JP6758534B1 - 反射鏡アンテナ装置 - Google Patents

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Abstract

反射鏡アンテナ装置（１００，１００ａ，１００ｂ）は、第１周波数帯の第１電波、及び、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の第２電波を放射する１次放射器（１１０，１１０ｂ）と、１次放射器（１１０，１１０ｂ）が放射する第１電波及び第２電波を反射する反射面を有する反射鏡（１２０，１２０ａ，１２０ｂ）と、を備え、反射鏡（１２０，１２０ａ，１２０ｂ）が有する反射面は、反射面の中心点を含む第１領域（１２１）と、第１領域（１２１）の外周の領域であって、複数の凹部（１２３，１２３ｂ１）が設けられた第２領域（１２２，１２２ｂ１）とを有し、複数の凹部（１２３，１２３ｂ１）のそれぞれは、第１電波が進入するのを許容し、第２電波が進入するのを制限し、且つ、凹部（１２３，１２３ｂ１）に進入した第１電波を凹部（１２３，１２３ｂ１）の底面（１２５，１２５ｂ１）で反射するように構成した。

Description

本発明は、１次放射器及び反射鏡を有する反射鏡アンテナ装置に関するものである。
複数の周波数帯の電波を放射する１次放射器と、１次放射器が放射した複数の周波数帯の電波を反射する反射鏡とを備えることにより、複数の周波数帯の電波を出力する反射鏡アンテナ装置がある。１次放射器が複数の周波数帯の電波を放射する場合、１次放射器が放射する複数の周波数帯の電波のそれぞれのメインローブのビーム幅は大きく異なる。
上述のような反射鏡アンテナ装置において、１次放射器が放射する複数の周波数帯の電波のうち、より高い周波数帯である高周波帯の電波の一部は、サイドローブとなって反射鏡に入射することがある。メインローブに最近のサイドローブは、メインローブに対して反転した位相であるため、反射鏡に入射したサイドローブが反射鏡で反射すると、反射鏡で反射した電波の放射パターンである２次放射パターンの利得が低下してしまう。
特許文献１には、少なくとも２つの周波数帯を共用する副反射鏡を含んで構成された複反射鏡アンテナにおいて、副反射鏡の反射鏡面が同心状に第１の中心部領域と第２の外周部領域との２つの領域にわかれてなり、第１の中心部領域は金属反射面で形成され、第２の外周部領域は高い周波数帯では透過、低い周波数帯では反射特性をもつ周波数選択性反射面によって形成されたアンテナ装置が開示されている。特許文献１に開示されたアンテナ装置（以下「従来の反射鏡アンテナ装置」という。）は、上述の構成を備えることにより、２次放射パターンの利得の低下を抑制している。
特開昭５５−０９２００２号
従来の反射鏡アンテナ装置は、１次放射器が放射した高周波帯の電波のサイドローブは、第２の外周部領域を透過する。そのため、従来の反射鏡アンテナ装置は、１次放射器が放射した高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制することは可能ではあるが、当該サイドローブのスピルオーバーが発生してしまい、高周波帯の電波において、高利得の２次放射パターンを得ることができない。
本発明は、上述の問題点を解決するためにものであり、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制可能な反射鏡アンテナ装置を提供することを目的としている。
本発明に係る反射鏡アンテナ装置は、第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波を放射する１次放射器と、１次放射器が放射する第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡と、を備え、反射鏡が有する反射面は、反射面の中心点を含む第１領域と、第１領域の外周の領域であって、複数の凹部が設けられた領域である第２領域とを有し、反射鏡が有する反射面の第２領域に設けられた複数の凹部のそれぞれは、第１電波が凹部に進入するのを許容し、第２電波が凹部に進入するのを制限し、且つ、凹部に進入した第１電波を凹部の底面で反射するように構成したものである。
本発明によれば、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
図１Ａは、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置の要部の構成の一例を示す構成図である。図１Ｂは、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置が備える第１反射鏡１２０の要部の構成の一例を示す構成図である。図１Ｃは、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置が備える第１反射鏡の要部の構成の一例を示す構成図である。図１Ｄは、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置が備える第１反射鏡の要部の構成の一例を示す構成図である。 図２は、実施の形態１に係る複数の凹部のそれぞれの形状の一例を示す構成図である。 図３は、実施の形態１に係る第２領域における反射面に設けられたある凹部に入射する第１電波及び第２電波の振る舞いの一例を示す図である。 図４は、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置であって、実施例１に係る反射鏡アンテナ装置の構成を示す構成図である。 図５は、実施例１に係る反射鏡アンテナ装置が備える１次放射器が放射する第１電波及び第２電波の放射パターンを示す図である。 図６は、実施例１に係る反射鏡アンテナ装置が出力する第１電波の２次放射パターンである。 図７Ａは、実施の形態１の他の変形例に係る反射鏡アンテナ装置の要部の構成の一例を示す構成図である。図７Ｂは、実施の形態１の他の変形例に係る反射鏡アンテナ装置が備える第１反射鏡の要部の構成の一例を示す構成図である。図７Ｃは、実施の形態１の他の変形例に係る反射鏡アンテナ装置が備える第１反射鏡の要部の構成の一例を示す構成図である。図７Ｄは、実施の形態１の他の変形例に係る反射鏡アンテナ装置が備える第１反射鏡の要部の構成の一例を示す構成図である。 図８Ａは、実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置の要部の構成の一例を示す構成図である。図８Ｂは、実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置が備える第１反射鏡の要部の構成の一例を示す構成図である。図８Ｃは、実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置が備える第１反射鏡の要部の構成の一例を示す構成図である。図８Ｄは、実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置が備える第１反射鏡の要部の構成の一例を示す構成図である。 図９Ａは、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置の要部の構成の一例を示す構成図である。図９Ｂは、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置が備える第１反射鏡の要部の構成の一例を示す構成図である。図９Ｃは、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置が備える第１反射鏡の要部の構成の一例を示す構成図である。 図１０Ａは、実施の形態３に係る第２領域が誘電体を有してしない場合において、第２領域に入射する第１電波及び第２電波の振る舞いの一例を示す図である。図１０Ｂは、実施の形態３に係る第２領域における反射面を構成する誘電体に入射する第１電波及び第２電波の振る舞いの一例を示す図である。
以下、本発明をより詳細に説明するために、本発明を実施するための形態について、添付の図面に参照して説明する。
実施の形態１．
図１を参照して、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００の要部の構成について説明する。
図１は、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００の要部の構成の一例を示す構成図である。
反射鏡アンテナ装置１００は、１次放射器１１０、第１反射鏡１２０、及び第２反射鏡１３０を備える。
反射鏡アンテナ装置１００は、例えば、グレゴリアンアンテナ又はカセグレンアンテナ等の複数の反射鏡を有するリフレクタアンテナである。実施の形態１では、反射鏡アンテナ装置１００は、一例として、図１に示すようなグレゴリアンアンテナであるものとして説明する。
図１Ａは、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００の要部の構成の一例を示す構成図であって、反射鏡アンテナ装置１００が備える１次放射器１１０の放射軸を含む平面における反射鏡アンテナ装置１００の断面図である。
図１Ｂは、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００が備える第１反射鏡１２０の要部の構成の一例を示す構成図であって、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００が備える１次放射器１１０から第１反射鏡１２０を見た構成図である。
図１Ｃは、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００が備える第１反射鏡１２０の要部の構成の一例を示す構成図であって、図１Ａにおける破線により示す矩形で囲んだ領域における第１反射鏡１２０の拡大図である。
図１Ｄは、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００が備える第１反射鏡１２０の要部の構成の一例を示す構成図であって、図１Ｂにおける破線により示す矩形で囲んだ領域における第１反射鏡１２０の拡大図である。
１次放射器１１０は、第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波を放射する放射器である。
実施の形態１では、１次放射器１１０は、第１電波及び第２電波を放射する１つの放射器と説明するが、１次放射器１１０は、第１電波を放射する放射器と、第２電波を放射する他の放射器とを組み合わせた放射器のように、２つの放射器を組み合せた放射器であっても良い。
第１反射鏡１２０は、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡である。
実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００において、第１反射鏡１２０は、副鏡である。
反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面は、例えば、２次曲面又は放物面等の曲面である。
反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面は、反射面の中心点を含む第１領域１２１と、第１領域１２１の外周の領域であって、複数の凹部１２３が設けられた領域である第２領域１２２とを有する。
なお、第２領域１２２における反射面に設けられた複数の凹部１２３（以下、単に「複数の凹部１２３」という。）は、第２領域１２２において、周期的に配置されたものであっても良く、任意の位置に配置されたものであっても良い。
第１反射鏡１２０が有する第１領域１２１（以下、単に「第１領域１２１」という。）における反射面は、例えば、金属等の導体により構成され、第１領域１２１における反射面は、凹凸のない滑らかな形状に加工されている。
第１領域１２１における反射面は、１次放射器１１０が放射する第１電波のメインローブ、及び、１次放射器１１０が放射する第２電波のメインローブを受ける。第１領域１２１における反射面は、当該第１電波のメインローブ、及び、当該第２電波のメインローブを第２反射鏡１３０に向かって反射する。
第１反射鏡１２０が有する第２領域１２２（以下、単に「第２領域１２２」という。）における反射面は、例えば、金属等の導体により構成され、複数の凹部１２３は、鋳造、削り出し、又は、叩きだし等の加工により形成される。
第２領域１２２における反射面は、１次放射器１１０が放射する第１電波のサイドローブ、及び、１次放射器１１０が放射する第２電波のメインローブを受ける。
複数の凹部１２３のそれぞれは、第１電波が凹部１２３に進入するのを許容し、第２電波が凹部１２３に進入するのを制限し、且つ、凹部１２３に進入した第１電波を凹部１２３の底面１２５で反射する。
具体的には、複数の凹部１２３のそれぞれは、１次放射器１１０が放射する第１電波のサイドローブが凹部１２３に進入するのを許容し、凹部１２３に進入した第１電波のサイドローブを凹部１２３の底面１２５で反射する。より具体的には、複数の凹部１２３のそれぞれは、凹部１２３に進入した第１電波のサイドローブを第２反射鏡１３０に向かって反射する。また、複数の凹部１２３のそれぞれは、１次放射器１１０が放射する第２電波のメインローブが凹部１２３に進入するのを制限し、凹部１２３に進入していない第２電波のメインローブを第２反射鏡１３０に向かって反射する。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
複数の凹部１２３のそれぞれは、反射面に平行な平面における断面において、例えば、円形の形状を有する。すなわち、複数の凹部１２３のそれぞれは、第２領域１２２における反射面に設けられた円筒状の窪みである。
複数の凹部１２３のそれぞれの反射面に平行な平面における断面の形状は、円形に限定されるものではない。
図２は、実施の形態１に係る複数の凹部１２３のそれぞれの形状の一例を示す構成図であって、複数の凹部１２３のそれぞれの反射面に平行な平面における断面の形状の一例を示す構成図である。
複数の凹部１２３のそれぞれの反射面に平行な平面における断面の形状は、図２に示すように、楕円形、矩形、ドーナツ型、又は、十字型等であっても良い。また、複数の凹部１２３は、反射面に平行な平面における断面の形状が異なる形状のものを組み合せたものであっても良い。
第２反射鏡１３０は、第１反射鏡１２０が反射した第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡である。
実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００において、第２反射鏡１３０は、主鏡である。
第２反射鏡１３０は、例えば、予め定められた方向であって、反射鏡アンテナ装置１００が第１電波及び第２電波を出力する方向に向かって、第１反射鏡１２０が反射した第１電波及び第２電波を反射する。
反射鏡アンテナ装置１００は、第２反射鏡１３０が反射した第１電波及び第２電波を所定の方向に向かって出力する。
複数の凹部１２３のそれぞれの反射面に平行な平面における長さの最大値であるＬは、例えば、次式（１）により定められる範囲である。

Figure 0006758534
ここで、Cは高速、χは第１種ベッセル関数の１次導関数における正の最小根、πは円周率、ＦＨは第１周波数帯、及び、ＦＬは第２周波数帯である。
なお、第１種ベッセル関数の１次導関数における正の最小根であるχの値は、１．８４１である。
図３を参照して、実施の形態１に係る第２領域１２２における反射面に設けられたある凹部１２３に入射する第１電波及び第２電波の振る舞いについて説明する。
図３は、実施の形態１に係る第２領域１２２における反射面に設けられたある凹部１２３に入射する第１電波及び第２電波の振る舞いの一例を示す図である。
高周波帯である第１周波数帯よりも周波数の低い第２周波数帯の第２電波は、例えば、複数の凹部１２３のそれぞれの反射面に平行な平面における長さの最大値が式（１）に示す条件を満たす場合、当該長さの最大値が第２電波の波長に対して短いため、各凹部１２３の開口部１２４で反射する。
これに対して、高周波帯である第１周波数帯の第１電波は、当該場合、当該長さの最大値が第１電波の波長に対して長いため、各凹部１２３の内部に入り込み、各凹部１２３の開口部１２４に対向する各凹部１２３の底面１２５で反射する。
複数の凹部１２３は、例えば、それぞれの深さが第１電波の１／４波長の奇数倍となるように加工されている。
なお、複数の凹部１２３のそれぞれの深さは、厳密に第１電波の１／４波長である必要はなく、ここで言う第１電波の１／４波長は、略１／４波長を含むものである。
また、複数の凹部１２３の深さは、複数の凹部１２３の全ての深さが、第１電波の１／４波長である必要はなく、例えば、反射面の中心点からの距離等に応じた任意の深さ等であっても良い。
複数の凹部１２３のそれぞれの深さが、第１電波の１／４波長の奇数倍である場合、凹部１２３の底面１２５で反射した第１電波は、当該凹部１２３の開口部１２４において、当該凹部１２３に入射する第１電波に対して、位相が反転したものとなる。
なお、凹部１２３の深さとは、凹部１２３の開口部１２４から、当該凹部１２３の底面１２５までの距離である。
メインローブに最近のサイドローブは、メインローブに対して反転した位相となる。
また、上述のとおり、第１領域１２１における反射面は、１次放射器１１０が放射する第１電波のメインローブ、及び、１次放射器１１０が放射する第２電波のメインローブを受ける。また、上述のとおり、第２領域１２２における反射面は、１次放射器１１０が放射する第１電波のサイドローブ、及び、１次放射器１１０が放射する第２電波のメインローブを受ける。
したがって、複数の凹部１２３のそれぞれの深さが、第１電波の１／４波長の奇数倍である場合、凹部１２３の底面１２５で反射した第１電波のサイドローブは、当該凹部１２３の開口部１２４において、第１領域１２１における反射面で反射した第１電波のメインローブと同位相のものとなる。また、凹部１２３の開口部１２４で反射した第２電波のメインローブは、第１領域１２１における反射面で反射した第２電波のメインローブと同位相のものとなる。
なお、ここで言う同位相は、厳密な同位相である必要はなく、略同位相を含むものである。
複数の凹部１２３のそれぞれの深さが、第１電波の１／４波長の奇数倍である場合について説明したが、当該深さは、第１電波の１／４波長の奇数倍でなくてもよい。複数の凹部１２３のそれぞれは、凹部１２３に進入し、凹部１２３の底面１２５で反射した第１電波の位相を、凹部１２３の開口部１２４において、反射鏡が有する反射面の第１領域１２１で反射した第１電波の位相と同位相にするものであれば良く、例えば、複数の凹部１２３に誘電体が満たされている場合、当該誘電体の比誘電率を考量して、当該深さを、凹部１２３の底面１２５で反射した第１電波のサイドローブと、第１領域１２１における反射面で反射した第１電波のメインローブとが、当該凹部１２３の開口部１２４において同位相となるようにしても良い。
（実施例１）
図４から図６を参照して実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００の実施例について説明する。
図４は、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００であって、実施例１に係る反射鏡アンテナ装置１００の構成を示す構成図である。
図４に示す反射鏡アンテナ装置１００は、１次放射器１１０、第１反射鏡１２０、及び第２反射鏡１３０を備える。
実施例１に係る反射鏡アンテナ装置１００は、図４に示すように、リングフォーカス型のグレゴリアンアンテナである。
１次放射器１１０は、ＨＥ１１モードの電波を励起する理想的なホーンアンテナである。１次放射器１１０は、第１周波数帯である３０ＧＨｚ（ギガヘルツ）帯の第１電波と、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯である２０ＧＨｚ帯の第２電波とを放射する。
図５は、実施例１に係る反射鏡アンテナ装置１００が備える１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波の放射パターンを示す図である。
図５において、横軸は、１次放射器１１０が第１電波及び第２電波を放射する放射軸上の所定の点を原点して、１次放射器１１０が第１電波及び第２電波を放射する方向と、当該放射軸とが成す角度（以下「見込み半角」という。）を示している。また、図５において、縦軸は、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波の強度を示している。
図５に示すように、１次放射器１１０は、角度が１５度未満である見込み半角において、第１電波のメインローブを放射し、角度が１５度以上２２．５度以下である見込み半角において、第１電波のサイドローブを放射する。また、１次放射器１１０は、角度が２２．５度以下である見込み半角において、第２電波のメインローブを放射する。
第１反射鏡１２０は、鏡径が０．１４ｍ（メートル）のリングフォーカス鏡である。第１反射鏡１２０が有する反射面は、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波のうち、見込み半角が０度以上、且つ、２２．５度以下の第１電波及び第２電波を第２反射鏡１３０に向かって反射する。具体的には、第１領域１２１における反射面は、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波のうち、見込み半角が０度以上、且つ、１５度未満の第１電波及び第２電波を第２反射鏡１３０に向かって反射する。すなわち、第１領域１２１における反射面は、第１電波のメインローブ、及び、第２電波のメインローブを第２反射鏡１３０に向かって反射する。また、第１領域１２１における反射面は、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波のうち、見込み半角が１５度以上、且つ、２２．５度未満の第１電波及び第２電波を第２反射鏡１３０に向かって反射する。すなわち、第１領域１２１における反射面は、第１電波のサイドローブ、及び、第２電波のメインローブを第２反射鏡１３０に向かって反射する。
第２反射鏡１３０は、鏡径が１ｍのリングフォーカス鏡である。第２反射鏡１３０は、第１反射鏡１２０が反射した第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を所定の方向に向かって反射する。
反射鏡アンテナ装置１００は、第２反射鏡１３０が反射した第１電波及び第２電波を反射鏡アンテナ装置１００の外部に出力する。
図６は、実施例１に係る反射鏡アンテナ装置１００が出力する第１電波の２次放射パターンであって、実施例１に係る反射鏡アンテナ装置１００が備える１次放射器１１０が放射した第１電波を、第１反射鏡１２０と第２反射鏡１３０とで反射した後の第１電波の２次放射パターンを示す図である。図６は、実施例１に係る反射鏡アンテナ装置１００が出力する第１電波の２次放射パターンを比較するために、従来の反射鏡アンテナ装置が出力する第１電波の２次放射パターンも示している。
図６における横軸は、反射鏡アンテナ装置１００が出力する第１電波の放射軸と成す角度である。図６における縦軸は、反射鏡アンテナ装置１００が出力する第１電波の利得である。
図６に示すように、実施例１に係る反射鏡アンテナ装置１００が出力する第１電波の利得は、従来の反射鏡アンテナ装置が出力する第１電波の利得と比較して、放射軸方向において、約１ｄＢ向上する。
以上のように、反射鏡アンテナ装置１００は、第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波を放射する１次放射器１１０と、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡である第１反射鏡１２０と、を備え、反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面は、反射面の中心点を含む第１領域１２１と、第１領域１２１の外周の領域であって、複数の凹部１２３が設けられた領域である第２領域１２２とを有し、反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面の第２領域１２２に設けられた複数の凹部１２３のそれぞれは、第１電波が凹部１２３に進入するのを許容し、第２電波が凹部１２３に進入するのを制限し、且つ、凹部１２３に進入した第１電波を凹部１２３の底面１２５で反射するように構成した。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
また、このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制することにより、反射鏡アンテナ装置１００が出力する高周波帯の電波の２次放射パターンの利得を向上することができる。
また、以上のように、反射鏡アンテナ装置１００は、上述の構成において、反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面の第２領域１２２に設けられた複数の凹部１２３のそれぞれの反射面に平行な平面における長さの最大値であるＬは、上述の式（１）により定められる範囲となるように構成した。
このように構成することにより、反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面の第２領域１２２に設けられた複数の凹部１２３のそれぞれは、第１電波が凹部１２３に進入するのを許容し、第２電波が凹部１２３に進入するのを制限し、且つ、凹部１２３に進入した第１電波を凹部１２３の底面１２５で反射することができる。
また、以上のように、反射鏡アンテナ装置１００は、上述の構成において、反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面の第２領域１２２に設けられた複数の凹部１２３のそれぞれは、凹部１２３に進入し、凹部１２３の底面１２５で反射した第１電波の位相を、凹部１２３の開口部１２４において、反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面の第１領域１２１で反射した第１電波の位相と同位相にするように構成した。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
また、このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制することにより、反射鏡アンテナ装置１００が出力する高周波帯の電波の２次放射パターンの利得を向上することができる。
また、以上のように、反射鏡アンテナ装置１００は、上述の構成において、反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面の第２領域１２２に設けられた複数の凹部１２３のそれぞれの深さは、第１電波の１／４波長の奇数倍となるように構成した。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
また、このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制することにより、反射鏡アンテナ装置１００が出力する高周波帯の電波の２次放射パターンの利得を向上することができる。
また、以上のように、反射鏡アンテナ装置１００は、上述の構成において、反射鏡である第１反射鏡１２０である第１反射鏡１２０が有する反射面は、２次曲面又は放物面となるように構成した。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
また、このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制することにより、反射鏡アンテナ装置１００が出力する高周波帯の電波の２次放射パターンの利得を向上することができる。
また、以上のように、反射鏡アンテナ装置１００は、上述の構成において、反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面の第２領域１２２は、１次放射器１１０が放射する第１電波のサイドローブ、及び、１次放射器１１０が放射する第２電波のメインローブを受ける領域となるように構成した。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
また、このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制することにより、反射鏡アンテナ装置１００が出力する高周波帯の電波の２次放射パターンの利得を向上することができる。
実施の形態１の変形例．
実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００は、図１に示すように１次放射器１１０、第１反射鏡１２０、及び第２反射鏡１３０を備えるものであったが、反射鏡アンテナ装置１００は、第１反射鏡１２０及び第２反射鏡１３０に加えて、第１反射鏡１２０及び第２反射鏡１３０とは異なる１以上の反射鏡を備えるものであっても良い。
より具体的には、例えば、実施の形態１の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００は、第１反射鏡１２０が、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を、第１反射鏡１２０及び第２反射鏡１３０とは異なる反射鏡に向かって反射する。更に、実施の形態１の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００は、第２反射鏡１３０が、第１反射鏡１２０及び第２反射鏡１３０とは異なる反射鏡で反射した第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を所定の方向に向かって反射する。
以上のように、実施の形態１の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００は、第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波を放射する１次放射器１１０と、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡である第１反射鏡１２０と、を備え、反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面は、反射面の中心点を含む第１領域１２１と、第１領域１２１の外周の領域であって、複数の凹部１２３が設けられた領域である第２領域１２２とを有し、反射鏡である第１反射鏡１２０が有する反射面の第２領域１２２に設けられた複数の凹部１２３のそれぞれは、第１電波が凹部１２３に進入するのを許容し、第２電波が凹部１２３に進入するのを制限し、且つ、凹部１２３に進入した第１電波を凹部１２３の底面１２５で反射するように構成した。
このように構成することにより、実施の形態１の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
また、このように構成することにより、実施の形態１の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００は、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制することにより、反射鏡アンテナ装置１００が出力する高周波帯の電波の２次放射パターンの利得を向上することができる。
実施の形態１の他の変形例．
実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００は、図１に示すように１次放射器１１０、第１反射鏡１２０、及び第２反射鏡１３０を備えるものであったが、反射鏡アンテナ装置１００ａは、第２反射鏡１３０を備えず、第１反射鏡１２０ａのみを備えたものであっても良い。
すなわち、実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００は、カセグレンアンテナ又はグレゴリアンアンテナ等の複数の反射鏡を有するリフレクタアンテナであったが、反射鏡アンテナ装置１００ａは、パラボラアンテナ、オフセットパラボラアンテナ、又は、ホーンリフレクタアンテナ等の１つの反射鏡を有するリフレクタアンテナである。
図７を参照して、実施の形態１の他の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００ａの構成について説明する。
図７は、実施の形態１の他の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００ａの要部の構成の一例を示す構成図である。
反射鏡アンテナ装置１００ａは、１次放射器１１０及び第１反射鏡１２０ａを備える。
図７Ａは、実施の形態１の他の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００ａの要部の構成の一例を示す構成図であって、反射鏡アンテナ装置１００ａが備える１次放射器１１０の放射軸を含む平面における反射鏡アンテナ装置１００ａの断面図である。
図７Ｂは、実施の形態１の他の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００ａが備える第１反射鏡１２０ａの要部の構成の一例を示す構成図であって、実施の形態１の他の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００ａが備える１次放射器１１０から第１反射鏡１２０ａを見た構成図である。
図７Ｃは、実施の形態１の他の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００ａが備える第１反射鏡１２０ａの要部の構成の一例を示す構成図であって、図７Ａにおける破線により示す矩形で囲んだ領域における第１反射鏡１２０ａの拡大図である。
図７Ｄは、実施の形態１の他の変形例に係る反射鏡アンテナ装置１００ａが備える第１反射鏡１２０ａの要部の構成の一例を示す構成図であって、図７Ｂにおける破線により示す矩形で囲んだ領域における第１反射鏡１２０ａの拡大図である。
図７において、図１に示すブロックと同様のブロックには同一符号を付して説明を省略する。
第１反射鏡１２０ａは、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡である。
反射鏡である第１反射鏡１２０ａが有する反射面は、例えば、２次曲面又は放物面等の曲面である。
第１反射鏡１２０ａは、例えば、予め定められた方向であって、反射鏡アンテナ装置１００ａが第１電波及び第２電波を出力する方向に向かって、第１反射鏡１２０ａが反射した第１電波及び第２電波を反射する。
反射鏡アンテナ装置１００ａは、第１反射鏡１２０ａが反射した第１電波及び第２電波を所定の方向に向かって出力する。
反射鏡である第１反射鏡１２０ａが有する反射面は、反射面の中心点を含む第１領域１２１と、第１領域１２１の外周の領域であって、複数の凹部１２３が設けられた領域である第２領域１２２とを有する。
第１反射鏡１２０ａが有する第１領域１２１における反射面は、実施の形態１に係る第１領域１２１における反射面に相当するため、説明を省略する。
また、第１反射鏡１２０ａが有する第２領域１２２における反射面は、実施の形態１に係る第２領域１２２における反射面に相当するため、説明を省略する。
また、第１反射鏡１２０ａが有する第２領域１２２における反射面に設けられた複数の凹部１２３は、実施の形態１に係る複数の凹部１２３に相当するため、説明を省略する。
以上のように、反射鏡アンテナ装置１００ａは、第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波を放射する１次放射器１１０と、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡である第１反射鏡１２０ａと、を備え、反射鏡である第１反射鏡１２０ａが有する反射面は、反射面の中心点を含む第１領域１２１と、第１領域１２１の外周の領域であって、複数の凹部１２３が設けられた領域である第２領域１２２とを有し、反射鏡である第１反射鏡１２０ａが有する反射面の第２領域１２２に設けられた複数の凹部１２３のそれぞれは、第１電波が凹部１２３に進入するのを許容し、第２電波が凹部１２３に進入するのを制限し、且つ、凹部１２３に進入した第１電波を凹部１２３の底面１２５で反射するように構成した。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００ａは、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
また、このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００ａは、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制することにより、反射鏡アンテナ装置１００ａが出力する高周波帯の電波の２次放射パターンの利得を向上することができる。
実施の形態２．
実施の形態１に係る反射鏡アンテナ装置１００が備える１次放射器１１０は、第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波を放射する放射器であったが、１次放射器１１０は、第１電波及び第２電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低く、第２周波数帯よりも周波数が高い第３周波数帯の電波である第３電波を放射する放射器であっても良い。
図８を参照して実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置１００ｂの構成について説明する。
図８は、実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置１００ｂの要部の構成の一例を示す構成図である。
反射鏡アンテナ装置１００ｂは、１次放射器１１０ｂ、第１反射鏡１２０ｂ、及び第２反射鏡１３０を備える。
反射鏡アンテナ装置１００ｂは、例えば、グレゴリアンアンテナ又はカセグレンアンテナ等の複数の反射鏡を有するリフレクタアンテナである。実施の形態２では、反射鏡アンテナ装置１００ｂは、一例として、図８に示すようなグレゴリアンアンテナであるものとして説明する。なお、反射鏡アンテナ装置１００ｂは、パラボラアンテナ、オフセットパラボラアンテナ、又は、ホーンリフレクタアンテナ等の１つの反射鏡を有するリフレクタアンテナであっても良い。反射鏡アンテナ装置１００ｂが１つの反射鏡を有するリフレクタアンテナである場合、第２反射鏡１３０は、反射鏡アンテナ装置１００ｂにおいて必須の構成ではない。
図８Ａは、実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置１００ｂの要部の構成の一例を示す構成図であって、反射鏡アンテナ装置１００ｂが備える１次放射器１１０ｂの放射軸を含む平面における反射鏡アンテナ装置１００ｂの断面図である。
図８Ｂは、実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置１００ｂが備える第１反射鏡１２０ｂの要部の構成の一例を示す構成図であって、実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置１００ｂが備える１次放射器１１０ｂから第１反射鏡１２０ｂを見た構成図である。
図８Ｃは、実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置１００ｂが備える第１反射鏡１２０ｂの要部の構成の一例を示す構成図であって、図８Ａにおける破線により示す矩形で囲んだ領域における第１反射鏡１２０ｂの拡大図である。
図８Ｄは、実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置１００ｂが備える第１反射鏡１２０ｂの要部の構成の一例を示す構成図であって、図８Ｂにおける破線により示す矩形で囲んだ領域における第１反射鏡１２０ｂの拡大図である。
図８において、図１に示すブロックと同様のブロックには同一符号を付して説明を省略する。
１次放射器１１０ｂは、第１周波数帯の電波である第１電波と、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波と、第１周波数帯よりも周波数が低く、且つ、第２周波数帯よりも周波数が高い第３周波数帯の電波である第３電波とを放射する放射器である。
実施の形態２では、１次放射器１１０ｂは、第１電波、第２電波、及び、第３電波を放射する１つの放射器と説明するが、１次放射器１１０ｂは、第１電波を放射する放射器と、第２電波を放射する他の放射器と、第３電波を放射する他の放射器とを組み合わせた放射器のように、３つの放射器を組み合せた放射器であっても良い。
第１反射鏡１２０ｂは、１次放射器１１０ｂが放射する第１電波、第２電波、及び、第３電波を受けて、当該第１電波、当該第２電波、当該第３電波を反射する反射面を有する反射鏡である。
実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置１００ｂにおいて、第１反射鏡１２０ｂは、副鏡である。
反射鏡である第１反射鏡１２０ｂが有する反射面は、例えば、２次曲面又は放物面等の曲面である。
反射鏡である第１反射鏡１２０ｂが有する反射面は、反射面の中心点を含む第１領域１２１と、第１領域１２１の外周の領域であって、複数の凹部１２３ｂ１が設けられた領域である第２領域１２２ｂ１と、第２領域１２２ｂ１の外周の領域であって、複数の凹部１２３ｂ２が設けられた領域である第３領域１２２ｂ２と、を有する。
なお、第２領域１２２ｂ１における反射面に設けられた複数の凹部１２３ｂ１は、第２領域１２２ｂ１において、周期的に配置されたものであっても良く、任意の位置に配置されたものであっても良い。また、第３領域１２２ｂ２における反射面に設けられた複数の凹部１２３ｂ２は、第３領域１２２ｂ２において、周期的に配置されたものであっても良く、任意の位置に配置されたものであっても良い。
第１反射鏡１２０ｂが有する第１領域１２１における反射面は、例えば、金属等の導体により構成され、第１領域１２１における反射面は、凹凸のない滑らかな形状に加工されている。
第１領域１２１における反射面は、１次放射器１１０ｂが放射する第１電波のメインローブ、１次放射器１１０ｂが放射する第２電波のメインローブ、及び、１次放射器１１０ｂが放射する第３電波のメインローブを受ける。第１領域１２１における反射面は、当該第１電波のメインローブ、当該第２電波のメインローブ、及び、当該第３電波のメインローブを第２反射鏡１３０に向かって反射する。
第１反射鏡１２０ｂが有する第２領域１２２ｂ１における反射面は、例えば、金属等の導体により構成され、第２領域１２２ｂ１における反射面に設けられた複数の凹部１２３ｂ１（以下、単に「複数の凹部１２３ｂ１」という。）は、鋳造、削り出し、又は、叩きだし等の加工により形成される。
第２領域１２２ｂ１における反射面は、１次放射器１１０ｂが放射する第１電波のサイドローブ、１次放射器１１０ｂが放射する第２電波のメインローブ、及び、１次放射器１１０ｂが放射する第３電波のメインローブを受ける。
複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれは、第１電波が凹部１２３ｂ１に進入するのを許容し、第２電波及び第３電波が凹部１２３ｂ１に進入するのを制限し、且つ、凹部１２３ｂ１に進入した第１電波を凹部１２３ｂ１の底面１２５ｂ１で反射する。
具体的には、複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれは、１次放射器１１０ｂが放射する第１電波のサイドローブが凹部１２３ｂ１に進入するのを許容し、凹部１２３ｂ１に進入した第１電波のサイドローブを凹部１２３ｂ１の底面１２５ｂ１で反射する。より具体的には、複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれは、凹部１２３ｂ１に進入した第１電波のサイドローブを第２反射鏡１３０に向かって反射する。また、複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれは、１次放射器１１０ｂが放射する第２電波のメインローブ、及び、第３電波のメインローブが凹部１２３ｂ１に進入するのを制限し、凹部１２３ｂ１に進入していない第２電波のメインローブ、及び、第３電波のメインローブを第２反射鏡１３０に向かって反射する。
第１反射鏡１２０ｂが有する第３領域１２２ｂ２における反射面は、例えば、金属等の導体により構成され、第３領域１２２ｂ２における反射面に設けられた複数の凹部１２３ｂ２（以下、単に「複数の凹部１２３ｂ２」という。）は、鋳造、削り出し、又は、叩きだし等の加工により形成される。
第３領域１２２ｂ２における反射面は、１次放射器１１０ｂが放射する第１電波のサイドローブ、１次放射器１１０ｂが放射する第２電波のメインローブ、及び、１次放射器１１０ｂが放射する第３電波のサイドローブを受ける。
複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれは、第１電波及び第３電波が凹部１２３ｂ２に進入するのを許容し、第２電波が凹部１２３ｂ２に進入するのを制限し、且つ、凹部１２３ｂ２に進入した第１電波及び第３電波を凹部１２３ｂ２の底面１２５ｂ２で反射する。
具体的には、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれは、１次放射器１１０ｂが放射する第１電波のサイドローブ、及び、１次放射器１１０ｂが放射する第３電波のサイドローブが凹部１２３ｂ２に進入するのを許容し、凹部１２３ｂ２に進入した第１電波のサイドローブ、及び、第３電波のサイドローブを凹部１２３ｂ２の底面１２５ｂ２で反射する。より具体的には、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれは、凹部１２３ｂ２に進入した第１電波のサイドローブ、及び、第３電波のサイドローブを第２反射鏡１３０に向かって反射する。また、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれは、１次放射器１１０ｂが放射する第２電波のメインローブが凹部１２３ｂ２に進入するのを制限し、凹部１２３ｂ２に進入していない第２電波のメインローブを第２反射鏡１３０に向かって反射する。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｂは、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれ、及び、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれは、反射面に平行な平面における断面において、例えば、円形の形状を有する。すなわち、複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれ、及び、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれは、第１反射鏡１２０ｂが有する第２領域１２２ｂ１又は第３領域１２２ｂ２における反射面に設けられた円筒状の窪みである。
複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれ、及び、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれの反射面に平行な平面における断面の形状は、円形に限定されるものではない。
複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれ、及び、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれの反射面に平行な平面における断面の形状は、図２に示すように、楕円形、矩形、ドーナツ型、又は、十字型等であっても良い。また、複数の凹部１２３ｂ１及び複数の凹部１２３ｂ２は、反射面に平行な平面における断面の形状が異なる形状のものを組み合せたものであっても良い。
第２反射鏡１３０は、第１反射鏡１２０ｂが反射した第１電波、第２電波、及び、第３電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡である。
実施の形態２に係る反射鏡アンテナ装置１００ｂにおいて、第２反射鏡１３０は、主鏡である。
第２反射鏡１３０は、例えば、予め定められた方向であって、反射鏡アンテナ装置１００ｂが第１電波、第２電波、及び、第３電波を出力する方向に向かって、第１反射鏡１２０ｂが反射した第１電波、第２電波、及び、第３電波を反射する。
反射鏡アンテナ装置１００ｂは、第２反射鏡１３０が反射した第１電波、第２電波、及び、第３電波を所定の方向に向かって出力する。
複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれの反射面に平行な平面における長さの最大値であるＬａは、例えば、次式（２）により定められる範囲である。

Figure 0006758534
また、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれの反射面に平行な平面における長さの最大値であるＬｂは、例えば、次式（３）により定められる範囲である。

Figure 0006758534
ここで、Cは高速、χは第１種ベッセル関数の１次導関数における正の最小根、πは円周率、ＦＨは第１周波数帯、ＦＬは第２周波数帯、及び、ＦＭは第３周波数帯である。
なお、第１種ベッセル関数の１次導関数における正の最小根であるχの値は、１．８４１である。
高周波帯である第１周波数帯よりも周波数の低い第２周波数帯の第２電波、及び、第３周波数帯の第３電波は、例えば、複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれの反射面に平行な平面における長さの最大値が式（２）に示す条件を満たす場合、当該長さの最大値が第２電波及び第３電波の波長に対して短いため、各凹部１２３ｂ１の開口部１２４ｂ１で反射する。
これに対して、高周波帯である第１周波数帯の第１電波は、当該場合、当該長さの最大値が第１電波の波長に対して長いため、各凹部１２３ｂ１の内部に入り込み、各凹部１２３ｂ１の開口部１２４ｂ１に対向する各凹部１２３ｂ１の底面１２５ｂ１で反射する。
また、高周波帯である第３周波数帯よりも周波数の低い第２周波数帯の第２電波は、例えば、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれの反射面に平行な平面における長さの最大値が式（３）に示す条件を満たす場合、当該長さの最大値が第３電波の波長に対して短いため、各凹部１２３ｂ２の開口部１２４ｂ２で反射する。
これに対して、高周波帯である第１周波数帯の第１電波、及び、第３周波数帯の第３電波は、当該場合、当該長さの最大値が第１電波及び第３電波の波長に対して長いため、各凹部１２３ｂ２の内部に入り込み、各凹部１２３ｂ２の開口部１２４ｂ２に対向する各凹部１２３ｂ２の底面１２５ｂ２で反射する。
複数の凹部１２３ｂ１は、例えば、それぞれの深さが第１電波の１／４波長の奇数倍となるように加工されている。
なお、複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれの深さは、厳密に第１電波の１／４波長である必要はなく、ここで言う第１電波の１／４波長は、略１／４波長を含むものである。
また、複数の凹部１２３ｂ１の深さは、複数の凹部１２３ｂ１の全ての深さが、第１電波の１／４波長である必要はなく、例えば、反射面の中心点からの距離等に応じた任意の深さ等であっても良い。
複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれの深さが、第１電波の１／４波長の奇数倍である場合、凹部１２３ｂ１の底面１２５ｂ１で反射した第１電波は、当該凹部１２３ｂ１の開口部１２４ｂ１において、当該凹部１２３ｂ１に入射する第１電波に対して、位相が反転したものとなる。
なお、凹部１２３ｂ１の深さとは、凹部１２３ｂ１の開口部１２４ｂ１から、凹部１２３ｂ１の底面１２５ｂ１までの距離である。
また、複数の凹部１２３ｂ２は、例えば、それぞれの深さが第１電波の１／４波長の奇数倍、又は、第３電波の１／４波長の奇数倍となるように加工されている。
なお、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれの深さは、厳密に第１電波又は第３電波の１／４波長である必要はなく、ここで言う第１電波又は第３電波の１／４波長は、略１／４波長を含むものである。
また、複数の凹部１２３ｂ２は、例えば、それぞれの深さが第１電波の１／４波長の奇数倍、且つ、第３電波の１／４波長の奇数倍となるように加工されたものであっても良い。
また、複数の凹部１２３ｂ２は、例えば、それぞれの深さが第１電波の１／４波長の略奇数倍、且つ、第３電波の１／４波長の略奇数倍となるように加工されたものであっても良い。
また、複数の凹部１２３ｂ２の深さは、複数の凹部１２３ｂ２の全ての深さが、第１電波又は第３電波の１／４波長である必要はなく、例えば、反射面の中心点からの距離等に応じた任意の深さ等であっても良い。
複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれの深さが、第１電波の１／４波長の奇数倍である場合、凹部１２３ｂ２の底面１２５ｂ２で反射した第１電波は、当該凹部１２３ｂ２の開口部１２４ｂ２において、当該凹部１２３ｂ２に入射する第１電波に対して、位相が反転したものとなる。
また、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれの深さが、第３電波の１／４波長の奇数倍である場合、凹部１２３ｂ２の底面１２５ｂ２で反射した第３電波は、当該凹部１２３ｂ２の開口部１２４ｂ２において、当該凹部１２３ｂ２に入射する第３電波に対して、位相が反転したものとなる。
また、複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれの深さが、第１電波の１／４波長の略奇数倍、且つ、第３電波の１／４波長の略奇数倍である場合、凹部１２３ｂ２の底面１２５ｂ２で反射した第１電波及び第３電波は、当該凹部１２３ｂ２の開口部１２４ｂ２において、当該凹部１２３ｂ２に入射する第１電波及び第３電波に対して、位相が略反転したものとなる。
なお、凹部１２３ｂ２の深さとは、凹部１２３ｂ２の開口部１２４ｂ２から、凹部１２３ｂ２の底面１２５ｂ２までの距離である。
凹部１２３ｂ１及び凹部１２３ｂ２の詳細な振る舞いは、実施の形態１に係る凹部１２３と同様であるため、詳細な説明は省略する。
以上のように、反射鏡アンテナ装置１００ｂは、第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波、及び、第１周波数帯よりも周波数が低く、且つ、第２周波数帯よりも周波数が高い第３周波数の電波である第３電波を放射する１次放射器１１０ｂと、１次放射器１１０ｂが放射する第１電波、第２電波、及び、第３電波を受けて、当該第１電波、当該第２電波、及び、当該第３電波を反射する反射面を有する反射鏡である第１反射鏡１２０ｂと、を備え、反射鏡である第１反射鏡１２０ｂが有する反射面は、反射面の中心点を含む第１領域１２１と、第１領域１２１の外周の領域であって、複数の凹部１２３ｂ１が設けられた領域である第２領域１２２ｂ１と、第２領域１２２ｂ１の外周の領域であって、複数の凹部１２３ｂ２が設けられた領域である第３領域１２２ｂ２とを有し、反射鏡である第１反射鏡１２０ｂが有する反射面の第２領域１２２ｂ１に設けられた複数の凹部１２３ｂ１のそれぞれは、第１電波が凹部１２３ｂ１に進入するのを許容し、第２電波及び第３電波が凹部１２３ｂ１に進入するのを制限し、且つ、凹部１２３ｂ１に進入した第１電波を凹部１２３ｂ１の底面１２５ｂ１で反射し、反射鏡である第１反射鏡１２０ｂが有する反射面の第３領域１２２ｂ２に設けられた複数の凹部１２３ｂ２のそれぞれは、第１電波及び第３電波が凹部１２３ｂ２に進入するのを許容し、第２電波が凹部１２３ｂ２に進入するのを制限し、且つ、凹部１２３ｂ２に進入した第１電波及び第３電波を凹部１２３ｂ２の底面１２５ｂ２で反射するように構成した。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｂは、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
また、このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｂは、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｂが出力する高周波帯の電波の２次放射パターンの利得を向上することができる。
実施の形態３．
図９を参照して、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃの要部の構成について説明する。
図９は、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃの要部の構成の一例を示す構成図である。
反射鏡アンテナ装置１００ｃは、１次放射器１１０、第１反射鏡１２０ｃ、及び第２反射鏡１３０を備える。
反射鏡アンテナ装置１００ｃは、例えば、グレゴリアンアンテナ又はカセグレンアンテナ等の複数の反射鏡を有するリフレクタアンテナである。実施の形態３では、反射鏡アンテナ装置１００ｃは、一例として、図９に示すようなグレゴリアンアンテナであるものとして説明する。なお、反射鏡アンテナ装置１００ｃは、パラボラアンテナ、オフセットパラボラアンテナ、又は、ホーンリフレクタアンテナ等の１つの反射鏡を有するリフレクタアンテナであっても良い。反射鏡アンテナ装置１００ｃが１つの反射鏡を有するリフレクタアンテナである場合、第２反射鏡１３０は、反射鏡アンテナ装置１００ｃにおいて必須の構成ではない。
図９Ａは、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃの要部の構成の一例を示す構成図であって、反射鏡アンテナ装置１００ｃが備える１次放射器１１０の放射軸を含む平面における反射鏡アンテナ装置１００ｃの断面図である。
図９Ｂは、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃが備える第１反射鏡１２０ｃの要部の構成の一例を示す構成図であって、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃが備える１次放射器１１０から第１反射鏡１２０ｃを見た構成図である。
図９Ｃは、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃが備える第１反射鏡１２０ｃの要部の構成の一例を示す構成図であって、図９Ａにおける破線により示す矩形で囲んだ領域における第１反射鏡１２０ｃの拡大図である。
図９において、図１に示すブロックと同様のブロックには同一符号を付して説明を省略する。
１次放射器１１０は、第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波を放射する放射器である。
第１反射鏡１２０ｃは、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡である。
実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃにおいて、第１反射鏡１２０ｃは、副鏡である。
反射鏡である第１反射鏡１２０ｃが有する反射面は、例えば、２次曲面又は放物面等の曲面である。
反射鏡である第１反射鏡１２０ｃが有する反射面は、反射面の中心点を含む第１領域１２１と、第１領域１２１の外周の領域であって、導体１２６、及び、導体１２６上に設けられた誘電体１２７により構成された領域である第２領域１２２ｃとを有する。
第１反射鏡１２０ｃが有する第１領域１２１（以下、単に「第１領域１２１」という。）における反射面は、例えば、金属等の導体により構成され、第１領域１２１における反射面は、凹凸のない滑らかな形状に加工されている。
第１領域１２１における反射面は、１次放射器１１０が放射する第１電波のメインローブ、及び、１次放射器１１０が放射する第２電波のメインローブを受ける。第１領域１２１における反射面は、当該第１電波のメインローブ、及び、当該第２電波のメインローブを第２反射鏡１３０に向かって反射する。
第１反射鏡１２０ｃが有する第２領域１２２ｃ（以下、単に「第２領域１２２ｃ」という。）における反射面を構成する導体１２６（以下、単に「導体１２６」という。）は、導体１２６における誘電体１２７が接する面は、凹凸のない滑らかな形状に加工され、第１領域１２１における反射面が成す曲面と同一の曲面に配置されている。
導体１２６は、第１領域１２１における反射面を構成する導体と同一の部材であっても良く、また、第１領域１２１における反射面を構成する導体とは別の部材であっても良い。
第２領域１２２ｃにおける反射面を構成する誘電体１２７（以下、単に「誘電体１２７」という。）における導体１２６に接する面、及び、当該面に対向し、且つ、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を受ける面は、いずれも凹凸のない滑らかな形状に加工されている。
誘電体１２７は、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を透過する。
導体１２６は、誘電体１２７を透過した第１電波及び第２電波を反射する。
第２領域１２２ｃは、導体１２６で反射した第１電波及び第２電波を再び誘電体１２７を透過させて放射することにより、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を反射する。
誘電体１２７は、第２領域１２２ｃで反射する第１電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第１電波の位相に対して１８０度の奇数倍増加させ、且つ、第２領域１２２ｃで反射する第２電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第２電波の位相に対して１８０度の偶数倍増加させる。
なお、ここで言う１８０度は、厳密に１８０度である必要はなく、略１８０度を含むものである。
誘電体１２７は、次式（４）に基づいて算出される厚さを有している。

Figure 0006758534
ここで、Ｄは誘電体１２７の厚さ、εｒは誘電体１２７の比誘電率、λは電波の波長、及び、φは第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する電波の位相に対する第２領域１２２ｃで反射する電波の位相の増加量である。
図１０を参照して、実施の形態３に係る第２領域１２２ｃに入射する第１電波及び第２電波の振る舞いについて説明する。
図１０Ａは、実施の形態３に係る第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有してしない場合において、第２領域１２２ｃに入射する第１電波及び第２電波の振る舞いの一例を示す図である。
図１０Ｂは、実施の形態３に係る第２領域１２２ｃにおける反射面を構成する誘電体１２７に入射する第１電波及び第２電波の振る舞いの一例を示す図である。
図１０Ｂに示す誘電体１２７は、一例として、比誘電率が２．２５であり、厚みが１５ｍｍ（ミリメートル）のものである。
また、一例として、図１０Ａ及び図１０Ｂに示す第１電波の周波数帯は３０ＧＨｚであり、第２電波の周波数帯は２０ＧＨｚである。
光速を毎秒３．０×１０８ｍとすれば、第１電波の波長は１．０×１０−２ｍとなり、第１電波の波長は１．５×１０−２ｍとなる。
したがって、図１０Ｂに示すように、第１電波が、比誘電率が２．２５の誘電体１２７を３０ｍｍだけ進む間に、第１電波の位相は、１６２０度だけ進み、第２電波が、当該誘電体１２７を３０ｍｍだけ進む間に、第２電波の位相は、１０８０度だけ進む。また、図１０Ａに示すように、第１電波が、真空中又は空気中を３０ｍｍだけ進む間に、第１電波の位相は、１０８０度だけ進み、第２電波が、真空中又は空気中を３０ｍｍだけ進む間に、第２電波の位相は、７２０度だけ進む。
すなわち、図１０Ｂに示す誘電体１２７は、第２領域１２２ｃで反射する第１電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第１電波の位相に対して１８０度の奇数倍である５４０度増加させ、且つ、第２領域１２２ｃで反射する第２電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第２電波の位相に対して１８０度の偶数倍である３６０度増加させる。
メインローブに最近のサイドローブは、メインローブに対して反転した位相となる。
また、上述のとおり、第１領域１２１における反射面は、１次放射器１１０が放射する第１電波のメインローブ、及び、１次放射器１１０が放射する第２電波のメインローブを受ける。また、上述のとおり、第２領域１２２ｃにおける反射面は、１次放射器１１０が放射する第１電波のサイドローブ、及び、１次放射器１１０が放射する第２電波のメインローブを受ける。
したがって、誘電体１２７が、第２領域１２２ｃで反射する第１電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第１電波の位相に対して１８０度の奇数倍増加させ、且つ、第２領域１２２ｃで反射する第２電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第２電波の位相に対して１８０度の偶数倍増加させる場合、第２領域１２２ｃで反射した第１電波のサイドローブは、第１領域１２１における反射面で反射した第１電波のメインローブと同位相のものとなる。また、当該場合、第２領域１２２ｃで反射した第２電波のメインローブは、第１領域１２１における反射面で反射した第１電波のメインローブと同位相のものとなる。
なお、ここで言う同位相は、厳密な同位相である必要はなく、略同位相を含むものである。
また、なお、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃは、一例として、１次放射器１１０、第１反射鏡１２０ｃ、及び第２反射鏡１３０を備えるものとして説明したが、この限りではない。
例えば、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃは、反射鏡として、第１反射鏡１２０ｃ及び第２反射鏡１３０に加えて、第１反射鏡１２０ｃ及び第２反射鏡１３０とは異なる１以上の反射鏡を備えるものであっても良い。
また、例えば、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃは、第２反射鏡１３０を備えず、第１反射鏡１２０ｃを主鏡として、反射鏡として、第１反射鏡１２０ｃのみを備えたものであっても良い。
また、例えば、実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃが備える１次放射器１１０は、第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波を放射する放射器であったが、１次放射器１１０は、第１電波及び第２電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低く、第２周波数帯よりも周波数が高い第３周波数帯の電波である第３電波を放射する放射器であっても良い。
実施の形態３に係る反射鏡アンテナ装置１００ｃが備える１次放射器１１０が、第１電波、第２電波、及び、第３電波を放射する場合、実施の形態３に係る第１反射鏡１２０ｃが有する反射面は、第１領域１２１及び第２領域１２２ｃに加えて、第２領域１２２ｃの外周の領域である第３領域、又は、第１領域１２１の外周の領域、且つ、第２領域１２２ｃの内周の領域である第３領域を有するものであっても良い。更に、第１反射鏡１２０ｃが有する反射面の第３領域（以下、単に「第３領域」という。）は、第２領域１２２ｃを構成する誘電体１２７と異なる厚み、又は、異なる比誘電率を有する誘電体を備える。
当該場合、例えば、第２領域１２２ｃは、第１電波のサイドローブ、第２電波のメインローブ、及び、第３電波のメインローブを受けて、第２領域１２２ｃを構成する誘電体１２７は、第１電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第１電波の位相に対して１８０度の奇数倍増加させ、第２電波及び第３電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第２電波及び第３電波の位相に対して１８０度の偶数倍増加させる。また、第３領域は、第１電波のサイドローブ、第２電波のメインローブ、及び、第３電波のサイドローブを受けて、第３領域が備える誘電体は、第１電波及び第３電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第１電波及び第３電波の位相に対して１８０度の奇数倍増加させ、第２電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第２電波の位相に対して１８０度の偶数倍増加させる。
以上のように、反射鏡アンテナ装置１００ｃは、第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波を放射する１次放射器１１０と、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡と、を備え、反射鏡が有する反射面は、反射面の中心点を含む第１領域１２１と、第１領域１２１の外周の領域であって、導体１２６、及び、導体１２６上に設けられた誘電体１２７により構成された領域である第２領域１２２ｃとを有し、反射鏡が有する反射面の第２領域１２２ｃを構成する誘電体１２７は、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を透過し、反射鏡が有する反射面の第２領域１２２ｃを構成する導体１２６は、誘電体１２７を透過した第１電波及び第２電波を反射し、反射鏡が有する反射面の第２領域１２２ｃは、導体１２６で反射した第１電波及び第２電波を再び誘電体１２７を透過させて放射することにより、１次放射器１１０が放射する第１電波及び第２電波を反射し、反射鏡が有する反射面の第２領域１２２ｃを構成する誘電体１２７は、第２領域１２２ｃで反射する第１電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第１電波の位相に対して１８０度の奇数倍増加させ、且つ、第２領域１２２ｃで反射する第２電波の位相を、第２領域１２２ｃが誘電体１２７を有していない場合における第２領域１２２ｃで反射する第２電波の位相に対して１８０度の偶数倍増加させるように構成した。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｃは、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
また、このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｃは、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｃが出力する高周波帯の電波の２次放射パターンの利得を向上することができる。
また、以上のように、反射鏡アンテナ装置１００ｃは、上述の構成において、反射鏡である第１反射鏡１２０ｃである第１反射鏡１２０ｃが有する反射面は、２次曲面又は放物面となるように構成した。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｃは、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
また、このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｃは、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｃが出力する高周波帯の電波の２次放射パターンの利得を向上することができる。
また、以上のように、反射鏡アンテナ装置１００ｃは、上述の構成において、反射鏡である第１反射鏡１２０ｃが有する反射面の第２領域１２２ｃは、１次放射器１１０が放射する第１電波のサイドローブ、及び、１次放射器１１０が放射する第２電波のメインローブを受ける領域となるように構成した。
このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｃは、高周波帯の電波の２次放射パターンの利得の低下を抑制しつつ、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制できる。
また、このように構成することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｃは、高周波帯の電波のサイドローブのスピルオーバーを抑制することにより、反射鏡アンテナ装置１００ｃが出力する高周波帯の電波の２次放射パターンの利得を向上することができる。
なお、本願発明はその発明の範囲内において、各実施の形態の自由な組み合わせ、あるいは各実施の形態の任意の構成要素の変形、もしくは各実施の形態において任意の構成要素の省略が可能である。
本発明は、１次放射器及び反射鏡を有する反射鏡アンテナ装置に適している。
１００，１００ａ，１００ｂ，１００ｃ 反射鏡アンテナ装置、１１０，１１０ｂ １次放射器、１２０，１２０ａ，１２０ｂ，１２０ｃ 第１反射鏡、１２１ 第１領域、１２２，１２２ｂ１，１２２ｃ 第２領域、１２２ｂ２ 第３領域、１２３，１２３ｂ１，１２３ｂ２ 凹部、１２４，１２４ｂ１，１２４ｂ２ 開口部、１２５，１２５ｂ１，１２５ｂ２ 底面、１２６ 導体、１２７ 誘電体、１３０ 第２反射鏡。

Claims (8)

  1. 第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、前記第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波を放射する１次放射器と、
    前記１次放射器が放射する前記第１電波及び前記第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡と、
    を備え、
    前記反射鏡が有する前記反射面は、前記反射面の中心点を含む第１領域と、前記第１領域の外周の領域であって、複数の凹部が設けられた領域である第２領域とを有し、
    前記反射鏡が有する前記反射面の前記第２領域に設けられた複数の前記凹部のそれぞれは、前記第１電波が前記凹部に進入するのを許容し、前記第２電波が前記凹部に進入するのを制限し、且つ、前記凹部に進入した前記第１電波を前記凹部の底面で反射すること
    を特徴とする反射鏡アンテナ装置。
  2. 前記反射鏡が有する前記反射面の前記第２領域に設けられた複数の前記凹部のそれぞれの前記反射面に平行な平面における長さの最大値であるＬは、次式（１）により定められる範囲であること
    を特徴とする請求項１記載の反射鏡アンテナ装置。

    Figure 0006758534
    ここで、Cは高速、χは第１種ベッセル関数の１次導関数における正の最小根、πは円周率、ＦＨは前記第１周波数帯、及び、ＦＬは前記第２周波数帯である。
  3. 前記反射鏡が有する前記反射面の前記第２領域に設けられた複数の前記凹部のそれぞれは、前記凹部に進入し、前記凹部の前記底面で反射した前記第１電波の位相を、前記凹部の開口部において、前記反射鏡が有する前記反射面の前記第１領域で反射した前記第１電波の位相と同位相にすること
    を特徴とする請求項１記載の反射鏡アンテナ装置。
  4. 前記反射鏡が有する前記反射面の前記第２領域に設けられた複数の前記凹部のそれぞれの深さは、前記第１電波の１／４波長の奇数倍であること
    を特徴とする請求項１記載の反射鏡アンテナ装置。
  5. 第１周波数帯の電波である第１電波を放射するとともに、前記第１周波数帯よりも周波数が低い第２周波数帯の電波である第２電波を放射する１次放射器と、
    前記１次放射器が放射する前記第１電波及び前記第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を反射する反射面を有する反射鏡と、
    を備え、
    前記反射鏡が有する前記反射面は、前記反射面の中心点を含む第１領域と、前記第１領域の外周の領域であって、導体、及び、前記導体上に設けられた誘電体により構成された領域である第２領域とを有し、
    前記反射鏡が有する前記反射面の前記第２領域を構成する前記誘電体は、前記１次放射器が放射する前記第１電波及び前記第２電波を受けて、当該第１電波及び当該第２電波を透過し、
    前記反射鏡が有する前記反射面の前記第２領域を構成する前記導体は、前記誘電体を透過した前記第１電波及び前記第２電波を反射し、
    前記反射鏡が有する前記反射面の前記第２領域は、前記導体で反射した前記第１電波及び前記第２電波を再び前記誘電体を透過させて放射することにより、前記１次放射器が放射する前記第１電波及び前記第２電波を反射し、
    前記反射鏡が有する前記反射面の前記第２領域を構成する前記誘電体は、前記第２領域で反射する前記第１電波の位相を、前記第２領域が前記誘電体を有していない場合における前記第２領域で反射する前記第１電波の位相に対して１８０度の奇数倍増加させ、且つ、前記第２領域で反射する前記第２電波の位相を、前記第２領域が前記誘電体を有していない場合における前記第２領域で反射する前記第２電波の位相に対して１８０度の偶数倍増加させること
    を特徴とする反射鏡アンテナ装置。
  6. 前記反射鏡が有する前記反射面は、２次曲面であること
    を特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項記載の反射鏡アンテナ装置。
  7. 前記反射鏡が有する前記反射面は、放物面であること
    を特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項記載の反射鏡アンテナ装置。
  8. 前記反射鏡が有する前記反射面の前記第２領域は、前記１次放射器が放射する前記第１電波のサイドローブ、及び、前記１次放射器が放射する前記第２電波のメインローブを受ける領域であること
    を特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項記載の反射鏡アンテナ装置。
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