JP6643048B2 - 基板を処理する装置、物品の製造方法、および気体供給経路 - Google Patents
基板を処理する装置、物品の製造方法、および気体供給経路 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6643048B2 JP6643048B2 JP2015219791A JP2015219791A JP6643048B2 JP 6643048 B2 JP6643048 B2 JP 6643048B2 JP 2015219791 A JP2015219791 A JP 2015219791A JP 2015219791 A JP2015219791 A JP 2015219791A JP 6643048 B2 JP6643048 B2 JP 6643048B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- condensable gas
- pipe
- gas
- mold
- imprint
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 17
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims description 35
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 14
- 238000011084 recovery Methods 0.000 claims description 13
- 238000001914 filtration Methods 0.000 claims description 4
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 3
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 138
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 34
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 34
- MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N pentafluoropropane Chemical compound FC(F)CC(F)(F)F MSSNHSVIGIHOJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 8
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 4
- 238000001723 curing Methods 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 description 2
- 238000004904 shortening Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 238000001459 lithography Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000001029 thermal curing Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/32—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C43/56—Compression moulding under special conditions, e.g. vacuum
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/38—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
- B29C33/40—Plastics, e.g. foam or rubber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/02—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles
- B29C43/021—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles characterised by the shape of the surface
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/18—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
- H01L21/30—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26
- H01L21/31—Treatment of semiconductor bodies using processes or apparatus not provided for in groups H01L21/20 - H01L21/26 to form insulating layers thereon, e.g. for masking or by using photolithographic techniques; After treatment of these layers; Selection of materials for these layers
- H01L21/3105—After-treatment
- H01L21/31058—After-treatment of organic layers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/67011—Apparatus for manufacture or treatment
- H01L21/67092—Apparatus for mechanical treatment
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/02—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles
- B29C43/021—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles characterised by the shape of the surface
- B29C2043/023—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles characterised by the shape of the surface having a plurality of grooves
- B29C2043/025—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor of articles of definite length, i.e. discrete articles characterised by the shape of the surface having a plurality of grooves forming a microstructure, i.e. fine patterning
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C43/00—Compression moulding, i.e. applying external pressure to flow the moulding material; Apparatus therefor
- B29C43/32—Component parts, details or accessories; Auxiliary operations
- B29C43/56—Compression moulding under special conditions, e.g. vacuum
- B29C2043/566—Compression moulding under special conditions, e.g. vacuum in a specific gas atmosphere, with or without pressure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2995/00—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds
- B29K2995/0018—Properties of moulding materials, reinforcements, fillers, preformed parts or moulds having particular optical properties, e.g. fluorescent or phosphorescent
- B29K2995/0026—Transparent
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Description
Ps−P0≧λ・(L/D)・(γV2)/2 式(1)
ただし、
Psは気体供給配管67内の凝縮性ガスの飽和蒸気圧、
P0は大気圧、
λは気体供給配管67の摩擦係数、
Dは気体供給配管67の内径、
γは気体供給配管67内のガス密度、
Vは気体供給配管67における凝縮性ガスの流速
を表す。
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板上のインプリント材に上記インプリント装置を用いてパターン形成を行う工程(インプリント処理を基板に行う工程)と、かかる工程でパターンを形成された基板(インプリント処理を行われた基板)を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (11)
- 基板上の未硬化のインプリント材と型とを互いに接触させた状態で前記インプリント材を硬化させる装置であって、
前記接触により液化する凝縮性気体を前記インプリント材と前記型との間に供給する供給部と、
前記凝縮性気体を気体状態で前記供給部に移送するための第1配管と、
前記第1配管に接続され、前記凝縮性気体を液体状態で貯蔵する貯蔵部と、
前記凝縮性気体を液体状態で前記貯蔵部に移送するための第2配管と、
を含み、前記供給部は、前記貯蔵部の中で気化し前記第1配管を介して移送された前記凝縮性気体を供給するように設けられ、
前記第2配管には、前記液体状態の凝縮性気体を濾過するフィルタが配置されていることを特徴とする装置。 - 前記第1配管における前記凝縮性気体の飽和蒸気圧をPs、大気圧をP0、前記第1配管の摩擦係数をλ、前記第1配管の内径をD、前記第1配管における前記凝縮性気体の密度をγ、前記第1配管における前記凝縮性気体の流速をV、前記第1配管の長さをLとして、
Ps−P0≧λ・(L/D)・(γV2)/2
を満たすことを特徴とする請求項1に記載の装置。 - 前記貯蔵部の内部の温度調整を行う温度調整機構を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の装置。
- 前記貯蔵部は、前記供給部の位置より高い位置に配置されていることを特徴とする請求項1乃至3のうちいずれか1項に記載の装置。
- 前記供給部により前記インプリント材と前記型との間に供給された前記凝縮性気体を回収する回収部と、
前記回収部により回収された前記凝縮性気体を収容する容器と、
を含むことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載の装置。 - 前記供給部に移送するための前記第1配管の中で液化した前記凝縮性気体を回収して前記容器に移送する機構を含むことを特徴とする請求項5に記載の装置。
- 前記容器に収容された前記凝縮性気体を前記貯蔵部に移送する機構を有することを特徴とする請求項5又は6に記載の装置。
- 前記凝縮性気体の沸点は、−10乃至23℃の範囲内にあることを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載の装置。
- 前記凝縮性気体の飽和蒸気圧は、0.1乃至0.4MPaの範囲内にあることを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載の装置。
- 請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載の装置を用いて、基板上に硬化したインプリント材のパターンを形成する工程と、
前記工程で前記パターンが形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。 - 基板上の未硬化のインプリント材と型との間の空気を凝縮性気体で置換した状態で前記インプリント材と前記型とを互いに接触させ、前記インプリント材を硬化させるインプリント処理部に接続され、前記凝縮性気体を前記インプリント処理部に供給する気体供給経路であって、
前記凝縮性気体を気体状態で前記インプリント処理部に移送するための第1配管と、
前記第1配管に接続され、前記凝縮性気体を液体状態で貯蔵する貯蔵部と、
前記凝縮性気体を液体状態で前記貯蔵部に移送するための第2配管と、
前記第2配管に配置され、前記液体状態の凝縮性気体を濾過するフィルタと、
を有することを特徴とする気体供給経路。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015219791A JP6643048B2 (ja) | 2015-11-09 | 2015-11-09 | 基板を処理する装置、物品の製造方法、および気体供給経路 |
US15/345,205 US10481490B2 (en) | 2015-11-09 | 2016-11-07 | Imprint apparatus, and method of manufacturing article |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015219791A JP6643048B2 (ja) | 2015-11-09 | 2015-11-09 | 基板を処理する装置、物品の製造方法、および気体供給経路 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017092218A JP2017092218A (ja) | 2017-05-25 |
JP2017092218A5 JP2017092218A5 (ja) | 2018-12-20 |
JP6643048B2 true JP6643048B2 (ja) | 2020-02-12 |
Family
ID=58668512
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015219791A Active JP6643048B2 (ja) | 2015-11-09 | 2015-11-09 | 基板を処理する装置、物品の製造方法、および気体供給経路 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10481490B2 (ja) |
JP (1) | JP6643048B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6726987B2 (ja) * | 2016-03-17 | 2020-07-22 | キヤノン株式会社 | インプリント装置および物品製造方法 |
US11448958B2 (en) * | 2017-09-21 | 2022-09-20 | Canon Kabushiki Kaisha | System and method for controlling the placement of fluid resist droplets |
US11243466B2 (en) * | 2019-01-31 | 2022-02-08 | Canon Kabushiki Kaisha | Template with mass velocity variation features, nanoimprint lithography apparatus that uses the template, and methods that use the template |
Family Cites Families (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2664419B2 (ja) * | 1988-07-06 | 1997-10-15 | 三洋電機株式会社 | 吸収冷凍機の抽気装置 |
JP2916851B2 (ja) | 1993-05-07 | 1999-07-05 | 福田 武夫 | スラリ散布を行う土壌作業機 |
JPH08128596A (ja) * | 1994-10-28 | 1996-05-21 | Fujitsu Ltd | ガス蒸発装置及びガス供給方法 |
US6257866B1 (en) * | 1996-06-18 | 2001-07-10 | Hy-Tech Forming Systems, Inc. | Apparatus for accurately forming plastic sheet |
US5997963A (en) * | 1998-05-05 | 1999-12-07 | Ultratech Stepper, Inc. | Microchamber |
US8211214B2 (en) * | 2003-10-02 | 2012-07-03 | Molecular Imprints, Inc. | Single phase fluid imprint lithography method |
US7316554B2 (en) * | 2005-09-21 | 2008-01-08 | Molecular Imprints, Inc. | System to control an atmosphere between a body and a substrate |
US20070231422A1 (en) * | 2006-04-03 | 2007-10-04 | Molecular Imprints, Inc. | System to vary dimensions of a thin template |
JP5264122B2 (ja) * | 2007-08-23 | 2013-08-14 | 日本エア・リキード株式会社 | 熱処理装置およびこれを用いた液化ガス供給装置 |
JP2009052595A (ja) | 2007-08-23 | 2009-03-12 | Air Liquide Japan Ltd | 液化ガス供給装置および供給方法 |
JP5679850B2 (ja) * | 2011-02-07 | 2015-03-04 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および、物品の製造方法 |
JP5707491B2 (ja) * | 2011-05-18 | 2015-04-30 | オルガノ株式会社 | 高純度液化炭酸ガス製造方法及び装置 |
JP5787691B2 (ja) * | 2011-09-21 | 2015-09-30 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 |
JP6305058B2 (ja) * | 2013-03-05 | 2018-04-04 | キヤノン株式会社 | 感光性ガス発生剤、光硬化性組成物 |
JP6494185B2 (ja) * | 2013-06-26 | 2019-04-03 | キヤノン株式会社 | インプリント方法および装置 |
JP6177346B2 (ja) * | 2013-11-06 | 2017-08-09 | キヤノン株式会社 | インプリント用型のパターンの決定方法、インプリント方法及び装置 |
JP6497839B2 (ja) * | 2013-11-07 | 2019-04-10 | キヤノン株式会社 | インプリント装置及び物品の製造方法 |
JP5989177B2 (ja) * | 2015-04-20 | 2016-09-07 | キヤノン株式会社 | インプリント装置、および物品の製造方法 |
-
2015
- 2015-11-09 JP JP2015219791A patent/JP6643048B2/ja active Active
-
2016
- 2016-11-07 US US15/345,205 patent/US10481490B2/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2017092218A (ja) | 2017-05-25 |
US10481490B2 (en) | 2019-11-19 |
US20170129144A1 (en) | 2017-05-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6184538B2 (ja) | インプリント方法、およびインプリント装置 | |
US9770850B2 (en) | Imprint apparatus and article manufacturing method | |
JP6643048B2 (ja) | 基板を処理する装置、物品の製造方法、および気体供給経路 | |
US9829789B2 (en) | Method for determining pattern of mold for imprint, imprint method, and apparatus | |
JP6329353B2 (ja) | インプリント装置、および物品の製造方法 | |
JP5932500B2 (ja) | インプリント方法およびインプリント装置、それを用いた物品の製造方法 | |
JP6525572B2 (ja) | インプリント装置、および物品の製造方法 | |
JP6525628B2 (ja) | インプリント装置及び物品の製造方法 | |
JP6960232B2 (ja) | リソグラフィ装置、および物品製造方法 | |
JP5995567B2 (ja) | インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 | |
KR102308377B1 (ko) | 임프린트 장치 및 물품 제조 방법 | |
JP2013038137A (ja) | モールド、インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 | |
JP2016004837A (ja) | インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法 | |
JP6336275B2 (ja) | インプリント装置、および物品の製造方法 | |
US20170140922A1 (en) | Generating method, imprinting method, imprint apparatus, program, and method of manufacturing article | |
JP6304921B2 (ja) | インプリント方法およびインプリント装置、それを用いた物品の製造方法 | |
JP2013145794A (ja) | インプリント装置およびインプリント方法、それを用いた物品の製造方法 | |
JP2018067606A (ja) | インプリント装置、インプリント方法および物品製造方法 | |
KR102240226B1 (ko) | 임프린트 장치 및 물품 제조 방법 | |
KR20220083588A (ko) | 임프린트 장치, 임프린트 방법, 물품 제조 방법 및 저장 매체 | |
US20220334471A1 (en) | Imprint apparatus, imprint method and article manufacturing method | |
JP2024042329A (ja) | クリーニング装置、クリーニング方法、インプリント装置、及び物品の製造方法 | |
JP2018019041A (ja) | 液体充填方法、インプリント方法、及び物品の製造方法 | |
JP2018142673A (ja) | リソグラフィ装置および物品製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181101 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20181101 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20190808 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190823 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20191004 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20191206 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200106 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6643048 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |