JPH10216967A - レーザ描画装置 - Google Patents
レーザ描画装置Info
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- JPH10216967A JPH10216967A JP9038388A JP3838897A JPH10216967A JP H10216967 A JPH10216967 A JP H10216967A JP 9038388 A JP9038388 A JP 9038388A JP 3838897 A JP3838897 A JP 3838897A JP H10216967 A JPH10216967 A JP H10216967A
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Abstract
に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させると
共に該レーザビームをラスタデータに基づいて変調させ
て所望の描画パターンを該被描画体上に記録するように
なったレーザ描画装置であって、その描画パターンの記
録時にロット番号、描画日時、描画条件等の可変情報を
も該被描画体に記録し得るように構成されたレーザ描画
装置を提供する。 【解決手段】 レーザ描画装置は描画パターンラスタデ
ータに可変情報ラスタデータを適宜付与して描画パター
ンと共に可変情報をも記録するための可変情報付与手段
を具備する。
Description
ーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を副
走査方向に移動させると共に該レーザビームをラスタデ
ータに基づいて変調させて所望の描画パターンを該被描
画体上に記録するようになったレーザ描画装置に関す
る。
的には、適当な被描画体の表面に微細なパターンをレー
ザビームでもって描画するために使用されるものであ
り、代表的な使用例としては、フォトリソグラフの手法
を用いてプリント回路基板を製造する際の回路パターン
の描画が挙げられ、このとき被描画体は例えばフォトマ
スク用感光フィルムあるいは基板上のフォトレジスト層
であったりする。
セスからその描画プロセスに至るまでの一連のプロセス
が統合化され、レーザ描画装置はそのような描画統合シ
ステムの一翼を担っている。即ち、描画統合システムに
は回路パターン等の設計を行うCAD(Computer Aided
Design) ステーション、このCADステーションで作成
された回路パターン等の画像データ(ベクタデータ)に
編集処理を施すCAM(Computer Aided Manufacturing)
ステーション等が設けられ、レーザ描画装置はかかる描
画統合システムの周辺機器として機能するものである。
また、描画統合システムには通常は複数台のレーザ描画
装置が配備され、それらレーザ描画装置の全体制御を統
率するためにかかる描画統合システムにはエンジニアリ
ングワークステーション(EWS) も設けられる。
ーンベクタデータあるいはCAMステーションで編集さ
れた描画パターンベクタデータはEWSに設けられたハ
ードディスク装置に一旦格納され、その描画パターンベ
クタデータは適宜EWSからレーザ描画装置に転送され
る。レーザ描画装置では、描画パターンベクタデータが
描画パターンラスタデータとして変換され、この描画パ
ターンラスタデータに基づいて所望の描画パターンの記
録が行われる。即ち、レーザ描画装置では、フォトマス
ク用感光フィルムあるいは基板上のフォトレジスト層等
の被描画体がレーザビームでもって主走査方向に沿って
走査させられると共に副走査方向に順次移動させられ、
このときレーザビームの変調が上述の描画パターンラス
タデータに基づいて所定の周波数のクロックパルスに従
って行われ、これにより被描画体上には所望の描画パタ
ーンが記録される。
描画体に対して同一の描画パターンを記録するような場
合には、その後に続く種々の処理工程や検査工程の便宜
ために個々の被描画体を識別し得るようにすることや、
個々の被描画体に対する種々の情報例えば描画日時、描
画条件等の情報を知ることが好ましい。個々の被描画体
の識別やその情報認識については、描画パターンの記録
後にロット番号や必要な情報を各被描画体のマージン領
域に記録することにより可能であるが、しかし各被描画
体にロット番号や必要な情報を記録するためには描画パ
ターンの記録工程とは別の付加的な記録設備が必要とな
り、その分だけ描画統合システムのコストが高く付くと
いうことになる。
レーザビームを主走査方向に偏向させつつ該被描画体を
副走査方向に移動させると共に該レーザビームをラスタ
データに基づいて変調させて所望の描画パターンを該被
描画体上に記録するようになったレーザ描画装置であっ
て、その描画パターンの記録時にロット番号、描画日
時、描画条件等の可変情報をも該被描画体に記録し得る
ように構成されたレーザ描画装置を提供することであ
る。
装置は被描画体に対してレーザビームを主走査方向に偏
向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させると共に
該レーザビームを描画パターンラスタデータに基づいて
変調させて所望の描画パターンを該被描画体上に記録す
るようになっている。本発明によれば、そのようなレー
ザ描画装置において、描画パターンラスタデータに可変
情報ラスタデータを適宜付与して描画パターンと共に可
変情報をも記録するための可変情報付与手段が設けられ
ることが特徴とされる。
ましくは、可変情報付与手段はビットマップメモリ手段
を包含し、描画パターンラスタデータはビットマップメ
モリ手段に一旦展開されて保持され、可変情報ラスタデ
ータはビットマップメモリ手段に展開されて保持された
描画パターンラスタデータに対して付与されるようにさ
れる。
画装置にあっては、可変情報付与手段は更に描画パター
ンラスタデータに対応した描画パターンベクタデータを
格納する第1のベクタデータ格納手段と、可変情報ラス
タデータを得るために種々の登録符号化ベクタデータを
格納する第2のベクタデータ格納手段と、この第2の登
録符号化ベクタデータから所定の登録符号化ベクタデー
タを呼び出して可変情報ラスタデータに対応した可変情
報ベクタデータを生成するための可変情報呼出しベクタ
データを格納する第3のベクタデータ格納手段と、第1
のベクタデータ格納手段に格納された描画パターンベク
タデータを描画パターンラスタデータとして変換するラ
スタ変換手段とを包含する。この場合、先ず、ラスタ変
換手段によって変換された描画パターンラスタデータは
ビットマップメモリ手段に展開されて保持され、次いで
第3のベクタデータ格納手段に格納された可変情報呼出
しベクタデータに基づいて第3のベクタデータ格納手段
から読み出された所定の登録符号化ベクタデータがラス
タ変換手段によって可変情報ラスタデータとして変換さ
れ、この可変情報ラスタデータがビットマップメモリ手
段に更に書き込まれて描画パターンラスタデータに対し
て付与される。
上述した第1、第2及び第3のベクタデータ格納手段の
それぞれについては、単一のメモリ内に規定されたラス
タデータ格納領域とされ得る。
明によるレーザ描画装置の一実施形態について具体的に
説明する。
斜視図として概略的に示され、このレーザ描画装置はプ
リント回路基板を製造するための基板上のフォトレジス
ト層に回路パターンを直接描画し得るように構成されて
いるものである。レーザ描画装置は床面上に据え付けら
れた基台10を具備し、この基台10の上面には一対の
レール12が平行に設置される。一対のレール12上に
はXテーブル14が搭載され、このXテーブル14は図
1では図示されない適当な駆動モータ例えばサーボモー
タあるいはステッピングモータ等でもって一対のレール
12に沿って副走査方向に沿って移動し得るようになっ
ている。
して描画テーブル18が設置され、その間には微調整駆
動器20が互いに対向する側辺のそれぞれに2つずつ設
けられ、これにより描画テーブル18の水平面内での回
転位置が微調整されるようになっている。なお、図1で
は、図示の複雑化を避けるために一方の側辺に設けられ
た2つの微調整駆動器20だけが示されている。Xテー
ブル14が副走査方向に沿って移動させられると、描画
テーブル18もθテーブル16と共に副走査方向に移動
させられる。
トレジスト層を持つ基板が適当な搬送手段例えばベルト
コンベヤ等で搬送されて載置され、その基板は描画テー
ブル18上で適当なクランプ手段によって固定される。
なお、図1では、そのクランプ手段の一部を成すクラン
プ部材22が示される。
アルゴンレーザ発生器24が設置され、このアルゴンレ
ーザ発生器24から射出されたレーザビームLBはビー
ムベンダ26によって上方に偏向される。一方、描画テ
ーブル18の上方側には、図示されない適当なフレーム
構造体によって支持された固定テーブル28が配置さ
れ、この固定テーブル28上には種々の光学要素が設置
され、これら光学要素によってレーザビームLBは走査
レーザビームとして描画テーブル18上に導かれる。な
お、本実施形態では、アルゴンレーザ発生器24は水冷
式とされ、例えば、その出力は1.8Wであり、そのレーザ
の波長は 488nmである。
設けられ、このビームベンダ30はビームベンダ26か
らのレーザビームLBを受け取ってビームスプリッタ3
2に向かわせる。レーザビームLBはビームスプリッタ
32によって2つのレーザビームLB1及びLB2に分
割され、一方のレーザビームLB1はビームベンダ34
及び36を介してビームセパレータ38に向かわされ、
また他方のレーザビームLB2はビームベンダ40、4
2及び44を介してビームセパレータ46に向かわされ
る。
1を例えば8本の平行レーザビームに分割し、同様にビ
ームセパレータ46はレーザビームLB2を8本の平行
レーザビームに分割する。ビームセパレータ38からの
平行レーザビームはビームベンダ48及び50によって
電子シャッタ52に導かれ、またビームセパレータ46
からの平行レーザビームはビームベンダ54及び56に
よって電子シャッタ58に導かれる。
音響光学素子及びそれら音響光学素子の駆動回路を含
み、各音響光学素子には8本のレーザビームのうちの該
当レーザビームが割り当てられる。電子シャッタ52を
経た8本のレーザビームは光合成器60に入射させら
れ、一方電子シャッタ58を経た8本のレーザビームも
ビームベンダ62を介して光合成器60に入射させられ
る。光合成器60は例えば偏向ビームスプリッタとして
構成され得るものであり、電子シャッタ52及び58の
それぞれを経た8本のレーザビームは光合成器即ち偏光
ビームスプリッタ60によって16本のレーザビームに纏
められる。16本のレーザビームはビームベンダ64、6
6及び68を介してポリゴンミラー70に入射させら
れ、その各回転反射面によって主走査方向に沿って偏向
させられる。
て主走査方向に沿って偏向させられる16本のレーザビー
ムは先ずfθレンズ72を通過させられ、次いでターニ
ングミラー74によって描画テーブル18側に向かわせ
られた後にコンデンサレンズ76を経て描画テーブル1
8上に到達させられる。要するに、描画テーブル18上
に設置された被描画体はポリゴンミラー70の各回転反
射面によって主走査方向に偏向させられる16本のレーザ
ビームでもって走査される。
動平面上にはレーザ描画装置の機枠に対して不動となっ
たXY座標系が設定され、このXY座標系のX軸は副走
査方向に延在し、またそのY軸は主走査方向に延在す
る。描画作動時、16本の走査レーザビームはY軸の正側
の方向(即ち、主走査方向)に偏向させられ、一方描画
テーブル18はX軸の負側の方向(即ち、副走査方向)
に移動させられる。
レジスト層が先に述べたように描画テーブル18上に設
置され、その基板上のフォトレジスト層表面がポリゴン
ミラー70の各回転反射面によって偏向される16本の走
査レーザビームでもって一度に走査(主走査方向)され
るとき、各電子シャッタ52、58の8つの音響光学素
子が後で詳しく述べるように描画パターンラスタデータ
に基づいて所定の周波数のクロックパルスに従って作動
させられ、これにより16本の走査レーザビームが描画パ
ターンラスタデータに基づいて変調させられる。
向に沿って偏向されている間、描画テーブル18はXテ
ーブル14によって副走査方向に沿って順次移動させら
れ、16本の走査レーザビームによる主走査方向に沿う偏
向が終了したとき、描画テーブル18の移動距離はかか
る16本の走査レーザビームの副走査方向の幅に相当した
距離となる。かくして、16本の走査レーザビームによる
主走査方向に沿う偏向を繰り返すことにより、基板上の
フォトレジスト層表面上には所定の所定の描画パターン
即ち回路パターンが順次記録されることになる。
ビームが副走査方向に対して直角な方向即ち主走査方向
に偏向させられたとすると、16本の走査レーザビームに
よる主走査方向に沿う描画ラインは副走査方向に対して
傾斜したものとなる。というのは、上述したように、16
本の走査レーザビームが主走査方向に沿って偏向されて
いる間、描画テーブル18はXテーブル14によって副
走査方向に沿って所定の速度で順次移動させられている
からである。しかしながら、実際には、16本の走査レー
ザビームの偏向方向はX軸方向に対して予め所定角度だ
け傾斜させられているので、16本の走査レーザビームに
よる描画ラインの各々に含まれる描画画素、即ち描画ド
ットは副走査方向に対して直角となった主走査方向に配
列されることになる。
の両端側のそれぞれには小型撮像手段例えばCCDカメ
ラ78が設けられ、これらCCDカメラ78はレーザ描
画装置の機枠(図示されない)に対して所定位置に固定
支持される。2台のCCDカメラ78は被描画体がレー
ザ描画装置の描画テーブル18上に設置された際に該描
画テーブル18に対する被描画体の相対位置を正確に検
出するために使用されるものである。
画装置のブロック図が示され、同ブロック図において、
参照符号80はシステムコントロール回路を示し、この
システムコントロール回路80は例えば中央演算装置
(CPU)等のマイクロプロセッサ及びメモリ(RO
M、RAM)等からなるマイクロコンピュータとして構
成され得る。
回路82と接続され、この画像処理回路82には上述し
た2台のCCDカメラ78が接続される。また、画像処
理回路82には表示装置として例えばCRT表示装置8
4が接続され、また入力手段としてキーボード86等が
接続される。画像処理回路82自体はシステムコントロ
ール回路80と同様に中央演算装置(CPU)等のマイ
クロプロセッサ及びメモリ(ROM、RAM)等からな
るマイクロコンピュータとして構成されるものであっ
て、例えば市販のパーソナルコンピュータに所望の画像
処理プログラムをインストールされたものとされる。被
描画体がレーザ描画装置の描画テーブル18上に設置さ
れた際に該被描画体の角部に設けられた位置決めマーク
が2台のCCDカメラ78によって捉えられ、それら位
置決めマークの映像を画像処理回路82で処理すること
により、描画テーブル18に対する被描画体の相対位置
が正確に検出される。
コントロール回路80は主走査制御回路88の作動を制
御するようになっており、この主走査制御回路88には
上述した電子シャッタ52及び58が設けられる。ま
た、主走査制御回路88には同期回路89が設けられ、
電子シャッタ52及び58は同期回路89から出力され
る制御電圧信号によって駆動され、該制御電圧信号は描
画データ処理回路90から出力されるラスタデータに基
づいて作成される。
は、描画データ処理回路90はLANインターフェース
回路91を介してEWS(エンジニアリングワークステ
ーション)92に接続され、このEWS92は描画統合
システムの一部を構成するものである。EWS92から
はレーザ描画装置に対して種々描画データだけでなく種
々の制御指令信号等も出力され、またレーザ描画装置か
らもEWS92に対して種々の制御指令信号等が出力さ
れる。
0の詳細なブロック図が示され、同図に示すように、描
画データ処理回路90にはベクタデータメモリ90Aが
設けられ、このベクタデータメモリ90AはLANイン
ターフェース回路91内に設けられた受信バッファメモ
リ91Aに接続され、この受信バッファメモリ91Aは
EWS92から送信されてくる描画データを一時的に保
持する機能を持つ。受信バッファメモリ91Aに一時的
に保持された描画データは次いでベクタデータメモリ9
0Aに格納保持される。図3から明らかなように、ベク
タデータメモリ90Aには第1メモリ領域、第2メモリ
領域及び第3メモリ領域が含まれ、描画データはその種
類に応じてそれぞれのメモリ領域に格納される。
には描画パターンベクタデータ、種々の登録符号化ベク
タデータ及び可変情報呼出しデータが含まれる。描画パ
ターンベクタデータは被描画体上に記録すべき描画パタ
ーン即ち回路パターンとなるものであって、ベクタデー
タメモリ90Aの所定メモリ領域例えば第1メモリ領域
に格納される。登録符号化ベクタデータは種々の文字
(例えばアルファベット)、数字及び記号等からなるも
のであって、ベクタデータメモリ90Aの所定メモリ領
域例えば第2メモリ領域に格納される。可変情報呼出し
データはベクタデータメモリ90Aの第2メモリ領域か
ら所定の登録符号化ベクタデータを呼び出して可変情報
ベクタデータを生成するためのものであって、ベクタデ
ータメモリ90Aの第3メモリ領域に格納されるもので
ある。
回路90にはラスタ変換回路90Bも設けられ、このラ
スタ変換回路90Bにより、ベクタデータメモリ90A
の第1メモリ領域から読み出された描画パターンベクタ
データが描画パターンラスタデータに変換される。ま
た、ラスタ変換回路90Bは可変情報呼出しデータに基
づいてベクタデータメモリ90Aの第2メモリ領域から
呼び出されて生成された可変情報ベクタデータを可変情
報ラスタデータに変換する機能をも持つ。
域から読み出された描画パターンベクタデータが描画パ
ターンラスタデータとして変換されるとき、描画パター
ンベクタデータのすべてが一度に変換されるわけではな
く、描画パターンベクタデータの全体が主走査方向に沿
って所定巾に区分され、その区分単位毎のベクタデータ
部分が順次ラスタデータに変換される。同様に、可変情
報呼出しデータに基づいてベクタデータメモリ90Aの
第2メモリ領域から呼び出されて生成された可変情報ベ
クタデータについても描画パターンベクタデータの場合
と同じ巾で区分され、その区分単位毎のベクタデータ部
分が順次ラスタデータに変換される。
一般にパーティションと呼ばれ、そのパーティションに
含まれるベクタデータをラスタデータに変換した際に得
られるラスタデータの容量については例えば512 本分の
主走査方向ラインに相当するものとなる。上述したよう
に、本実施形態では、主走査方向に沿う描画走査が一度
に16本のレーザビームでもって行われるので、かかるラ
スタデータの容量については32回分の描画走査を行い得
るものとなる。
0Aの第1メモリ領域に展開された描画パターンベクタ
データが模式的に示されている。同図において、斜線領
域は描画パターン即ち回路パターンに相当する領域であ
り、また破線は描画パターンベクタデータを主走査方向
(Y軸)に沿って区分した区分単位即ちパーティション
を示し、それらパーティションには便宜上参照符号P1
ないしP14が付されている。要するに、描画パターンベ
クタデータはパーティションP1ないしP14の順で順次
ラスタデータに変換される。
データに基づいてベクタデータメモリ90Aの第2メモ
リ領域から呼び出されて生成された可変情報ベクタデー
タがベクタデータメモリ90Aの第3メモリ領域に展開
された状態で模式的に図示されている。同図において、
可変情報ベクタデータの具体的な一例として、ロット番
号“3TSZ96080-0000”及び日付“DATE DEC. 8, 1997”
が示されている。また、破線は図4の場合と同様に可変
情報ベクタデータを主走査方向(Y軸)に沿って区分し
た区分単位即ちパーティションを示し、それらパーティ
ションにも便宜上参照符号P1ないしP14が付されてい
る。要するに、可変情報ベクタデータはパーティション
P1ないしP14の順で順次ラスタデータに変換される。
された描画パターンラスタデータの部分はスイッチ回路
90Cを介して第1ビットマップメモリ90D及び第2
ビットマップメモリ90Eの交互に振り分けられて書き
込まれ、また同様に各パーティション毎に変換された可
変情報ラスタデータの部分も第1ビットマップメモリ9
0D及び第2ビットマップメモリ90Eの交互に振り分
けられ書き込まれ、これにより可変情報ラスタデータが
描画パターンラスタデータに対して付与されることにな
る。第1ビットマップメモリ90D及び第2ビットマッ
プメモリ90Eに交互に書き込まれたラスタデータはス
イッチ回路90Fを介して交互に読み出されて同期回路
89に対して出力される。
回路90Bがスイッチ回路90Cを介して第1ビットマ
ップメモリ90D側に接続されているとき、図4に示す
パーティションP1に対応するベクタデータがラスタ変
換回路90Bによってラスタデータに変換され、そのラ
スタデータはスイッチ回路90Cを経て第1ビットマッ
プメモリ90Dに書き込まれ、続いて図5に示すパーテ
ィションP1に対応するベクタデータがラスタ変換回路
90Bによってラスタデータに変換され、そのラスタデ
ータもスイッチ回路90Cを経て第1ビットマップメモ
リ90Dに書き込まれる。
り、ラスタ変換回路90Bが第2ビットマップメモリ9
0E側に接続されると、図4に示すパーティションP2
に対応するベクタデータがラスタ変換回路90Bによっ
てラスタデータに変換され、そのラスタデータはスイッ
チ回路90Cを経て第2ビットマップメモリ90Eに書
き込まれ、続いて図5に示すパーティションP2に対応
するベクタデータがラスタ変換回路90Bによってラス
タデータに変換され、そのラスタデータもスイッチ回路
90Cを経て第2ビットマップメモリ90Eに書き込ま
れる。
データの書込み中、第1ビットマップメモリ90Dはス
イッチ回路90Fによって同期回路89に接続されて、
該第1ビットマップメモリ90Dからはそのラスタデー
タが順次読み出されて同期回路89に対して出力され
る。第1ビットマップメモリ90Dからのラスタデータ
の読出しが完了し、かつ第2ビットマップメモリ90E
へのラスタデータの書込みが完了すると、スイッチ回路
90C及び90Fの接続が切り替えられ、第1ビットマ
ップメモリ90Dには図4に示すパーティションP3か
ら得られるラスタデータ及び図5に示すパーティション
P3から得られるベクタデータが順次第1ビットマップ
メモリ90Dに書き込まれ、一方第2ビットマップメモ
リ90Eからのラスタデータの読出しが行われる。
ップメモリ90D及び第2ビットマップメモリ90Eに
交互に書き込まれて展開されたラスタデータが模式的に
図示されている。同図から明らかなように、第1及び第
2ビットマップメモリ90D及び90Eには図4に示す
各パーティションから得られるラスタデータには図5に
示す各パーティションP2から得られるベクタデータが
付与され、双方ラスタデータが合成された態様で展開さ
れる。
各パーティションに含まれるベクタデータをラスタデー
タに変換した際に得られるラスタデータの容量について
は例えば512 本分主走査方向ラインに相当するものとさ
れているので、第1及び第2ビットマップメモリ90D
及び90Eの各々がそのような容量のラスタデータを保
持し得るような構成とされることは勿論である。
査が一度に16本のレーザビームでもって行われるので、
第1及び第2ビットマップメモリ90D及び90Eのそ
れぞれからのラスタデータの読出しについては、主走査
方向(Y軸)に沿って16ビットずつ行われ、この16ビッ
トずつ読み出されたラスタデータはスイッチ回路90F
を介して同期回路89に入力され、このとき同期回路8
9にはシステムコントロール回路80から出力される所
定周波数のクロックパルスも入力され、これにより同期
回路89からは各電子シャッタ52、58に含まれる音
響光学素子のそれぞれの駆動回路に対して制御電圧信号
がその該当ラスタデータに基づいて出力される。
制御電圧信号のそれぞれが電子シャッタ52に含まれる
音響光学素子駆動回路のそれぞれに入力されたとき、各
音響光学素子駆動回路からは高周波駆動電圧が該当音響
光学素子に対して出力されて印加される。各音響光学素
子駆動回路に対して出力される制御電圧信号の電圧レベ
ルはその該当ラスタデータに基づいて変化させられ、こ
れに伴って各音響光学素子駆動回路から該当音響光学素
子に対して出力される高周波駆動電圧のレベルも変化さ
せられ、これにより各音響光学素子を通過するレーザビ
ームの回折方向が変えられる。即ち、ラスタデータの画
素が発色画素(即ち、デジタル画素データとして
“1”)であるとき、レーザビームは光合成器60に向
かうように回折させられ、またラスタデータの画素が無
発色画素(即ち、デジタル画素データとして“0”)で
あるとき、レーザビームは光合成器60から外れるよう
に回折させられる。
光学素子駆動回路のそれぞれにも同期回路89から出力
される制御電圧信号が入力され、このとき各音響光学素
子駆動回路からは高周波駆動電圧が該当音響光学素子に
対して出力されて印加されて、該高周波駆動電圧のレベ
ルはその該当ラスタデータに基づいて変化させられる。
電子シャッタ58の場合には、ラスタデータの画素が発
色画素(即ち、デジタル画素データとして“1”)であ
るとき、レーザビームはビームベンダ62に向かうよう
に回折させられ、またラスタデータの画素が無発色画素
(即ち、デジタル画素データとして“0”)であると
き、レーザビームはビームベンダ62から外れるように
回折させられる。
であるときだけ、その該当レーザビームはポリゴンミラ
ー70に向かわされて、描画テーブル18上の被描画体
上には発色画素としてドットが記録される。従って、各
レーザビームをその該当ラスタデータに基づいて各電子
シャッタ52、58でもって上述したように変調させる
ことにより、描画テーブル18上の被描画体にはラスタ
データ基づくパターンと共にロット番号や日付等の可変
情報も記録されることになる。
ていないが、受信バッファメモリ91Aへのベクタデー
タの書込み及びそこからのベクタデータの読出し並びに
ベクタデータメモリ90Aへのベクタデータの書込み及
びそこからのベクタデータの読出しについては、システ
ムコントロール回路80から受信バッファメモリ91A
及びベクタデータメモリ90Aのそれぞれに対して出力
される書込みクロックパルス及び読出しクロックパルス
に基づいて行われる。同様に、第1及び第2ビットマッ
プメモリ90D及び90Eへのラスタデータの書込み及
びそこからのラスタデータの読出しについても、システ
ムコントロール回路80から第1及び第2ビットマップ
メモリ90D及び90Eのそれぞれに出力される書込み
クロックパルス及び読出しクロックパルスに基づいて行
われる。また、ラスタ変換回路90B並びにスイッチ回
路90C及び90Fのタイミング制御もシステムコント
ロール回路80によって行われる。
回路88には更にYスケールセンサ94及び信号処理回
路96が設けられる。Yスケールセンサ94はYリニア
スケールからの光信号を検出して16本の走査レーザビー
ムの主走査方向(Y軸)に沿う偏向距離を計測するもの
であり、それ自体は周知ものである。Yスケールセンサ
94からの出力信号は信号処理回路96によって適宜処
理された後にシステムコントロール回路80に取り込ま
れ、その出力信号に基づいてシステムコントロール回路
80から同期回路89に出力されるべきクロックパルス
が作成されることになる。
ロール回路80は更に副走査制御回路98の作動を制御
するようになっており、この副走査制御回路98には駆
動回路100が設けられ、この駆動回路100によりサ
ーボモータ102の駆動が制御される。サーボモータ1
02はXテーブル14を副走査方向(X軸)に沿って所
定の速度で駆動させるためのものであり、これにより描
画テーブル18上の被描画体が副走査方向に移動させら
れる。描画作動時、システムコントロール回路80から
は所定の周波数のクロックパルスが駆動回路100に対
して出力され、このクロックパルスに基づいて駆動回路
100からは駆動パルスがサーボモータ102に対して
出力される。
は更にXスケールセンサ104及び信号処理回路106
が設けられる。Xスケールセンサ104はXリニアスケ
ール(図示されない)からの光信号を検出して描画テー
ブル18(即ち、その上の被描画体)の副走査方向(X
軸)に沿う移動距離を計測するものであり、それ自体は
周知なものである。Xスケールセンサ104からの出力
信号は信号処理回路106によって適宜処理された後に
システムコントロール回路80に取り込まれ、その出力
信号に基づいてシステムコントロール回路80から駆動
回路100に対して出力されるべきクロックパルスが作
成されることになる。
S92との間では種々の指令制御信号が遣り取りされ
る。例えば、レーザ描画装置のシステムコントロール回
路80からは描画作動準備完了した際には描画作動準備
完了信号がEWS92に対して出力され、またEWS9
2からは描画開始指令信号あるいは描画終了指令信号が
システムコントロール回路80に対して出力され、それ
ら指令制御信号に基づいてシステムコントロール回路8
0はレーザ描画装置の描画作動の開始及び終了が制御さ
れる。
て、EWS92で実行される描画作動制御ルーチンにつ
いて説明する。
符号化ベクタデータがレーザ描画装置に送信されたか否
かが判断される。登録符号化ベクタデータは既に述べた
ように種々の文字(例えばアルファベット)、数字及び
記号等からなるものでり、これら登録符号化ベクタデー
タはEWS92側で前もって作成されて、例えばハード
ディスク装置等に格納されているものである。オペレタ
ーによるEWS92の操作により、登録符号化ベクタデ
ータはレーザ描画装置に送信される。
への登録符号化ベクタデータの送信が確認されると、ス
テップ702に進み、描画作動の実行に必要な情報が入
力されたか否かが判断される。例えば、記録すべき描画
パターンの種類が選択されたか、描画枚数の数値が設定
されたかというような情報の入力が完了したか否かが判
断される。なお、本実施形態では、描画枚数の数値(即
ち、描画作動回数)については例えば“1000”とされ
る。
情報の入力が確認されると、ステップ703に進み、そ
こでEWS92から所望の描画パターンベクタデータ
(即ち、ステップ702で選択された描画パターンに対
応したベクタデータ)がレーザ描画装置に送信されたか
否かが判断される。EWS92では上述したハードディ
スクに多種類の描画パターンベクタデータが格納されて
おり、これら描画パターンベクタデータはCADステー
ションで作成されりあるいはCAMステーションで編集
されたりしたものであって、必要に応じてそれらステー
ションから得られたものである。
の描画パターンベクタデータの送信が確認されると、ス
テップ704に進み、そこで可変情報呼出しデータの作
成が完了したか否かが判断される。本実施形態では、例
えば、上述したように可変情報呼出しデータはロット番
号“3TSZ96080-0000”と日付“DATE DEC. 8, 1997”と
の組合とされる。
作成の完了が確認されると、ステップ705に進み、そ
こでEWS92から可変情報呼出しデータがレーザ描画
装置に送信されたか否かが判断される。レーザ描画装置
への可変情報ベクタデータの送信が確認されると、ステ
ップ706に進み、そこでレーザ描画装置から描画作動
準備完了信号が出力されたか否かが判断される。描画作
動準備完了信号はレーザ描画装置側で将に描画作動を実
行し得る状態になった際にEWS92側に出力されるも
のである。
画作動準備完了信号の出力が確認されると、ステップ7
07に進み、そこでEWS92から描画開始指令信号が
レーザ描画装置に出力される。次いで、ステップ708
では、ステップ702で入力された描画枚数の数値(即
ち、1000)に到達したか否が判断される。現段階では、
描画枚数の数値は“1”であるので、ステップ708か
らステップ704に戻り、そこで再び可変情報呼出しデ
ータの作成が完了したか否かが判断される。このとき作
成される可変情報呼出しデータのうちのロット番号に含
まれる通し番号が“1”だけカウントアップされるよう
に変更される。即ち、ロット番号の通し番号は“3TSZ96
080-0001”となる。なお、可変情報呼出しデータのうち
の日付については前回と同じとされる。
08からなるルーチンが同様な態様で繰り返される。要
するに、ステップ708で描画枚数の数値が“1000”に
到達するまで、かかるルーチンが繰り返され、その間に
わたって可変情報呼出しデータのうちのロット番号に含
まれる通し番号は順次“1”だけカウントアップされる
ように変更される。なお、ステップ708で描画枚数の
数値が“1000”に到達した時点では、ロット番号の通し
番号は“3TSZ96080-1000”となる。
が“1000”に到達したことが確認されると、ステップ7
09に進み、そこで描画終了指令信号がEWS92から
レーザ描画装置に出力された後、この描画作動制御ルー
チンは終了する。
して、レーザ描画装置で実行される描画作動ルーチンに
ついて説明する。
符号化ベクタデータを受信したか否かが判断される。登
録符号化ベクタデータの受信が確認されると、ステップ
802に進み、そこでベクタデータメモリ90Aの第2
メモリ領域への登録符号化ベクタデータの書込みが開始
される。詳述すると、システムコントロール回路80か
らは受信バッファメモリ91Aに対して書込みクロック
パルスが出力され、登録符号化ベクタデータは受信バッ
ファメモリ91Aに一旦書き込まれて保持される。一
方、システムコントロール回路80からは受信バッファ
メモリ91Aに対して読出しクロックパルスも出力さ
れ、受信バッファメモリ91Aから登録符号化ベクタデ
ータが読み出され、このときシステムコントロール回路
80からベクタデータメモリ90Aに対して書込みクロ
ックパルスが出力され、これにより登録符号化ベクタデ
ータはベクタデータメモリ90Aの第2メモリ領域に書
き込まれて格納される。
パターンベクタデータを受信したか否かが判断される。
描画パターンベクタデータの受信が確認されると、ステ
ップ804に進み、そこでベクタデータメモリ90Aの
第1メモリ領域への描画パターンベクタデータの書込み
が開始される。詳述すると、ステムコントロール回路8
0からは受信バッファメモリ91Aに対して書込みクロ
ックパルスが出力され、描画パターンベクタデータは受
信バッファメモリ91Aに一旦書き込まれて保持され
る。一方、システムコントロール回路80からは受信バ
ッファメモリ91Aに対して読出しクロックパルスも出
力され、受信バッファメモリ91Aから描画パターンベ
クタデータが読み出され、このときシステムコントロー
ル回路80からベクタデータメモリ90Aに対して書込
みクロックパルスが出力され、これにより描画パターン
ベクタデータはベクタデータメモリ90Aの第1メモリ
領域に書き込まれて格納される(図4)。
情報呼出しデータを受信したか否かが判断される。可変
情報呼出しデータの受信が確認されると、ステップ80
6に進み、そこで可変情報呼出しデータに基づいて可変
情報ベクタデータが生成されてベクタデータメモリ90
Aの第3メモリ領域に展開されて格納される。
からは受信バッファメモリ91Aに対して書込みクロッ
クパルスが出力され、可変情報呼出しデータは受信バッ
ファメモリ91Aに一旦書き込まれて保持される。一
方、システムコントロール回路80からは受信バッファ
メモリ91Aに対して読出しクロックパルスも出力さ
れ、受信バッファメモリ91Aから可変情報呼出しデー
タが読み出される。受信バッファメモリ91Aから読み
出された可変情報呼出しデータはベクタデータメモリ9
0Aの第2メモリ領域(登録符号化ベクタデータを保
持)にアドレスされ、これにより該第2メモリ領域から
は可変情報呼出しデータに応じて登録符号化ベクタデー
タが呼び出されて可変情報ベクタデータが生成され、そ
の可変情報ベクタデータはベクタデータメモリ90Aの
第3メモリ領域に展開されて格納される(図5)。
号をEWS92に送信する。次いで、ステップ808で
は、EWS92から描画開始指令信号を受信したか否か
が判断される。描画開始指令信号の受信が確認される
と、ステップ809進み、そこで描画作動の実行が開始
される。
ず、ベクタデータメモリ90Aの第1メモリ領域からパ
ーティションP1(図4)の描画パターンベクタデータ
部分がラスタ変換回路90Bによって描画パターンラス
タデータ部分として変換されて、例えば第1ビットマッ
プメモリ90Dに書き込まれる。続いて、ベクタデータ
メモリ90Aの第3メモリ領域からパーティションP1
(図5)の可変情報ベクタデータ部分がラスタ変換回路
90Bによって可変情報ラスタデータ部分として変換さ
れて、第1ビットマップメモリ90Dに書き込まれ、こ
れにより描画パターンベクタデータ部分に可変情報ラス
タデータ部分が付与される。要するに、第1及び第2ビ
ットマップメモリ90D及び90Eには描画パターンベ
クタデータ部分と可変情報ラスタデータ部分とを含むラ
スタデータが図6に示すような態様で交互に展開され
る。一方、第1及び第2ビットマップメモリ90D及び
90Eからは交互にラスタデータが16ビットずつ読み出
されて同期回路89に対して出力され、既に述べたよう
な態様で16本の走査レーザビームによる描画が行われ
る。
か否かが判断される。即ち、ベクタデータメモリ90A
の第1及び第3メモリ領域からのベクタデータがすべて
読み出されて、それに基づく描画が完了したか否かが判
断される。描画作動の終了が確認されると、ステップ8
11に進み、そこでEWS92から描画終了指令信号を
受信しているか否かが判断される。描画終了指令信号の
受信がないときは、ステップ805に戻り、そこでEW
S92から可変情報呼出しデータを受信したか否かが再
びされる。図7の描画作動制御ルーチンで説明したよう
に、このときの可変情報呼出しデータのロット番号の通
し番号は“1”だけカウントアップされたものとなって
いる。可変情報呼出しデータの受信が確認されると、同
様なルーチンが繰り返され、この繰返しはEWS92か
ら描画終了指令信号を受信するまで続けられる。ステッ
プ811において、描画終了指令信号の受信が確認され
ると、描画作動ルーチンは終了する。
る描画パターンの作動中に次の可変情報呼出しデータが
EWS92からレーザ描画装置に送信される構成となっ
ているが、しかしすべての可変情報呼出しデータを最初
に一括して受信バッファメモリ91Aに送信して、そこ
から可変情報呼出しデータを順次読み出すようにしても
よい。
よるレーザ描画装置にあっては、個々の被描画体に対す
る描画パターンの記録時に該被描画体に可変情報をも同
時に記録することが可能であるので、被描画体に可変情
報を記録するための特別な設備は必要とされず、その分
だけレーザ描画装置を低コストで提供し得る。
である。
る。
ク図である。
領域に展開される描画パターンベクタデータを模式的に
示す模式図である。
領域に展開される可変情報ベクタデータを模式的に示す
模式図である。
に交互に展開されるラスタデータを模式的に示す模式図
である。
S)で実行される描画作動制御ルーチンを示すフローチ
ャートである。
作動ルーチンを示すフローチャートである。
Claims (4)
- 【請求項1】 被描画体に対してレーザビームを主走査
方向に偏向させつつ該被描画体を副走査方向に移動させ
ると共に該レーザビームを描画パターンラスタデータに
基づいて変調させて所望の描画パターンを該被描画体上
に記録するレーザ描画装置において、 前記描画パターンラスタデータに可変情報ラスタデータ
を適宜付与して前記描画パターンと共に可変情報をも記
録するための可変情報付与手段が設けられることを特徴
とするレーザ描画装置。 - 【請求項2】 請求項1に記載のレーザ描画装置におい
て、前記可変情報付与手段がビットマップメモリ手段を
包含し、前記描画パターンラスタデータが前記ビットマ
ップメモリ手段に一旦展開されて保持され、前記可変情
報ラスタデータが前記ビットマップメモリ手段に展開さ
れて保持された描画パターンラスタデータに対して付与
されることを特徴とするレーザ描画装置。 - 【請求項3】 請求項2に記載のレーザ描画装置におい
て、前記可変情報付与手段が更に前記描画パターンラス
タデータに対応した描画パターンベクタデータを格納す
る第1のベクタデータ格納手段と、前記可変情報ラスタ
データを得るために種々の登録符号化ベクタデータを格
納する第2のベクタデータ格納手段と、この第2の登録
符号化ベクタデータから所定の登録符号化ベクタデータ
を読み出して前記可変情報ラスタデータに対応した可変
情報ベクタデータを生成するための可変情報呼出しベク
タデータを格納する第3のベクタデータ格納手段と、前
記第1のベクタデータ格納手段に格納された前記描画パ
ターンベクタデータを前記描画パターンラスタデータと
して変換するラスタ変換手段とを包含し、前記ラスタ変
換手段によって変換された前記描画パターンラスタデー
タが前記ビットマップメモリ手段に展開されて保持され
た後に、前記第3のベクタデータ格納手段に格納された
可変情報呼出しベクタデータに基づいて前記第3のベク
タデータ格納手段から呼び出された所定の登録符号化ベ
クタデータが前記ラスタ変換手段によって前記可変情報
ラスタデータとして変換され、この可変情報ラスタデー
タが前記ビットマップメモリ手段に更に書き込まれて前
記描画パターンラスタデータに対して付与されることを
特徴とするレーザ描画装置。 - 【請求項4】 請求項3に記載のレーザ描画装置におい
て、前記第1、第2及び第3のベクタデータ格納手段の
それぞれが単一のメモリ内に規定されたラスタデータ格
納領域であることを特徴とするレーザ描画装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03838897A JP3819985B2 (ja) | 1997-02-06 | 1997-02-06 | レーザ描画装置 |
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Publications (2)
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JPH10216967A true JPH10216967A (ja) | 1998-08-18 |
JP3819985B2 JP3819985B2 (ja) | 2006-09-13 |
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005300807A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Pentax Corp | 描画装置 |
JP2005300812A (ja) * | 2004-04-09 | 2005-10-27 | Pentax Corp | 描画装置 |
JP2007199385A (ja) * | 2006-01-26 | 2007-08-09 | Hitachi Via Mechanics Ltd | プリント配線基板用描画装置 |
WO2012060441A1 (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-10 | 株式会社オーク製作所 | 露光装置 |
JP2012098574A (ja) * | 2010-11-04 | 2012-05-24 | Orc Manufacturing Co Ltd | 露光装置 |
JP2012127995A (ja) * | 2010-12-13 | 2012-07-05 | Orc Manufacturing Co Ltd | 露光装置 |
JP2012194253A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Orc Manufacturing Co Ltd | 露光装置 |
-
1997
- 1997-02-06 JP JP03838897A patent/JP3819985B2/ja not_active Expired - Fee Related
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US9280062B2 (en) | 2010-11-04 | 2016-03-08 | Orc Manufacturing Co., Ltd. | Exposure device |
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JP2012194253A (ja) * | 2011-03-15 | 2012-10-11 | Orc Manufacturing Co Ltd | 露光装置 |
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