JP6783165B2 - レーザ加工装置及びレーザ加工方法 - Google Patents
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Description
このような多軸型のレーザ加工装置において、プリント基板の加工として、本来の回路用の穴等の加工(以下、回路用加工と呼ぶ)と文字、記号等で表す管理情報の記録のための加工(以下、管理用加工と呼ぶ)の両方を行う場合がある。前者に関しては、それぞれのプリント基板の同一の座標と加工数で加工されるが、後者に関しては、それぞれのプリント基板に異なる文字、記号等を記録する必要があるので、異なる座標と加工数で加工される。
しかしながら、前者の技術においてはシャッタを機械的に動かすものであるため加工速度が遅くなり、また後者の技術では同じ管理情報でもプリント基板毎に加工数が異なって同じ表示にならない欠点がある。
図2において、1aは1軸目となるレーザ照射ユニット、1bは2軸目となるレーザ照射ユニットである。2はレーザ発振器、3はレーザ発振器2で発振されたレーザパルスL1を2方向に分配し、それぞれレーザ照射ユニット1a、1bに入射させるビームスプリッタである。レーザ照射ユニット1aと1bの各々には、受光したレーザパルスL2の方向を二次元方向に移動させるガルバノスキャナ4a、4b、これらにより出射されたレーザパルスを集光するfθレンズ5a、5bが配置されている。
図3は、テーブル11に載置されたプリント基板10a、10bを上から見た図である。プリント基板10a、10bの各々には、文字、記号等で表す管理情報を記録するための管理情報エリア11a、11bが互いの対応する位置に設けられている。
ガルバノ制御信号Ga、Gbがオンの時間帯でガルバノスキャナ4a、4bを回転させ、オフの時間帯で停止して静止させる。ガルバノ制御信号Ga、Gbがオフになるとレーザ発振指令信号Sを一定時間オンにし、レーザパルスL1の発振がレーザ発振器2に指示される。これによりレーザパルスL1が一定時間発振し、それが終了するとガルバノ制御信号Ga、Gbをオンになり、再びガルバノスキャナ4a、4bが回転する。
プリント基板10a、10bに回路用加工として穴あけを行う場合、それぞれの同一の座標と加工数で穴あけするので、図に示してあるように、ガルバノ制御信号Ga、Gbは互いに同じタイミングでオン、オフする。この結果、プリント基板10a、10bの各々での回路用加工を同時に終了させることができる。
図4と異なるのは以下の点である。すなわち、管理情報エリア11a、11bの各々に記録される管理情報は互いに異なるのが普通である。従って、ガルバノ制御信号GaとGbは互いに同じタイミングでオン、オフするとは限らず、どちらかが遅れる場合がある。
例えば、第4番目から第5番目の穴あけに移る時、ガルバノスキャナ4aの移動よりガルバノスキャナ4bの移動の方が時間が多く必要となることが判る。このような場合においては、ガルバノスキャナ4a、4bがともに静止してガルバノ制御信号Ga、Gbの両方がオフになったら、言い換えると静止時期が遅いガルバノスキャナ4bのガルバノ制御信号Gbがオフになってからレーザ発振指令信号Sをオンにし、レーザ発振器2にレーザパルスを発振させる。
このようにして、管理情報については、レーザ発振器2にレーザパルスを発振させレーザパルスL2を管理情報エリア11a、11bに同時に照射することができる。この結果、プリント基板10a、10bの各々での管理用加工を同時に終了させることができる。
4a、4b:ガルバノスキャナ 5a、5b:fθレンズ 7:テーブル
8:テーブル駆動部 10a、10b:プリント基板 11a、11b:管理情報エリア 20:全体制御部 21:レーザ発振制御部 22a、22a:ガルバノ制御部
23:テーブル制御部 24:加工制御部 26:加工用データ記憶部
27:パターン発生部 S:レーザ発振制御信号 Ga、Gb:ガルバノ制御信号
T:テーブル制御信号 L1、L2:レーザパルス
Claims (4)
- レーザ発振器からのレーザパルスを複数方向に分配するレーザパルス分配部と、当該レーザパルス分配部で分配されたレーザパルスの方向を二次元方向に移動させるレーザパルス走査部をそれぞれ含む複数のレーザ照射ユニットと、被加工物に対する回路用加工と管理用加工の両方を前記複数のレーザ照射ユニットの各々で行うように制御する制御部と、前記管理用加工において記録する管理情報のパターンを発生させるパターン発生部とを備えるレーザ加工装置において、前記管理情報パターンの加工数をすべての管理情報で等しくすることを特徴とするレーザ加工装置。
- 請求項1に記載のレーザ加工装置において、前記レーザ発振器は、前記レーザパルス走査部の各々のうちで前記移動の終了時期が最も遅い時刻に基づいてレーザパルスを発振することを特徴とするレーザ加工装置。
- レーザ発振器からのレーザパルスを複数方向に分配し、当該分配されたレーザパルスの各々の方向を二次元方向に移動させ、複数の被加工物の各々に対して回路用加工と管理用加工の両方を行うようにしたレーザ加工方法において、前記管理用加工において記録する管理情報のパターンの加工数をすべての管理情報で等しくしたことを特徴とするレーザ加工方法。
- 請求項3に記載のレーザ加工方法において、前記レーザパルスの発振は、前記レーザパルス走査の各々のうちで前記移動の終了時期が最も遅い時刻に基づいて発振させることを特徴とするレーザ加工方法。
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