JP6718788B2 - マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 97
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 143
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 86
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 30
- 238000010183 spectrum analysis Methods 0.000 claims description 24
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000013459 approach Methods 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 40
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 26
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 19
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 11
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 8
- 239000003507 refrigerant Substances 0.000 description 7
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 5
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 5
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 4
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 4
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 4
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 2
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 1
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32211—Means for coupling power to the plasma
- H01J37/32247—Resonators
- H01J37/32256—Tuning means
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32311—Circuits specially adapted for controlling the microwave discharge
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32192—Microwave generated discharge
- H01J37/32201—Generating means
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/46—Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/32—Processing objects by plasma generation
- H01J2237/327—Arrangements for generating the plasma
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- Analytical Chemistry (AREA)
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- Plasma Technology (AREA)
Description
Claims (8)
- 制御器から指示された設定周波数及び設定パワーにそれぞれ応じた周波数及びパワーを有するマイクロ波を発生するマイクロ波発生部と、
前記マイクロ波発生部から伝搬されたマイクロ波を出力する出力部と、
前記マイクロ波発生部から前記出力部に伝搬される進行波の一部を出力する第1の方向性結合器と、
前記第1の方向性結合器から出力される前記進行波の前記一部に基づいて、前記出力部における前記進行波のパワーを示す第1の測定値を決定する第1の測定部と、
を備え、
前記第1の測定部は、
ダイオード検波を用いて前記進行波の前記一部のパワーに応じたアナログ信号を生成する第1の検波部と、
前記第1の検波部によって生成されるアナログ信号をデジタル値に変換する第1のA/D変換器と、
前記第1のA/D変換器によって生成されるデジタル値を前記出力部における進行波のパワーに補正するために予め定められた複数の第1の補正係数から、前記制御器によって指示された前記設定周波数及び前記設定パワーに対応付けられた一以上の第1の補正係数を選択し、選択された該一以上の第1の補正係数を前記第1のA/D変換器によって生成された前記デジタル値に乗算することにより、前記第1の測定値を決定するよう構成された第1の処理部と、
を有する、
マイクロ波出力装置。 - 前記複数の第1の補正係数は、複数の設定周波数にそれぞれ対応付けられた複数の第1の係数、及び、複数の設定パワーにそれぞれ対応付けられた複数の第2の係数を含んでおり、
前記第1の処理部は、前記一以上の第1の補正係数として、前記複数の第1の係数のうち前記制御器によって指示された前記設定周波数に対応付けられた第1の係数、及び、前記複数の第2の係数のうち前記制御器によって指定された前記設定パワーに対応付けられた第2の係数を、前記第1のA/D変換器によって生成された前記デジタル値に乗算することにより、前記第1の測定値を決定するよう構成されている、
請求項1に記載のマイクロ波出力装置。 - 前記出力部に戻された反射波の一部を出力する第2の方向性結合器と、
前記第2の方向性結合器から出力される前記反射波の一部に基づいて、前記出力部における前記反射波のパワーを示す第2の測定値を決定する第2の測定部と、
を更に備え、
前記第2の測定部は、
ダイオード検波を用いて前記反射波の一部のパワーに応じたアナログ信号を生成する第2の検波部と、
前記第2の検波部によって生成されるアナログ信号をデジタル値に変換する第2のA/D変換器と、
前記第2のA/D変換器によって生成されるデジタル値を前記出力部における反射波のパワーに補正するために予め定められた複数の第2の補正係数から、前記制御器によって指示された前記設定周波数及び前記設定パワーに対応付けられた一以上の第2の補正係数を選択し、選択された該一以上の第2の補正係数を前記第2のA/D変換器によって生成された前記デジタル値に乗算することにより、前記第2の測定値を決定するよう構成された第2の処理部と、
を有する、
請求項1又は2に記載のマイクロ波出力装置。 - 前記複数の第2の補正係数は、複数の設定周波数にそれぞれ対応付けられた複数の第3の係数、及び、複数の設定パワーにそれぞれ対応付けられた複数の第4の係数を含んでおり、
前記第2の処理部は、前記一以上の第2の補正係数として、前記複数の第3の係数のうち前記制御器によって指示された前記設定周波数に対応付けられた第3の係数、及び、前記複数の第4の係数のうち前記制御器によって指定された前記設定パワーに対応付けられた第4の係数を、前記第2のA/D変換器によって生成された前記デジタル値に乗算することにより、前記第2の測定値を決定するよう構成されている、
請求項3に記載のマイクロ波出力装置。 - 制御器から指示された設定周波数及び設定パワーにそれぞれ応じた周波数及びパワーを有するマイクロ波を発生するマイクロ波発生部と、
前記マイクロ波発生部から伝搬されたマイクロ波を出力する出力部と、
前記マイクロ波発生部から前記出力部に伝搬される進行波の一部を出力する第1の方向性結合器と、
前記第1の方向性結合器からの前記進行波の一部に基づいて、前記出力部における前記進行波のパワーを示す第1の測定値を決定する第1の測定部と、
を備え、
前記第1の測定部は、
前記進行波の前記一部のパワーを表すデジタル値を求める第1のスペクトル解析部と、
前記第1のスペクトル解析部によって求められるデジタル値を前記出力部における進行波のパワーに補正するために予め定められた複数の第1の補正係数から、前記制御器によって指示された前記設定周波数に対応付けられた第1の補正係数を選択し、選択された該第1の補正係数を、前記第1のスペクトル解析部によって求められた前記デジタル値に乗算することにより、前記第1の測定値を決定するよう構成された第1の処理部と、
を有する、
マイクロ波出力装置。 - 前記出力部に戻された反射波の一部を出力する第2の方向性結合器と、
前記第2の方向性結合器から出力される前記反射波の一部に基づいて、前記出力部における前記反射波のパワーを示す第2の測定値を決定する第2の測定部と、
を更に備え、
前記第2の測定部は、
前記反射波の前記一部のパワーを表すデジタル値を求める第2のスペクトル解析部と、
前記第2のスペクトル解析部によって求められるデジタル値を前記出力部における反射波のパワーに補正するために予め定められた複数の第2の補正係数から、前記制御器によって指示された前記設定周波数に対応付けられた第2の補正係数を選択し、選択された該第2の補正係数を、前記第2のスペクトル解析部によって求められた前記デジタル値に乗算することにより、前記第2の測定値を決定するよう構成された第2の処理部と、
を有する、
請求項5に記載のマイクロ波出力装置。 - 前記マイクロ波発生部は、前記第1の測定値と前記第2の測定値との差を前記制御器によって指定された前記設定パワーに近づけるよう、該マイクロ波発生部が発生する前記マイクロ波のパワーを調整するパワー制御部を有する、請求項3〜4及び6の何れか一項に記載のマイクロ波出力装置。
- チャンバ本体と、
請求項1〜7の何れか一項に記載のマイクロ波出力装置であり、前記チャンバ本体内に供給されるガスを励起させるためのマイクロ波を出力する該マイクロ波出力装置と、
を備えるプラズマ処理装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016204390A JP6718788B2 (ja) | 2016-10-18 | 2016-10-18 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 |
KR1020197013860A KR102419025B1 (ko) | 2016-10-18 | 2017-10-04 | 마이크로파 출력 장치 및 플라즈마 처리 장치 |
PCT/JP2017/036137 WO2018074236A1 (ja) | 2016-10-18 | 2017-10-04 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 |
US16/342,766 US20190267216A1 (en) | 2016-10-18 | 2017-10-04 | Microwave output device and plasma processing apparatus |
CN201780063567.5A CN109952816B (zh) | 2016-10-18 | 2017-10-04 | 微波输出装置及等离子体处理装置 |
TW106134876A TWI749082B (zh) | 2016-10-18 | 2017-10-12 | 微波輸出裝置及電漿處理裝置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016204390A JP6718788B2 (ja) | 2016-10-18 | 2016-10-18 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018067418A JP2018067418A (ja) | 2018-04-26 |
JP6718788B2 true JP6718788B2 (ja) | 2020-07-08 |
Family
ID=62018527
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016204390A Active JP6718788B2 (ja) | 2016-10-18 | 2016-10-18 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190267216A1 (ja) |
JP (1) | JP6718788B2 (ja) |
KR (1) | KR102419025B1 (ja) |
CN (1) | CN109952816B (ja) |
TW (1) | TWI749082B (ja) |
WO (1) | WO2018074236A1 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6814693B2 (ja) * | 2017-05-10 | 2021-01-20 | 東京エレクトロン株式会社 | マイクロ波出力装置及びプラズマ処理装置 |
EP3760250A4 (en) | 2018-03-30 | 2021-05-12 | TERUMO Kabushiki Kaisha | ADMINISTRATION DEVICE AND ADMINISTRATION SYSTEM FOR DRUG SOLUTION |
CN110867644B (zh) * | 2019-11-11 | 2021-01-19 | 中国电子科技集团公司第十四研究所 | 一种双频段多极化共口径同轴波导缝隙天线 |
JP7324812B2 (ja) * | 2021-09-27 | 2023-08-10 | 株式会社Kokusai Electric | 半導体装置の製造方法、基板処理装置及びプログラム |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5175472A (en) * | 1991-12-30 | 1992-12-29 | Comdel, Inc. | Power monitor of RF plasma |
JP2006287817A (ja) * | 2005-04-04 | 2006-10-19 | Tokyo Electron Ltd | マイクロ波発生装置、マイクロ波供給装置、プラズマ処理装置及びマイクロ波発生方法 |
JP4648179B2 (ja) * | 2005-12-14 | 2011-03-09 | 株式会社ダイヘン | 高周波測定装置 |
US7489145B2 (en) * | 2005-12-14 | 2009-02-10 | Daihen Corporation | Plasma processing system |
KR101124419B1 (ko) * | 2009-02-18 | 2012-03-20 | 포항공과대학교 산학협력단 | 마이크로파 플라즈마 생성을 위한 휴대용 전력 공급 장치 |
KR101256067B1 (ko) | 2011-03-24 | 2013-04-18 | 삼성에스디아이 주식회사 | 리튬 이차 전지용 음극, 이의 제조 방법 및 이를 포함하는 리튬 이차 전지 |
US20130006555A1 (en) * | 2011-06-30 | 2013-01-03 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method and apparatus for measuring the power of a power generator while operating in variable frequency mode and/or while operating in pulsing mode |
JP5848982B2 (ja) * | 2012-02-17 | 2016-01-27 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及びプラズマのモニタリング方法 |
JP6084860B2 (ja) * | 2013-02-27 | 2017-02-22 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置 |
JP6178594B2 (ja) * | 2013-03-11 | 2017-08-09 | 株式会社日立国際電気 | プラズマ生成用電源装置 |
JP2015022940A (ja) * | 2013-07-19 | 2015-02-02 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置、異常発振判断方法及び高周波発生器 |
JP2015079677A (ja) * | 2013-10-17 | 2015-04-23 | 東京エレクトロン株式会社 | マイクロ波プラズマ処理装置及びマイクロ波供給方法 |
JP6342235B2 (ja) * | 2014-03-19 | 2018-06-13 | 株式会社ダイヘン | 高周波電源 |
JP2016170940A (ja) * | 2015-03-12 | 2016-09-23 | 東京エレクトロン株式会社 | マイクロ波自動整合器及びプラズマ処理装置 |
-
2016
- 2016-10-18 JP JP2016204390A patent/JP6718788B2/ja active Active
-
2017
- 2017-10-04 WO PCT/JP2017/036137 patent/WO2018074236A1/ja active Application Filing
- 2017-10-04 US US16/342,766 patent/US20190267216A1/en not_active Abandoned
- 2017-10-04 CN CN201780063567.5A patent/CN109952816B/zh active Active
- 2017-10-04 KR KR1020197013860A patent/KR102419025B1/ko active IP Right Grant
- 2017-10-12 TW TW106134876A patent/TWI749082B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20190067223A (ko) | 2019-06-14 |
TWI749082B (zh) | 2021-12-11 |
JP2018067418A (ja) | 2018-04-26 |
WO2018074236A1 (ja) | 2018-04-26 |
CN109952816A (zh) | 2019-06-28 |
US20190267216A1 (en) | 2019-08-29 |
KR102419025B1 (ko) | 2022-07-11 |
TW201828782A (zh) | 2018-08-01 |
CN109952816B (zh) | 2021-10-15 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A521 | Request for written amendment filed |
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R250 | Receipt of annual fees |
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|
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