JP6640848B2 - 流体をスプレー本体の下方へ且つ入口ポートへ向けて誘導するように方向付けられた流体出口を採用する研磨パッド洗浄システム、及びそれに関連する方法 - Google Patents
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Claims (11)
- 化学機械研磨システム内に配置された研磨パッドのためのスプレーシステムであって、
底側及び上側を有し、前記底側に対して開かれている入口ポート、内側プレナム、及び出口ポートを含む、スプレー本体、
流体出口の第1の群であって、該流体出口の第1の群を出て行く流体を、前記スプレー本体の前記底側の下方へ且つ前記入口ポートへ向けて誘導する配向を有する、流体出口の第1の群、並びに
前記入口ポート内に配置され、前記入口ポートを第1の入口ポートと第2の入口ポートへ分離する仕切りであって、通路が前記入口ポートから前記内側プレナムの中へ延在し、前記仕切りの両側で前記通路を通過する流体の混合を妨げる、仕切り
を備える、スプレーシステム。 - 流体出口の第2の群であって、該流体出口の第2の群を出て行く流体を、前記スプレー本体の前記底側の下方へ且つ前記入口ポートへ向けて誘導する配向を有する、流体出口の第2の群を更に備え、前記入口ポートが、前記流体出口の第1の群と前記流体出口の第2の群を分離する、請求項1に記載のスプレーシステム。
- 化学機械研磨システム内に配置されたスプレーシステムであって、前記化学機械研磨システムが、研磨中に研磨パッドを支持するためのプラテン及び基板を保持するための研磨ヘッドを有し、前記スプレーシステムが、
前記プラテンに面する底側及び上側を有し、前記底側に対して開かれている入口ポート、内側プレナム、及び出口ポートを含む、スプレー本体、
流体出口の第1の群であって、該流体出口の第1の群を出て行く流体を、前記スプレー本体の前記底側の下方へ且つ前記入口ポートへ向けて誘導する配向を有する、流体出口の第1の群、並びに
流体出口の第2の群であって、該流体出口の第2の群を出て行く流体を、前記スプレー本体の前記底側の下方へ且つ前記入口ポートへ向けて誘導する配向を有する、流体出口の第2の群、
を備え、
前記入口ポートが、前記流体出口の第1の群と前記流体出口の第2の群を分離する、
スプレーシステム。 - 流体出口の第3の群であって、前記スプレー本体に連結され、該流体出口の第3の群を出て行く流体を、前記入口ポートから離れるように誘導する配向を有する、流体出口の第3の群を更に備える、請求項3に記載のスプレーシステム。
- 化学機械研磨システム内に配置されたスプレーシステムであって、前記化学機械研磨システムが、研磨中に研磨パッドを支持するためのプラテン及び基板を保持するための研磨ヘッドを有し、前記スプレーシステムが、
前記プラテンに面する底側及び上側を有し、前記底側に対して開かれている入口ポート、内側プレナム、前記入口ポートから前記内側プレナムの中へ延在する拡大通路、及び出口ポートを含む、スプレー本体、並びに
流体出口の第1の群であって、該流体出口の第1の群を出て行く流体を、前記スプレー本体の前記底側の下方へ且つ前記入口ポートへ向けて誘導する配向を有する、流体出口の第1の群、
を備える、スプレーシステム。 - 化学機械研磨システム内に配置されたスプレーシステムであって、前記化学機械研磨システムが、研磨中に研磨パッドを支持するためのプラテン及び基板を保持するための研磨ヘッドを有し、前記スプレーシステムが、
前記プラテンに面する底側及び上側を有し、前記底側に対して開かれている入口ポート、内側プレナム、前記入口ポートから前記内側プレナムの中へ延在する通路、及び出口ポートを含む、スプレー本体、
流体出口の第1の群であって、該流体出口の第1の群を出て行く流体を、前記スプレー本体の前記底側の下方へ且つ前記入口ポートへ向けて誘導する配向を有する、流体出口の第1の群、並びに
前記入口ポート内に配置され、前記入口ポートを第1の入口ポートと第2の入口ポートへ分離する、仕切り、
を備え、
前記仕切りが、前記仕切りの両側で前記通路を通過する流体の混合を妨げる、
スプレーシステム。 - 化学機械研磨システム内に配置されたスプレーシステムであって、前記化学機械研磨システムが、研磨中に研磨パッドを支持するためのプラテン及び基板を保持するための研磨ヘッドを有し、前記スプレーシステムが、
前記プラテンに面する底側及び上側を有し、前記底側に対して開かれている入口ポート、内側プレナム、出口ポート、及び前記底側内に形成された1以上の流体凹部を含む、スプレー本体、並びに
流体出口の第1の群であって、該流体出口の第1の群を出て行く流体を、前記スプレー本体の前記底側の下方へ且つ前記入口ポートへ向けて誘導する配向を有する、流体出口の第1の群、
を備え、
前記流体凹部が、前記入口ポートによって前記流体出口の第1の群から分離されている、
スプレーシステム。 - 前記スプレー本体の第1の端部に連結されたダムであって、前記底側から離れるように延在する、ダムを更に備える、請求項5から7のいずれか一項に記載のスプレーシステム。
- 前記スプレー本体の第1の端部に連結されたダムであって、前記底側から離れるように延在する、ダム、及び
前記スプレー本体の向かい合った端部に連結された少なくとも1つのスペーサであって、前記底側から離れるように延在し、前記研磨パッド上で前記スプレー本体を支持するように構成されたベアリング面を画定する、スペーサを更に備える、請求項5から7のいずれか一項に記載のスプレーシステム。 - 前記スプレー本体の前記上側が、凸状外側上面を更に備える、請求項3から9のいずれか一項に記載のスプレーシステム。
- 基板を研磨する方法であって、
研磨パッド上の基板を研磨すること、
スプレー本体に連結された流体出口の第1の群から、前記研磨パッドに対して前記スプレー本体の底側の下方へ、且つ、前記スプレー本体内に形成された入口ポートへ向けて、流体を誘導すること、
前記スプレー本体に連結された流体出口の第2の群から、前記研磨パッドに対して前記スプレー本体の底側の下方へ、且つ、前記スプレー本体内に形成された前記入口ポートへ向けて、流体を誘導すること、及び
前記流体出口の第1の群並びに前記流体出口の第2の群から前記研磨パッドに対して向けられた前記流体を、前記研磨パッドから前記入口ポートを通して前記スプレー本体の中へ除去すること、
を含み、
前記流体出口の第1の群と前記流体出口の第2の群が、前記入口ポートによって分離されている、
方法。
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