JP6806185B2 - 混合信号マルチチップmemsデバイスパッケージにおけるクロストークの低減 - Google Patents

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Description

本発明は、クロストーク保護の方法および装置に関する。より詳細には、本発明は、少なくとも1つの微小電気機械センサを備える電子部品パッケージにおけるクロストーク保護に関する。
微小電気機械システム、つまりMEMSは、少なくともいくつかの要素が機械的機能性を有する小型の機械および電気機械システムとして定義することができる。MEMSデバイスは、集積回路を作製するために使用されるのと同一または類似のツールで作製されるため、マイクロマシンおよびマイクロエレクトロニクスを同一シリコンピース上に製造することができる。
MEMS構造体は、物理的特性の非常に小さな変化を迅速かつ正確に検出するために適用することができる。例えば、超小型電子ジャイロスコープは、非常に小さな角変位を迅速かつ正確に検出するために適用することができる。
MEMS構造体の可動部の動きの検出は、例えば容量式または圧電式であってもよい。いずれの場合も、動いているMEMS構造体から得られる電気信号は比較的弱いアナログ信号を含み、いずれの電気干渉または磁気干渉も、これらの高感度のアナログ信号にエラーを引き起こし得るため、MEMSデバイスの性能を低下させる場合がある。そのような弱く高感度のアナログ信号の例には、MEMS構造体の少なくとも一部の動きに対応する感知信号がある。
混合信号マルチチップパッケージは、少なくとも2つのチップとも呼ばれる集積回路(IC)ダイを備える単一のパッケージを指し、アナログ信号およびデジタル信号の両方が同一パッケージ内でICダイによって処理される。例示的な混合信号マルチチップパッケージは、アナログICダイおよびデジタルICダイ、または、混合信号ICダイおよびデジタルICダイを備え得る。
MEMS構造体からの高感度のアナログ信号は、実質的に可能な限り生成点の近くでデジタル化されることが好ましい。1つの解決策は、アナログ信号をデジタル化し、デジタル化された信号をさらに処理することができる集積回路(IC)と共に、MEMS構造体と、いくつかのフロントエンドアナログ回路とを含むMEMSチップを、IC部品パッケージ本体内に配置することである。このようにして、さらなる処理のためにアナログ信号同士を結合するのに必要な距離が最小化されてもよい。ICは、例えば特定用途向け集積回路(ASIC)であってもよい。しかしながら、単一の混合信号マルチチップパッケージ内にアナログICおよびデジタルICを集積することは、高感度のアナログ信号と、比較的強いデジタル信号との両方が共存することによる問題ももたらし得る。強いデジタル信号と高感度のアナログ信号との間のクロストークが、これらの問題のうちの1つである。
図1は、従来の混合信号マルチチップ部品を示す。高感度のアナログ信号は、第1ボンディングワイヤ(101)を介してMEMSダイ(100)とデジタルICダイ(200)との間で伝送される。第1ボンディングワイヤ(101)は、第1チップパッド(113)においてダイ(100、200)に結合される。デジタル信号は、図1において斜線の縞で塗りつぶして印しているリードフレームのリードを介してデジタルICダイ(200)から外部回路に向かって通信される。少なくとも1つのデジタル信号が、第2ボンディングワイヤ(211)によって第2チップパッド(205)からリードフレームのボンドパッドに結合される。ボンドパッドは、少なくとも1つのデジタル信号を用いて、混合信号マルチチップ部品の外部の回路と通信するように構成されたリードに電気的に接続される。デジタル信号を伝送するそのようなボンドパッドを信号担持ボンドパッド(202)と呼んでもよい。部品本体の容積内の信号担持ボンドパッド(202)と第1ボンディングワイヤ(101)との間には電磁干渉(EMI)保護がないため、それら2つの間でクロストークが容易に生じ得る。クロストークが高感度のアナログ信号に誤った値を引き起こすと、誤った結果をデジタル処理によって修正することができない場合があり、クロストークにより引き起こされた電圧または電流が、MEMSダイ(100)により元々供給されているものとみなされる。このように、デジタル信号は、MEMSダイ(100)から受信された情報を含む所望の信号を適切に表さず、所望のアナログ信号とクロストークエラーとの合計になり得る。したがって、クロストークは、MEMSダイ(100)によって供給され、第1ボンディングワイヤ(101)によって伝送された高感度のアナログ信号を分析することによって得られる、MEMSデバイスを用いて出た検出結果の精度および信頼性を低下させる。第1ボンディングワイヤ(101)のうちの1つによって伝送される高感度のアナログ信号は、ビクティムまたはビクティム信号と呼ばれてもよく、一方、第2ボンディングワイヤ(211)を介して伝送される干渉デジタル信号は、アグレッサと呼ばれてもよく、信号担持ボンドパッド(202)もアグレッサボンドパッドと呼ばれてもよい。同様に、それぞれのボンディングワイヤは、ビクティムボンディングワイヤ(101)およびアグレッサボンディングワイヤ(211)と呼ばれてもよい。
図2は、先行技術の問題をさらに示すシミュレーションの記録である。アグレッサボンドパッド(202)によって引き起こされる電位をグレーの濃淡で示す。領域が白いほど、アグレッサによって引き起こされる電圧が強い。黒色領域では、アグレッサによって引き起こされる電位はわずかである。高感度のアナログ検出信号を伝送するビクティムボンディングワイヤ(101)はすべて、アグレッサによって引き起こされる電位の高い領域内にあるが、クロストークによって引き起こされるエラーのリスクが高い。このシミュレーションでは、1Vの例示的な試験電圧をアグレッサボンドパッド(202)に使用した。最も近いビクティムボンディングワイヤ(101)の領域でアグレッサボンドパッドによって引き起こされた、結果として生じた電圧は、5mVのレベルであることが分かった。当業者によって理解されるように、実際のクロストーク量、ひいてはビクティムボンディングワイヤ(101)においてクロストークによって引き起こされるエラーは、設計の様々な構造的特徴と同様に、アグレッサ信号およびビクティム信号の性質およびレベルに依存するが、このシミュレーションは比較のための良い基準レベルを提供する。
(関連技術の説明)
部品パッケージの外側に通信される信号間のクロストークを低減するためのいくつかの解決策が、当技術分野において知られている。
特許文献1は、集積回路ダイと外部回路との間の高速通信を容易にする半導体デバイスアセンブリを開示している。信号担持ボンドパッドは、一定の電圧レベルでボンドワイヤによって互いに離間している。
特許文献2は、電源リングを導入することによって、隣接する信号線間のクロストークを最小化する課題を解決している。
しかしながら、これらの解決策は、デジタル信号を外側に伝送するデジタル信号担持ボンドパッドと、ボンディングワイヤを介して2つのダイ間をマルチチップモジュール内で内部通信される高感度の信号との間のクロストークの問題について、考慮もカバーもしていない。
したがって、混合信号マルチチップMEMSパッケージ内で通信されるビクティム信号とアグレッサ信号との間のクロストークを低減する解決策が必要である。
米国特許第6538336号明細書 米国特許第7569472号明細書
目的は、混合信号マルチチップパッケージにおけるデジタル信号と高感度のアナログ信号との間のクロストークの問題を解決するための方法および装置を提供することである。
本発明の目的は、請求項1に記載の混合信号マルチチップパッケージで達成される。本発明の目的は、さらに、請求項8に記載の方法で達成される。
本発明の好ましい実施形態を従属クレームに開示する。
本発明は、マルチチップ設計内の高感度のアナログ信号と、外部回路に向かって通信されるデジタル信号との間のクロストークを低減するために、マルチチップ部品内の高感度の信号と、干渉する可能性のある外側に向かう信号との相対的配置と、外側に向かう信号用の接合部位同士の相対的配置との組合せを利用し、また、外側に向かう信号用の接合部位のレイアウトおよびサイズを最適化するという考えに基づく。
第1の態様によれば、リードフレーム、第1ダイおよびデジタルダイを備える混合信号マルチチップパッケージが提供される。リードフレームは、ダイハンドルを含む。ダイハンドルに取り付けられた第1ダイは、MEMS構造体を含み、第1ダイの少なくとも1つのアナログチップパッド内に少なくとも1つのアナログ信号を供給するように構成される。ダイハンドルに取り付けられたデジタルダイは、第1ダイから、デジタルダイの少なくとも1つのアナログチップパッドを介して少なくとも1つのアナログ信号を受信するように構成され、第1ボンディングワイヤは、デジタルダイの少なくとも1つのアナログチップパッドを、第1ダイの少なくとも1つのアナログ出力チップパッドのそれぞれに結合する。少なくとも1つのデジタルダイは、リードフレームの少なくとも1つの第1ボンドパッドを介して送受信される少なくとも1つのデジタル信号担持信号を用いて、外部回路と通信するように構成される。DC電圧に結合されるように構成された、リードフレームの少なくとも1つの第2ボンドパッドは、少なくとも1つの第1ボンドパッドと第1ボンディングワイヤとの間にリードフレームの面に沿って横方向に延在し、少なくとも1つの第1ボンドパッドと第1ボンディングワイヤとの間にDCガードを形成する。
第2の態様によれば、少なくとも第1ボンドパッドの面積は、リードフレームにおける中間サイズのボンドパッドの面積の50%未満である。
第3の態様によれば、少なくとも1つの第2ボンドパッドは、少なくとも1つの第1ボンドパッドにおける第1ボンディングワイヤに面する側において、少なくとも1つの第1ボンドパッドに隣接して配置される。
第4の態様によれば、少なくとも1つの第2ボンドパッドは、平均サイズのボンドパッドによって覆われた周囲の一部より大きい、第1ワイヤボンディングの方向にある少なくとも1つの第1ボンドパッドの周囲の一部を覆う。
第5の態様によれば、DC電圧は、接地電圧および動作電圧のうちのいずれか1つである。
第6の態様によれば、リードフレームは、リードフレームの橋絡部によって互いに橋絡された2つの第2ボンドパッドを含み、少なくとも1つの第1ボンドパッドは2つの第2ボンドパッド間に存在し、2つの第2ボンドパッドは橋絡部によって短絡し、橋絡部は、それぞれの少なくとも1つの第1ボンドパッドを外部回路へ結合するように構成された少なくとも1つの信号担持リードの反対側で、少なくとも1つの第1ボンドパッドを取り囲み、橋絡部は、少なくとも1つの第1ボンドパッドと、混合信号マルチチップパッケージの内部に存在する他の部品との間にDCバリアを形成するように構成される。
第7の態様によれば、橋絡部は、信号担持チップパッドと、少なくとも1つの第1ボンドパッドおよび信号担持チップパッドを結合する信号担持ボンディングワイヤとを含む横方向領域をさらに取り囲むように拡張される。
第1の方法態様によれば、ダイハンドルを含むリードフレームを備える混合信号マルチチップパッケージにおけるクロストークを低減する方法が提供され、方法は、ダイハンドルに取り付けられ、かつMEMS構造体を含む第1ダイの少なくとも1つのアナログチップパッドと、ダイハンドルに取り付けられた少なくとも1つのデジタルダイの少なくとも1つのアナログチップパッドとの間で少なくとも1つのアナログ信号を伝送し、少なくとも1つのアナログ信号の各々を、第1ボンディングワイヤによってそれぞれのアナログチップパッド間で伝送するステップと、デジタルダイの回路によって少なくとも1つのアナログ信号を処理するステップと、リードフレームの少なくとも1つの第1ボンドパッドを介して送受信される少なくとも1つのデジタル信号担持信号を用いて、デジタルダイの回路によって外部回路と通信するステップとを含む。方法は、少なくとも1つの第1ボンドパッドと第1ボンディングワイヤとの間に配置された少なくとも1つの第2ボンドパッドをDC電圧に結合し、少なくとも1つの第2ボンドパッドは、リードフレームの面に沿って横方向に延在し、少なくとも1つの第1ボンドパッドと第1ボンディングワイヤとの間にDCガードを形成するステップを含む。
第2の方法態様によれば、方法は、さらに、少なくとも第1ボンドパッドの面積がリードフレームにおける中間サイズのボンドパッドの面積の50%未満であるように少なくとも第1ボンドパッドの面積を縮小するステップを含む。
第3の方法態様によれば、方法は、さらに、少なくとも1つの第1ボンドパッドにおける第1ボンディングワイヤに面する側において、少なくとも1つの第1ボンドパッドに隣接して少なくとも1つの第2ボンドパッドを配置するステップを含む。
第5の方法態様によれば、方法は、さらに、平均サイズのボンドパッドによって覆われた周囲の一部より大きい、第1ワイヤボンディングの方向にある少なくとも1つの第1ボンドパッドの周囲の一部を、少なくとも1つの第2ボンドパッドで覆うステップを含む。
第6の方法態様によれば、DC電圧は、接地電圧および動作電圧のうちのいずれか1つである。
第7の方法態様によれば、方法は、さらに、リードフレームの橋絡部によって、2つの第2ボンドパッドを互いに橋絡し、その結果、少なくとも1つの第1ボンドパッドは2つの第2ボンドパッド間に存在するステップを含む。2つの第2ボンドパッドは、橋絡部によって短絡する。橋絡部は、それぞれの少なくとも1つの第1ボンドパッドを外部回路へ結合するように構成された少なくとも1つの信号担持リードの反対側で、少なくとも1つの第1ボンドパッドを取り囲む。橋絡部は、少なくとも1つの第1ボンドパッドと、混合信号マルチチップパッケージの内部に存在する他の部品との間にDCバリアを形成するように構成される。
第8の方法態様によれば、方法は、さらに、橋絡部を、信号担持チップパッドと、少なくとも1つの第1ボンドパッドおよび信号担持チップパッドを結合する信号担持ボンディングワイヤとを備えるパッケージの横方向領域をさらに取り囲むように拡張するステップを含む。
本発明は、デジタル回路レイアウトによって、アナログダイとデジタルダイとの間で高感度のアナログ信号を結合する点から離れている位置において、デジタル信号担持信号をリードフレームに結合することが可能である限り、追加費用なくクロストークを最小化するようにリードフレームのレイアウトを最適化し得るという利点を有する。
以下に、本発明について添付図面を参照して、好ましい実施の形態に関連してより詳細に記載する。
図1は、従来の混合信号マルチチップ部品を示す。 図2は、従来の混合信号マルチチップ部品における電磁干渉を示す。 図3は、第1の実施形態に係るリードフレームの例示的なレイアウトを示す。 図4は、第1の実施形態における電磁干渉を示す。 図5は、第2の実施形態を示す。 図6は、第3の実施形態を示す。 図7は、第4の実施形態を示す。
図1〜図7は、マルチチップパッケージの上面図を示し、この図における図示された平面(xy平面)に沿った寸法は、横方向寸法と呼ばれてもよい。
図3は、第1の実施形態に係る2つのダイを備えたマルチチップパッケージのリードフレームの例示的なレイアウトを示す。MEMSダイ100は、可動素子を含む電気機械部分と、MEMSダイ(100)のチップパッド(113)においてアナログ信号を供給するように少なくとも構成されたアナログ回路とを含む。MEMSダイ(100)のチップパッド(113)は、少なくともアナログ出力チップパッドを含む。デジタルダイ(200)は、例えば、チップパッド(113)において複数の第1ボンディングワイヤ101を介してMEMSダイ(100)からアナログ信号を受信するように構成された特定用途向け集積回路(ASIC)であってもよい。デジタルダイ(200)のチップパッド(113)は、少なくともアナログ入力チップパッドを含む。第1ボンディングワイヤは、アナログ信号を伝送するために使用されるため、アナログボンディングワイヤ(101)と呼んでもよい。通常、MEMSダイ(100)から受信されるアナログ信号は比較的低い電流および/または電圧を有しているため、いずれの電磁干渉に対しても感度が高い。この例では、クロストークなどのいずれかの電磁干渉にさらされるとアナログ信号の品質が損なわれるため、第1ボンディングワイヤ(101)によって伝送されるアナログ信号はビクティムと呼ばれてもよい。
MEMSダイ(100)およびデジタルダイ(200)は、例えば接着によりダイハンドル(140)に取り付けられてもよい。リードフレームの一部であるダイハンドル(140)は、ダイ(100、200)のための機械的剛性を有する支持部を形成する。通常の集積回路では、ダイハンドル(140)の横方向領域は、ダイハンドル(140)に取り付けられたダイ(100、200)の横方向領域より大きい。
MEMSダイ(100)およびデジタルダイ(200)は、MEMSダイ(100)とデジタルダイ(200)との間のアナログボンディングワイヤ(101)を短くしやすいように設計および配置されることが好ましい。アナログボンディングワイヤ(101)は、MEMSダイ(100)およびデジタルダイ(200)のそれぞれのチップパッド(113)に付いている。アナログボンディングワイヤ(101)を結合するためのMEMSダイ(100)のチップパッド113は、MEMSダイ(100)の一辺に沿って配置され、アナログボンディングワイヤ(101)を結合するためのデジタルダイ(200)のチップパッド(113)は、デジタルダイ(200)の一辺に沿って配置され、その結果、平行なアナログボンディングワイヤ(101)が列をなすように、2つのダイ上のチップパッド(113)の順番が互いに対応することが好ましい。短いアナログボンディングワイヤ(101)は、アナログボンディングワイヤ(101)を介して通信される高感度のアナログ信号の品質の向上に寄与し、例えばクロストークによって引き起こされる望ましくない電気干渉のリスクを低減する。当技術分野で既知のいずれのワイヤボンディング技術が、ダイ同士および/またはダイとリードフレームとの接合に適用されてもよい。
デジタルダイ(200)は、デジタル信号担持信号を用いて外部回路と通信する。これらのデジタル信号担持信号は、第2ボンディングワイヤ(201)によってデジタルダイ(200)のチップパッド(205)から、マルチチップパッケージのリードフレーム上の複数のボンドパッド(202)に結合される。これらの第2ボンディングワイヤはデジタル信号担持信号を伝送するため、これらを信号担持ボンディングワイヤと呼んでもよく、それぞれのチップパッド(205)は信号担持チップパッドと呼んでもよい。同様に、それぞれのボンドパッドを信号担持ボンドパッド(202)と呼んでもよい。デジタルダイ(200)の接地電圧信号および供給電圧信号も同様に、ボンディングワイヤによって、デジタルダイ(200)のチップパッドとリードフレームのボンドパッド(212)との間で接続される。接地電圧信号および供給電圧信号を伝送するように構成されたチップパッド、ボンドパッドおよびボンディングワイヤを、DCチップパッド(215)、DCボンディングワイヤ(211)およびDCボンドパッド(212)と呼んでもよい。信号担持ボンドパッド(202)および1以上のDCボンドパッド(212)は部品パッケージのリードフレームの一部を形成し、リードフレームはボンドパッドと、ボンドパッドから延在するリードとを含む。信号担持リード(232)は信号担持ボンドパッド(202)に結合され、DCリード(222)はDCボンドパッド(212)に結合される。図はまた、リード(213)に結合されたさらなるボンドパッド(203)を示す。これらのさらなるボンドパッド(203)は、標準サイズの基準ボンドパッドとして示す。さらなるボンドパッド(203)は、いずれの信号を伝送してもよい。チップパッド(205、215)は、明瞭にするために図2においてすべてには参照符号を付けていないが、図3において細いボンディングワイヤ(101、201、211)が結合される小さな矩形領域として認識されてもよい。
通常のリードフレーム構造体では、ボンドパッド(202、203、212)は平面を形成する。ダイパドル(140)はボンドパッドと同じ平面に存在してもよいし、ボンドパッドの平面と平行な別の平面を形成してもよい。ボンドパッド(202、203、212)およびダイパドル(140)は、パッケージ本体(150)内に配置され、一方、リード(213、222、232)はパッケージ本体の外側に延在し、例えばプリント回路基板(PCB)にパッケージを結合しやすくする。
図3に関して、留意すべき第1の態様は、信号担持チップパッド、信号担持第2ボンディングワイヤ(201)および信号担持ボンドパッド(212)の相対的配置である。デジタルICダイの信号担持チップパッド(205)は、アナログボンディングワイヤ(101)から離れた位置に配置される。開示した例では、信号担持チップパッドは、デジタルダイ(200)のコーナーの実質的に少なくとも近く、またはデジタルダイ(200)のコーナーの少なくとも近くに配置され、そのコーナーは、アナログボンディングワイヤ(101)から離れている。マルチチップパッケージが四辺すべてにリードを有する場合、信号担持チップパッドはまた、高感度のアナログ信号を伝送するように構成されたチップパッド(113)の一辺とは反対のデジタルICダイ(200)の一辺に沿って配置することができるであろう。信号担持チップパッド(205)からの信号は、信号担持ボンドパッド(202)にワイヤボンディングされ、信号担持ボンドパッド(202)は、短いボンディングワイヤ(211)を使用可能にするように信号担持チップパッドの近くに位置する。信号担持ボンドパッド(201)はまた、アナログボンディングワイヤ(101)から離れたリードフレーム上の位置に配置されるべきである。干渉し得るデジタル信号担持要素同士の単なる距離によって、クロストークの低減が容易になる。また、短いボンディングワイヤも、クロストークのリスクを低減する。これは、すべてのボンディングワイヤ、特にアナログ信号またはデジタル信号を伝送するボンディングワイヤに当てはまる。
第2の態様は、信号担持ボンドパッド(202)のサイズおよび設計である。信号担持ボンドパッド(202)の面積は、縮小または最小化すべきである。最小化とは、ボンディングワイヤをボンドパッドに確実に取り付ける機能を損なったり、リードフレームの機械的ロバスト性を損なったりすることなく、便宜上可能な限り面積を縮小することを指す。この例では、信号担持ボンドパッド(202)の大部分は、信号担持ボンドパッド(202)をそれぞれの信号担持リード(232)の方へ結合しやすくするのに必要な面積を含むが、ボンディングワイヤを取り付けるために確保されるボンドパッド(202)上の面積は、用いられる接合技術の設計ルール、部品パッケージ要件およびリードフレーム設計要件を考慮して最小化されることが好ましく、これにより、信頼性のある接合を確実にするための例えば、隣接するボンドパッド同士の間隔、ならびに、ボンドパッドの幅および長さについての最小の許容値が設定されてもよい。例えば、信号担持ボンドパッド(202)の面積は、他の「通常」または「中間」ボンドパッド(203)の面積の50%未満であってもよい。信号担持ボンドパッド(202)の面積は、リードフレームにおける中間サイズのボンドパッド(203)の面積の50%未満であってもよい。しかしながら、リードフレーム設計要件に応じて、信号担持ボンドパッド(202)の面積を通常の中間サイズのボンドパッドの面積から縮小する必要がなかったり、信号担持ボンドパッド(202)の面積を中間ボンドパッドの面積から50%未満縮小したりしてもよい。
第3の態様は、DCボンドパッド(212)の位置および設計、ならびに、それぞれのDCチップパッド(215)の位置および設計である。DCボンドパッド(212)は、ほぼ信号担持ボンドパッド(202)とアナログボンディングワイヤ(101)との間の領域内において、信号担持ボンドパッド(202)の隣に配置される。DCチップパッド(215)は、それぞれのDCボンドパッド(212)の近くに、また、それぞれの信号担持ボンドパッド(205)の直近に位置することが好ましい。DCボンドパッド(212)の単なる配置によって、信号担持ボンドパッド(202)からアナログボンディングワイヤ(101)へのクロストークの低減が容易になる。この効果はさらに、DCボンドパッド(212)のレイアウトを設計することで向上させることができる。特に、信号担持ボンドパッド(202)に隣接するDCボンドパッド(212)は、特に信号担持ボンドパッドにおける半導体ダイに面する側において、少なくとも1つの信号担持ボンドパッド(202)を少なくとも部分的に取り囲むように、リードフレームの面に沿って部品パッケージ内で拡張されている。部分的に取り囲むとは、DCボンドパッド(212)と信号担持ボンドパッド(202)との相対位置を指し、DCボンドパッドは、同じ位置に配置された平均サイズのボンドパッドによって覆われた部分より大きい、信号担持ボンドパッド(202)の周囲の一部を覆う横長部、例えば円環の一部を含む。図に示すように、横長部は非円形であってもよく、すなわち、屈曲部を有してもよい。拡張DCボンドパッド(212)によって覆われた部分は、アグレッサ、すなわち信号担持ボンドパッド(202)から見て、ビクティムボンディングワイヤの方向にあることが好ましい。したがって、拡張DCボンドパッド(212)は、少なくとも信号担持ボンドパッドとアナログボンディングワイヤ(101)との間にDCガードを形成する。アグレッサによって生成された磁界がDCガードに接触し、その結果、磁界によって引き起こされた電流がビクティムよりもむしろDCガード内に流れるような、アグレッサとビクティムとの間における一種のガードトレースとしてDCガードを特徴付けることができる。接地電圧または動作電圧などのDC信号は、そのような誘導電流によって引き起こされたわずかな変化に対して感度が低い。DC電圧がグラウンドと等しい場合、DCガードの特殊な例はグラウンドガードである。しかしながら、動作電圧などの他のDC電圧がDCガードに使用されてもよい。また、リードフレームの面に沿った拡張DCボンドパッド(212)の面積は、中間サイズの「通常」または「平均」ボンドパッド(203)の面積より大きいことが好ましい。拡張DCボンドパッド(212)は接地電圧または動作電圧を伝送してもよく、接地電圧および動作電圧は共に、デジタル信号担持信号が信号担持ボンドパッド(202)を介して伝送されることを考慮して、電気接地端子と見なされ得るDC信号である。DCボンドパッド(212)の拡張レイアウトは、干渉し得るアグレッサデジタル信号と、アナログボンディングワイヤ(101)によって伝送されるビクティムになり得るアナログ信号との間にグラウンドバリアを有効に形成する。
図4は、図3の第1の実施形態におけるリードフレームに沿った1つの信号担持ボンドパッド(202)によって引き起こされる電磁干渉効果のシミュレーション結果を示す。図2に示す先行技術設計のシミュレーションプロットと同様に、白色領域は、アグレッサを表す信号担持ボンドパッド(202)によって引き起こされたより強い電位を示し、一方、黒色領域は、アグレッサによって引き起こされた電位が低く、そのために、クロストークのリスクが著しくより低い領域を示す。アナログボンディングワイヤ(101)から離した信号担持チップパッドおよび信号担持ボンドパッドの配置と、アグレッサ信号担持ボンドパッド(202)の配置および成形と、アグレッサ信号担持ボンドパッド(202)の隣へのDCボンドパッド(212)の配置および成形とを組み合わせた結果として、アナログボンディングワイヤ(101)の領域においてアグレッサボンドパッドによって生成される、干渉またはクロストークを起こし得る電圧が明らかに低減され、そのため、高感度のアナログボンディングワイヤ(101)へのクロストークのリスクおよび量が著しく低減される。示したシミュレーションでは、1Vの例示的な試験電圧をアグレッサボンドパッドに使用し、ビクティムボンディングワイヤ(101)の領域においてアグレッサによって引き起こされた、結果として生じる電圧レベルは、0mV〜0.5mVのレベル、言いかえれば、図1および図2に示す参照レイアウトの電圧レベルの10%未満である。したがって、同じアグレッサ信号では、ビクティムボンディングワイヤ(101)におけるエラーのリスクおよびレベルは10%未満になる。言いかえれば、図2および図4のシミュレーションにおける回路内の信号および信号レベルが、ビクティムボンディングワイヤ(101)の長さと同様に類似していれば、第1の実施形態に係るマルチチップパッケージ設計における信号のクロストークエラーのレベルも、例示的な先行技術のマルチチップパッケージ設計におけるクロストークエラーのレベルの10%未満に低減されるであろう。
図5、図6および図7は、1以上の拡張DCボンドパッド(212)の代替形状を備えた本発明におけるさらなる実施形態を示す。
図5に示した第2の実施形態では、信号担持(アグレッサ)ボンドパッド(202)の隣に配置されたDCボンドパッド(212)の面積は、繰り返すがリードフレーム内の他のいずれのボンドパッドよりも大きく、特に信号担持ボンドパッド(212)の面積より明らかに大きい。DCボンドパッド(212)は、拡張部が、アグレッサと、ビクティムになり得るものとの間にDCガードを生成するようにわずかに拡張される。第2の実施形態の拡張DCボンドパッド(212)によって引き起こされるクロスカップリング保護は、図3に示す第1の実施形態ほど強くないが、DCボンドパッド(212)および信号担持ボンドパッド(202)の相対的配置と、信号担持ボンドパッド(212)の小さい面積と、信号担持ボンディングワイヤ(201)と信号担持ボンドパッド(202)と高感度のアナログ信号を伝送するボンディングワイヤ(101)との間の最大化された距離とを組み合わせた効果がさらに、クロストークからの十分な保護を提供し得る。
図6は、リードフレームから形成された拡張DCボンドパッドがリードフレームの面に沿ってさらに拡張され、その結果、橋絡部(213)を形成する第3実施形態を示す。橋絡部(213)は、ダイ側、言いかえれば信号担持リード(232)の反対側においてリードフレームの面に沿って信号担持ボンドパッド(202)を実質的に取り囲む。この橋絡部(213)は、2つの拡張DCボンドパッド(212)を橋絡し、短絡させ、2つの拡張DCボンドパッド(212)は共に、DCボンディングワイヤ(211)でDCチップパッド(215)に結合されてもよい。橋絡部(213)およびDCチップパッド(215)は、信号担持リード(232)と反対にある信号担持ボンドパッド(202)の周囲の少なくとも半分を覆う信号担持ボンドパッド(202)の周囲の一部を覆うことが好ましい。橋絡部は、このように部品パッケージの内部にあるリードフレームの面に環状形状の一部を形成し、この形状は、信号担持リード(232)と反対にある橋絡部によって短絡した2つのDCボンドパッド(212)間の部分を覆う。したがって、橋絡部は、信号担持ボンドパッド(202)とパッケージの残りの部分との間にDCバリアを有効に生成し、その結果、DCバリアは、信号担持リード(232)から離れている信号担持ボンドパッド(202)側に存在する。DCバリアはまた、接地電位に結合される場合、グラウンドバリアと呼ばれてもよい。しかしながら、DCバリアはまた、動作電圧などの別の定常DC電圧に結合されてもよい。
図7は、複数の信号担持ボンドパッド202の周りのリードフレームから橋絡部(213)が形成される第4の実施形態を示す。図6の実施形態と同様に、この橋絡部は、2つのDCボンドパッド(212)を短絡させるDCバリアを形成し、2つのDCボンドパッド(212)は共に、DCボンディングワイヤ(211)でDCチップパッド(215)に結合されてもよい。この実施形態では、橋絡部(213)は、部分的にデジタルICダイ(200)の下方に延在し、その結果、さらに、信号担持チップパッド(205)が配置される領域は、DCバリアにおける信号担持リード(232)に面する側に存在し、信号担持チップパッド(205)は、DCバリアにおける、ビクティムになり得るボンディングワイヤ101とは異なる側に配置される。DCバリアがデジタルICダイ(200)の領域内に横方向に延在できるように、ダイハンドル(140)領域は、ダイハンドル(140)の一部を除去することによって縮小され、それにより、橋絡部(213)を拡張するための余地を残す。
当業者によって理解されるように、図6および図7の構成は、互いに短絡した2つのDCチップパッド(215)がそれぞれのリード(222)を介して同じDC電位に結合されることを想定している。任意の数の信号担持ボンドパッド(202)が、図6および図7の実施形態における橋絡部(213)によって形成されたDCバリアの後方に配置されてもよい。技術の進歩に伴い、本発明の基本的な考えが様々な方法で実施され得ることは、当業者に明らかである。したがって、本発明およびその実施形態は、上記例に限定されず、特許請求の範囲内で変更されてもよい。

Claims (14)

  1. ダイハンドルを含むリードフレームと、
    前記ダイハンドルに取り付けられ、MEMS構造体を含む第1ダイであって、当該第1ダイの少なくとも1つのアナログチップパッド内に少なくとも1つのアナログ信号を供給するように構成された第1ダイと、
    前記ダイハンドルに取り付けられたデジタルダイであって、前記第1ダイから、当該デジタルダイの少なくとも1つのアナログチップパッドを介して前記少なくとも1つのアナログ信号を受信するように構成されたデジタルダイであって、第1ボンディングワイヤが、当該デジタルダイの前記少なくとも1つのアナログチップパッドを、前記第1ダイの前記少なくとも1つのアナログ出力チップパッドのそれぞれに結合するデジタルダイとを備える混合信号マルチチップパッケージであって、
    少なくとも1つの前記デジタルダイは、前記リードフレームの少なくとも1つの第1ボンドパッドを介して送受信される少なくとも1つのデジタル信号担持信号を用いて、外部回路と通信するように構成され、
    DC電圧に結合されるように構成された、前記リードフレームの少なくとも1つの第2ボンドパッドは、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドと前記第1ボンディングワイヤとの間に前記リードフレームの面に沿って横方向に延在し、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドと前記第1ボンディングワイヤとの間にDCガードを形成する
    混合信号マルチチップパッケージ。
  2. 前記少なくとも1つの第1ボンドパッドの面積は、前記リードフレームにおける中間サイズのボンドパッドの面積の50%未満である
    請求項1に記載の混合信号マルチチップパッケージ。
  3. 前記少なくとも1つの第2ボンドパッドは、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドにおける前記第1ボンディングワイヤに面する側において、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドに隣接して配置される
    請求項1または2に記載の混合信号マルチチップパッケージ。
  4. 前記少なくとも1つの第2ボンドパッドは、平均サイズのボンドパッドによって覆われた周囲の一部より大きい、前記第1ボンディングワイヤの方向にある前記少なくとも1つの第1ボンドパッドの周囲の一部を覆う
    請求項1または3に記載の混合信号マルチチップパッケージ。
  5. 前記DC電圧は、接地電圧および動作電圧のうちのいずれか1つである
    請求項1〜4のいずれか1項に記載の混合信号マルチチップパッケージ。
  6. 前記リードフレームは、前記リードフレームの橋絡部によって互いに橋絡された2つの第2ボンドパッドを含み、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドは前記2つの第2ボンドパッド間に存在し、前記2つの第2ボンドパッドは前記橋絡部によって短絡し、前記橋絡部は、それぞれの前記少なくとも1つの第1ボンドパッドを外部回路へ結合するように構成された少なくとも1つの信号担持リードの反対側で、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドを取り囲み、前記橋絡部は、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドと、前記混合信号マルチチップパッケージの内部に存在する他の部品との間にDCバリアを形成するように構成される
    請求項1〜5のいずれか1項に記載の混合信号マルチチップパッケージ。
  7. 前記橋絡部は、信号担持チップパッドと、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドおよび前記信号担持チップパッドを結合する信号担持ボンディングワイヤとを含む横
    方向領域をさらに取り囲むように拡張される
    請求項6に記載の混合信号マルチチップパッケージ。
  8. ダイハンドルを含むリードフレームを備える混合信号マルチチップパッケージにおけるクロストークを低減する方法であって、
    前記ダイハンドルに取り付けられ、かつMEMS構造体を含む第1ダイの少なくとも1つのアナログチップパッドと、前記ダイハンドルに取り付けられた少なくとも1つのデジタルダイの少なくとも1つのアナログチップパッドとの間で少なくとも1つのアナログ信号を伝送し、前記少なくとも1つのアナログ信号の各々を、第1ボンディングワイヤによってそれぞれの前記アナログチップパッド間で伝送するステップと、
    前記デジタルダイの回路によって前記少なくとも1つのアナログ信号を処理するステップと、
    リードフレームの少なくとも1つの第1ボンドパッドを介して送受信される少なくとも1つのデジタル信号担持信号を用いて、前記デジタルダイの回路によって外部回路と通信するステップと、
    前記少なくとも1つの第1ボンドパッドと前記第1ボンディングワイヤとの間に配置された少なくとも1つの第2ボンドパッドをDC電圧に結合し、前記少なくとも1つの第2ボンドパッドは、前記リードフレームの面に沿って横方向に延在し、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドと前記第1ボンディングワイヤとの間にDCガードを形成するステップとを含む
    方法。
  9. 前記方法は、さらに、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドの面積が前記リードフレームにおける中間サイズのボンドパッドの面積の50%未満であるように少なくとも前記第1ボンドパッドの面積を縮小するステップを含む
    請求項8に記載の方法。
  10. 前記方法は、さらに、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドにおける前記第1ボンディングワイヤに面する側において、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドに隣接して前記少なくとも1つの第2ボンドパッドを配置するステップを含む
    請求項8または9に記載の方法。
  11. 前記方法は、さらに、平均サイズのボンドパッドによって覆われた周囲の一部より大きい、前記第1ボンディングワイヤの方向にある前記少なくとも1つの第1ボンドパッドの周囲の一部を、前記少なくとも1つの第2ボンドパッドで覆うステップを含む
    請求項8または10に記載の方法。
  12. 前記DC電圧は、接地電圧および動作電圧のうちのいずれか1つである
    請求項8〜11のいずれか1項に記載の方法。
  13. 前記方法は、さらに、前記リードフレームの橋絡部によって、2つの第2ボンドパッドを互いに橋絡し、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドは前記2つの第2ボンドパッド間に存在し、前記2つの第2ボンドパッドは前記橋絡部によって短絡し、前記橋絡部は、それぞれの前記少なくとも1つの第1ボンドパッドを外部回路へ結合するように構成された少なくとも1つの信号担持リードの反対側で、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドを取り囲み、前記橋絡部は、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドと、前記混合信号マルチチップパッケージの内部に存在する他の部品との間にDCバリアを形成するように構成されるステップを含む
    請求項8〜12のいずれか1項に記載の方法。
  14. 前記方法は、さらに、前記橋絡部を、信号担持チップパッドと、前記少なくとも1つの第1ボンドパッドおよび前記信号担持チップパッドを結合する信号担持ボンディングワイヤとを含む前記パッケージの横方向領域をさらに取り囲むように拡張するステップを含む
    請求項13に記載の方法。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US11063629B1 (en) * 2020-10-14 2021-07-13 Nvidia Corporation Techniques for detecting wireless communications interference from a wired communications channel
TWI737529B (zh) * 2020-10-30 2021-08-21 精拓科技股份有限公司 數位隔離器

Family Cites Families (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5511428A (en) * 1994-06-10 1996-04-30 Massachusetts Institute Of Technology Backside contact of sensor microstructures
JPH0870090A (ja) * 1994-08-30 1996-03-12 Kawasaki Steel Corp 半導体集積回路
JP3106087B2 (ja) * 1995-04-07 2000-11-06 松下電器産業株式会社 リードフレーム及び半導体装置
US6538336B1 (en) 2000-11-14 2003-03-25 Rambus Inc. Wirebond assembly for high-speed integrated circuits
JP2003204027A (ja) * 2002-01-09 2003-07-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd リードフレーム及びその製造方法、樹脂封止型半導体装置及びその製造方法
JP4146290B2 (ja) * 2003-06-06 2008-09-10 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置
US7064442B1 (en) * 2003-07-02 2006-06-20 Analog Devices, Inc. Integrated circuit package device
US7557433B2 (en) * 2004-10-25 2009-07-07 Mccain Joseph H Microelectronic device with integrated energy source
US6933599B2 (en) * 2003-10-27 2005-08-23 Freescale Semiconductor, Inc. Electromagnetic noise shielding in semiconductor packages using caged interconnect structures
US20050205951A1 (en) * 2004-03-18 2005-09-22 Honeywell Internatioanl, Inc. Flip chip bonded micro-electromechanical system (MEMS) device
US8003443B2 (en) * 2006-03-10 2011-08-23 Stats Chippac Ltd. Non-leaded integrated circuit package system with multiple ground sites
US7471175B2 (en) * 2006-04-26 2008-12-30 Ems Technologies, Inc. Planar mixed-signal circuit board
US7569472B2 (en) 2006-10-31 2009-08-04 Lsi Corporation Method and apparatus of power ring positioning to minimize crosstalk
US7843021B2 (en) * 2008-02-28 2010-11-30 Shandong Gettop Acoustic Co. Ltd. Double-side mountable MEMS package
US8154134B2 (en) * 2008-05-12 2012-04-10 Texas Instruments Incorporated Packaged electronic devices with face-up die having TSV connection to leads and die pad
JP5191915B2 (ja) * 2009-01-30 2013-05-08 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置およびその製造方法
SG175784A1 (en) * 2009-04-27 2011-12-29 Vitae Pte Ltd E On-chip laboratory for blood analysis
US8217474B2 (en) * 2009-12-28 2012-07-10 Solid State System Co., Ltd. Hermetic MEMS device and method for fabricating hermetic MEMS device and package structure of MEMS device
CN102725808B (zh) * 2010-01-28 2016-01-20 株式会社村田制作所 可变电容装置
US8618620B2 (en) * 2010-07-13 2013-12-31 Infineon Technologies Ag Pressure sensor package systems and methods
US8921955B1 (en) * 2011-02-24 2014-12-30 Amkor Technology, Inc. Semiconductor device with micro electromechanical system die
ITAN20110029A1 (it) * 2011-03-01 2012-09-02 Stefano Marchetti Sistema integrato di tele-alimentazione per trasmissioni bidirezionali a larga banda
JP5618873B2 (ja) * 2011-03-15 2014-11-05 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置の製造方法
US8674486B2 (en) * 2011-12-14 2014-03-18 Samsung Electro-Mechanics Isolation barrier device and methods of use
KR102071078B1 (ko) * 2012-12-06 2020-01-30 매그나칩 반도체 유한회사 멀티 칩 패키지
JP2015095486A (ja) * 2013-11-08 2015-05-18 アイシン精機株式会社 半導体装置
WO2015151786A1 (ja) * 2014-04-03 2015-10-08 株式会社村田製作所 可変容量デバイスおよびその製造方法
US9905410B2 (en) * 2015-01-31 2018-02-27 Agilent Technologies, Inc. Time-of-flight mass spectrometry using multi-channel detectors
JP6522402B2 (ja) * 2015-04-16 2019-05-29 ローム株式会社 半導体装置
US10333505B2 (en) * 2017-02-21 2019-06-25 M31 Technology Corporation Repetitive IO structure in a PHY for supporting C-PHY compatible standard and/or D-PHY compatible standard
EP3470366B1 (en) * 2017-10-12 2020-07-08 Murata Manufacturing Co., Ltd. Reducing vibration of a mems installation on a printed circuit board
DE102018106560A1 (de) * 2017-10-17 2019-04-18 Infineon Technologies Ag Drucksensorbauelemente und Verfahren zum Herstellen von Drucksensorbauelementen
US10396053B2 (en) * 2017-11-17 2019-08-27 General Electric Company Semiconductor logic device and system and method of embedded packaging of same
US10566301B2 (en) * 2017-11-17 2020-02-18 General Electric Company Semiconductor logic device and system and method of embedded packaging of same
JP2019165197A (ja) * 2017-12-13 2019-09-26 株式会社村田製作所 半導体部品のemc保護

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