JP6612670B2 - 基板処理装置、及び、基板処理方法 - Google Patents
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Description
図1〜3を用いて、本発明の一実施形態(実施形態1)に係る基板処理装置100について詳細に説明する。
図2の(a)に示すように、位置特定装置61は、基板10を載置するステージ21、及び、第一アーム22と第二アーム23とを備えてなる挟持部20(別の一組の挟持部)を備えている。ここで、第一アーム22は、基板10の大きさを特定する特定部24を備えている。
図2の(a)に示すように、基板10は、限定されるものではないが、典型的には、シリコンウエハ基板を用いることができる。また、基板10は、セラミックス基板、薄いフィルム基板、フレキシブル基板等の任意の材質からなる基板であってもよい。また、基板10には、例えば、集積回路や金属バンプ等の構造物が実装されていてもよい。なお、限定されるものではないが、本実施形態に係る基板処理装置100において、処理を行なう基板の上面視における形状は、円形である。
ステージ21は、位置特定装置61の外部から搬入されてきた基板10の底面部における内周部分を支持するようにして、当該基板10を載置する台である。ステージ21は駆動部(不図示)によって、図2の(a)に示すZ方向において、上下に移動させることができる。これにより、ステージ21は、第一アーム22と第二アーム23との間に、基板10を搬送することができる。なお、基板10は、その中心点が概ねステージ21の中心点の近くに配置されるように、ステージ21上に載置される。
挟持部20は、基板10を挟持するための第一アーム22及び第二アーム23と、基板10の中心点を求める位置特定部28とを備えている。
搬送ロボット(搬送部)62は、位置特定部28によって、中心点O1を特定した基板10を、処理に応じて所定の装置に搬送する。基板処理装置100では、搬送ロボット62は、当該基板10を位置特定装置61からスピンナー64へと搬送する。次いで、スピンナー64からベークプレート65へと基板10を搬送する。その後、ベークプレート65から洗浄装置66へと基板10を搬送する。搬送ロボット62は、各搬送工程において、ハンド部62aによって基板10の周縁部分を支持して、当該基板10を搬送する。
スピンナー(塗布装置)64は、基板10上に接着剤を塗布する装置である。スピンナー64は、その中心点上に基板10の中心点O1が配置されるように、搬送ロボット62によって基板10が載置されるようになっている。スピンナー64は、載置された基板10を、例えば3000rpmで回転させながら当該基板10上に接着剤をスピン塗布する。なお、基板10の回転速度は特に限定されるものではなく、接着剤の種類、当該基板の大きさ等に応じて適宜設定すればよい。また、基板への接着剤の塗布方法は、スピン塗布(スピンコート)に限定されるものではなく、例えば、ディッピング、ローラーブレード、スプレー塗布、スリット塗布等の方法によって塗布してもよい。
ベークプレート(加熱装置)65は、スピンナー64により接着剤が塗布された基板10を搬送ロボット62から受け取り、加熱することによって基板10上に接着層11を形成する装置である。ベークプレート65は、熱源を取り付けることにより、又は天板に熱源を取り付けることにより、接着剤をベークするとよい。熱源の例としては、例えば、温水ヒータ、温風ヒータ、赤外線ヒータ、及び電熱ヒータ等を挙げることができる。
図3の(a)に示すように、洗浄装置66は、回転ステージ(載置台)31、挟持部20’、EBRノズル(液体供給部)32及び洗浄カップ(カップ)33を備えている。
回転ステージ31は、駆動軸34によってX−Y平面において回転することができる。回転ステージ31は、例えば、減圧部(不図示)に連通することにより、基板10の底面部を吸着保持することができる吸着部(不図示)を備えている。より具体的には、回転ステージは、例えば、真空チャック及びモータを備えたスピンチャックであり得る。
挟持部20’は、第一アーム22及び第二アーム23を備えている点において、挟持部20と同じである。また、挟持部20’は、例えば、有線又は無線等の通信部(不図示)を備えており、位置特定部28が特定した基板10の大きさ及び中心点O1の座標のデータを、当該通信部から受信する。よって、挟持部20’は、特定部24のように、標準となる基板10’の直径と基板10の直径との差を特定する機構を備えずとも、位置特定部28によって特定されたデータに基づき、第一アーム22及び第二アーム23をX方向に移動させ、基板10を挟持するという簡易な動作によって、基板10の中心点O1を回転ステージ31の中心点O3の上に配置することができる(図3の(a))。
EBRノズル(液体供給部)32は、回転ステージ31上で回転している基板10に対して、洗浄液(液体)を噴射することによって、基板10の周縁部分に形成された接着層11を溶解して除去するようになっている。洗浄液をEBRノズル32から供給するときの流量、及び洗浄液の供給時間は、除去対象の組成、除去対象の厚さ、使用する溶剤の種類、及び除去の程度に応じて異なり得るが、当業者であれば、その最適条件を困難なく検討及び決定することができる。
本発明に係る基板処理装置は、上記実施形態(実施形態1)に限定されない。例えば、図4に示すように、一実施形態(実施形態2)に係る基板処理装置が備えている洗浄装置66’は、第一アーム42において、カムフォロア(第二回動部)43及び44を備えている構成である。なお、駆動部25a及び駆動部25bについては、実施形態1の構成と同じであるため、その説明を省略する。
挟持部40は、第一アーム42及び第二アーム23を備えている。第一アーム42は、第一アーム22における当接面22aに替えて、カムフォロア(第二回動部)43及び44を備えている構成である。
本発明に係る基板処理装置は、上記実施形態(実施形態1及び2)に限定されない。例えば、図5に示すように、一実施形態(実施形態3)に係る基板処理装置が備えている洗浄装置66”では、挟持部50は、第一アーム22と第二アーム51とを備えており、第二アーム51には、カムフォロア26及び27以外の第一回動部として、カムフォロア52及び53が設けられている構成である。ここで、カムフォロア52とカムフォロア53とを結ぶ線分A’の中間点A’1が、基板10及び基板10’の中心点を通る線分C上に位置することは、カムフォロア26及びカムフォロア27を結ぶ線分Aの中間点A1と同じである。なお、上述の実施形態において同じ機能を有する部材には、同じ符号を付し、その説明を省略する。
本発明に係る基板処理装置は、上記実施形態(実施形態1、2、及び3)に限定されない。例えば、別の実施形態に係る基板処理装置は、EBRノズル32を用いる形態に限定されない。基板処理装置は、例えば、カッター又はブレード等を用いて基板10上に形成された除去対象を物理的に切断又は剥離して除去する方法、及び、大気圧下でのアッシングにより除去対象を除去する方法等によってEBR処理を行なってもよい。
本発明に係る基板処理方法は、一態様において、基板10を処理する基板処理方法であって、基板10の中心点O1を特定する位置特定工程と、基板10を回転ステージ(載置台)31上に載置する載置工程と、少なくとも一組の挟持部20’によって、回転ステージ31上に載置された基板10を平面方向から挟持する挟持工程と、位置特定工程において特定した上記基板10の中心点O1を、一組の挟持部20’によって回転ステージ31の中心点O3上に移動させる移動工程とを包含している。
10 基板
20、20’、40、50 挟持部
22、42 第一アーム(挟持部)
23、51 第二アーム(挟持部)
26、27、52、53 カムフォロア(第一回動部、挟持部)
43、44 カムフォロア(第二回動部、挟持部)
24 特定部
25、25a、25b 駆動部(挟持部)
28 位置特定部
31 回転ステージ(載置台)
32 EBRノズル(液体供給部)
33 洗浄カップ(カップ)
62 搬送ロボット(搬送部)
Claims (16)
- 基板を処理する基板処理装置であって、
上記基板の大きさを特定する特定部と、
上記基板の大きさに基づき、上記基板の中心点を特定する位置特定部と、
上記基板を載置する載置台と、
上記載置台上に載置された上記基板を平面方向から挟持する少なくとも一組の挟持部とを備えており、
上記一組の挟持部は、上記位置特定部が特定した上記基板の中心点を、上記載置台の中心点上に移動させるようになっており、
上記基板処理装置は、上記一組の挟持部とは別の一組の挟持部をさらに備えており、
上記特定部は、上記載置台上に上記基板を載置する前において、上記別の一組の挟持部が、上記基板を挟持したときにおける上記別の一組の挟持部の互いの距離に基づき上記基板の大きさを特定することを特徴とする基板処理装置。 - 上記基板処理装置は、上記基板を上記載置台上に載置する搬送部をさらに備えており、
上記搬送部は、上記位置特定部が特定した上記基板の中心点に基づいて、上記基板を上記載置台上に載置することを特徴とする請求項1に記載の基板処理装置。 - 基板を処理する基板処理装置であって、
上記基板の大きさを特定する特定部と、
上記基板の大きさに基づき、上記基板の中心点を特定する位置特定部と、
上記基板を載置する載置台と、
上記載置台上に載置された上記基板を平面方向から挟持する少なくとも一組の挟持部とを備えており、
上記挟持部は、上記位置特定部が特定した上記基板の中心点を、上記載置台の中心点上に移動させるようになっており、
上記位置特定部は、上記載置台上に載置された上記基板の中心点を特定する位置特定部であり、上記特定部は、上記基板を挟持したときにおける上記一組の挟持部の互いの距離に基づき、上記基板の大きさを特定することを特徴とする基板処理装置。 - 上記載置台の中心点上に中心点を移動させた上記基板に、液体を供給する液体供給部を備えていることを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載の基板処理装置。
- 基板を処理する基板処理装置であって、
上記基板の大きさを特定する特定部と、
上記基板の大きさに基づき、上記基板の中心点を特定する位置特定部と、
上記基板を載置する載置台と、
上記載置台上に載置された上記基板を平面方向から挟持する少なくとも一組の挟持部とを備えており、
上記挟持部は、上記位置特定部が特定した上記基板の中心点を、上記載置台の中心点上に移動させるようになっており、
上記基板の上面視における形状は、円形であり、
上記一組の挟持部のうちの一つにおいて上記基板の外周端部に対向するように設けられた、上記基板の外周端部に当接したときに回動する二つの第一回動部を有していることを特徴とする基板処理装置。 - 上記基板の外周端部に当接したときに回動する二つの第二回動部が、上記一組の挟持部のうちの別の一つにおいて上記基板の外周端部に対向するように設けられていることを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。
- 上記二つの第一回動部を結ぶ線分A、及び、上記二つの第二回動部を結ぶ線分Bが互いに平行であり、且つ、上記線分Aの中間点と上記線分Bの中間点とを結ぶ線分Cが上記線分A及び線分Bに対して垂直であるように、上記二つの第一回動部及び上記二つの第二回動部が配置されており、
上記二つの第一回動部の間の距離は、上記二つの第二回動部の間の距離よりも離間していることを特徴とする請求項6に記載の基板処理装置。 - 上記載置台における上記基板を載置する面には、上記基板を吸着する吸着部が設けられていることを特徴とする請求項1〜7の何れか1項に記載の基板処理装置。
- 上記載置台上に載置された上記基板の外周を囲う、カップを備えており、
上記位置特定部が特定した上記基板の中心点を、上記載置台の中心点上に移動させるようになっている方の上記一組の挟持部は、当該カップの上において、上記基板を挟持することを特徴とする請求項1〜8の何れか1項に記載の基板処理装置。 - 基板を処理する基板処理方法であって、
上記基板の中心点を特定する位置特定工程と、
上記基板を載置台上に載置する載置工程と、
少なくとも一組の挟持部によって、上記載置台上に載置された上記基板を平面方向から挟持する挟持工程と、
上記位置特定工程において特定した上記基板の中心点を、上記一組の挟持部によって上記載置台の中心点上に移動させる移動工程とを包含しており、
上記位置特定工程では、上記載置工程前において、上記一組の挟持部とは別の一組の挟持部が上記基板を挟持したときにおける上記別の一組の挟持部の互いの距離に基づいて、上記基板の中心点を特定することを特徴とする基板処理方法。 - 上記移動工程では、当該位置特定工程において特定した上記基板の中心点に基づき、上記一組の挟持部によって上記載置台の中心点上に移動させることを特徴とする請求項10に記載の基板処理方法。
- 基板を処理する基板処理方法であって、
上記基板の中心点を特定する位置特定工程と、
上記基板を載置台上に載置する載置工程と、
少なくとも一組の挟持部によって、上記載置台上に載置された上記基板を平面方向から挟持する挟持工程と、
上記位置特定工程において特定した上記基板の中心点を、上記一組の挟持部によって上記載置台の中心点上に移動させる移動工程とを包含しており、
上記位置特定工程では、上記載置台上に載置された上記基板の中心点を特定する位置特定工程であり、上記挟持工程において、上記基板を挟持したときにおける上記一組の挟持部の互いの距離に基づき、上記基板の中心点を特定することを特徴とする基板処理方法。 - 上記移動工程後、上記基板に液体を供給する液体供給工程を包含していることを特徴とする請求項10〜12の何れか1項に記載の基板処理方法。
- 基板を処理する基板処理方法であって、
上記基板の中心点を特定する位置特定工程と、
上記基板を載置台上に載置する載置工程と、
少なくとも一組の挟持部によって、上記載置台上に載置された上記基板を平面方向から挟持する挟持工程と、
上記位置特定工程において特定した上記基板の中心点を、上記一組の挟持部によって上記載置台の中心点上に移動させる移動工程とを包含しており、
上記基板の上面視における形状は、円形であり、
上記位置特定工程では、上記一組の挟持部のうちの一つにおいて上記基板の外周端部に対向するように設けられた、上記基板の外周端部に当接したときに回動する二つの第一回動部を介して、上記基板を挟持することを特徴とする基板処理方法。 - 上記挟持工程では、上記二つの第一回動部と、上記一組の挟持部のうちの別の一つにおいて上記基板の外周端部に対向するように設けられた、上記基板の外周端部に当接したときに回動する二つの第二回動部とを介して、上記基板を挟持することを特徴とする請求項14に記載の基板処理方法。
- 上記二つの第一回動部を結ぶ線分A、及び、上記二つの第二回動部を結ぶ線分Bが互いに平行であり、且つ、上記線分Aの中間点と上記線分Bの中間点とを結ぶ線分Cが上記線分A及び線分Bに対して垂直であるように、上記二つの第一回動部及び上記二つの第二回動部が配置されており、
上記二つの第一回動部の間の距離は、上記二つの第二回動部の間の距離よりも離間していることを特徴とする請求項15に記載の基板処理方法。
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