性化工程における加熱温度よりも高い温度で加熱する。つまり、この場合、複合体３３は、活性化工程における加熱温度よりも高い温度になるように加熱される。これにより、保護層材料３１５に含まれる粉末３１６は加熱されて溶融され、これにより、図４Ｃに示すように溶融した粉末３１６を含む保護層材料３１５と、基体３１１とで、ゲッター３０が活性化された状態で、封止される。

（パッケージ材冷却工程）
パッケージ材冷却工程は、封止工程の後に行われる。パッケージ材冷却工程では、封止工程で溶融された保護層材料３１５を冷却する。これにより、保護層材料３１５は硬化されて保護層３１２となり（すなわち、パッケージ材３１４がパッケージ３１となり）、ゲッター３０がパッケージ３１で封止されたガス吸着ユニット３が得られる。

（ガラスパネルユニット）
次に本実施形態のガス吸着ユニット３を用いて製造されたガラスパネルユニット１について説明する。

本実施形態のガラスパネルユニット１は、図１、図５及び図６に示すように、第一基板１１、第二基板１２、封止体２、ガス吸着ユニット３、複数（多数）のピラー４及び密閉体５を備えている。

本実施形態の第一基板１１と第二基板１２との各々は、矩形板状に形成されている。第一基板１１と第二基板１２とは、第一基板１１の厚み方向に距離をあけて対向している。第一基板１１と第二基板１２とは平行である。第一基板１１と第二基板１２との間には、封止体２と複数のピラー４とが配置されている。

図７に示すように、第一基板１１は、ガラスパネル１１１を含んでいる。第二基板１２は、ガラスパネル１２１と、低放射膜（熱反射膜）１２３とを含んでいる。低放射膜１２３は、ガラスパネル１２１に積層されている。以下、ガラスパネル１１１を第一ガラスパネル１１１といい、ガラスパネル１２１を第二ガラスパネル１２１という。

第一ガラスパネル１１１と第二ガラスパネル１２１との各々は、例えば、ソーダライムガラス、高歪点ガラス、化学強化ガラス、無アルカリガラス、石英ガラス、ネオセラム、又は物理強化ガラス等の材料から形成されたパネルである。

第一基板１１の厚み方向の両側の面のうちの一方の面１１２は、第二基板１２に対向している。第一基板１１の面１１２は、第一ガラスパネル１１１の表面で構成されている。

第二基板１２の厚み方向の両側の面のうちの一方の面１２２は、第一基板１１に対向している。すなわち、面１１２と面１２２とは対向している。第二基板１２の面１２２の大部分は、低放射膜１２３の表面で構成されている。

低放射膜１２３は、銀等の低放射性を有する金属を含有する膜であり、放射による伝熱を抑制する。なお、低放射膜１２３は、厚みが薄く、光を透過させるため、ガラスパネルユニット１の透明性にほとんど影響を及ぼさない。低放射膜１２３は、第二ガラスパネル１２１における第一ガラスパネル１１１側の面の周縁部には積層されていない。

図１及び図５に示すように、第一基板１１と第二基板１２との間に配置された封止体２は、枠状に形成されている。封止体２の材料となる封止材２０（図９Ａ参照）は、例えばガラスフリットを含むガラスペーストである。本実施形態の封止材２０の融点は、ガス吸着ユニット３の保護層３１２の融点よりも低い。

本実施形態の封止体２は、矩形枠状に形成されている。封止体２は、図７に示すように、第一基板１１の周縁部と、第二基板１２の周縁部とに気密に接合されている。これにより、第一基板１１と第二基板１２との互いの周縁部は、封止体２を介して気密に接合されている。ガラスパネルユニット１には、内部空間１４が形成されている。内部空間１４は、第一基板１１、第二基板１２及び封止体２で囲まれている。

第二基板１２には、第二基板１２の厚み方向に貫通した排気孔１２４が形成されている。排気孔１２４は、ガラスパネルユニット１を製造する過程（後述の減圧密閉工程）において、内部空間１４の空気を排出するために用いられる。

排気孔１２４は、密閉体５によって封止されている。これにより、ガラスパネルユニット１の内部空間１４は、密閉されている。密閉体５は、例えばガラスフリットを含むガラス接着剤から形成される。

内部空間１４は、例えば０．１Ｐａ以下の真空度に至るまで減圧された減圧空間である。このため、ガラスパネルユニット１は、高い断熱性を有している。

内部空間１４には、複数のピラー４が、互いに距離をあけて分散して配置されている。ピラー４は、ガラスフリットを含むガラス接着剤、樹脂又は金属などから形成される。ピラー４は、透明又は半透明である。

ピラー４は、第一基板１１の面１１２と第二基板１２の面１２２とに接している。複数のピラー４は、第一基板１１と第二基板１２との間の距離を、所定距離に維持する。

ガラスパネルユニット１の内部空間１４には、図８に示すガス吸着ユニット３が配置されている。ガス吸着ユニット３のパッケージ３１は、後述するガラスパネルユニット１の製造過程において、破断されており、これにより、ゲッター３０はパッケージ３１の外部に露出している。

（ガラスパネルユニットの製造方法）
次に本実施系形態のガラスパネルユニット１の製造方向について説明する。本実施形態のガラスパネルユニット１の製造方法は、配置工程、接合工程、減圧密閉工程及び冷却工程を備えている。

（配置工程）
配置工程は、図９Ａに示すように、第一基板１１と第二基板１２とを枠状の封止材２０を介して対向させて配置し、第一基板１１と第二基板１２と封止材２０とで囲まれた内部空間１４を形成する工程である。

封止材２０はガラスパネルユニット１における封止体２を構成する。第二基板１２には、第二基板１２の厚み方向に貫通した排気孔１２４が形成されている。

本実施形態の配置工程では、第一基板１１が面１１２を上向きにして配置される。また、この第一基板１１の面１１２に、封止材２０と複数のピラー４とガス吸着ユニット３（図１０参照）とが配置される。また、この第一基板１１に、封止材２０及び複数のピラー４を介して第二基板１２が載せられる。これにより、第一基板１１、第二基板１２、封止材２０及びガス吸着ユニット３を備えたガラス複合物１０が組み立てられる。

配置工程において、封止材２０は、例えばディスペンサー等の塗布装置を用いて、第一基板１１の面１１２の外周縁に沿って枠状に塗布される。また、複数のピラー４は、第一基板１１の面１１２のうちの封止材２０に囲まれる領域に、規則的に配置される。

配置工程では、ガス吸着ユニット３（図１０参照）が、第一基板１１の面１１２のうちの封止材２０に囲まれる領域に配置される。本実施形態のガス吸着ユニット３は、図１０に示すように、第一基板１１の面１１２に形成された凹部１１３に配置される。このため、第一基板１１と第二基板１２との間隔が小さい場合にも、ガス吸着ユニット３を内部空間１４に配置することができ、ガラスパネルユニット１の厚みを小さくすることができる。

本実施形態のガス吸着ユニット３は、パッケージ３１（詳しくは基体３１１）が、第一基板１１の面１２２に形成された凹部１１３の底面に配置され、凹部１１３内に収納される。

配置工程では、パッケージ３１の外面に、パッケージ３１の熱膨張係数とは異なる熱膨張係数を有する接続体３２が配置される。本実施形態の接続体３２は、低融点部材３２０と、接続部材３２１とを含んでいる。

配置工程では、パッケージ３１の外面に低融点部材３２０が固体の状態で配置される。本実施形態の低融点部材３２０は、パッケージ３１（詳しくは保護層３１２）の上面に配置される。低融点部材３２０の融点は、パッケージ３１（詳しくは保護層３１２及び基体３１１）の融点よりも低く、また、封止材２０の融点よりも低い。本実施形態の低融点部材３２０は、バナジウム系低融点ガラスである。

配置工程では、接続部材３２１が低融点部材３２０におけるパッケージ３１とは反対側の面に沿って配置され、これにより、接続部材３２１が低融点部材３２０を介してパッケージ３１の外面に沿って配置される。本実施形態の接続部材３２１は、低融点部材３２０の上面に配置され、低融点部材３２０を介してパッケージ３１（詳しくは保護層３１２）の上面に沿って配置される。

接続部材３２１の熱膨張係数と、パッケージ３１の熱膨張係数とは、異なる。本実施形態の接続部材３２１は、ホウ珪酸ガラスであり、接続部材３２１の熱膨張係数は、パッケージ３１の熱膨張係数よりも小さい。ホウ珪酸ガラスの熱膨張係数は、３．３ｐｐｍ／Ｋである。

配置工程において、低融点部材３２０はパッケージ３１及び接続部材３２１に対して固定されない。このため、配置工程では、パッケージ３１は、接続体３２によって熱変形が妨げられず、かつパッケージ３１に熱応力が生じ難い状態で配置される。

（接合工程）
配置工程の後に、接合工程が行われる。接合工程は、図９Ａに示すガラス複合物１０を加熱して封止材２０を溶融し、この封止材２０により第一基板１１と第二基板１２とを気密に接合する工程である。

本実施形態の接合工程では、配置工程で組み立てられたガラス複合物１０の全体が、熱風循環炉等の炉内で加熱される。図１１はガラス複合物１０の加熱温度（炉内温度）の変化を示したグラフである。図１１中Ｓ１で示す範囲は、接合工程の期間である。

上述の接合工程におけるガラス複合物１０の加熱温度は、封止材２０の融点よりも高い温度ｔ１である。このため、接合工程では、図９Ａに示すガラス複合物１０の内部空間１４を囲む封止材２０は溶融され、封止材２０は第一基板１１と第二基板１２とに接合される。

この封止材２０により、内部空間１４の周囲が封止され、内部空間１４は排気孔１２４のみを通じてガラス複合物１０の外部に連通した状態となる。接合工程におけるガラス複合物１０の加熱は、後述する減圧密閉工程の終了時点まで継続して行われる。ただし、本実施形態の減圧密閉工程では、ガラス複合物１０の加熱温度は、温度ｔ１から温度ｔ２に下げられる（図１１参照）。

低融点部材３２０（図１０参照）の融点は、封止材２０の融点よりも低い。このため、上述したように、接合工程においてガラス複合物１０が温度ｔ１で加熱されると、低融点部材３２０は溶融して、隣接するパッケージ３１（詳しくは保護層３１２）と接続部材３２１とに接合される。すなわち、本実施形態の接合工程は、低融点部材３２０を溶融して、低融点部材３２０をパッケージ３１に接合する溶融工程を兼ねる。

図１１に示す温度ｔ１は、パッケージ３１の融点よりも低い。このため、接合工程では、ゲッター３０がパッケージ３１で封止された状態が維持される。また、温度ｔ１は、接続部材３２１の融点よりも低く、接続部材３２１も溶融しない。

（減圧密閉工程）
減圧密閉工程は接合工程の後に行われる。減圧密閉工程は、ガラス複合物１０の内部空間１４を減圧して封止する工程である（図９Ｂ参照）。

減圧密閉工程は、減圧工程と、密閉工程とを備えている。減圧工程は、ガラス複合物１０の内部空間１４を減圧する工程である。密閉工程は、減圧工程で減圧された内部空間１４を封止する工程である。

（減圧工程）
減圧工程では、図９Ｂに示すように、内部空間１４の空気が、排気孔１２４を通じてガラス複合物１０の外部に排出され、これにより、内部空間１４が減圧される。この内部空間１４の空気の排出（真空引き）は、例えば排気孔１２４に排気ヘッド６を介して接続された真空ポンプにより行われる。

図１１中Ｓ２で示す範囲は、減圧工程の期間である。減圧工程において、ガラス複合物１０は、温度ｔ１よりも低い温度ｔ２で加熱された状態で、内部空間１４が減圧される。つまり、この場合、ガラス複合物１０は、温度ｔ２になるように加熱される。温度ｔ２は、封止材２０の軟化点温度以下の温度である。このため、減圧工程では、封止材２０が変形し難く、内部空間１４の減圧に伴って封止材２０が変形するといった事態が生じ難い。

また、温度ｔ２は、低融点部材３２０の融点よりも高い。このため、減圧工程では、低融点部材３２０が溶融した状態が維持される。

（密閉工程）
減圧工程において内部空間１４の圧力が所定の値以下になった後に、密閉工程が行われる。密閉工程では、減圧工程において内部空間１４を減圧している状態において、図１２に示す排気孔１２４を封止する。これにより、内部空間１４は密閉された減圧空間となる。

本実施形態の密閉工程では、密閉材５０を用いて排気孔１２４を封止する。密閉材５０は、図１に示すガラスパネルユニット１の密閉体５を構成する。

密閉材５０は、図１２に示すように排気孔１２４に配置される。この密閉材５０は、密閉工程において、ガラス複合物１０の一部のみを集中的に加熱する局所加熱を行うことにより軟化し、これにより、排気孔１２４が密閉材５０によって封止される。この局所加熱は、例えば赤外線照射又はレーザー照射等を照射する照射器７により行われる。なお、このガラス複合物１０の局所的な加熱は、ガラス複合物１０のうち、密閉材５０のみを加熱することで行うことが好ましいが、密閉材５０をその周辺部分を含めて加熱してもよい。

（冷却工程）
減圧密閉工程の後、冷却工程が行われる。図１１中Ｓ３で示す範囲は、冷却工程の期間である。冷却工程では、接合工程から継続して行われてきた、熱風循環炉等によるガラス複合物１０の加熱が停止され、これによりガラス複合物１０の全体が冷却される。このようにガラス複合物１０が冷却されることで、封止材２０は硬化して封止体２となり、密閉材５０は硬化して密閉体５となる。これにより、図１に示すガラスパネルユニット１が得られる。

冷却工程においては、上述したガラス複合物１０の冷却により、溶融工程（接合工程）で溶融した低融点部材３２０（図１０参照）が冷却されて硬化する。これにより、図１０に示すパッケージ３１（詳しくは保護層３１２）は、低融点部材３２０を介して接続部材３２１に接続される。すなわち、本実施形態の冷却工程は、低融点部材３２０を冷却して硬化させることで、パッケージ３１を低融点部材３２０を含む接続体３２に接続する硬化工程を兼ねる。

上述したように低融点部材３２０が硬化することで、パッケージ３１の保護層３１２は、その熱変形が接続体３２（接続部材３２１）によって制限されて、熱応力が生じやすい状態となる。

冷却工程におけるガラス複合物１０は、上述した低融点部材３２０の硬化後にも、継続して冷却される。このため、ガス吸着ユニット３の保護層３１２と接続体３２の各々は、冷却されて収縮する。このとき、保護層３１２の変形は、接続体３２（接続部材３２１）によって制限されている。このため、保護層３１２には、保護層３１２と、保護層３１２に接続された接続体３２（接続部材３２１）との熱膨張係数の差に起因する熱応力が生じる。そして、この熱応力により保護層３１２が図８に示すように破断して、パッケージ３１によるゲッター３０の封止が解かれる。すなわち、本実施形態の冷却工程は、パッケージ３１に対して熱応力を生じさせてパッケージ３１を破断する開封工程を兼ねる。

上述した開封工程（冷却工程）によりパッケージ３１が破断されることで、パッケージ３１内に活性化状態で収納されていたゲッター３０は、パッケージ３１の外部に露出する。このため、ガラス複合物１０の内部空間１４のガスは、ゲッター３０に吸着される。

本実施形態のガス吸着ユニット３は、減圧密閉工程よりも後に行われる開封工程（冷却工程）まで、ゲッター３０がパッケージ３１により封止されるため、ゲッター３０の吸着性能が低下し難い。このため、減圧密閉工程よりも後のガラス複合物１０の内部空間１４で発生したガスを、ゲッター３０により効率良く吸着することができ、真空度の優れたガラスパネルユニット１を得ることができる。

以上の各工程を経て製造された本実施形態のガラスパネルユニット１は、減圧された内部空間１４を備えることで高い断熱性を有する。

（変形例）
次に前記実施形態のガラスパネルユニット１の製造方法の変形例について説明する。なお、以下の変形例１〜４の説明では、前記実施形態と共通する構成については同一の符号を付し、説明を省略する。

（変形例１）
まず、変形例１について説明する。図１３に示すように、本変形例のガラスパネルの製造方法において用いられる接続部材３２１は、第一基板１１（第一ガラスパネル１１１）であり、第一基板１１の熱膨張係数は、保護層３１２の熱膨張係数よりも大きい。本実施形態の接続体３２は、第一基板１１（接続部材３２１）と低融点部材３２０とで構成されている。

配置工程では、図１３に示すように、低融点部材３２０が第一基板１１の凹部１１３の底面に配置され、この低融点部材３２０の上面に、ガス吸着ユニット３が配置される。このとき、ガス吸着ユニット３は、保護層３１２が低融点部材３２０の上面に沿って配置される。

本変形例では、溶融工程（接合工程）において低融点部材３２０が加熱されて溶融すると、低融点部材３２０は隣接する保護層３１２と第一基板１１（接続部材３２１）とに接合される。また、この後、硬化工程（冷却工程）において低融点部材３２０が冷却されて硬化すると、保護層３１２は低融点部材３２０を介して第一基板１１に接続されて、パッケージ３１の熱変形が第一基板１１によって制限される。また、この後、開封工程（冷却工程）において、パッケージ３１及び第一基板１１の各々が冷却されて収縮すると、保護層３１２は、保護層３１２と第一基板１１との熱膨張係数の差に起因して、破断する。

本変形例では、第一基板１１が接続部材３２１を兼ねるため、ガラスパネルユニット１の製造に用いられる部材の点数を削減できる。また、配置工程において接続部材３２１として第一基板１１とは別の部材を配置する必要がないため、ガラスパネルユニット１を容易に製造できる。

（変形例２）
次に変形例２について説明する。図１４に示す本変形例のガラスパネルユニット１の製造方法において用いられる接続体３２は、低融点部材３２０のみからなり、低融点部材３２０の熱膨張係数は、保護層３１２の熱膨張係数よりも小さい。

本変形例では、溶融工程（接合工程）において低融点部材３２０が加熱されて溶融すると、低融点部材３２０（接続体３２）は隣接する保護層３１２に接合される。また、この後、硬化工程（冷却工程）において低融点部材３２０が冷却されて硬化すると、保護層３１２は低融点部材３２０に接続されて、パッケージ３１の熱変形が、硬化した低融点部材３２０によって制限される。また、この後、開封工程（冷却工程）において、パッケージ３１と低融点部材３２０との各々が冷却されて収縮すると、保護層３１２は、保護層３１２と低融点部材３２０との熱膨張係数の差に起因して、破断する。

本変形例では、接続部材３２１を用いずにパッケージ３１を破断することができ、ガラスパネルユニット１の製造に用いられる部材の点数を削減できる。また、配置工程において接続部材３２１を配置する必要がないため、ガラスパネルユニット１を容易に製造できる。

（変形例３）
次に図９Ａ、図９Ｂ及び図１０に基づいて変形例３について説明する。本変形例の低融点部材３２０の融点は、封止材２０の融点よりも高い。本変形例の低融点部材３２０は、接合工程において封止材２０を溶融するために行うガラス複合物１０の加熱では溶融されない。

本変形例において、低融点部材３２０を溶融してパッケージ３１及び接続部材３２１に接合する溶融工程は、減圧密閉工程よりも後（冷却工程時又は冷却工程後）において、ガラス複合物１０の一部のみを集中的に加熱する局所加熱を行うことにより、低融点部材３２０を加熱することで行われる。この局所加熱は、例えば赤外線照射又はレーザー照射等により行われる。この局所加熱は、低融点部材３２０を直接加熱することで行ってもよいし、パッケージ３１及び接続部材３２１のうちの少なくとも一方を加熱してこの熱を低融点部材３２０に伝達することで行ってもよい。すなわち、この場合、局所加熱は、ガラス複合物１０のうち、低融点部材３２０のみを加熱することで行ってもよいし、低融点部材３２０の周囲部分のみを加熱することで行ってもよい。また、局所加熱は、ガラス複合物１０のうち、低融点部材３２０及び低融点部材３２０の周囲部分のみを加熱することで行ってもよい。

上述した局所加熱は、例えば、所定時間後に停止される。これにより、低融点部材３２０を冷却して硬化させる硬化工程と、低融点部材３２０が硬化したガス吸着ユニット３を更に冷却して、パッケージ３１を破断する開封工程とが行われる。

本変形例では、上述した溶融工程を行うことで、低融点部材３２０として、融点が、封止材２０の融点よりも高い部材を用いることができる。

（変形例４）
次に図１０に基づいて変形例４について説明する。本変形例において、パッケージ３１に対して熱応力を生じさせてパッケージ３１を破断する開封工程は、減圧密閉工程よりも後（冷却工程時又は冷却工程後）に行われる。また、この開封工程は、ガラス複合物１０の一部のみを集中的に加熱する局所加熱を行うことにより、パッケージ３１（詳しくは保護層３１２）及び接続部材３２１のうちの一方又は両方を加熱することで行われる。この局所加熱は、例えば、赤外線照射又はレーザー照射等により行われる。

本変形例では上述のように開封工程において局所加熱することで、パッケージ３１に熱応力を生じさせ、これにより、パッケージ３１を破断させることができる。

なお、前述した変形例３において行われる開封工程は、本変形例の開封工程であってもよい。

（変形例５）
次に図９Ａ、図９Ｂ及び図１０に基づいて変形例５について説明する。ところで、前記実施形態における接合工程では、封止材２０を溶融できる温度までガラス複合物１０を加熱する必要があるが、省エネルギー化を図るためには、このガラス複合物１０の加熱温度は、低温であることが好ましい。しかし、埃の主成分であるコットンの発火点は、４０７℃であるため、ガラス複合物１０を４０７℃以下で加熱した場合、ガラス複合物１０の内部に、埃が残留する可能性がある。このようにガラス複合物１０の内部に埃が残留すると、埃から炭化水素系のガスが出て、真空度が悪化する可能性がある。

本変形例はこの点を改善するため、接合工程ではガラス複合物１０が４０７℃以下で加熱されて封止材２０が溶融する。つまり、ガラス複合物１０は、４０７℃以下になるように加熱される。また、ゲッター３０として、非金属ゲッターが用いられる。

このように接合工程において、ガラス複合物１０を４０７℃以下で加熱して封止材２０を溶融することで、省エネルギー化を図ることができる。また、接合工程後におけるガラス複合物１０において埃が残留したとしても、この埃から発生する炭化水素系のガスを非金属ゲッターで構成されたゲッター３０により吸着することができる。また、ピラー４又は封止材２０にイミド基、イミダゾール又はオキサゾール等の樹脂材料が含まれている場合、この樹脂材料からも炭化水素系又はアンモニウム等のガスが出る可能性がある。しかし、本変形例では、これら樹脂材料から出たガスも、非金属ゲッターで構成されたゲッター３０により吸着することができる。このため、真空度の優れたガラスパネルユニット１を製造することができる。

（変形例６）
次に変形例６について説明する。図１５及び図１６には、本変形例のガラスパネルユニット１を示している。本変形例のガラスパネルユニット１は、第一基板１１と第二基板１２とに加えて、第三基板１３を備えている。

本変形例のガラスパネルユニット１は、第三基板１３が、第二基板１２における第一基板１１とは反対側の面１２５に対向しており、第二基板１２と第三基板１３との間に第二の内部空間１５が形成されている。

第三基板１３は、ガラスパネル１３１を含む。以下、ガラスパネル１３１を第三ガラスパネル１３１という。

本変形例のガラスパネルユニット１は、ピラー１３０、第二封止材１３４及び乾燥剤１３３を更に備えている。第二基板１２と第三基板１３との互いの周縁部の間には、ピラー１３０と第二封止材１３４とが介在している。ピラー１３０は、枠状に形成されている。ピラー１３０は、中空部分を有している。第二封止材１３４は、枠状に形成されている。第二封止材１３４は、ピラー１３０の外側を覆っている。ピラー１３０の中空部分には、乾燥剤１３３が充填されている。第二の内部空間１５は、第二封止材１３４に全周を囲まれた空間であり、第二の内部空間１５にピラー１３０が位置している。

ピラー１３０はアルミニウム等の金属で形成されている。ピラー１３０の内周側端部には、ピラー１３０の中空部分と第二の内部空間１５とを連通させる通気孔１３２が形成されている。

乾燥剤１３３は例えばシリカゲルである。第二封止材１３４は、例えばシリコン樹脂又はブチルゴム等の高気密性の樹脂で形成される。

第二基板１２と第三基板１３と第二封止材１３４とに囲まれた第二の内部空間１５は、外部に通じない密閉された空間である。第二の内部空間１５には、乾燥ガス（アルゴン等の乾燥した希ガス、乾燥空気等）が充填されている。

本変形例のガラスパネルユニット１の製造方法は、上述した配置工程、接合工程、減圧密閉工程および冷却工程に加えて、第二接合工程を含む。第二接合工程は、第二基板１２と第三基板１３（または第一基板１１と第三基板１３）を、ピラー１３０を挟み込んだ状態で、第二封止材１３４を介して気密に接合させる工程である。

（建具）
次に、前記実施形態のガラスパネルユニット１を備えた建具９について説明する。図１７に示す建具９は、前記実施形態のガラスパネルユニット１と、建具枠９０とを備えている。建具枠９０は、ガラスパネルユニット１に嵌め込まれており、建具９は、高い断熱性を有している。

本実施形態の建具枠９０は窓枠であり、建具９はガラス窓である。建具９（ガラス窓）は、例えば陳列窓として用いられる。建具９の製造方法は、前記実施形態のガラスパネルユニット１の製造方法の各工程に加えて、以下に示す嵌込工程を備えている。

嵌込工程は、上記した配置工程、接合工程、減圧密閉工程および冷却工程を経て製造されたガラスパネルユニット１の周縁部に、矩形状の建具枠９０を嵌め込む工程である。これらの工程を経て製造される建具９は、減圧状態の内部空間１４が形成されたガラスパネルユニット１を備えるので、高い断熱性を有する。

（補足）
前記実施形態及び変形例１〜６のガス吸着ユニット３は、適宜設計変更可能である。

例えば、基体３１１は保護層３１２と同じ材料から形成されてもよい。また、前記実施形態の基体３１１は、保護層３１２と同じ低融点ガラスフリットであってもよい。

また、パッケージ３１は全体が一体に形成されてもよい。この場合、準備工程では、例えばパッケージ材３１４が、ゲッター３０の表面の全体に亘って塗布されることで、ゲッター３０がパッケージ材３１４に包まれる。

また、パッケージ３１の外面（保護層３１２の外面及び基体３１１の外面）には、開封工程においてパッケージ３１を破断しやすくするための切欠が形成されてもよい。

また、ゲッター３０の色の変化等によってゲッター３０の活性化状態を確認できるようにするため、保護層３１２（保護層材料３１５）は、透明又は半透明であってもよい。この場合、保護層材料３１５としては、例えば、主成分として、二酸化ケイ素、酸化ホウ素及び酸化亜鉛を含んだガラスペースト、又は主成分として、酸化ビスマス、酸化ホウ素及び酸化亜鉛を含んだガラスペーストが用いられる。

また、前記実施形態及び変形例１〜６のガラスパネルユニット１およびこれを備える建具９は、適宜設計変更可能であり、また、各変形例の構成を適宜組み合わせてもよい。

例えば、低放射膜１２３は、第二基板１２に含まれずに第一基板１１に含まれてもよい。この場合、低放射膜１２３は、第二ガラスパネル１２１の厚み方向の一面（詳しくは第一基板１１に対向する面）に積層され、内部空間１４に面して位置する。また、内部空間１４の圧力は、大気圧よりも低ければよく、０．１Ｐａを超えてもよい。

また、ピラー４は不透明であってもよい。また、ピラー４の材料及び寸法形状、配置パターン等は、適宜変更可能である。また、封止体２の材料及び寸法形状、配置パターン等は、適宜変更可能である。また、密閉体５の材料及び寸法形状等の適宜変更可能である。また、排気孔１２４は第一基板１１に形成されてもよい。また、排気孔１２４は、第一ガラスパネル１１１又は第二ガラスパネル１２１の一部を溶融させることで、封止されてもよい。

また、ガラスパネルユニット１は、複数のガス吸着ユニット３を含んでもよい。この場合、ガラスパネルユニット１は、ゲッター３０として非金属ゲッターを備えたガス吸着ユニット３と、金属ゲッターを備えたガス吸着ユニット３とを含んでもよい。

また、パッケージ３１は、ソーダライムガラス以外のガラスから形成されてもよく、また、セラミックス製であってもよい。また、パッケージ３１は、ガラス又はセラミックスを部分的に含んでいてもよく、この場合、パッケージ３１は、ガラス又はセラミックスを固定する基体として、金属箔等を含んでいてもよい。

また、前記実施形態、変形例１、２、４〜６の低融点部材３２０の融点は、封止材２０の融点よりも高くてもよい。この場合、接合工程において低融点部材３２０を溶融させる際に、ガラス複合物１０の加熱温度が高くなり過ぎないようにするため、低融点部材３２０の融点と封止材２０の融点との差は、３０℃以内であることが好ましい。また、変形例２における低融点部材３２０の熱膨張係数は、パッケージ３１の熱膨張係数よりも大きくてもよい。また、接続部材３２１の材質はホウ珪酸ガラスに限られず、その他のガラスやセラミックスであってもよい。

また、変形例１における接続部材３２１は、第二基板１２であってもよい。また、変形例３、４においても、変形例２と同様に、接続部材３２１は省略可能である。

また、建具９はガラス窓に限定されず、玄関ドア、室内ドア等の、他の建具でもよい。

また、前記実施形態及び変形例１〜６のガス吸着ユニット３の製造方法は、適宜設計変更可能であり、また、各変形例の構成を適宜組み合わせてもよい。

例えば、基体３１１の材料である基材が、ガラス粉末とバインダーとを含んだペースト状の材料である場合、準備工程は、基材を他の部材に塗布して乾燥させることで、基体３１１を形成する工程を含んでいてもよい。

また、配置工程において、ガス吸着ユニット３は第二基板１２の面１２２に形成された凹部１１３に配置されてもよい。また、配置工程において、ガス吸着ユニット３が配置される面１１２又は面１２２は、全体が平坦な面でもよい。

また、活性化工程では、例えば、複合体３３を不活性ガス雰囲気中に配置した状態で加熱することで、ゲッター３０を活性化してもよい。

また、前記実施形態又は変形例１〜６のガラスパネルユニット１の製造方法及び建具９の製造方法は、適宜設計変更可能であり、また、各変形例の構成を適宜組み合わせてもよい。

例えば、前記実施形態及び変形例１〜６における開封工程は、減圧密閉工程よりも後に行われているが、減圧密閉工程において行われてもよい。すなわち、開封工程は減圧密閉工程以後に行われればよい。

また、ガス吸着ユニット３のパッケージ３１を高温に加熱して、パッケージ３１に熱割れ等を生じさせることで、パッケージ３１によるゲッター３０の封止を解いてもよい。

また、減圧工程におけるガラス複合物１０の加熱温度は、接合工程におけるガラス複合物１０の加熱温度ｔ１と同じであってもよい。

また、前記実施形態の製造方法と同様の製造方法で、製造されたガラスパネルユニット１を分割することで、一つまたは複数のガラスパネルユニット１を形成することも可能である。この場合は、例えば、内部空間１４が別の封止体で仕切られたガラスパネルユニット１が形成され、次にこのガラスパネルユニット１が前記別の封止体が位置する箇所で切断される。これにより、一つまたは複数のガラスパネルユニット１が得られる。

また、変形例５のゲッター３０として用いられる非金属ゲッターは、前記実施形態で例示したその他のゼオライトであってもよいし、前記実施形態で例示した活性炭又は酸化マグネシウムであってもよい。

また、変形例６の第三ガラスパネル１３１には、適宜コーティングが施されてもよい。また、変形例６のガラスパネルユニット１の第三基板１３は、第一基板１１における第二基板１２とは反対側の面１１５（図１６参照）に対向してもよい。この場合、第一基板１１と第三基板１３との間に、第二の内部空間１５が形成される。

また、変形例６の製造方法と同様の製造方法で製造されたガラスパネルユニット１を分割することで、一つまたは複数のガラスパネルユニット１を形成することも可能である。この場合は、例えば、内部空間１４が別の封止体で仕切られ、かつ第二の内部空間１５がさらに別の封止体で仕切られたガラスパネルユニット１が形成される。次にこのガラスパネルユニット１が前記別の封止体及びさらに別の封止体が位置する箇所で切断される。これにより、一つまたは複数のガラスパネルユニット１が得られる。また、変形例１〜５のいずれか一つのガラスパネルユニット１またはこれを分割したものに対して、変形例６と同様に第三基板１３が設けられてもよい。

また、前記実施形態の建具９の製造方法では、配置工程、接合工程、減圧密閉工程および冷却工程を経て形成されたガラスパネルユニット１に対して、建具枠９０が嵌め込まれる。しかし、これらの工程を経て形成されたガラスパネルユニット１を分割したものに対して、建具枠９０が嵌め込まれてもよい。また、変形例１〜６のいずれか一つのガラスパネルユニット１またはこれを分割したものに対して、建具枠９０が嵌め込まれてもよい。

（効果）
以上説明した実施形態及び変形例１〜６から明らかなように、第一の態様のガス吸着ユニット（３）の製造方法は、以下に示す特徴を有する。ガス吸着ユニット（３）の製造方法は、準備工程、活性化工程及び封止工程を備えている。前記準備工程では、パッケージ材（３１４）でゲッター（３０）を包む。前記活性化工程では、パッケージ材（３１４）で包まれたゲッター（３０）を加熱してゲッター（３０）を活性化する。前記封止工程では、パッケージ材（３１４）を加熱して溶融することで、前記活性化工程により活性化されたゲッター（３０）をパッケージ材（３１４）により封止する。

第一の態様のガス吸着ユニット（３）の製造方法では、ゲッター（３０）と、パッケージ（３１）とを含むガス吸着ユニット（３）を製造することができる。ここで、パッケージ（３１）は、パッケージ材（３１４）で構成される。ガス吸着ユニット（３）は、活性化されたゲッター（３０）がパッケージ（３１）により封止されており、パッケージ（３１）によるゲッター（３０）の封止を解くことで、ゲッター（３０）によりガスを吸着することができる。このため、ガス吸着ユニット（３）は、ゲッター（３０）の活性化処理をすることなく、利用することができる。また、第一の態様のガス吸着ユニット（３）の製造方法では、パッケージ材（３１４）で包まれたゲッター（３０）を加熱してゲッター（３０）を活性化し、このようにゲッター（３０）を活性化した状態でパッケージ材（３１４）を加熱して溶融することで、容易にガス吸着ユニット（３）を製造できる。つまり、ゲッター（３０）の活性化処理を行うことなく利用可能なガス吸着ユニット（３）を容易に製造することができる。

また、前記実施形態及び変形例１〜６から明らかなように、第二の態様のガス吸着ユニット（３）の製造方法は、第一の態様との組み合わせにより実現され得る。第二の態様のゲッター（３０）は、非金属ゲッターである。パッケージ材（３１４）は、粉末（３１６）を含む。前記活性化工程では、ゲッター（３０）とゲッター（３０）を包むパッケージ材（３１４）とを、減圧雰囲気又は不活性ガス雰囲気において加熱して、ゲッター（３０）を活性化する。前記封止工程では、ゲッター（３０）が活性化された状態において、粉末（３１６）を加熱して溶融することで、パッケージ材（３１４）によりゲッター（３０）を封止する。

第二の態様のガス吸着ユニット（３）の製造方法では、ゲッター（３０）として非金属ゲッターを備えたガス吸着ユニット（３）を製造することができる。また、前記活性化工程では、ゲッター（３０）から発生したガスを、パッケージ材（３１４）の隣り合う粉末（３１６）同士の間から、パッケージ材（３１４）の外部に排出することができる。このため、ゲッター（３０）の活性化を適切に行うことができる。

また、前記実施形態及び変形例１〜６から明らかなように、第三の態様のガス吸着ユニット（３）の製造方法は、第二の態様との組み合わせにより実現され得る。第三の態様のパッケージ材（３１４）は、基体（３１１）と、保護層材料（３１５）とを備える。保護層材料（３１５）は、粉末（３１６）を含んでいる。前記準備工程は、第一積層工程と、第二積層工程とを備える。第一積層工程は、基体（３１１）にゲッター（３０）を積層する工程である。第二積層工程は、基体（３１１）に積層されたゲッター（３０）に保護層材料（３１５）を積層して、基体（３１１）と保護層材料（３１５）とでゲッター（３０）を包む工程である。

第三の態様のガス吸着ユニット（３）の製造方法では、パッケージ（３１）が、保護層材料（３１５）で構成された保護層（３１２）と、基体（３１１）とで構成されたガス吸着ユニット（３）を容易に製造することができる。

また、前記実施形態及び変形例１〜６から明らかなように、第四の態様のガス吸着ユニット（３）の製造方法は、第三の態様との組み合わせにより実現され得る。第四の態様の第二積層工程では、保護層材料（３１５）を、基体（３１１）における周縁部を除く部分に積層する。

第四の態様のガス吸着ユニット（３）の製造方法では、活性化工程において保護層（３１２）が破断したときに、保護層（３１２）の破片が、基体（３１１）に当たりやすくなり、保護層（３１２）の破片が飛び散り難い。

また、前記実施形態及び変形例１〜６から明らかなように、第五の態様のガラスパネルユニット（１）の製造方法は、以下に示す構成を有する。ガラスパネルユニット（１）の製造方法は、配置工程、接合工程及び減圧密閉工程を備える。前記配置工程では、ガラスパネル（１１１）を含む第一基板（１１）と、ガラスパネル（１２１）を含む第二基板（１２）とを枠状の封止材（２０）を介して対向させ、第一基板（１１）と第二基板（１２）と封止材（２０）とで囲まれた内部空間（１４）を形成する。前記接合工程では、第一基板（１１）、第二基板（１２）及び封止材（２０）を含むガラス複合物（１０）を加熱して封止材（２０）を溶融し、封止材（２０）により第一基板（１１）と第二基板（１２）とを気密に接合する。前記減圧密閉工程では、内部空間（１４）を減圧して封止する。ガラスパネルユニット（１）の製造方法は、開封工程を備える。前記配置工程では、ガス吸着ユニット（３）を、枠状の封止材（２０）の内側に配置する。ガス吸着ユニット（３）は、第一〜第三のいずれかの態様のガス吸着ユニット（３）の製造方法により製造されたガス吸着ユニットである。ガス吸着ユニット（３）は、パッケージ材（３１４）で構成されたパッケージ（３１）と、ゲッター（３０）とを含む。前記開封工程では、前記減圧密閉工程以後において、パッケージ（３１）に熱応力を生じさせ、この熱応力によりパッケージ（３１）を破断してパッケージ（３１）によるゲッター（３０）の封止を解く。

第五の態様のガラスパネルユニット（１）の製造方法では、前記配置工程、前記接合工程及び前記減圧密閉工程を行うことで、内部空間（１４）が封止された断熱性の優れたガラスパネルユニット（１）を製造することができる。また、前記開封工程において、パッケージ（３１）によるゲッター（３０）の封止を解くことで、内部空間（１４）で発生したガスを、前記減圧密閉工程以後においてゲッター（３０）により吸着することができる。この場合、活性化されたゲッター（３０）は、前記減圧密閉工程以後に行われる前記開封工程までパッケージ（３１）により封止されるため、内部空間（１４）で発生したガスを、ゲッター（３０）により効率良く吸着することができる。また、この場合、前記減圧密閉工程以後において、ゲッター（３０）の活性化処理をする必要がない。このため、前記減圧密閉工程以後ではガラス複合物（１０）をゲッター（３０）の活性化温度以上の温度まで加熱する必要がなく、エネルギーの消費量を抑えることができる。つまり、ガス吸着ユニット（３）を用いて容易にガラスパネルユニット（１）を製造することができる。

また、変形例６から明らかなように、第六の態様のガラスパネルユニット（１）の製造方法は、第五の態様との組み合わせにより実現され得る。第六の態様ガラスパネルユニット（１）の製造方法は、第二接合工程を備える。第二接合工程は、第一基板（１１）又は第二基板（１２）に、第二封止材（１３４）を介して第三基板（１３）を接合する工程である。

第六の態様のガラスパネルユニット（１）の製造方法にあっては、第三基板（１３）を有し、より断熱性の高いガラスパネルユニット（１）を製造できる。

また、前記実施形態及び変形例１〜６から明らかなように、第七の態様の建具（９）の製造方法は、以下の構成を有する。建具（９）の製造方法は、嵌込工程を備える。嵌込工程は、第五又は第六の態様のガラスパネルユニット（１）の製造方法で製造されたガラスパネルユニット（１）に、建具枠（９０）を嵌め込む工程である。

第七の態様の建具９の製造方法では、ガラスパネルユニット（１）及び建具枠（９０）を備えた建具（９）を製造することができる。

１ ガラスパネルユニット
１０ ガラス複合物
１１ 第一基板
１１１ 第一ガラスパネル（ガラスパネル）
１１２ 面
１２ 第二基板
１２１ 第二ガラスパネル（ガラスパネル）
１３ 第三基板
１３４ 第二封止材
１４ 内部空間
２０ 封止材
３ ガス吸着ユニット
３０ ゲッター
３１ パッケージ
３１１ 基体
３１４ パッケージ材
３１５ 保護層材料
３１６ 粉末
９ 建具
９０ 建具枠

Claims (4)

1. 粉末を含むパッケージ材で、活性化する温度が前記粉末の軟化点よりも低いゲッターを包む準備工程と、
   前記パッケージ材で包まれた前記ゲッターを加熱して前記ゲッターを活性化する活性化工程と、
   前記パッケージ材を前記活性化工程における加熱温度よりも高い温度で加熱して溶融することで、前記活性化工程により活性化された前記ゲッターを活性化された状態で前記パッケージ材により封止する封止工程とを備え、
   前記活性化工程では、前記ゲッターに吸着されたガスが放出し、このガスが前記粉末の隣り合う粒子の間を通って前記パッケージ材の外部に排出される、
   ガス吸着ユニットの製造方法。
2. 前記ゲッターは、非金属ゲッターであり、
   前記活性化工程では、前記ゲッターとこのゲッターを包む前記パッケージ材とを、減圧雰囲気又は不活性ガス雰囲気において加熱して、前記ゲッターを活性化し、
   前記封止工程では、前記ゲッターが活性化された状態において、前記粉末を加熱して溶融することで、前記パッケージ材により前記ゲッターを封止する、
   請求項１に記載のガス吸着ユニットの製造方法。
3. 前記パッケージ材は、
   基体と、
   前記粉末を含む保護層材料とを備え、
   前記準備工程は、
   前記基体に前記ゲッターを積層する第一積層工程と、
   前記基体に積層された前記ゲッターに前記保護層材料を積層して、前記基体と前記保護層材料とで前記ゲッターを包む第二積層工程とを備えた、
   請求項２に記載のガス吸着ユニットの製造方法。
4. 前記第二積層工程において、前記保護層材料を、前記基体における周縁部を除く部分に積層する、
   請求項３に記載のガス吸着ユニットの製造方法。

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