JP6630790B2 - リソグラフィ装置 - Google Patents
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Description
:y)の差に基づいてもよい。代替的または追加的に、予測されるペリクル121のxおよびyの両方向の熱膨張が具体的使用のために(放射101の強度や周囲の動作温度などに基づいて)計算されてもよい。各方向に加えられる初期応力の差はしたがって、予測される熱膨張に基づいてこれを低減または最小化するように選択されてもよい。例えば、ペリクルに異なる方向に加えられる初期応力の差は、その方向の熱膨張の予測される差に比例してもよい。
(条項1)
リソグラフィ用のレチクルを保護する装置であって、
ペリクルと;少なくとも一つのアクチュエータと;を備え、
当該装置は、使用中、前記アクチュエータがレチクルに対する前記ペリクルの動きを生じさせるように構成されることを特徴とする装置。
(条項2)
前記動きは、実質的にレチクルのパターン面により規定される面に平行な面内であることを特徴とする条項1に記載の装置。
(条項3)
前記少なくとも一つのアクチュエータは圧電トランスデューサであることを特徴とする条項1または2に記載の装置。
(条項4)
当該装置は、前記少なくとも一つのアクチュエータが前記レチクルに対する前記ペリクルの周期的な動きを生じさせるように構成されることを特徴とする条項1から3のいずれかに記載の装置。
(条項5)
当該装置は、前記少なくとも一つのアクチュエータがレチクルに対する前記ペリクルの振動性の動きを生じさせるように構成されることを特徴とする条項4に記載の装置。
(条項6)
当該装置は、少なくとも一つの周期が放射の局所露光に必要な時間周期内に完了するようなペリクルの動きを前記少なくとも一つのアクチュエータが生じさせるように構成されることを特徴とする条項4または5に記載の装置。
(条項7)
当該装置は、少なくとも一つの周期が放射の全領域露光に必要な時間周期内に完了するようなペリクルの動きを前記少なくとも一つのアクチュエータが生じさせるように構成されることを特徴とする条項4から6のいずれかに記載の装置。
(条項8)
レチクルの上方にペリクルを支持するためのフレームをさらに備え、前記フレームが前記少なくとも一つのアクチュエータを備えることを特徴とする条項1から7のいずれかに記載の装置。
(条項9)
レチクルの上方にペリクルを支持するためのフレームをさらに備え、
前記アクチュエータは、レチクルの動きを生じさせるように構成されるアクチュエータであることを特徴とする条項1から7のいずれかに記載の装置。
(条項10)
前記フレームは、レチクル表面に取り付けるための第1フレーム部材と、前記ペリクルを支持するための第2フレーム部材と、を備え、
前記第1および第2フレーム部材は、可撓性部材、弾性部材または衝撃吸収部材の少なくとも一つにより接続されることを特徴とする条項8または9に記載の装置。
(条項11)
前記ペリクルは、メッシュサポートペリクルであることを特徴とする条項1から10のいずれかに記載の装置。
(条項12)
リソグラフィ装置のレチクルを保護する方法であって、
レチクルの放射露光中にレチクルの上方に支持されるペリクルの前記レチクルに対する動きを生じさせることを備えることを特徴とする方法。
(条項13)
前記動きは、レチクルのパターン面により規定される面に平行な面内であることを特徴とする条項12に記載の方法。
(条項14)
前記動きは、圧電トランスデューサを用いて誘起されることを特徴とする条項12または13に記載の方法。
(条項15)
前記動きは、パッシブな動きであることを特徴とする条項12または13に記載の方法。
(条項16)
前記動きは、レチクルの動きにより受動的に生じることを特徴とする条項15に記載の方法。
(条項17)
前記動きは、周期的であることを特徴とする条項12から16のいずれかに記載の方法。
(条項18)
前記動きは、振動性であることを特徴とする条項17に記載の方法。
(条項19)
少なくとも一つの周期が局所露光に必要な時間周期内に完了することを特徴とする条項17または18に記載の方法。
(条項20)
少なくとも一つの周期が全領域露光に必要な時間周期内に完了することを特徴とする条項17または18に記載の方法。
(条項21)
前記動きは、レチクルにて受ける放射がレチクルのパターン面にわたって実質的に均一な強度分布を有するように適合されることを特徴とする条項12から20のいずれかに記載の方法。
(条項22)
前記動きは、前記ペリクルを支持するメッシュにより生じる影がレチクルのパターン面にて受ける放射の強度分布に及ぼす影響を実質的に低減させるように適合されることを特徴とする条項12から21のいずれかに記載の方法。
(条項23)
前記動きは、前記メッシュにより生じる影の影響をレチクルの前記パターン面にわたって平均化させるように適合されることを特徴とする条項22に記載の方法。
(条項24)
リソグラフィのためのレチクルアセンブリであって、
入射する放射ビームにパターンを付すのに適したパターン面を有するレチクルと;
少なくとも前記パターン面の上に保持されるペリクルと;
少なくとも一つのアクチュエータと;を備え、
当該レチクルアセンブリは、前記アクチュエータが前記パターン面に対する前記ペリクルの動きを生じさせるように構成されることを特徴とするレチクルアセンブリ。
(条項25)
約5nmから約20nmの波長を有する放射ビームを用いてレチクルアセンブリからのパターンを基板上に投影するように構成され、前記レチクルアセンブリが条項24に記載のレチクルアセンブリであることを特徴とするリソグラフィ装置。
(条項26)
放射ビームを調整するよう構成される照明システムと;
放射ビームの断面にパターンを付してパターン放射ビームを形成可能な前記レチクルアセンブリを保持するよう構築されるサポート構造と;
基板を保持するよう構築される基板テーブルと;
前記パターン放射ビームを前記基板の目標部分に投影するよう構成される投影システムと;をさらに備えることを特徴とする条項25に記載のリソグラフィ装置。
(条項27)
条項25または26に記載のリソグラフィ装置を用いて基板をパターン化する放射を生成することを備えることを特徴とするデバイス製造方法。
(条項28)
入射する放射ビームにパターンを付すのに適したパターン面を有するレチクルの特性を検査するように構成され、条項24に記載のレチクルアセンブリを備えることを特徴とする装置。
(条項29)
ペリクルフレームを備え、前記ペリクルフレームがレチクルの上方にペリクルを支持するための内側フレームと前記内側フレームに着脱可能に結合される外側フレームとを備えることを特徴とするペリクルアセンブリ。
(条項30)
前記内側フレームが可撓性であることを特徴とする条項29に記載のペリクルアセンブリ。
(条項31)
前記外側フレームが堅固であることを特徴とする条項30または31に記載のペリクルアセンブリ。
(条項32)
前記内側フレームが複数の辺を備え、各辺が辺により規定される長手方向に直交する面内において4mm2以下の断面積を有することを特徴とする条項29から31のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
(条項33)
前記内側フレームがステンレス鋼で構成されることを特徴とする条項29から32のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
(条項34)
前記外側フレームが複数の留め具により前記内側フレームに結合されることを特徴とする条項29から33のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
(条項35)
前記ペリクルフレームの各辺に沿って少なくとも3個の留め具が設けられることを特徴とする条項34に記載のペリクルアセンブリ。
(条項36)
前記外側フレームは、自動配置ツールと結合されるように構成されることを特徴とする条項29から35のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
(条項37)
レチクル表面にペリクルを取り付ける方法であって、
条項57から63のいずれかに記載のペリクルをレチクルの上に配置して前記ペリクルをペリクルアセンブリの内側フレームに取り付けることと;
前記ペリクルアセンブリから外側フレームを取り外すことと;を備えることを特徴とする方法。
(条項38)
レチクルの上方にペリクルを支持するためのペリクルフレームを備え、前記ペリクルフレームが、使用中、レチクルに対するペリクルの動きが生じるように構成されることを特徴とするペリクルアセンブリ。
(条項39)
前記動きは、実質的に前記レチクルのパターン面により規定される面に平行な面内であることを特徴とする条項38に記載のペリクルアセンブリ。
(条項40)
誘起される前記動きは、前記レチクルに対する前記ペリクルの周期的な動きであることを特徴とする条項38または39に記載のペリクルアセンブリ。
(条項41)
前記ペリクルアセンブリは、前記レチクルに対する前記ペリクルの振動性の動きが使用中に生じるように構成されることを特徴とする条項40に記載のペリクルアセンブリ。
(条項42)
前記ペリクルアセンブリは、少なくとも一つの周期が前記レチクルの局所放射露光に必要な時間周期内に完了するような前記ペリクルの前記動きが生じるように構成されることを特徴とする条項40または41に記載のペリクルアセンブリ。
(条項43)
前記ペリクルアセンブリは、少なくとも一つの周期が前記レチクルの全領域放射露光に必要な時間周期内に完了するような前記ペリクルの前記動きが生じるように構成されることを特徴とする条項40から42のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
(条項44)
レチクルの上方にペリクルを支持するためのペリクルフレームを備え、前記レチクルの動きを生じさせるアクチュエータが設けられ、前記レチクルの前記動きが前記ペリクルの前記動きを生じさせることを特徴とする条項38から43のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
(条項45)
レチクルの上方にペリクルを支持するためのペリクルフレームを備え、前記フレームは少なくとも一つのアクチュエータを備え、前記アクチュエータが前記ペリクルの前記動きを生じさせるように構成されることを特徴とする条項38から43のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
(条項46)
前記ペリクルフレームは、前記レチクルの表面に取り付けるための第1フレーム部材と、前記ペリクルを支持するための第2フレーム部材と、を備え、
前記第1および第2フレーム部材は、可撓性部材、弾性部材または衝撃吸収部材の少なくとも一つにより接続されることを特徴とする条項38から45のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
(条項47)
二つのアクチュエータを備え、各アクチュエータが他方のアクチュエータと直交する方向にペリクルの振動を生じさせるように構成されることを特徴とする条項1から11のいずれかに記載の装置。
(条項48)
前記二つのアクチュエータのそれぞれにより生じる振動は、周波数、位相または振幅の少なくとも一つに関して異なることを特徴とする条項47に記載の装置。
(条項49)
二つの振動子は、ペリクルの移動中のいかなる時間においてもペリクルが静止しないようにペリクルを振動させるよう構成されることを特徴とする条項47または48に記載の装置。
(条項50)
二つの振動子は、ペリクルをリサージュパターンで振動させるように構成されることを特徴とする条項47から49のいずれかに記載の装置。
(条項51)
前記メッシュは、非周期的グリッド構造を備えることを特徴とする条項11または条項11に従属するいずれかの条項に記載の装置。
(条項52)
前記メッシュは、ペンローズグリッド構造を備えることを特徴とする条項51に記載の装置。
(条項53)
動きを生じさせることは、二つの直交する方向に振動する動きをペリクルに生じさせることを特徴とする条項12から23のいずれかに記載の方法。
(条項54)
一の方向に誘起される振動は、周波数、位相または振幅の少なくとも一つに関して他の方向に誘起される振動と異なることを特徴とする条項53に記載の方法。
(条項55)
振動性の動きは、ペリクルの移動中のいかなる時間においてもペリクルが静止しないように構成されることを特徴とする条項53または54に記載の方法。
(条項56)
誘起される動きは、リサージュパターンに従うことを特徴とする条項53または54に記載の方法。
(条項57)
前記メッシュは、非周期的グリッド構造を備えることを特徴とする条項22または条項22に従属する条項のいずれかに記載の方法。
(条項58)
前記メッシュは、ペンローズグリッド構造を備えることを特徴とする条項56に記載の方法。
(条項59)
ペリクルアセンブリ又はダイナミックガスロック膜として使用する膜アセンブリを製造する方法であって、
膜の内部において第1方向に第1の量の張力と第2方向に第1の量より大きい第2の量の張力とを生じさせることを備え、
前記膜は、前記フレームに取り付けられている間、前記第1および第2方向に異なる張力下に維持されることを特徴とする方法。
(条項60)
前記第2方向は前記膜の長手軸と実質的に平行であり、前記第1方向は前記膜の短手軸と実質的に平行であることを特徴とする条項59に記載の方法。
(条項61)
前記第2方向は使用中の前記膜に入射する放射ビームのスキャン方向と実質的に垂直であり、前記第1方向は前記第1方向と実質的に垂直であることを特徴とする条項59または60に記載の方法。
(条項62)
前記膜に加えられる前記第1および第2の量の応力差は、使用中の前記膜に入射するスキャン放射ビームのアスペクト比に依存して選択されることを特徴とする条項59から61のいずれかに記載の方法。
(条項63)
前記膜に加えられる前記第1および第2の量の応力差は、使用中の前記膜に前記第1方向および前記第2方向に生じる熱膨張の差に依存して選択されることを特徴とする条項59から62のいずれかに記載の方法。
(条項64)
前記膜はペリクルとして用いられ、前記第1の量の応力と前記第2の量の応力の比率は実質的に1:13であることを特徴とする条項59から63のいずれかに記載の方法。
(条項65)
前記膜はダイナミックエアロック膜として用いられ、前記第1の量の応力と前記第2の量の応力の比率は実質的に1:3であることを特徴とする条項59から63のいずれかに記載の方法。
(条項66)
ペリクルアセンブリ又はダイナミックガスロック膜アセンブリとして用いられる装置であって、
フレームに取り付けられる膜を備え、前記取り付けられる膜が第1方向に第1の量の張力下にあり、第2方向に第1の量より大きい第2の量の張力下にあることを特徴とする装置。
(条項67)
前記第2方向は前記膜の長手軸と実質的に平行であり、前記第1方向は前記膜の短手軸と実質的に平行であることを特徴とする条項66に記載の装置。
(条項68)
前記第2方向は使用中の前記膜に入射する放射ビームのスキャン方向と実質的に垂直であり、前記第1方向は前記第1方向と実質的に垂直であることを特徴とする条項66または67に記載の装置。
(条項69)
前記第1および第2の量の応力差は、使用中の前記膜に入射するスキャン放射ビームのアスペクト比に実質的に比例することを特徴とする条項66から68のいずれかに記載の装置。
(条項70)
前記第1および第2の量の応力差は、使用中の前記膜に前記第1方向および前記第2方向に生じる熱膨張の差に実質的に比例することを特徴とする条項66から68のいずれかに記載の装置。
(条項71)
前記膜はペリクルであり、前記第1の量の応力と前記第2の量の応力の比率は実質的に1:13であることを特徴とする条項68から70のいずれかに記載の装置。
(条項72)
前記膜はダイナミックエアロック膜であり、前記第1の量の応力と前記第2の量の応力の比率は実質的に1:3であることを特徴とする条項66から70のいずれかに記載の装置。
(条項73)
前記ペリクルが条項66から71のいずれかに記載の膜であることを特徴とする条項1から11、24から26、28、29から36、38から52のいずれかに記載の装置。
(条項74)
前記ペリクルが条項66から71のいずれかに記載の膜であることを特徴とする条項12から23、27、37、53から58のいずれかに記載の方法。
Claims (15)
- ペリクルフレームであって、前記ペリクルフレームがレチクルの上方にペリクルを支持するための内側フレームと前記内側フレームに着脱可能に結合される外側フレームとを備え、前記内側フレームが可撓性であるペリクルフレームと、
前記レチクルに対する前記ペリクルの動きを生じさせるよう構成されるアクチュエータと、を備えることを特徴とするペリクルアセンブリ。 - 前記外側フレームの内縁は、前記内側フレームの外縁と隣接するよう構成されることを特徴とする請求項1に記載のペリクルアセンブリ。
- 前記外側フレームの内縁と前記内側フレームの外縁の間に間隔が存在することを特徴とする請求項1に記載のペリクルアセンブリ。
- ペリクルフレームであって、前記ペリクルフレームがレチクルの上方にペリクルを支持するための内側フレームと前記内側フレームに着脱可能に結合される外側フレームとを備え、前記外側フレームの内縁が前記内側フレームの外縁と隣接するよう構成されるペリクルフレームと、
前記レチクルに対する前記ペリクルの動きを生じさせるよう構成されるアクチュエータと、を備えることを特徴とするペリクルアセンブリ。 - 前記外側フレームが堅固であることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載のペリクルアセンブリ。
- 前記内側フレームが複数の辺を備え、各辺が辺により規定される長手方向に直交する面内において4mm2以下の断面積を有することを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
- 前記内側フレームがステンレス鋼で構成されることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
- 前記外側フレームが複数の留め具により前記内側フレームに結合されることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
- 前記ペリクルフレームの各辺に沿って少なくとも3個の留め具が設けられることを特徴とする請求項8に記載のペリクルアセンブリ。
- 前記外側フレームは、自動配置ツールと結合されるように構成されることを特徴とする請求項1から9のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
- 前記内側フレームおよび/または前記外側フレームは、矩形状であることを特徴とする請求項1から10のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
- 前記外側フレームは、前記内側フレームの周に適合するサイズであることを特徴とする請求項1から11のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
- 前記内側フレームに取り付けられるペリクルをさらに備え、前記ペリクルは、前記内側フレームの内側の空洞をカバーすることを特徴とする請求項1から12のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
- 前記内側フレームは、前記レチクルに取り付けられるよう構成されることを特徴とする請求項1から13のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
- 前記外側フレームは、前記レチクルに取り付けられるよう構成されることを特徴とする請求項1から13のいずれかに記載のペリクルアセンブリ。
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