JP6812853B2 - 転写シート、該転写シートを用いた加飾成形品の製造方法、及び該転写シートの成形用型 - Google Patents
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Description
本発明は、転写シート、該転写シートを用いた加飾成形品の製造方法、及び該転写シートの成形用型に関する。
従来、家庭用電化製品、自動車内装品、及び雑貨品等の分野において、被転写物表面に、文字や絵柄などの装飾を施すことにより、高い機能性や意匠性を発現させてきた。
被転写物表面を装飾する方法として、転写法がある。転写法とは、基材上に、剥離層、図柄層、接着層などからなる転写層を形成した転写シートを用い、加熱加圧して転写層を被転写物に密着させた後、基材を剥離して、被転写物表面に転写層のみを転写して装飾を行う方法である。
また、用途によっては、被転写物表面に、光沢調、マット調等の異なる風合を混在させた優れた意匠性が求められる場合がある。
例えば、特許文献１には、基体シート上に全面的にマット剤を含有する離型層と、部分的に活性エネルギー線硬化性樹脂を含有するマスク層と、転写層として剥離層と図柄層とが形成されたことを特徴とする部分マット転写シートが開示されている。
例えば、特許文献１には、基体シート上に全面的にマット剤を含有する離型層と、部分的に活性エネルギー線硬化性樹脂を含有するマスク層と、転写層として剥離層と図柄層とが形成されたことを特徴とする部分マット転写シートが開示されている。
しかし、特許文献１の部分マット転写シートは、被転写物表面に転写した転写層の表面に、原因不明のスジ状のパターンを有する場合があった。該スジ状のパターンは、加飾成形品の意匠性を低下させるとともに、歩留まりを低下させてしまう。
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、意匠性及び歩留まりに優れた加飾成形品が得られる転写シート、該転写シートを用いた加飾成形品の製造方法を提供することを課題とする。
上記課題を解決すべく、本発明は、以下の［１］〜［３］を提供する。
［１］離型シート上に転写層を有する転写シートであって、前記離型シートの前記転写層と接する側の面は、第１領域Ｘと、前記第１領域Ｘに隣接する第２領域Ｙとを有してなり、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第２領域Ｙのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ２とが、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たし、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ１と、前記Ｒａ１とが、２．０≦Ｒｚ１／Ｒａ１≦１５．０の関係を満たす、転写シート。
［２］上記［１］に記載の転写シートの転写層を被転写物に転写する工程と、前記転写シートの前記離型シートを剥離する工程とを有する、加飾成形品の製造方法。
［３］成形用型であって、前記型は、表面に、凹凸部を有する第１領域Ｘ’と、前記第１領域に隣接する第２領域Ｙ’とを有してなり、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘ’のカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ’１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第２領域Ｙ’のカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ’２とが、Ｒａ’１＞Ｒａ’２の関係を満たし、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘ’のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ’１と、前記Ｒａ’１とが、２．０≦Ｒｚ’１／Ｒａ’１≦１５．０の関係を満たす、成形用型。
［１］離型シート上に転写層を有する転写シートであって、前記離型シートの前記転写層と接する側の面は、第１領域Ｘと、前記第１領域Ｘに隣接する第２領域Ｙとを有してなり、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第２領域Ｙのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ２とが、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たし、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ１と、前記Ｒａ１とが、２．０≦Ｒｚ１／Ｒａ１≦１５．０の関係を満たす、転写シート。
［２］上記［１］に記載の転写シートの転写層を被転写物に転写する工程と、前記転写シートの前記離型シートを剥離する工程とを有する、加飾成形品の製造方法。
［３］成形用型であって、前記型は、表面に、凹凸部を有する第１領域Ｘ’と、前記第１領域に隣接する第２領域Ｙ’とを有してなり、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘ’のカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ’１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第２領域Ｙ’のカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ’２とが、Ｒａ’１＞Ｒａ’２の関係を満たし、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘ’のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ’１と、前記Ｒａ’１とが、２．０≦Ｒｚ’１／Ｒａ’１≦１５．０の関係を満たす、成形用型。
本発明によれば、意匠性及び歩留まりに優れた加飾成形品が得られる転写シートを提供することができる。また、本発明によれば、意匠性及び歩留まりに優れた加飾成形品を簡易に製造することができる。
［転写シート］
本発明の転写シートは、離型シート上に転写層を有する転写シートであって、前記離型シートの前記転写層と接する側の面は、第１領域Ｘと、前記第１領域Ｘに隣接する第２領域Ｙとを有してなり、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第２領域Ｙのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ２とが、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たし、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ１と、前記Ｒａ１とが、２．０≦Ｒｚ１／Ｒａ１≦１５．０の関係を満たすものである。
本発明の転写シートは、離型シート上に転写層を有する転写シートであって、前記離型シートの前記転写層と接する側の面は、第１領域Ｘと、前記第１領域Ｘに隣接する第２領域Ｙとを有してなり、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第２領域Ｙのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ２とが、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たし、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ１と、前記Ｒａ１とが、２．０≦Ｒｚ１／Ｒａ１≦１５．０の関係を満たすものである。
図１は、本発明の転写シートの一実施形態を示す断面図である。
図１の転写シート１００は、離型シート１０上に転写層２０を有している。また、図１の離型シート１０は、支持体１１と、樹脂層１２とから構成されており、離型シート１０の転写層２０と接する側の面は、第１領域Ｘと、第１領域Ｘに隣接する第２領域Ｙとを有している。また、図１の転写層２０は、保護層２１と、保護層２１の離型シート１０とは反対側に位置する接着剤層２２とを有している。
図１の転写シート１００は、離型シート１０上に転写層２０を有している。また、図１の離型シート１０は、支持体１１と、樹脂層１２とから構成されており、離型シート１０の転写層２０と接する側の面は、第１領域Ｘと、第１領域Ｘに隣接する第２領域Ｙとを有している。また、図１の転写層２０は、保護層２１と、保護層２１の離型シート１０とは反対側に位置する接着剤層２２とを有している。
＜離型シート＞
離型シートは、転写層側の面に第１領域Ｘ及び第２領域Ｙを有する。離型シートは、樹脂成形体等の被転写物に転写層を転写した後に剥離される。
離型シートは、転写層側の面に第１領域Ｘ及び第２領域Ｙを有する。離型シートは、樹脂成形体等の被転写物に転写層を転写した後に剥離される。
＜第１領域Ｘ及び第２領域Ｙ＞
離型シート１０の転写層と接する側の面は、第１領域Ｘと、第１領域Ｘに隣接する第２領域Ｙとを有する。
離型シート１０の転写層と接する側の面は、第１領域Ｘと、第１領域Ｘに隣接する第２領域Ｙとを有する。
第１領域Ｘ及び第２領域Ｙの配置は任意である。例えば、離型シート１０の中心部に第１領域Ｘ、周辺部に第２領域Ｙを配置する構成（図２の構成）；離型シート１０の中心部に第２領域Ｙ、周辺部に第１領域Ｘを配置する構成；第１領域Ｘと第２領域Ｙとを並列して配置する構成；離型シート１０の中心付近に独立した複数の第１領域Ｘを配置し、該複数の第１領域Ｘの周囲に第２領域Ｙを配置する構成；離型シート１０の中心付近に独立した複数の第２領域Ｙを配置し、該複数の第２領域Ｙの周囲に第１領域Ｘを配置する構成；等が挙げられる。
なお、離型シートは、転写層と接する側の面に、さらに別の領域を有していてもよい。
なお、離型シートは、転写層と接する側の面に、さらに別の領域を有していてもよい。
被転写物に転写層を転写した後の転写層表面の形状は、離型シートの表面形状と相補的形状を有する。すなわち、離型シートの第１領域Ｘ及び第２領域Ｙの表面形状は、被転写物の表面に形成される表面形状に対応するものとなる。
したがって、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される第１領域Ｘのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される第２領域Ｙのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ２とが、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たすことは、被転写物に対して、表面形状が異なる２つの領域を形成できることを意味している。そして、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たし、被転写物に対して表面形状が異なる２つの領域を形成することにより、被転写物の意匠性を良好にすることができる。
したがって、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される第１領域Ｘのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される第２領域Ｙのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ２とが、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たすことは、被転写物に対して、表面形状が異なる２つの領域を形成できることを意味している。そして、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たし、被転写物に対して表面形状が異なる２つの領域を形成することにより、被転写物の意匠性を良好にすることができる。
Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たす場合、上述したように、被転写物の意匠性を良好にできる。しかし、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たす転写シートを用いて被転写物に転写層を転写した場合、転写層の表面に原因不明のスジ状のパターンを有する場合がある。該スジ状のパターンは、加飾成形品の意匠性を低下させるとともに、歩留まりを低下させてしまう。
本発明では、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される第１領域のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ１と、Ｒａ１との比［Ｒｚ１／Ｒａ１］を１５．０以下とすることにより、スジ状のパターンを抑制している。
本発明では、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される第１領域のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ１と、Ｒａ１との比［Ｒｚ１／Ｒａ１］を１５．０以下とすることにより、スジ状のパターンを抑制している。
Ｒｚ１／Ｒａ１を１５．０以下とすることによりスジ状のパターンを抑制できる理由は以下のように考えられる。
まず、スジ状のパターンが生じる原因は、離型シートを剥離する際の剥離強度が、第１領域と第２領域との境界において急激に変化しているためと考えられる。例えば、第２領域から第１領域に切り替わる際に剥離強度が急激に大きくなった場合、剥離が一瞬停止したり、剥離速度が急に遅くなったりする。このような一瞬の剥離の停止や剥離速度の急激な変化によって、転写層の表面にスジ状のパターンが生じると考えられる。
そして、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たす場合、第２領域よりも第１領域の方が転写層との単位面積あたりの接触面積が大きくなるため、原則として、第１領域を剥離する際の剥離強度は第２領域を剥離する際の剥離強度よりも大きくなる。さらに、第１領域の凹凸のランダム性が大きすぎる場合、第１領域の高い山及び／又は深い谷に転写層が食い込みやすくなり、第１領域の剥離強度がより大きくなる。
本発明では、凹凸のランダム性の指標として「Ｒｚ１／Ｒａ１」を採用し、Ｒｚ１／Ｒａ１を１５．０以下として第１領域の凹凸のランダム性を抑制することにより、第１領域の剥離強度の増加を抑制し、スジ状のパターンを抑制することを可能としている。
スジ状のパターンは、「離型シートの中心部に第１領域Ｘ、周辺部に第２領域Ｙを配置する構成」、及び、「離型シートの中心付近に独立した複数の第１領域Ｘを配置し、該複数の第１領域Ｘの周囲に第２領域Ｙを配置する構成」において特に生じやすいが、本発明ではかかる構成においてもスジ状のパターンが生じることを抑制できる。
まず、スジ状のパターンが生じる原因は、離型シートを剥離する際の剥離強度が、第１領域と第２領域との境界において急激に変化しているためと考えられる。例えば、第２領域から第１領域に切り替わる際に剥離強度が急激に大きくなった場合、剥離が一瞬停止したり、剥離速度が急に遅くなったりする。このような一瞬の剥離の停止や剥離速度の急激な変化によって、転写層の表面にスジ状のパターンが生じると考えられる。
そして、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たす場合、第２領域よりも第１領域の方が転写層との単位面積あたりの接触面積が大きくなるため、原則として、第１領域を剥離する際の剥離強度は第２領域を剥離する際の剥離強度よりも大きくなる。さらに、第１領域の凹凸のランダム性が大きすぎる場合、第１領域の高い山及び／又は深い谷に転写層が食い込みやすくなり、第１領域の剥離強度がより大きくなる。
本発明では、凹凸のランダム性の指標として「Ｒｚ１／Ｒａ１」を採用し、Ｒｚ１／Ｒａ１を１５．０以下として第１領域の凹凸のランダム性を抑制することにより、第１領域の剥離強度の増加を抑制し、スジ状のパターンを抑制することを可能としている。
スジ状のパターンは、「離型シートの中心部に第１領域Ｘ、周辺部に第２領域Ｙを配置する構成」、及び、「離型シートの中心付近に独立した複数の第１領域Ｘを配置し、該複数の第１領域Ｘの周囲に第２領域Ｙを配置する構成」において特に生じやすいが、本発明ではかかる構成においてもスジ状のパターンが生じることを抑制できる。
また、本発明では、Ｒｚ１／Ｒａ１を２．０以上としている。
Ｒｚ１／Ｒａ１を２．０以上とすることにより、第１領域の凹凸に一定のランダム性を付与することができ、第１領域の欠陥を目立ちにくくすることができる。また、欠陥が目立ちにくいため、加飾成形品の意匠性及び歩留まりの低下を抑制できる。
Ｒｚ１／Ｒａ１は、３．０〜１０．０であることが好ましく、３．５〜８．０であることがより好ましく、４．０〜７．０であることがさらに好ましい。
Ｒｚ１／Ｒａ１を２．０以上とすることにより、第１領域の凹凸に一定のランダム性を付与することができ、第１領域の欠陥を目立ちにくくすることができる。また、欠陥が目立ちにくいため、加飾成形品の意匠性及び歩留まりの低下を抑制できる。
Ｒｚ１／Ｒａ１は、３．０〜１０．０であることが好ましく、３．５〜８．０であることがより好ましく、４．０〜７．０であることがさらに好ましい。
第１領域Ｘ及び第２領域Ｙの凹凸の程度は、目的（意匠性、防眩性等）に応じて異なるため特に限定されないが、「Ｒａ１−Ｒａ２」、「Ｒａ１」、「Ｒａ２」及び「Ｒｚ１」が以下の範囲であることが好ましい。
本発明において、Ｒａ及びＲｚは、離型シートの第１領域及び第２領域に相当する箇所から３．３ｃｍ×３．３ｃｍのサンプルを切り出し、該サンプルの縦方向を０．３ｃｍ間隔で１０点測定、該サンプルの横方向を０．３ｃｍ間隔で１０点測定し、合計２０点の測定値の平均値とする。なお、サンプルは、目視でゴミや傷などの異常点がない箇所から切り出すものとする。
本発明において、Ｒａ及びＲｚは、離型シートの第１領域及び第２領域に相当する箇所から３．３ｃｍ×３．３ｃｍのサンプルを切り出し、該サンプルの縦方向を０．３ｃｍ間隔で１０点測定、該サンプルの横方向を０．３ｃｍ間隔で１０点測定し、合計２０点の測定値の平均値とする。なお、サンプルは、目視でゴミや傷などの異常点がない箇所から切り出すものとする。
Ｒａ１−Ｒａ２は、０．０５〜１．００μｍであることが好ましく、０．０７〜０．８０μｍであることがより好ましく、０．１２〜０．３０μｍであることがさらに好ましい。
Ｒａ１−Ｒａ２を０．０５μｍ以上とすることにより、第１領域と第２領域とのコントラスト（例えば、防眩性や光沢度等のコントラスト）が明確となり、意匠性をより良好にすることができる。また、Ｒａ１−Ｒａ２を１．００μｍ以下とすることにより、スジ状のパターンが発生することを抑制しやすくできる。
なお、本明細書において「ＡＡ〜ＢＢ」とは、「ＡＡ以上ＢＢ以下」のことをいう。以下、同様である。
Ｒａ１−Ｒａ２を０．０５μｍ以上とすることにより、第１領域と第２領域とのコントラスト（例えば、防眩性や光沢度等のコントラスト）が明確となり、意匠性をより良好にすることができる。また、Ｒａ１−Ｒａ２を１．００μｍ以下とすることにより、スジ状のパターンが発生することを抑制しやすくできる。
なお、本明細書において「ＡＡ〜ＢＢ」とは、「ＡＡ以上ＢＢ以下」のことをいう。以下、同様である。
Ｒａ１は、０．０６〜１．２０μｍであることが好ましい。Ｒａ１を前記範囲とすることにより、被転写物の意匠性、防眩性及び白化抑制のバランスを良好にしやすくできる。
Ｒａ１は、０．１０〜１．００μｍであることがより好ましく、０．１３〜０．５０μｍであることがさらに好ましく、０．１５〜０．３５μｍであることがよりさらに好ましい。
Ｒａ１は、０．１０〜１．００μｍであることがより好ましく、０．１３〜０．５０μｍであることがさらに好ましく、０．１５〜０．３５μｍであることがよりさらに好ましい。
Ｒｚ１は０．２５〜５．００μｍであることが好ましく、０．５０〜２．５０μｍであることがより好ましく、１．００〜２．００μｍであることがさらに好ましい。
Ｒｚ１を０．２５μｍ以上とすることにより、第１領域Ｘに傷等の欠陥が生じた場合に、該欠陥を目立ちにくくすることができ、歩留まりを向上できる。また、Ｒｚ１を５．００μｍ以下とすることにより、被転写物の意匠性の低下を抑制できる。また、Ｒｚ１を５．００μｍ以下とすることにより、被転写物を液晶表示素子等の表示素子の前面に用いる場合、白化やギラツキを抑制できる。なお、「ギラツキ」とは、凹凸構造に起因して、映像光に微細な輝度のばらつきが見える現象のことをいう。
Ｒｚ１を０．２５μｍ以上とすることにより、第１領域Ｘに傷等の欠陥が生じた場合に、該欠陥を目立ちにくくすることができ、歩留まりを向上できる。また、Ｒｚ１を５．００μｍ以下とすることにより、被転写物の意匠性の低下を抑制できる。また、Ｒｚ１を５．００μｍ以下とすることにより、被転写物を液晶表示素子等の表示素子の前面に用いる場合、白化やギラツキを抑制できる。なお、「ギラツキ」とは、凹凸構造に起因して、映像光に微細な輝度のばらつきが見える現象のことをいう。
第２領域Ｙは、凹凸部を有さず略平滑であってもよいし、第１領域Ｘと同様に凹凸部を有していても良い。
Ｒａ２は、第１領域Ｘとのコントラストを明りょうにする観点から、０．１０μｍ未満であることが好ましく、０．０７μｍ以下であることがより好ましく、０．０５μｍ以下であることがさらに好ましい。
なお、Ｒａ２が上記範囲であると、第１領域Ｘと第２領域Ｙとの剥離強度の差が大きくなりやすくなり、スジ状のパターンが発生しやすくなる傾向にあるが、本発明では、Ｒｚ１／Ｒａ２を上記範囲とすることにより、スジ状のパターンの発生を抑制している。
Ｒａ２は、第１領域Ｘとのコントラストを明りょうにする観点から、０．１０μｍ未満であることが好ましく、０．０７μｍ以下であることがより好ましく、０．０５μｍ以下であることがさらに好ましい。
なお、Ｒａ２が上記範囲であると、第１領域Ｘと第２領域Ｙとの剥離強度の差が大きくなりやすくなり、スジ状のパターンが発生しやすくなる傾向にあるが、本発明では、Ｒｚ１／Ｒａ２を上記範囲とすることにより、スジ状のパターンの発生を抑制している。
第１領域Ｘの面積Ｓ１と、第２領域Ｙの面積Ｓ２との比［Ｓ２／Ｓ１］は、付与する意匠性との関係で変化するため特に限定されないが、第１領域Ｘと第２領域Ｙとのコントラストを明りょうにする観点から、０．１≦Ｓ２／Ｓ１の関係を満たすことが好ましい。また、加飾成形品の防眩性を良好にする観点から、さらに、Ｓ２／Ｓ１≦７．０の関係を満たすことが好ましい。
離型シート１０は、例えば、図１に示すように、支持体１１と樹脂層１２とから構成することができる。もちろん、離型シートは、支持体もしくは樹脂層の単層であってもよいし、支持体及び樹脂層以外の層を有する３層以上の構成であってもよい。
また、図示しないが、離型シートは、転写層側の面に離型層を有することが好ましい。
また、図示しないが、離型シートは、転写層側の面に離型層を有することが好ましい。
＜支持体＞
支持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体などのビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチルなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ナイロン６又はナイロン６６などで代表されるポリアミド系樹脂などの樹脂からなるプラスチックフィルムが挙げられる。
これらのプラスチックフィルムの中では、耐熱性、寸法安定性に優れ、転写時の位置合わせの適性に優れる２軸延伸ポリエステルフィルムが好適である。
支持体としては、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・ビニルアルコール共重合体などのビニル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチルなどのアクリル系樹脂、ポリスチレン等のスチレン系樹脂、ナイロン６又はナイロン６６などで代表されるポリアミド系樹脂などの樹脂からなるプラスチックフィルムが挙げられる。
これらのプラスチックフィルムの中では、耐熱性、寸法安定性に優れ、転写時の位置合わせの適性に優れる２軸延伸ポリエステルフィルムが好適である。
支持体の厚みは、成形性、形状追従性、取り扱いの観点から、１２〜１５０μｍであることが好ましく、２５〜１００μｍであることがより好ましい。
また、支持体１１の表面には、樹脂層１２等との接着性を高めるために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理や、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
また、支持体１１の表面には、樹脂層１２等との接着性を高めるために、コロナ放電処理、酸化処理等の物理的な処理や、アンカー剤又はプライマーと呼ばれる塗料の塗布を予め行ってもよい。
離型シートが支持体の単層からなる場合、第１領域Ｘ及び第２領域Ｙと相補的な形状を有する版を用いて、支持体表面を賦形すればよい。
＜樹脂層＞
樹脂層は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂組成物の硬化物、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等の樹脂成分を主成分として含むことが好ましい。なお、主成分とは、樹脂層を構成する全固形分の５０質量％以上を意味し、該割合は７０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましい。
上記の樹脂成分の中でも、強度に優れるとともに、瞬時に硬化するため正確かつ精密な形状を付与できる電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物が好適である。また、電離放射線硬化性樹脂組成物による効果を得やすくする観点から、樹脂層を構成する全樹脂成分のうち、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を７０質量％以上含むことが好ましく、９０質量％以上含むことがより好ましく、９５質量％以上含むことがさらに好ましく、１００質量％含むことがよりさらに好ましい。
樹脂層は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂組成物の硬化物、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等の樹脂成分を主成分として含むことが好ましい。なお、主成分とは、樹脂層を構成する全固形分の５０質量％以上を意味し、該割合は７０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましい。
上記の樹脂成分の中でも、強度に優れるとともに、瞬時に硬化するため正確かつ精密な形状を付与できる電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物が好適である。また、電離放射線硬化性樹脂組成物による効果を得やすくする観点から、樹脂層を構成する全樹脂成分のうち、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物を７０質量％以上含むことが好ましく、９０質量％以上含むことがより好ましく、９５質量％以上含むことがさらに好ましく、１００質量％含むことがよりさらに好ましい。
樹脂層は、粒子及びバインダー樹脂を含む塗布液を塗布することにより形成してもよいが、正確にかつ精密な形状を形成する観点から、第１領域Ｘ及び第２領域Ｙと相補的な形状を有する版を用いた印刷により形成することが好ましい。樹脂層がその他の領域を有する場合、該版は、さらに、その他の領域と相補的な形状を有することが好ましい。また、離型シートが樹脂層上に離型層等のその他の層を有する場合、その他の層により凹凸が緩和されることを考慮した形状の版を用いればよい。版を用いた樹脂層の形成方法の詳細は後述する。
なお、樹脂層をコーティングにより形成する場合、塗布液に含まれる粒子が少なからず凝集しやすく、Ｒｚ／Ｒａが大きくなることを抑制するための種々の対策が必要となり、工程が複雑化するため好ましくない。
なお、樹脂層をコーティングにより形成する場合、塗布液に含まれる粒子が少なからず凝集しやすく、Ｒｚ／Ｒａが大きくなることを抑制するための種々の対策が必要となり、工程が複雑化するため好ましくない。
熱硬化性樹脂組成物は、少なくとも熱硬化性樹脂を含む組成物であり、加熱により、硬化する樹脂組成物である。熱硬化性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。熱硬化性樹脂組成物には、これら硬化性樹脂に、必要に応じて硬化剤が添加される。
電離放射線硬化性樹脂組成物は、電離放射線硬化性官能基を有する化合物（以下、「電離放射線硬化性化合物」ともいう）を含む組成物である。電離放射線硬化性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、アリル基等のエチレン性不飽和結合基、及びエポキシ基、オキセタニル基等が挙げられる。
電離放射線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましい。また、転写シートを製造する過程で樹脂層が傷つくことを抑制する観点からは、電離放射線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
電離放射線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和結合基を有する化合物が好ましい。また、転写シートを製造する過程で樹脂層が傷つくことを抑制する観点からは、電離放射線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する化合物がより好ましく、中でも、エチレン性不飽和結合基を２つ以上有する、多官能性（メタ）アクリレート系化合物が更に好ましい。多官能性（メタ）アクリレート系化合物としては、モノマー及びオリゴマーのいずれも用いることができる。
なお、電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものを意味し、通常、紫外線（ＵＶ）又は電子線（ＥＢ）が用いられるが、その他、Ｘ線、γ線などの電磁波、α線、イオン線などの荷電粒子線も使用可能である。
多官能性（メタ）アクリレート系化合物のうち、２官能（メタ）アクリレート系モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡテトラエトキシジアクリレート、ビスフェノールＡテトラプロポキシジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート等が挙げられる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
３官能以上の（メタ）アクリレート系モノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸変性トリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
また、上記（メタ）アクリレート系モノマーは、分子骨格の一部を変性しているものでもよく、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、カプロラクトン、イソシアヌル酸、アルキル、環状アルキル、芳香族、ビスフェノール等による変性がなされたものも使用することができる。
また、多官能性（メタ）アクリレート系オリゴマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等のアクリレート系重合体等が挙げられる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性樹脂は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
ウレタン（メタ）アクリレートは、例えば、多価アルコール及び有機ジイソシアネートとヒドロキシ（メタ）アクリレートとの反応によって得られる。
また、好ましいエポキシ（メタ）アクリレートは、３官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等と多塩基酸と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレート、及び２官能以上の芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等とフェノール類と（メタ）アクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートである。
上記電離放射線硬化性樹脂は１種を単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性樹脂である場合には、樹脂層形成用塗布液は、光重合開始剤や光重合促進剤等の添加剤を含むことが好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン、ベンゾフェノン、α−ヒドロキシアルキルフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾイン、ベンジルジメチルケタール、ベンゾイルベンゾエート、α−アシルオキシムエステル、チオキサンソン類等から選ばれる１種以上が挙げられる。
また、光重合促進剤は、硬化時の空気による重合阻害を軽減させ硬化速度を速めることができるものであり、例えば、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル等から選ばれる１種以上が挙げられる。
樹脂層の厚みは特に限定されないが、１〜１５μｍであることが好ましく、２〜１２μｍであることがより好ましい。
樹脂層中には、離型シートと転写層との離型性を向上する観点から、粒子を実質的に含有しないことが好ましい。具体的には、樹脂層中の粒子の含有量は１質量％未満であることが好ましく、０．１質量％未満であることがより好ましく、０．０１質量％未満であることがさらに好ましく、０質量％であることがよりさらに好ましい。
＜離型層＞
離型シートと、転写層との界面は、被転写物に密着した際に剥離可能に形成されている。
離型性を向上させるため、離型シートは、転写層と接する側の面の少なくとも一部に離型層を有することが好ましい。また、転写シートの面内の離型性の均一化の観点からは、離型シートは、転写層と接する側の面の全面に離型層を有することが好ましい。
また、第１領域Ｘの凹凸部上に離型層が形成されることで、被転写物の表面に高周波成分の少ない凹凸形状を形成することができ、被転写物の白化及びギラツキを抑制できる。
離型シートと、転写層との界面は、被転写物に密着した際に剥離可能に形成されている。
離型性を向上させるため、離型シートは、転写層と接する側の面の少なくとも一部に離型層を有することが好ましい。また、転写シートの面内の離型性の均一化の観点からは、離型シートは、転写層と接する側の面の全面に離型層を有することが好ましい。
また、第１領域Ｘの凹凸部上に離型層が形成されることで、被転写物の表面に高周波成分の少ない凹凸形状を形成することができ、被転写物の白化及びギラツキを抑制できる。
離型層は主として樹脂から構成することが好ましい。
離型層の樹脂は、所定の被膜強度を有し、転写層との接着力が低い材料であれば特に限定されず、汎用の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂組成物の硬化物、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等が挙げられる。具体的には、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体樹脂、硝化綿等が挙げられる。
これらの中でも、熱硬化性樹脂組成物の硬化物が好ましく、アクリルポリオール及びイソシアネートを含む熱硬化性樹脂組成物がより好ましい。
離型層の樹脂は、所定の被膜強度を有し、転写層との接着力が低い材料であれば特に限定されず、汎用の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂組成物の硬化物、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物等が挙げられる。具体的には、フッ素系樹脂、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリウレタン系樹脂、セルロース系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系共重合体樹脂、硝化綿等が挙げられる。
これらの中でも、熱硬化性樹脂組成物の硬化物が好ましく、アクリルポリオール及びイソシアネートを含む熱硬化性樹脂組成物がより好ましい。
離型層は、離型性を向上させるために離型剤をさらに含んでもよい。離型剤としては、合成ワックスや天然ワッス等のワックス類が挙げられる。合成ワックスとしては、ポリエチレンワックスやポリプピレンワックス等のポリオレフィンワックスが好ましい。
離型層の厚みは、０．１〜５．０μｍであることが好ましく、０．２〜１．５μｍであることがより好ましく、０．３〜１．０μｍであることがさらに好ましい。
離型層の厚みは、例えば、離型シートの中央部分を垂直方向に切断した断面の断面写真を撮像し、該断面写真から離型層の厚みを５００μｍ間隔で少なくとも２０箇所測定した際の平均値として算出できる。
離型層の厚みは、例えば、離型シートの中央部分を垂直方向に切断した断面の断面写真を撮像し、該断面写真から離型層の厚みを５００μｍ間隔で少なくとも２０箇所測定した際の平均値として算出できる。
離型シートは、その他の層を有していてもよい。
その他の層としては、帯電防止層が挙げられる。帯電防止層を有することにより、離型シートを剥離する際の剥離帯電を抑制でき、転写の作業性を向上できる。
その他の層としては、帯電防止層が挙げられる。帯電防止層を有することにより、離型シートを剥離する際の剥離帯電を抑制でき、転写の作業性を向上できる。
帯電防止層は、電子伝導型帯電防止剤、イオン伝導型帯電防止剤等の帯電防止剤、及びバインダー樹脂を含むことが好ましい。
帯電防止層は、離型シートの転写層と接する側の面とは反対側の表面に形成されていることが好ましい。
帯電防止層は、表面抵抗率を１．０×１０−９Ω／□〜１．０×１０−１２Ω／□の範囲に調整することが好ましい。
なお、帯電防止剤を樹脂層等の他の層に含有させて帯電防止性を発揮させてもよい。
帯電防止層は、離型シートの転写層と接する側の面とは反対側の表面に形成されていることが好ましい。
帯電防止層は、表面抵抗率を１．０×１０−９Ω／□〜１．０×１０−１２Ω／□の範囲に調整することが好ましい。
なお、帯電防止剤を樹脂層等の他の層に含有させて帯電防止性を発揮させてもよい。
＜離型シートの製造方法＞
第１領域Ｘ及び第２領域Ｙを有する離型シートは、例えば、以下の（Ａ１）〜（Ａ２）の工程により製造できる。
第１領域Ｘ及び第２領域Ｙを有する離型シートは、例えば、以下の（Ａ１）〜（Ａ２）の工程により製造できる。
（Ａ１）支持体上に、電離放射線硬化性樹脂組成物を含む樹脂層形成用塗布液を塗布し、電離放射線硬化性樹脂組成物を含む層を形成する工程。
（Ａ２）第１領域Ｘ及び第２領域Ｙと相補的な形状を有する版を用いて、未硬化の樹脂層を賦形すると同時に、電離放射線を照射して、賦形した樹脂層を硬化させる工程。
（Ａ２）第１領域Ｘ及び第２領域Ｙと相補的な形状を有する版を用いて、未硬化の樹脂層を賦形すると同時に、電離放射線を照射して、賦形した樹脂層を硬化させる工程。
電離放射線硬化性樹脂組成物が溶剤を含む場合、（Ａ１）工程で溶剤を乾燥させることが好ましい。
離型シートが離型層を有する場合、（Ａ２）工程の後に、（Ａ３）樹脂層上に離型層を形成する工程、を行えばよい。
離型シートが離型層を有する場合、（Ａ２）工程の後に、（Ａ３）樹脂層上に離型層を形成する工程、を行えばよい。
離型シートがその他の領域を有する場合、（Ａ２）工程の版として、第１領域Ｘ、第２領域Ｙ及びその他の領域と相補的な形状を有する版を用いればよい。
（Ａ２）工程で使用する版は、例えば、エッチング、サンドブラスト、切削及びレーザー加工、あるいはこれらの組み合わせなどによって、シリンダーの表面を所望の形状に彫刻することにより得ることができる。あるいは、レーザー彫刻、光造形等によって長尺の雄型の版（第１領域Ｘ及び第２領域Ｙと同一の形状を有する版）を作製し、これを反転したものをシリンダーの表面に巻き付けることによって得ることができる。
（Ａ２）工程で使用する版の表面は、クロム等で硬質メッキ処理することが好ましい。
（Ａ２）工程で使用する版の表面は、クロム等で硬質メッキ処理することが好ましい。
上記の版の作成手段の中でも、凹凸のランダム性の指標であるＲｚ１／Ｒａ１を制御しやすいという観点から、サンドブラストが好適である。
サンドブラストでは、例えば、シリンダー表面の材質、研磨材の粒子径、研磨材の材質、シリンダーへの研磨材の衝突回数、噴射ノズルとシリンダーとの距離、噴射圧、噴射周波数等を制御することにより、凹凸形状を調整できる。
上述した制御手段の中でも、Ｒｚ１／Ｒａ１の制御には、「シリンダーへの研磨材の衝突回数」が最も簡易かつ有効である。すなわち、シリンダー表面への研磨材の衝突回数が少ないとＲｚ１／Ｒａ１が大きくなり、シリンダー表面への研磨材の衝突回数が多くなるにつれてＲｚ１／Ｒａ１が小さくなる傾向にある。ただし、衝突回数を増やしてＲｚ１／Ｒａ１が小さくなるといっても限度があり、Ｒｚ１／Ｒａ１の減少は徐々に飽和に向かう。
また、シリンダー表面の材質を硬くすると、研磨材によってシリンダーが深く削られにくくなるため、Ｒｚ１／Ｒａ１が小さくなる傾向にある。
また、研磨材の粒子径が大きいと凹凸が平均化され、Ｒｚ１／Ｒａ１が小さくなる傾向にある。また、研磨材の形状が球形であると特異的な凹凸が形成されにくくなり、凹凸が平均化され、Ｒｚ１／Ｒａ１が小さくなる傾向にある。
また、噴射ノズルとシリンダーとの距離を短くすると、Ｒａ１及びＲｚ１はともに大きくなる傾向にあり、かつ増加率も同程度である。つまり、噴射ノズルとシリンダーとの距離を変動させてもＲｚ１／Ｒａ１は概ね同じ値を示す傾向にある。
また、噴射圧を大きくすると、Ｒａ１及びＲｚ１はともに大きくなる傾向にあり、かつ増加率も同程度である。つまり、噴射圧を変動させてもＲｚ１／Ｒａ１は概ね同じ値を示す傾向にある。
サンドブラストでは、例えば、シリンダー表面の材質、研磨材の粒子径、研磨材の材質、シリンダーへの研磨材の衝突回数、噴射ノズルとシリンダーとの距離、噴射圧、噴射周波数等を制御することにより、凹凸形状を調整できる。
上述した制御手段の中でも、Ｒｚ１／Ｒａ１の制御には、「シリンダーへの研磨材の衝突回数」が最も簡易かつ有効である。すなわち、シリンダー表面への研磨材の衝突回数が少ないとＲｚ１／Ｒａ１が大きくなり、シリンダー表面への研磨材の衝突回数が多くなるにつれてＲｚ１／Ｒａ１が小さくなる傾向にある。ただし、衝突回数を増やしてＲｚ１／Ｒａ１が小さくなるといっても限度があり、Ｒｚ１／Ｒａ１の減少は徐々に飽和に向かう。
また、シリンダー表面の材質を硬くすると、研磨材によってシリンダーが深く削られにくくなるため、Ｒｚ１／Ｒａ１が小さくなる傾向にある。
また、研磨材の粒子径が大きいと凹凸が平均化され、Ｒｚ１／Ｒａ１が小さくなる傾向にある。また、研磨材の形状が球形であると特異的な凹凸が形成されにくくなり、凹凸が平均化され、Ｒｚ１／Ｒａ１が小さくなる傾向にある。
また、噴射ノズルとシリンダーとの距離を短くすると、Ｒａ１及びＲｚ１はともに大きくなる傾向にあり、かつ増加率も同程度である。つまり、噴射ノズルとシリンダーとの距離を変動させてもＲｚ１／Ｒａ１は概ね同じ値を示す傾向にある。
また、噴射圧を大きくすると、Ｒａ１及びＲｚ１はともに大きくなる傾向にあり、かつ増加率も同程度である。つまり、噴射圧を変動させてもＲｚ１／Ｒａ１は概ね同じ値を示す傾向にある。
なお、樹脂層上に離型層等のその他の層を形成する場合、樹脂層の表面凹凸よりも離型シートの表面凹凸が緩和されることとなる。したがって、樹脂層上にその他の層を形成する場合、（Ａ２）工程で使用する版は、凹凸が緩和されることを考慮した形状の版を用いればよい。
例えば、樹脂層上に厚み０．４μｍの離型層を形成する場合、離型層表面のＲａ及びＲｚは樹脂層表面の６割程度の大きさとなり、樹脂層上に厚み０．８μｍの離型層を形成する場合、離型層表面のＲａ及びＲｚは樹脂層表面の５割程度の大きさとなり、樹脂層上に厚み１．３μｍの離型層を形成する場合、離型層表面のＲａ及びＲｚは樹脂層表面の４割程度の大きさとなる。前述の割合は目安であり、離型層塗布液の粘度等の条件によって若干変化する。
なお、樹脂層上にその他の層を形成した際のＲａ及びＲｚの減少率は概ね同じである。このため、樹脂層表面のＲｚ／Ｒａと、その他の層上のＲｚ／Ｒａとは概ね同じ値となる。したがって、Ｒｚ／Ｒａの値に関しては、型の形状で概ね調整できる。
例えば、樹脂層上に厚み０．４μｍの離型層を形成する場合、離型層表面のＲａ及びＲｚは樹脂層表面の６割程度の大きさとなり、樹脂層上に厚み０．８μｍの離型層を形成する場合、離型層表面のＲａ及びＲｚは樹脂層表面の５割程度の大きさとなり、樹脂層上に厚み１．３μｍの離型層を形成する場合、離型層表面のＲａ及びＲｚは樹脂層表面の４割程度の大きさとなる。前述の割合は目安であり、離型層塗布液の粘度等の条件によって若干変化する。
なお、樹脂層上にその他の層を形成した際のＲａ及びＲｚの減少率は概ね同じである。このため、樹脂層表面のＲｚ／Ｒａと、その他の層上のＲｚ／Ｒａとは概ね同じ値となる。したがって、Ｒｚ／Ｒａの値に関しては、型の形状で概ね調整できる。
また、離型シートは、例えば、以下の（Ｂ１）〜（Ｂ２）工程によっても製造できる。
（Ｂ１）第１領域Ｘ及び第２領域Ｙと相補的な形状を有する版に、樹脂層形成用塗布液を充填する工程。
（Ｂ２）版に充填した樹脂層形成用塗布液を支持体上に転写し、必要に応じて乾燥及び硬化して、樹脂層を形成する工程。
（Ｂ１）第１領域Ｘ及び第２領域Ｙと相補的な形状を有する版に、樹脂層形成用塗布液を充填する工程。
（Ｂ２）版に充填した樹脂層形成用塗布液を支持体上に転写し、必要に応じて乾燥及び硬化して、樹脂層を形成する工程。
正確かつ精密な形状を形成する観点からは、上述した（Ａ１）〜（Ａ２）工程が好適である。
＜転写層＞
離型シート上には、転写層が形成される。
転写層２０は、被転写物に転写される層であり、例えば図１に示すように、第１領域Ｘ及び第２領域Ｙを覆うようにして形成される。また、転写層２０は、例えば図１に示すように、離型シート１０に近い側から順に、保護層２１及び接着剤層２２を有する。
離型シート上には、転写層が形成される。
転写層２０は、被転写物に転写される層であり、例えば図１に示すように、第１領域Ｘ及び第２領域Ｙを覆うようにして形成される。また、転写層２０は、例えば図１に示すように、離型シート１０に近い側から順に、保護層２１及び接着剤層２２を有する。
＜保護層＞
転写層を構成する保護層は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層である。保護層は、転写層が転写シートから被転写物へと転写された後は、摩耗や光、薬品等から加飾成形品を保護する役割を有する。
転写層を構成する保護層は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含む層である。保護層は、転写層が転写シートから被転写物へと転写された後は、摩耗や光、薬品等から加飾成形品を保護する役割を有する。
保護層は硬化性樹脂組成物の硬化物を主成分として含むことが好ましい。主成分とは、保護層を構成する全固形分の５０質量％以上を意味し、該割合は７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましく、９０質量％以上であることがよりさらに好ましい。
硬化性樹脂組成物の硬化物は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物が挙げられ、これらの中でも電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物が好ましい。
また、保護層は熱可塑性樹脂を含有してもよいが、耐擦傷性を向上する観点から、その量は微量であることが好ましい。具体的には、保護層中の熱可塑性樹脂の含有量は５質量％未満であることが好ましく、１質量％未満であることがより好ましく、０．１質量％未満であることがさらに好ましく、０質量％であることがよりさらに好ましい。
硬化性樹脂組成物の硬化物は、熱硬化性樹脂組成物の硬化物、電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物が挙げられ、これらの中でも電離放射線硬化性樹脂組成物の硬化物が好ましい。
また、保護層は熱可塑性樹脂を含有してもよいが、耐擦傷性を向上する観点から、その量は微量であることが好ましい。具体的には、保護層中の熱可塑性樹脂の含有量は５質量％未満であることが好ましく、１質量％未満であることがより好ましく、０．１質量％未満であることがさらに好ましく、０質量％であることがよりさらに好ましい。
保護層の硬化性樹脂組成物の実施の形態は、上述した樹脂層の硬化性樹脂組成物の実施の形態と同様である。
なお、硬化性樹脂組成物は、保護層を形成する時点では半硬化の状態にしておき、被転写物に転写した後に、加熱、電離放射線の照射等により硬化性樹脂組成物の硬化を進行させ、完全硬化させてもよい。このようにすることにより、被転写物に対する転写シートの追従性が良好となるため、成形性を良好にすることができる。また、硬化性樹脂組成物を保護層の形成時点では半硬化の状態にしておき、被転写物に転写し、離型シートを剥離した後に加熱、電離放射線の照射等により硬化性樹脂組成物の硬化を進行させ、完全硬化させることにより、応力が緩和されやすくなり、スジ状のパターンの発生をより抑制することができる。
なお、硬化性樹脂組成物は、保護層を形成する時点では半硬化の状態にしておき、被転写物に転写した後に、加熱、電離放射線の照射等により硬化性樹脂組成物の硬化を進行させ、完全硬化させてもよい。このようにすることにより、被転写物に対する転写シートの追従性が良好となるため、成形性を良好にすることができる。また、硬化性樹脂組成物を保護層の形成時点では半硬化の状態にしておき、被転写物に転写し、離型シートを剥離した後に加熱、電離放射線の照射等により硬化性樹脂組成物の硬化を進行させ、完全硬化させることにより、応力が緩和されやすくなり、スジ状のパターンの発生をより抑制することができる。
保護層中には、有機粒子及び無機粒子等の粒子を含有してもよい。保護層中に粒子を含有することにより、樹脂成分との屈折率差による内部ヘイズの発現により、ギラツキや欠陥を目立ちにくくすることができる。これらの粒子は、同様の目的で、後述する接着剤層、アンカー層等に含有させてもよい。
有機粒子としては、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリル−スチレン共重合体、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ベンゾグアナミン−メラミン−ホルムアルデヒド縮合物、シリコーン、フッ素系樹脂及びポリエステル系樹脂等からなる粒子が挙げられる。
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、アンチモン、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。
無機粒子としては、シリカ、アルミナ、アンチモン、ジルコニア及びチタニア等からなる粒子が挙げられる。
粒子の平均粒子径は、０．０５〜５．０μｍが好ましく、０．５〜３．０μｍがより好ましい。
本明細書において、平均粒子径は、溶液中の該粒子を動的光散乱方法で測定し、粒子径分布を体積累積分布で表したときの５０％粒子径（ｄ５０：メジアン径）である。５０％粒子径は、例えば、Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ粒度分析計（日機装株式会社製）を用いて測定することができる。
本明細書において、平均粒子径は、溶液中の該粒子を動的光散乱方法で測定し、粒子径分布を体積累積分布で表したときの５０％粒子径（ｄ５０：メジアン径）である。５０％粒子径は、例えば、Ｍｉｃｒｏｔｒａｃ粒度分析計（日機装株式会社製）を用いて測定することができる。
粒子の含有量は、保護層の樹脂成分１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましい。
保護層の厚みは、表面硬度及び成形性のバランスの観点から、０．５〜３０μｍであることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましく、３〜１０μｍであることがさらに好ましい。
＜接着剤層＞
接着剤層は、樹脂成形体等の被転写物と、転写層との接着性を良好にして、転写作業を良好にする役割を有する。
なお、保護層と被転写物との接着性が良好な場合は、接着剤層を設けなくてもよい。
接着剤層は、樹脂成形体等の被転写物と、転写層との接着性を良好にして、転写作業を良好にする役割を有する。
なお、保護層と被転写物との接着性が良好な場合は、接着剤層を設けなくてもよい。
接着剤層は、被転写物の素材に適した感熱性又は感圧性の樹脂を使用することが好ましい。例えば、被転写物の材質がアクリル系樹脂の場合は、アクリル系樹脂を用いることが好ましい。また、被転写物の材質がポリフェニレンオキサイド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、スチレン系樹脂の場合は、これらの樹脂と親和性のあるアクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂などを使用することが好ましい。さらに、被転写物の材質がポリプロピレン樹脂の場合は、塩素化ポリオレフィン樹脂、塩素化エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、環化ゴム、クマロンインデン樹脂を使用することが好ましい。
接着剤層には、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤等の添加剤を配合してもよい。
接着剤層の厚みは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがより好ましい。
接着剤層には、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤等の添加剤を配合してもよい。
接着剤層の厚みは、０．１〜１０μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがより好ましい。
＜アンカー層＞
アンカー層は、インモールド成形等の高温環境に置かれる場合において、耐熱性を向上させるために必要に応じて設けられる層である。アンカー層は、保護層と接着剤層との間に形成することが好ましい。
アンカー層は、インモールド成形等の高温環境に置かれる場合において、耐熱性を向上させるために必要に応じて設けられる層である。アンカー層は、保護層と接着剤層との間に形成することが好ましい。
アンカー層は、硬化性樹脂組成物の硬化物を含むことが好ましい。
硬化性樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられる。
アンカー層の熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂組成物の実施の形態は、樹脂層の熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂組成物の実施の形態と同様である。
アンカー層の厚みは、０．１〜６μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがより好ましい。
硬化性樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂組成物が挙げられる。
アンカー層の熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂組成物の実施の形態は、樹脂層の熱硬化性樹脂組成物、電離放射線硬化性樹脂組成物の実施の形態と同様である。
アンカー層の厚みは、０．１〜６μｍであることが好ましく、０．５〜５μｍであることがより好ましい。
＜印刷層＞
転写層は、さらに印刷層を有していてもよい。印刷層は、加飾成形品に所望の意匠性を付与する役割を有する。
印刷層のパターンは任意であり、例えば、木目、石目、布目、砂目、円、四角形、多角形、幾何学模様、文字、ベタ印刷等が挙げられる。
転写層は、さらに印刷層を有していてもよい。印刷層は、加飾成形品に所望の意匠性を付与する役割を有する。
印刷層のパターンは任意であり、例えば、木目、石目、布目、砂目、円、四角形、多角形、幾何学模様、文字、ベタ印刷等が挙げられる。
印刷層は、ポリビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、アクリル系樹脂、ポリビニルアセタール系樹脂、セルロース系樹脂等のバインダー樹脂と、顔料及び／又は染料とを含むことが好ましい。
印刷層の厚みは、意匠性の観点から０．５〜４０μｍが好ましく、１〜３０μｍがより好ましい。
印刷層の厚みは、意匠性の観点から０．５〜４０μｍが好ましく、１〜３０μｍがより好ましい。
転写層を構成する保護層、接着剤層、アンカー層、印刷層等の各層は、例えば、各層の構成成分を含む塗布液を調整し、離型シート上に、グラビアコート法、ロールコート法などのコート法、グラビア印刷法、スクリーン印刷法などの印刷法により塗布、乾燥し、必要に応じて電離放射線を照射して硬化することにより形成できる。
［加飾成形品の製造方法］
本発明の加飾成形品の製造方法は、上述した本発明の転写シートの転写層を被転写物に転写する工程と、転写シートの離型シートを剥離する工程と、を有する。
被転写物としては、樹脂成形体等が挙げられる。
本発明の加飾成形品の製造方法は、上述した本発明の転写シートの転写層を被転写物に転写する工程と、転写シートの離型シートを剥離する工程と、を有する。
被転写物としては、樹脂成形体等が挙げられる。
加飾成形品の製造方法には、公知の転写法を用いることができる。例えば、（ｉ）予め成形された被転写物に転写シートを貼着し、該転写シートの転写層を転写した後、該転写シートの離型シートを剥離する方法、（ｉｉ）平板状の被転写物に転写シートを貼着し、該転写シートの転写層を転写した後、該転写シートの離型シートを剥離し、その後、転写層が積層された被転写物を成形する方法、（ｉｉｉ）被転写物を射出成形する際に転写シートと一体化させ、その後、転写シートの離型シートを剥離する方法〔インモールド成形（射出成形同時転写加飾法）〕等が挙げられる。中でも、インモールド成形（射出成形同時転写加飾法）によれば、三次元曲面などの複雑な表面形状を有する樹脂成形体に加飾成形することができる。
インモールド成形による本発明の転写シートを用いる加飾成形品の製造方法の一実施態様としては、
（ｚ１）上記の転写シートの転写層側をインモールド成形用型の内側に向けて配置する工程と、
（ｚ２）上記インモールド成形用型内に樹脂を射出注入する工程と、
（ｚ３）上記転写シートと、上記樹脂とを一体化させて、樹脂成形体（被転写物）の表面上に上記転写シートの転写層を転写する工程と、
（ｚ４）樹脂成形体（被転写物）を型から取り出した後、上記転写シートの離型シートを剥離する工程と、を有するものが挙げられる。
保護層が半硬化の状態の場合、（ｚ４）工程の終了後に紫外線を照射して保護層を完全に硬化させることが好ましい。
（ｚ１）上記の転写シートの転写層側をインモールド成形用型の内側に向けて配置する工程と、
（ｚ２）上記インモールド成形用型内に樹脂を射出注入する工程と、
（ｚ３）上記転写シートと、上記樹脂とを一体化させて、樹脂成形体（被転写物）の表面上に上記転写シートの転写層を転写する工程と、
（ｚ４）樹脂成形体（被転写物）を型から取り出した後、上記転写シートの離型シートを剥離する工程と、を有するものが挙げられる。
保護層が半硬化の状態の場合、（ｚ４）工程の終了後に紫外線を照射して保護層を完全に硬化させることが好ましい。
＜樹脂成形体＞
樹脂成形体としては、射出成形可能な熱可塑性樹脂もしくは熱硬化性樹脂を用いることが好ましく、公知の様々な樹脂を用いることができる。
本発明による加飾成形品をインモールド成形により製造する場合には、熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。このような熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ＡＢＳ樹脂（耐熱ＡＢＳ樹脂を含む）、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリブチレンテフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、およびポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。
樹脂成形体としては、射出成形可能な熱可塑性樹脂もしくは熱硬化性樹脂を用いることが好ましく、公知の様々な樹脂を用いることができる。
本発明による加飾成形品をインモールド成形により製造する場合には、熱可塑性樹脂を用いることが好ましい。このような熱可塑性樹脂としては、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ＡＢＳ樹脂（耐熱ＡＢＳ樹脂を含む）、ＡＳ樹脂、ＡＮ樹脂、ポリフェニレンオキサイド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアセタール系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリブチレンテフタレート系樹脂、ポリスルホン系樹脂、およびポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。
［成形用型］
本発明の成形用型は、表面に、凹凸部を有する第１領域Ｘ’と、前記第１領域に隣接する第２領域Ｙ’とを有してなり、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘ’のカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ’１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第２領域Ｙ’のカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ’２とが、Ｒａ’１＞Ｒａ’２の関係を満たし、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘ’のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ’１と、前記Ｒａ’１とが、２．０≦Ｒｚ’１／Ｒａ’１≦１５．０の関係を満たす、ものである。
本発明の成形用型は、表面に、凹凸部を有する第１領域Ｘ’と、前記第１領域に隣接する第２領域Ｙ’とを有してなり、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘ’のカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ’１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第２領域Ｙ’のカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ’２とが、Ｒａ’１＞Ｒａ’２の関係を満たし、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘ’のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ’１と、前記Ｒａ’１とが、２．０≦Ｒｚ’１／Ｒａ’１≦１５．０の関係を満たす、ものである。
成形用型の表面が、Ｒａ’１＞Ｒａ’２、及び、２．０≦Ｒｚ’１／Ｒａ’１≦１５．０の関係を満たすことにより、該型を用いて形成した離型シートが、Ｒａ１＞Ｒａ２、及び、２．０≦Ｒｚ１／Ｒａ１≦１５．０の関係を満たしやすくすることができる。
また、Ｒｚ’１／Ｒａ’１を１５．０以下とすることにより、成形用型から樹脂層を剥離する際に、剥離速度の急激な変化によって、樹脂層の表面にスジ状のパターンが生じることを抑制できる。
また、Ｒｚ’１／Ｒａ’１を１５．０以下とすることにより、成形用型から樹脂層を剥離する際に、剥離速度の急激な変化によって、樹脂層の表面にスジ状のパターンが生じることを抑制できる。
「Ｒｚ’１／Ｒａ’１」の好適な範囲は、上述した転写シートの「Ｒｚ１／Ｒａ１」の好適な範囲と同じとすることが好ましい。
「Ｒａ’１−Ｒａ’２」、「Ｒａ’１」、「Ｒａ’２」及び「Ｒｚ’１」の好適な範囲は、上述した転写シートの「Ｒａ１−Ｒａ２」、「Ｒａ１」、「Ｒａ２」及び「Ｒｚ１」の好適な範囲と同様とすることが好ましい。但し、樹脂層上にその他の層を有する離型シート用の型として用いる場合、「Ｒａ１」、「Ｒａ２」及び「Ｒｚ１」が、「Ｒａ’１」、「Ｒａ’２」及び「Ｒｚ’１」よりも緩和されることを考慮した設計とすることが好ましい。
「Ｒａ’１−Ｒａ’２」、「Ｒａ’１」、「Ｒａ’２」及び「Ｒｚ’１」の好適な範囲は、上述した転写シートの「Ｒａ１−Ｒａ２」、「Ｒａ１」、「Ｒａ２」及び「Ｒｚ１」の好適な範囲と同様とすることが好ましい。但し、樹脂層上にその他の層を有する離型シート用の型として用いる場合、「Ｒａ１」、「Ｒａ２」及び「Ｒｚ１」が、「Ｒａ’１」、「Ｒａ’２」及び「Ｒｚ’１」よりも緩和されることを考慮した設計とすることが好ましい。
「Ｒａ’１」、「Ｒａ’２」及び「Ｒｚ’１」は、成形用型の表面形状を賦形したシートを作製し、該シートの表面形状を測定することにより算出できる。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。なお、本発明は、実施例に記載の形態に限定されるものではない。
１．成形用型の作製
１−１．成形用型Ａの作製
厚み２００μｍの硬質銅メッキ層を有するシリンダーを準備した。該シリンダー表面の第１領域Ｘ’に相当する箇所が抜き加工されたマスクで覆った。次いで、該シリンダーを回転しながら該シリンダーの表面を下記条件でサンドブラスト処理して、中心部に第１領域Ｘ’、周辺部に第２領域Ｙ’が配置されてなる成形用型Ａを作製した。第１領域Ｘ’の面積Ｓ’１と、第２領域Ｙ’の面積Ｓ’２との比［Ｓ’２／Ｓ’１］は、１．２１であった。
［サンドブラスト条件］
・シリンダーの直径：３００ｍｍ
・パス回数※：４回
・研磨粒子：平均粒子径８３μｍの球形ガラスビーズ
・噴射ノズルの直径：４００ｍｍ
・噴射圧：０．２３ＭＰａ
・噴射周波数：９０Ｈｚ
※「パス回数」とは、サンドブラスト処理の開始から終了までのシリンダーの回転数である。つまり、パス回数が多いほどサンドブラスト処理の時間が長くなる。
１−１．成形用型Ａの作製
厚み２００μｍの硬質銅メッキ層を有するシリンダーを準備した。該シリンダー表面の第１領域Ｘ’に相当する箇所が抜き加工されたマスクで覆った。次いで、該シリンダーを回転しながら該シリンダーの表面を下記条件でサンドブラスト処理して、中心部に第１領域Ｘ’、周辺部に第２領域Ｙ’が配置されてなる成形用型Ａを作製した。第１領域Ｘ’の面積Ｓ’１と、第２領域Ｙ’の面積Ｓ’２との比［Ｓ’２／Ｓ’１］は、１．２１であった。
［サンドブラスト条件］
・シリンダーの直径：３００ｍｍ
・パス回数※：４回
・研磨粒子：平均粒子径８３μｍの球形ガラスビーズ
・噴射ノズルの直径：４００ｍｍ
・噴射圧：０．２３ＭＰａ
・噴射周波数：９０Ｈｚ
※「パス回数」とは、サンドブラスト処理の開始から終了までのシリンダーの回転数である。つまり、パス回数が多いほどサンドブラスト処理の時間が長くなる。
１−２．成形用型Ｂ〜Ｇの作製
サンドブラスト条件、及びシリンダーのメッキ層を表１の条件に変更した以外は、成形用型Ａと同様にして成形用型Ｂ〜Ｇを作製した。
サンドブラスト条件、及びシリンダーのメッキ層を表１の条件に変更した以外は、成形用型Ａと同様にして成形用型Ｂ〜Ｇを作製した。
１−３．成形用型の形状の測定
厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、下記処方の樹脂層形成用塗布液を塗布、乾燥し、未硬化の樹脂層を形成した。
＜樹脂層形成用塗布液＞
・電離放射線硬化性樹脂組成物 ６０質量部
（共栄化学社製、ＥＳ１０５Ｍ）
・メチルエチルケトン ４０質量部
・シリコーン系レベリング剤 ０．５質量部
厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、下記処方の樹脂層形成用塗布液を塗布、乾燥し、未硬化の樹脂層を形成した。
＜樹脂層形成用塗布液＞
・電離放射線硬化性樹脂組成物 ６０質量部
（共栄化学社製、ＥＳ１０５Ｍ）
・メチルエチルケトン ４０質量部
・シリコーン系レベリング剤 ０．５質量部
次いで、上記「１−１」及び「１−２」で作製した成形用型Ａ〜Ｇを用いて、未硬化の樹脂層を賦形すると同時に、ポリエチレンテレフタレートフィルム側から電離放射線を照射して、賦形した樹脂層を硬化させ、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に厚み５．０μｍの樹脂層を形成した。
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／小坂研究所株式会社製）を用いて、下記の測定条件により、カットオフ値０．８ｍｍでのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４のＲａ’１、Ｒａ’２及びＲｚ’１を測定した。Ｒａ’１、Ｒａ’２及びＲｚ’１は、明細書本文の記載に従い、２０点の測定値の平均値とした。結果を表１に示す。
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：０．８ｍｍ
・評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：４．０ｍｍ
・触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
・予備長さ：（カットオフ値λｃ）×２
・縦倍率：２０００倍
・横倍率：１０倍
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：０．８ｍｍ
・評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：４．０ｍｍ
・触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
・予備長さ：（カットオフ値λｃ）×２
・縦倍率：２０００倍
・横倍率：１０倍
２．転写シートの作製
［実施例１］
厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、下記処方の樹脂層形成用塗布液を塗布、乾燥し、未硬化の樹脂層を形成した。
＜樹脂層形成用塗布液＞
・電離放射線硬化性樹脂組成物 ６０質量部
（共栄化学社製、ＥＳ１０５Ｍ）
・メチルエチルケトン ４０質量部
・シリコーン系レベリング剤 ０．５質量部
［実施例１］
厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム上に、下記処方の樹脂層形成用塗布液を塗布、乾燥し、未硬化の樹脂層を形成した。
＜樹脂層形成用塗布液＞
・電離放射線硬化性樹脂組成物 ６０質量部
（共栄化学社製、ＥＳ１０５Ｍ）
・メチルエチルケトン ４０質量部
・シリコーン系レベリング剤 ０．５質量部
次いで、上記「１−１」で作製した成形用型Ａを用いて、未硬化の樹脂層を賦形すると同時に、ポリエチレンテレフタレートフィルム側から電離放射線を照射して、賦形した樹脂層を硬化させ、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に厚み５．０μｍの樹脂層を形成した。
なお、樹脂層から成形用型Ａを剥がす際に、剥離性は良好であり、樹脂層の表面にスジ状のパターンが形成されることはなかった。後述の実施例において、成形用型Ｂ〜Ｇを用いた際にも、樹脂層の表面にスジ状のパターンが形成されることはなかった。
なお、樹脂層から成形用型Ａを剥がす際に、剥離性は良好であり、樹脂層の表面にスジ状のパターンが形成されることはなかった。後述の実施例において、成形用型Ｂ〜Ｇを用いた際にも、樹脂層の表面にスジ状のパターンが形成されることはなかった。
次いで、樹脂層上に、下記処方の離型層形成用塗布液を全面に塗布、乾燥して離型層を形成し、実施例１で用いる離型シートを得た。該離型シートは、中心部に第１領域Ｘ、周辺部に第２領域Ｙが配置された構成であった。離型層の厚みを明細書本文に記載の手法により測定したところ、０．４４μｍであった。
＜離型層形成用塗布液＞
・アクリルポリオール ７０質量部
（綜研化学社製、商品名：サーモラックＳＵ１００Ａ）
・イソシアネート ２５質量部
（三井化学社製、商品名：タケネートＤ−１１０Ｎ）
・酢酸エチル １６１質量部
・メチルイソブチルケトン ５６質量部
＜離型層形成用塗布液＞
・アクリルポリオール ７０質量部
（綜研化学社製、商品名：サーモラックＳＵ１００Ａ）
・イソシアネート ２５質量部
（三井化学社製、商品名：タケネートＤ−１１０Ｎ）
・酢酸エチル １６１質量部
・メチルイソブチルケトン ５６質量部
次いで、離型シートの離型層上に、下記処方の保護層形成用塗布液を乾燥後の付着量が６．５ｇ／ｍ２（６．０μｍ）となるように塗布し、塗膜を形成した後、フュージョンＵＶランプシステムを用いて光源をＨバルブ、搬送速度２０ｍ／ｍｉｎ、出力４０％の条件で照射し、保護層を半硬化させた。このときの積算光量を、アイグラフィックス社製の照度計（商品名：ＵＶＰＦ−Ａ１）により測定したところ、１５ｍＪ／ｍ２であった。
＜保護層形成用塗布液＞
・ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂組成物 ７０質量部
（大日精化社製、商品名：セイカビームＨＴ−Ｘ）
（固形分３５質量％、トルエン／酢酸エチル混合溶剤）
・ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂組成物 ３０質量部
（大日精化社製、商品名：セイカビームＥＸＦ−ＨＴ−１）
（固形分４０質量％、トルエン／メチルエチルケトン混合溶剤）
＜保護層形成用塗布液＞
・ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂組成物 ７０質量部
（大日精化社製、商品名：セイカビームＨＴ−Ｘ）
（固形分３５質量％、トルエン／酢酸エチル混合溶剤）
・ウレタンアクリレート系紫外線硬化樹脂組成物 ３０質量部
（大日精化社製、商品名：セイカビームＥＸＦ−ＨＴ−１）
（固形分４０質量％、トルエン／メチルエチルケトン混合溶剤）
次いで、保護層上に下記処方のアンカー層形成用塗布液を乾燥後の付着量が３．０ｇ／ｍ２となるように塗布し、塗膜を形成した後、４０℃で７２時間乾燥し、硬化させ、厚さ２μｍのアンカー層を形成した。
＜アンカー層形成用塗布液＞
・アクリルポリオール １００質量部
（大日精化社製、商品名：ＴＭ−ＶＭＡＣ、固形分２５質量％）
（トルエン／酢酸エチル／メチルエチルケトン混合溶剤）
・キサンメチレンジイソシアネート １０質量部
（大日精化社製、商品名：ＰＴＣ−ＲＣ３）
（固形分７５質量％、溶剤：酢酸エチル）
＜アンカー層形成用塗布液＞
・アクリルポリオール １００質量部
（大日精化社製、商品名：ＴＭ−ＶＭＡＣ、固形分２５質量％）
（トルエン／酢酸エチル／メチルエチルケトン混合溶剤）
・キサンメチレンジイソシアネート １０質量部
（大日精化社製、商品名：ＰＴＣ−ＲＣ３）
（固形分７５質量％、溶剤：酢酸エチル）
次いで、アンカー層上に下記処方の接着剤層形成用塗布液を乾燥後の付着量が２．５ｇ／ｍ２となるように塗布し、塗膜を形成した。該塗膜を乾燥し、厚み２μｍの接着剤層を形成し、実施例１の転写シートを得た。該転写シートの第１領域Ｘの面積Ｓ１と、第２領域Ｙの面積Ｓ２との比［Ｓ２／Ｓ１］は、１．２１であった。
＜接着剤層用塗布液＞
・アクリル系樹脂 １００質量部
（大日精化社製、商品名：ＴＭ−Ｒ６００、固形分２０％）
（酢酸エチル／酢酸−ｎ−プロピル／メチルエチルケトン混合溶剤）
・メチルエチルケトン ４０質量部
＜接着剤層用塗布液＞
・アクリル系樹脂 １００質量部
（大日精化社製、商品名：ＴＭ−Ｒ６００、固形分２０％）
（酢酸エチル／酢酸−ｎ−プロピル／メチルエチルケトン混合溶剤）
・メチルエチルケトン ４０質量部
［実施例２〜１３］
型及び離型層の厚みを表２の条件に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜１３の転写シートを得た。
型及び離型層の厚みを表２の条件に変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜１３の転写シートを得た。
［比較例１］
厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの第１領域Ｘを形成する箇所の上に、下記処方のマット層形成用塗布液を乾燥後の厚みが２．５μｍとなるように塗布し、塗膜を形成した後、室温（２５℃）で７２時間エージングし、プレ硬化させたマット層を形成した。
＜マット層用塗布液＞
・アクリルポリオール ４０質量部
（綜研化学社製、商品名：サーモラックＳＵ１００Ａ、固形分５０質量％）
・フィラー ４質量部
（日本触媒社製、商品名：エポスターＳ１２、平均粒子径１．２μｍ）
・イソシアネート １４質量部
（三井化学社製、商品名：タケネートＤ−１１０Ｎ、固形分：７５％）
（タケネートは登録商標）
・酢酸エチル ４０質量部
厚み５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムの第１領域Ｘを形成する箇所の上に、下記処方のマット層形成用塗布液を乾燥後の厚みが２．５μｍとなるように塗布し、塗膜を形成した後、室温（２５℃）で７２時間エージングし、プレ硬化させたマット層を形成した。
＜マット層用塗布液＞
・アクリルポリオール ４０質量部
（綜研化学社製、商品名：サーモラックＳＵ１００Ａ、固形分５０質量％）
・フィラー ４質量部
（日本触媒社製、商品名：エポスターＳ１２、平均粒子径１．２μｍ）
・イソシアネート １４質量部
（三井化学社製、商品名：タケネートＤ−１１０Ｎ、固形分：７５％）
（タケネートは登録商標）
・酢酸エチル ４０質量部
次いで、マット層上、及びポリエチレンテレフタレートフィルムの残部上に、下記処方の離型層用塗布液を乾燥後の厚みが０．５μｍとなるように塗布した後、４０℃で９６時間エージングし、硬化させ、プレ硬化のマット層を完全に硬化させると共に、離型層を形成し、比較例１で用いる離型シートを得た。該離型シートは、中心部に第１領域Ｘ、周辺部に第２領域Ｙが配置された構成であった。
次いで、該離型シートの離型層上に、実施例１と同様にして、保護層、アンカー層及び接着剤層を形成し、比較例１の転写シートを得た。該転写シートの第１領域Ｘの面積Ｓ１と、第２領域Ｙの面積Ｓ２との比［Ｓ２／Ｓ１］は、１．２１であった。
次いで、該離型シートの離型層上に、実施例１と同様にして、保護層、アンカー層及び接着剤層を形成し、比較例１の転写シートを得た。該転写シートの第１領域Ｘの面積Ｓ１と、第２領域Ｙの面積Ｓ２との比［Ｓ２／Ｓ１］は、１．２１であった。
３．評価、測定
実施例及び比較例で得られた転写シートについて以下の評価、測定を行った。結果を表２に示す。
実施例及び比較例で得られた転写シートについて以下の評価、測定を行った。結果を表２に示す。
３−１．算術平均粗さＲａ、十点平均粗さＲｚ
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／小坂研究所株式会社製）を用いて、下記の測定条件により、実施例及び比較例の転写シートに用いる離型シートの第１領域Ｘ及び第２領域Ｙについて、カットオフ値０．８ｍｍでのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４のＲａ１及びＲｚ１を測定した。
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：０．８ｍｍ
・評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：４．０ｍｍ
・触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
・予備長さ：（カットオフ値λｃ）×２
・縦倍率：２０００倍
・横倍率：１０倍
表面粗さ測定器（型番：ＳＥ−３４００／小坂研究所株式会社製）を用いて、下記の測定条件により、実施例及び比較例の転写シートに用いる離型シートの第１領域Ｘ及び第２領域Ｙについて、カットオフ値０．８ｍｍでのＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４のＲａ１及びＲｚ１を測定した。
［表面粗さ検出部の触針］
小坂研究所社製の商品名ＳＥ２５５５Ｎ（先端曲率半径：２μｍ、頂角：９０度、材質：ダイヤモンド）
［表面粗さ測定器の測定条件］
・基準長さ（粗さ曲線のカットオフ値λｃ）：０．８ｍｍ
・評価長さ（基準長さ（カットオフ値λｃ）×５）：４．０ｍｍ
・触針の送り速さ：０．５ｍｍ／ｓ
・予備長さ：（カットオフ値λｃ）×２
・縦倍率：２０００倍
・横倍率：１０倍
３−２．スジ状のパターン
実施例及び比較例で得られた転写シートを用いて、明細書本文の（ｚ１）〜（ｚ４）の工程を行った後、保護層側から紫外線照射（大気中、Ｈバルブ、８００ｍＪ／ｃｍ２）し、保護層を完全に硬化させ、加飾成形品を得た。型は厚み２ｍｍの平板状の型を用い、射出樹脂としてはポリカーボネートを用い、射出時の射出樹脂の温度を２８５℃とした。
得られた加飾成形品の表面を蛍光灯の照明下で様々な角度から観察し、スジ状のパターンが観察されないものを「Ａ」、スジ状のパターンが観察されたものを「Ｃ」とした。
実施例及び比較例で得られた転写シートを用いて、明細書本文の（ｚ１）〜（ｚ４）の工程を行った後、保護層側から紫外線照射（大気中、Ｈバルブ、８００ｍＪ／ｃｍ２）し、保護層を完全に硬化させ、加飾成形品を得た。型は厚み２ｍｍの平板状の型を用い、射出樹脂としてはポリカーボネートを用い、射出時の射出樹脂の温度を２８５℃とした。
得られた加飾成形品の表面を蛍光灯の照明下で様々な角度から観察し、スジ状のパターンが観察されないものを「Ａ」、スジ状のパターンが観察されたものを「Ｃ」とした。
３−３．ギラツキ
実施例及び比較例で得られた加飾成形品の透明アクリルシート側の面を液晶表示装置の画面に貼り合わせ、液晶表示装置の画面を正面から観察した。ギラツキが目立たなかったものをＡ、ギラツキが目立ったものをＣとした。
実施例及び比較例で得られた加飾成形品の透明アクリルシート側の面を液晶表示装置の画面に貼り合わせ、液晶表示装置の画面を正面から観察した。ギラツキが目立たなかったものをＡ、ギラツキが目立ったものをＣとした。
表１の結果から、実施例１〜１３の転写シートによれば、転写時に転写層の表面にスジ状のパターンを生じることなく、加飾成形品の意匠性及び歩留まりを良好にできることが確認できる。さらに、実施例１〜１３の転写シートから得られた加飾成形品は、ギラツキを抑制できることが確認できる。
本発明の転写シートは、携帯電話などの通信機器、自動車内部の情報機器、家電製品などの加飾成形品の製造に好適に用いることができる。
１１：支持体
１２：樹脂層
１０：離型シート
２０：転写層
２１：保護層
２２：接着剤層
４０：転写層
１００：転写シート
１２：樹脂層
１０：離型シート
２０：転写層
２１：保護層
２２：接着剤層
４０：転写層
１００：転写シート
Claims (6)
- 離型シート上に転写層を有する転写シートであって、
前記離型シートの前記転写層と接する側の面は、第１領域Ｘと、前記第１領域Ｘに隣接する第２領域Ｙとを有してなり、
ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第２領域Ｙのカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ２とが、Ｒａ１＞Ｒａ２の関係を満たし、
ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ１と、前記Ｒａ１とが、２．０≦Ｒｚ１／Ｒａ１≦１５．０の関係を満たす、転写シート。 - 前記Ｒａ１−前記Ｒａ２が０．０５〜１．００μｍである請求項１に記載の転写シート。
- 前記Ｒｚ１が０．２５〜５．００μｍである請求項１又は２に記載の転写シート。
- 前記第１領域Ｘの面積Ｓ１と、前記第２領域Ｙの面積Ｓ２とが、０．１≦Ｓ２／Ｓ１の関係を満たす、請求項１〜３の何れか１項に記載の転写シート。
- 請求項１〜４の何れか１項に記載の転写シートの転写層を被転写物に転写する工程と、前記転写シートの前記離型シートを剥離する工程とを有する、加飾成形品の製造方法。
- 成形用型であって、
前記型は、表面に、凹凸部を有する第１領域Ｘ’と、前記第１領域に隣接する第２領域Ｙ’とを有してなり、
ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘ’のカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ’１と、ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第２領域Ｙ’のカットオフ値０．８ｍｍでの算術平均粗さＲａ’２とが、Ｒａ’１＞Ｒａ’２の関係を満たし、
ＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４に準じて測定される前記第１領域Ｘ’のカットオフ値０．８ｍｍでの十点平均粗さＲｚ’１と、前記Ｒａ’１とが、２．０≦Ｒｚ’１／Ｒａ’１≦１５．０の関係を満たす、成形用型。
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