JP6841883B2 - 成形型 - Google Patents

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Description

本発明は、成形型に関する。
従来、流動性を有する自己硬化性の成形用原料を用いた成形体の形成に用いられる成形型として、成形空間と、成形空間上に配置される連通路と、連通路上に配置されるベント空間とを備えるものが知られている(例えば、特許文献1参照)。成形用原料は、成形空間に充填された後、連通路を介して成形空間からベント空間に供給される。
国際公開第2009/044730号
しかしながら、成形用原料が成形空間から連通路に流出する際、成形用原料の流れが乱れて、成形用原料と成形空間及び連通路の接続部の内壁との隙間に気泡が残留しやすいため、成形体の表面にボイドが生じやすいという問題がある。
本発明の目的は、成形体にボイドが生じることを抑制可能な成形型を提供することである。
本発明に係る成形型は、成形空間と、成形空間上に配置される連通路と、連通路上に配置されるベント空間とを備える。鉛直方向に沿った一断面において、水平方向における連通路の幅は、水平方向における成形空間の幅より狭い。一断面において、成形空間及びベント空間の接続部の第1内壁は、成形空間の外側に向かって凸状に湾曲する第1湾曲面と、第1湾曲面の上端と滑らかに連なり、成形空間の内側に向かって凸状に湾曲する第2湾曲面とを含む。
本発明によれば、成形体にボイドが生じることを抑制可能な成形型を提供することができる。
実施形態に係る成形型の側面図である。 実施形態に係る成形型の上面図である。 図1のA−A断面図である。 図3の部分拡大図である。 図2のB−B断面図である。
(成形型10の構成)
本実施形態に係る成形型10の構成について、図面を参照しながら説明する。図1は、成形型10の側面図である。図2は、成形型10の上面図である。図3は、図1のA−A断面図である。
成形型10は、例えば、金属(アルミニウム、アルミニウム合金、SUS鋼、ニッケル合金など)によって構成される。成形型10は、内部に注入される液状又はゾル状の成形用原料を硬化(ゲル化)させて成形体を形成するために用いられる。成形型10は、例えば、鋳込み成形法の一種であるモールドキャスト法による成形体の形成に好適である。
成形用原料は、流動性を有する自己硬化性のスラリーである。成形用原料は、所定の粉末、反応剤、ゲル化剤、溶媒、分散助剤、その他の添加剤(例えば、造孔剤など)を含む。
所定の粉末は、成形体の基材である。所定の粉末としては、例えば、セラミック粉末、金属粉末、及びこれらの混合物が挙げられる。セラミック粉末としては、例えば、アルミナ粉末、ジルコニア粉末、窒化アルミニウム粉末、炭化珪素粉末などが挙げられるが、これに限定されない。金属粉末としては、白金粉末、タングステン粉末、モリブデン粉末などが挙げられるが、これに限定されない。所定の粉末の含有量は特に限られないが、例えば、20体積%以上60体積%以下とすることができる。
反応剤は、ゲル化剤と反応して硬化反応(ゲル化反応)を引き起こす反応性官能基を含む。反応剤としては、多価アルコール(エチレングリコールのようなジオール類、グリセリンのようなトリオール類等)、多塩基酸(ジカルボン酸等)、ポリエチレングリコールなどが挙げられる。反応剤の含有量は特に限られないが、例えば、0.05体積%以上5体積%以下とすることができる。
ゲル化剤は、反応剤に含まれる反応性官能基と反応して硬化反応を引き起こす添加剤である。ゲル化剤としては、例えば、MDI(4,4’−ジフェニルメタンジイソシアナート)、HDI(ヘキサメチレンジイソシアナート)、TDI(トリレンジイソシアナート)、IPDI(イソホロンジイソシアナート)などが挙げられる。ゲル化剤は、イソシアナート基(−N=C=O)及びイソチオシアナート基(−N=C=S)の少なくとも一方を有することが好ましい。これにより、ゲル化剤と反応剤との反応を促進することができる。ゲル化剤の含有量は特に限られないが、例えば、3体積%以上20体積%以下とすることができる。
溶媒は、所定の粉末を分散させるための添加剤である。溶媒としては、多塩基酸エステル(グルタル酸ジメチル等)、多価アルコールの酸エステル(トリアセチン等)、脂肪族多価エステルなどの2以上のエステル基を有するエステル類などが挙げられる。溶媒の含有量は特に限られないが、例えば、30体積重量%以上70体積%以下とすることができる。
分散助剤は、成形用原料の粘度を低減させるための添加剤である。分散助剤は、所望により添加される任意の添加剤である。分散助剤としては、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリカルボン酸系共重合体、重合体のリン酸エステル塩化合物、酸基を含む重合体のアルキルアンモニウム塩化合物、アルキルベンゼンスルホン酸ナトリウムなどが挙げられる。分散助剤の含有量は特に限られないが、例えば、0.5体積%以上10体積%以下とすることができる。
触媒は、ゲル化剤と反応剤との反応を更に促進するための添加剤である。触媒は、所望により添加される任意の添加剤である。触媒としては、例えば、トリエチレンジアミン、ヘキサンジアミン、6−ジメチルアミノ−1−ヘキサノールなどが挙げられる。触媒の含有量は特に限られないが、例えば、0.01体積%以上3体積%以下とすることができる。
このような成形用原料は、上記の各組成物を混合した時点から硬化し始めるため、例えば射出成形に用いられる熱可塑性樹脂とは異なり、急速に粘度が増大する。具体的には、成形用原料は、各組成物の混合から2分経過後の粘度をE1(せん断速度1sec−1)とし、各組成物の混合から12分経過後の粘度をE2(せん断速度1sec−1)としたとき、0.01Pa・sec≦E1≦3.0Pa・sec、2.0Pa・sec≦E2≦2000Pa・sec、E2/E1≧5.0の関係を満たすものである。
図1に示すように、成形型10は、鉛直方向に沿って縦置きされた状態で使用される。図1乃至図3では、成形型10が一部材によって構成されているように描かれているが、成形型10は、複数の部材が連結されることによって構成されていてもよい。
成形型10は、成形空間11と、ゲート空間12と、第1連通路13と、ベント空間14と、第2連通路15と、ランナー16とを内部に有する。
成形空間11は、成形体を形成するための空間である。成形空間11は、いわゆるキャビティーである。成形空間11には、成形用原料が充填される。
成形空間11は、ゲート空間12の上方に配置される。成形空間11とゲート空間12との間には、第1連通路13が配置される。成形空間11は、ベント空間14の下方に配置される。成形空間11とベント空間14との間には、第2連通路14が配置される。
成形空間11は、成形体の外形に対応していればよく、その形状は特に限られない。図1に示すように、本実施形態では、成形空間11が、略直方体状に形成されている。また、図3に示すように、本実施形態では、成形空間11の下端部が、第1連通路13に向かってテーパ状に形成され、成形空間11の上端部が、第2連通路15に向かってテーパ状に形成されている。成形空間11及び第2連通路15の接続部の構成については後述する。
なお、成形体に流路などの構造を設ける場合には、当該構造の形状に応じた物体(例えば、棒など)を成形空間11に予め配置してもよい。また、成形体に何らかの物体(例えば、導体、電子機器など)を埋設する場合には、当該物体を成形空間11に予め配置してもよい。
ゲート空間12は、成形空間11の下方に配置される。ゲート空間12は、成形空間11に供給される成形用原料を貯留するための空間である。ゲート空間12の容積は、成形空間11の容積より小さくてもよい。ゲート空間12は、成形空間11に成形用原料をスムーズに供給できるように構成されていればよく、その形状は特に限られない。図1に示すように、本実施形態では、ゲート空間12が、成形空間11の下端部に沿って配置されている。また、図3に示すように、本実施形態では、ゲート空間12の上端部が、第1連通路13に向かってテーパ状に形成されている。
第1連通路13は、ゲート空間12上に配置される。第1連通路13は、成形空間11及びゲート空間12に連通する。第1連通路13は、ゲート空間12に充填された成形用原料を成形空間11に導くための流路である。第1連通路13は、図3に示すように、成形空間11及びゲート空間12よりも狭く形成されている。すなわち、第1連通路13は、成形空間11とゲート空間12との間を狭窄させている。これにより、ゲート空間12に成形用原料をスムーズに充填させることができるとともに、成形体の硬化後、成形空間11内で硬化した製品部とゲート空間12内で硬化した非製品部とを簡便に切除することができる。
ベント空間14は、成形空間11の上方に配置される。ベント空間14は、第2連通路15上に配置される。ベント空間14は、成形空間11に供給された過充填分の成形用原料を貯留するための空間である。ベント空間14の容積は、成形空間11の容積より小さくてもよい。図1に示すように、ベント空間14は、成形型10の上面に形成された複数の排出口14aに繋がる。ベント空間14における過貯留分の成形用原料は、排出口14aから外部に排出される。ベント空間14の形状は特に限られない。図1に示すように、本実施形態では、ベント空間14が、成形空間11の上端部に沿って配置されている。また、図3に示すように、本実施形態では、ベント空間14の下端部が、第2連通路15に向かってテーパ状に形成されている。
第2連通路15は、本発明に係る「連通路」の一例である。第2連通路15は、成形空間11上に配置される。第2連通路15は、成形空間11及びベント空間14に連通する。第2連通路15は、成形空間11に充填された成形用原料をベント空間14に導くための流路である。第2連通路15は、図3に示すように、成形空間11及びベント空間14よりも狭く形成されている。すなわち、第2連通路15は、成形空間11とベント空間14との間を狭窄させている。これにより、成形用原料を成形空間11に確実に充填させることができるとともに、成形体の硬化後、成形空間11内で硬化した製品部とベント空間14内で硬化した非製品部とを簡便に切除することができる。
ランナー16は、ゲート空間12と成形型10の上面に形成された注入口16aとに連通する。ランナー16は、成形型10の外部から供給される成形用原料をゲート空間12に導くための流路である。成形用原料は、注入口16aからランナー16内に供給される。
(成形空間11及び第2連通路15の接続部)
次に、成形空間11及び第2連通路15の接続部の構成について説明する。
1.一断面における構成
図4は、図3の部分拡大図である。図4には、鉛直方向に沿った成形型10の一断面が図示されている。
図4に示すように、水平方向における第2連通路15の幅W1は、水平方向における成形空間11の幅W2より狭い。幅W1は、第2連通路15の最小幅である。幅W2は、成形空間11の最大幅である。
成形空間11及び第2連通路15の接続部とは、成形空間11と第2連通路15とが接続される領域を意味する。接続部には、成形空間11の上端部と第2連通路15の下端部とが含まれていればよく、その上下端は構造的に明確に規定されていなくてよい。
成形空間11及び第2連通路15の接続部は、上方に向かってテーパ状に形成される。本実施形態において、成形空間11及び第2連通路15の接続部の幅は、上方に向かうに従って、幅W2から幅W1へと徐々に狭くなっている。
図4に示した一断面には、接続部の第1内壁20aと、接続部の第2内壁20bとが表れる。第1内壁20aは、接続部の一方の内表面である。第2内壁20bは、接続部の他方の内表面である。第1内壁20aと第2内壁20bとは、水平方向において互いに対向する。
2.第1内壁20aの構成
第1内壁20aは、第1湾曲面S1と、第2湾曲面S2とを含む。第1湾曲面S1及び第2湾曲面S2は、曲線の勾配の変化率が実質的にゼロ(0)となる変曲点T1において連なる。すなわち、変曲点T1は、第1湾曲面S1の上端部であり、かつ、第2湾曲面S2の下端部である。
図4に示すように、第1湾曲面S1及び第2湾曲面S2は、変曲点T1において滑らかに連なる。本明細書において、滑らかに連なるとは、第1湾曲面S1と第2湾曲面S2との間に実質的に段差或いは屈曲点が形成されていないことを意味する。
第1湾曲面S1は、成形空間11の外側に向かって凸状に湾曲する曲面である。第1湾曲面S1には、実質的に段差或いは屈曲点が形成されていないことが好ましい。第1湾曲面S1は、頂点T2を含む。第1湾曲面S1の頂点T2は、鉛直方向において変曲点T1の下方に位置する。第1湾曲面S1の頂点T2は、水平方向における成形空間11の中央を基準として、変曲点T1の外側に位置する。また、第1湾曲面S1の頂点T2は、水平方向における第2連通路15の中央を基準として、変曲点T1の外側に位置する。
第2湾曲面S2は、成形空間11の内側に向かって凸状に湾曲する曲面である。第2湾曲面S2には、実質的に段差或いは屈曲点が形成されていないことが好ましい。第2湾曲面S2は、頂点T3を含む。第2湾曲面S2の頂点T3は、鉛直方向において変曲点T1の上方に位置する。第2湾曲面S2の頂点T3は、水平方向における成形空間11の中央を基準として、変曲点T1の内側に位置する。また、第2湾曲面S2の頂点T3は、水平方向における第2連通路15の中央を基準として、変曲点T1の内側に位置する。
このように、成形空間11及び第2連通路15の接続部の第1内壁20aが、第1湾曲面S1及び第2湾曲面S2によって構成されているため、成形用原料が成形空間11から第2連通路15に流出する際に、成形用原料を第1内壁20aに沿ってスムーズに流すことができる。従って、成形用原料と第1内壁20aとの隙間に気泡が残留することを抑制できるため、成形体の表面にボイドが生じることを抑制できる。
3.第2内壁20bの構成
第2内壁20bは、水平方向において第1内壁20aと対向する。本実施形態において、第2内壁20bは、鉛直線を対称軸として、第1内壁20aと線対称に形成されているが、第1内壁20aと線対称に形成されていなくてもよい。
第2内壁20bは、第3湾曲面S3と、第4湾曲面S4とを含む。第3湾曲面S3及び第4湾曲面S4は、曲線の勾配の変化率が実質的にゼロ(0)となる変曲点T4において連なる。すなわち、変曲点T4は、第3湾曲面S3の上端部であり、かつ、第4湾曲面S4の下端部である。図4に示すように、第3湾曲面S3及び第4湾曲面S4は、変曲点T4において滑らかに連なる。
第3湾曲面S3は、成形空間11の外側に向かって凸状に湾曲する曲面である。第3湾曲面S3には、実質的に段差或いは屈曲点が形成されていないことが好ましい。第3湾曲面S3は、頂点T5を含む。第3湾曲面S3の頂点T5は、鉛直方向において変曲点T1の下方に位置する。第3湾曲面S3の頂点T5は、水平方向における成形空間11の中央を基準として、変曲点T4の外側に位置する。また、第3湾曲面S3の頂点T5は、水平方向における第2連通路15の中央を基準として、変曲点T4の外側に位置する。
第4湾曲面S4は、成形空間11の内側に向かって凸状に湾曲する曲面である。第4湾曲面S4には、実質的に段差或いは屈曲点が形成されていないことが好ましい。第4湾曲面S4は、頂点T6を含む。第4湾曲面S4の頂点T6は、鉛直方向において変曲点T4の上方に位置する。第4湾曲面S4の頂点T6は、水平方向における成形空間11の中央を基準として、変曲点T4の内側に位置する。また、第4湾曲面S4の頂点T6は、水平方向における第2連通路15の中央を基準として、変曲点T4の内側に位置する。
このように、成形空間11及び第2連通路15の接続部の第2内壁20bが、第3湾曲面S3及び第4湾曲面S4によって構成されているため、成形用原料が成形空間11から第2連通路15に流出する際に、成形用原料を第2内壁20bに沿ってスムーズに流すことができる。従って、成形用原料と第2内壁20bとの隙間に気泡が残留することを抑制できるため、成形体の表面にボイドが生じることをより抑制できる。
4.他断面における構成
本実施形態において、成形空間11及び第2連通路15の接続部は、他断面においても上述した構成を有している。このことについて、図2のB−B断面図である図5を参照しながら説明する。
図5には、接続部のうち幅が最も広い部分の断面が図示されている。図5に示すように、水平方向における第2連通路15の幅W1は、水平方向における成形空間11の幅W2より狭い。
図5に示した他断面には、図4を参照しながら説明した第1内壁20a及び第2内壁20bが表れる。第1内壁20a及び第2内壁20bそれぞれの構成は上述のとおりである。従って、成形用原料が成形空間11から第2連通路15に流出する際に、成形用原料を第1内壁20a及び第2内壁20bそれぞれに沿ってスムーズに流すことができるため、成形体の表面にボイドが生じることを抑制できる。
ただし、図5に示した他断面に表れる第1内壁20aは、図4に示した一断面に表れる第1内壁20aと同一の形状を有していてもよいし異なる形状を有していてもよい。同様に、図5に示した他断面に表れる第2内壁20bは、図4に示した一断面に表れる第2内壁20bと同一の形状を有していてもよいし異なる形状を有していてもよい。
成形空間11及び第2連通路15の接続部は、図4の一断面及び図5の他断面に限らず、鉛直方向に沿った成形型10の全断面において、図4及び図5と同様の構成を有することが好ましい。これによって、成形体のうち接続部の内側の表面全周においてボイドが生じることを抑制できる。
(成形体の製造方法)
次に、成形体の製造方法について説明する。
1.ゲート空間充填工程
まず、ゲート空間12に成形用原料を充填する。具体的には、成形型10の外部からランナー16を介してゲート空間12に成形用原料を供給することによって、ゲート空間12に成形用原料を充填する。この際、成形空間11とゲート空間12との間が第1連通路13によって狭窄されているため、ゲート空間12に成形用原料が充填される前にゲート空間12から成形空間11に成形用原料が流入してしまうことを抑制できる。
2.成形空間充填工程
ゲート空間充填工程に続いて、成形空間11に成形用原料を充填する。具体的には、第1連通路13から成形空間11に成形用原料が流入した後、成形用原料が第2連通路15に達するまで、ゲート空間12への成形用原料の供給を継続する。
この際、成形空間11及び第2連通路15の接続部が上述した構成を有しているため、成形用原料を成形空間11から第2連通路15にスムーズに押し出すことができる。従って、成形用原料と成空間11の内壁との隙間に気泡が残留することを抑制できる。
3.流出工程(第3工程)
成形空間充填工程に続いて、成形空間11からベント空間14に成形用原料を流出させる。具体的には、成形空間11に成形用原料が充填された後、第2連通路15からベント空間14に成形用原料から流出するまで、ゲート空間12への成形用原料の供給を継続する。
4.固化工程
次に、一定時間(例えば、0.1〜24時間)放置して、成形用原料を硬化(ゲル化)させることによって成形体を形成する。その後、成形型10を適宜分解して成形体を取り出す。
(実施形態の変形例)
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。
例えば、成形型10は、成形空間11と、ゲート空間12と、第1連通路13と、ベント空間14と、第2連通路15と、ランナー16とを内部に有することとしたが、少なくとも成形空間11、ベント空間14及び第2連通路15を有していればよい。
10 成形型
11 成形空間
12 ゲート空間
13 第1連通路
14 ベント空間
14a 排出口
15 第2連通路(「連通路」の一例)
16 ランナー
16a 注入口

Claims (4)

  1. 流動性を有する自己硬化性の成形用原料を用いた成形体の形成に用いられる成形型であって、
    成形空間と、
    前記成形空間上に配置される連通路と、
    前記連通路上に配置されるベント空間と、
    を備え、
    鉛直方向に沿った一断面において、水平方向における前記連通路の幅は、水平方向における前記成形空間の幅より狭く、
    前記一断面において、前記成形空間及び前記連通路の接続部の第1内壁は、前記成形空間の外側に向かって凸状に湾曲する第1湾曲面と、前記第1湾曲面の上端と滑らかに連なり、前記成形空間の内側に向かって凸状に湾曲する第2湾曲面とを含む、
    成形型。
  2. 鉛直方向に沿った全断面において、水平方向における前記連通路の幅は、水平方向における前記成形空間の幅より狭く、
    前記全断面において、前記第1内壁は、前記第1湾曲面と前記第2湾曲面とを含む、
    請求項1に記載の成形型。
  3. 前記一断面において、前記接続部の第2内壁は、前記成形空間の外側に向かって凸状に湾曲する第3湾曲面と、前記第3湾曲面の上端と滑らかに連なり、前記成形空間の内側に向かって凸状に湾曲する第4湾曲面とを含む、
    請求項1又は2に記載の成形型。
  4. 鉛直方向に沿った全断面において、水平方向における前記連通路の幅は、水平方向における前記成形空間の幅より狭く、
    前記全断面において、前記第2内壁は、前記第3湾曲面と前記第4湾曲面とを含む、
    請求項3に記載の成形型。
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