JP6813824B2 - 酸化物薄膜形成方法及び酸化物薄膜形成装置 - Google Patents
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
ナノ粒子表面に酸化物薄膜を形成する酸化物薄膜形成方法であって、
金属容器内に前記ナノ粒子を載置する処理容器を設けると共に当該処理容器内に載置したナノ粒子を物理的に攪拌する攪拌手段を設け、この処理容器の底面の下方に電極を前記底面の面方向に亘って部分的に設け、
一方、前記金属容器には、前記金属容器内のガスを排気できる排気手段と、前記金属容器内に有機金属ガスを導入して充満させる有機金属ガス導入手段と、前記金属容器内に励起された加湿ガスを導入して充満させる加湿ガス導入手段とを連結し、
前記処理容器内に前記ナノ粒子を載置し、前記電極に前記金属容器を基準として電圧を印加しながら、前記攪拌手段により間欠的又は連続して攪拌し、
(1)前記有機金属ガス導入手段により、前記金属容器内に前記有機金属ガスを導入する工程と、
(2)前記排気手段により、前記金属容器内の前記有機金属ガスを排気する工程と、
(3)前記加湿ガス導入手段により、前記金属容器内に前記励起された加湿ガスを導入する工程と、
(4)前記排気手段により、前記金属容器内の前記励起された加湿ガスを排気する工程と、
を実行し、(1)〜(4)の工程を繰り返すことで、前記ナノ粒子の表面に酸化膜を形成することを特徴とする酸化物薄膜形成方法にある。
さらに、前記金属容器内に不活性ガスを導入して充満させる不活性ガス導入手段を具備し、
前記(2)の工程の際に、前記不活性ガス導入手段により、前記金属容器内に不活性ガスを導入し、
また、前記(4)の工程の際に、前記不活性ガス導入手段により、前記金属容器内に不活性ガスを導入することを特徴とする第1の態様の酸化物薄膜形成方法にある。
前記加湿ガス導入手段は、水蒸気を含有させた、アルゴン又はヘリウムをガラス管に導入し、その周りから高周波磁界を印加して、ガラス管内部にプラズマを発生させ、前記プラズマにより励起された加湿ガスを生成し、これを導入するものであることを特徴とする第1又は第2の態様の酸化物薄膜形成方法にある。
前記(3)の工程では、被処理対象の内面に吸着した有機金属ガス分子を酸化、分解して金属酸化物とすると共に、その表面にハイドロキシル基を形成することを特徴とする第1〜第3の何れかの態様の酸化物薄膜形成方法にある。
本発明の第5の態様は、
前記電極がストライプ状に設けられていることを特徴とする第1〜第4の何れかの態様の酸化物薄膜形成方法にある。
ナノ粒子表面に酸化物薄膜を形成する酸化物薄膜形成装置であって、
金属容器と、
前記金属容器内に設けられ、前記ナノ粒子を載置するための処理容器と、
前記処理容器内に載置したナノ粒子を物理的に攪拌する攪拌手段と、
前記処理容器の底面の下方に前記底面の面方向に亘って部分的に設けられた電極と、
前記金属容器を基準として前記電極に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記金属容器に接続され、前記金属容器内のガスを排気できる排気手段と、
前記金属容器に接続され、前記金属容器内に有機ガスを導入して充満させる有機金属ガス導入手段と、
前記金属容器に接続され、前記金属容器内に励起された加湿ガスを導入して充満させる加湿ガス導入手段と、を具備し、
前記処理容器内に前記ナノ粒子を載置し、前記電極に前記電圧印加手段により電圧を印加しながら、前記攪拌手段により間欠的又は連続して攪拌し、
(1)前記有機金属ガス導入手段により、前記金属容器内に前記有機金属ガスを導入する工程と、
(2)前記排気手段により、前記金属容器内の前記有機金属ガスを排気する工程と、
(3)前記加湿ガス導入手段により、前記金属容器内に前記励起された加湿ガスを導入する工程と、
(4)前記排気手段により、前記金属容器内の前記励起された加湿ガスを排気する工程と、
を実行し、(1)〜(4)の工程を繰り返すことで、前記ナノ粒子の表面に酸化膜を形成することを特徴とする酸化物薄膜形成装置にある。
絶縁板5は、シリカガラス、テフロン(登録商標)、ポリイミド、アルミナなどの絶縁素材で構成することができ、本実施例では、テフロン(登録商標)とし、20mm四方の正方形型で、厚みは1mmとした。電極4は、50μmの厚さの銅薄膜であり、1mm幅で長さ15mmの櫛状パターンで複数個並べた構造とした。絶縁台2は絶縁性であれば何でもよく、テフロン(登録商標)、ベークライトなどがよく、この実施例でテフロン(登録商標)とした。
電極4に3kVの正電位をかけ、ポリエステル微粒子を固着させる試験を行った。ポリエステル微粒子は絶縁板5に付着させておく。このとき比較例として電位がない状態についても試験を行った。
本実施例では、平均粒子径100nm径の金ナノ粒子を用いて、上記装置を用いて酸化チタンを10nmの膜厚での被膜を試みた。このときの、テトラキスジメチアミノチタニウムの導入条件は、1×106ラングミュアー以上とした。1ラングミュアーとは、1.0×10−6Torr の圧力で1秒間ガスにさらした量に相当する。また、プラズマ酸化ガスの導入時間は2分とした。これを70サイクル繰り返して、酸化チタン膜を形成した。上記プロセス中の金ナノ粒子の温度は室温の25℃とした。上記のプロセス中、回転板8を5−6回程度、回転させて微粒子の攪拌を行った。
2 ・・・ 絶縁台
3 ・・・ 凹部
4 ・・・ 電極
5 ・・・ 絶縁板
6 ・・・ 被処理粉体
7 ・・・ 回転導入器
8 ・・・ 回転板
9 ・・・ スイッチ
10・・・ 高電圧電源
11・・・ 有機金属ガスタンク
12・・・ プラズマ励起酸化ガス発生装置
13・・・ キャリアガスタンク
14・・・ 電動制御弁
15・・・ コントローラ
Claims (6)
- ナノ粒子表面に酸化物薄膜を形成する酸化物薄膜形成方法であって、
金属容器内に前記ナノ粒子を載置する処理容器を設けると共に当該処理容器内に載置したナノ粒子を物理的に攪拌する攪拌手段を設け、この処理容器の底面の下方に電極を前記底面の面方向に亘って部分的に複数個設け、
一方、前記金属容器には、前記金属容器内のガスを排気できる排気手段と、前記金属容器内に有機金属ガスを導入して充満させる有機金属ガス導入手段と、前記金属容器内に励起された加湿ガスを導入して充満させる加湿ガス導入手段とを連結し、
前記処理容器内に前記ナノ粒子を載置し、前記電極に前記金属容器を基準として電圧を印加しながら、前記攪拌手段により間欠的又は連続して攪拌し、
(1)前記有機金属ガス導入手段により、前記金属容器内に前記有機金属ガスを導入する工程と、
(2)前記排気手段により、前記金属容器内の前記有機金属ガスを排気する工程と、
(3)前記加湿ガス導入手段により、前記金属容器内に前記励起された加湿ガスを導入する工程と、
(4)前記排気手段により、前記金属容器内の前記励起された加湿ガスを排気する工程と、
を実行し、(1)〜(4)の工程を繰り返すことで、前記ナノ粒子の表面に酸化膜を形成することを特徴とする酸化物薄膜形成方法。 - さらに、前記金属容器内に不活性ガスを導入して充満させる不活性ガス導入手段を具備し、
前記(2)の工程の際に、前記不活性ガス導入手段により、前記金属容器内に不活性ガスを導入し、
また、前記(4)の工程の際に、前記不活性ガス導入手段により、前記金属容器内に不活性ガスを導入することを特徴とする請求項1に記載の酸化物薄膜形成方法。 - 前記加湿ガス導入手段は、水蒸気を含有させた、アルゴン又はヘリウムをガラス管に導入し、その周りから高周波磁界を印加して、ガラス管内部にプラズマを発生させ、前記プラズマにより励起された加湿ガスを生成し、これを導入するものであることを特徴とする請求項1又は2に記載の酸化物薄膜形成方法。
- 前記(3)の工程では、前記ナノ粒子の表面に吸着した有機金属ガス分子を酸化、分解して金属酸化物とすると共に、その表面にハイドロキシル基を形成することを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載の酸化物薄膜形成方法。
- 前記電極がストライプ状に設けられていることを特徴とする請求項1〜4の何れか一項に記載の酸化物薄膜形成方法。
- ナノ粒子表面に酸化物薄膜を形成する酸化物薄膜形成装置であって、
金属容器と、
前記金属容器内に設けられ、前記ナノ粒子を載置するための処理容器と、
前記処理容器内に載置したナノ粒子を物理的に攪拌する攪拌手段と、
前記処理容器の底面の下方に前記底面の面方向に亘って部分的に複数個設けられた電極と、
前記金属容器を基準として前記電極に電圧を印加する電圧印加手段と、
前記金属容器に接続され、前記金属容器内のガスを排気できる排気手段と、
前記金属容器に接続され、前記金属容器内に有機ガスを導入して充満させる有機金属ガス導入手段と、
前記金属容器に接続され、前記金属容器内に励起された加湿ガスを導入して充満させる加湿ガス導入手段と、を具備し、
前記処理容器内に前記ナノ粒子を載置し、前記電極に前記電圧印加手段により電圧を印加しながら、前記攪拌手段により間欠的又は連続して攪拌し、
(1)前記有機金属ガス導入手段により、前記金属容器内に前記有機金属ガスを導入する工程と、
(2)前記排気手段により、前記金属容器内の前記有機金属ガスを排気する工程と、
(3)前記加湿ガス導入手段により、前記金属容器内に前記励起された加湿ガスを導入する工程と、
(4)前記排気手段により、前記金属容器内の前記励起された加湿ガスを排気する工程と、
を実行し、(1)〜(4)の工程を繰り返すことで、前記ナノ粒子の表面に酸化膜を形成することを特徴とする酸化物薄膜形成装置。
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