JP6595148B2 - 排ガスの減圧除害装置 - Google Patents
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Description
このうち、例えばシリコン系薄膜の形成には、主として爆発性や毒性を有するシラン系ガスを用いたCVD法が使われている。このCVD法で使用された上記シラン系ガスを含むプロセスガスは、CVDプロセスで使用された後、排ガスとして下記の特許文献1に記載のような除害装置で無害化されるが、従来より、かかる除害装置の手前で、排ガス中のシラン系ガスを爆発限界以下まで希釈するために大量の希釈用窒素ガスが投入されていた。
ここで、典型的なシリコン酸窒化膜CVDでは、SiH4/NH3/N2O=1slm/10slm/10slm(slm;standard liter per minute,1atm、0℃における1分間辺りの流量をリットルで表示した単位)が使われるが、SiH4の爆発範囲が1.3%〜100%であるため、CVDプロセスから排出されたこのようなガスは、直ちに希釈用窒素ガスで約76倍程度希釈をする必要がある。かかる希釈を行えば、例えば下記の特許文献1に示す従来の燃焼方式や、大気圧プラズマ方式の熱分解装置で安全且つ確実に除害処理をすることができる。
すなわち、上述のように窒素ガスで希釈されたシラン系ガスを含む排ガス全体を分解温度まで加熱するのに必要なエネルギーは、希釈前のシラン系ガスを含む排ガスのみを加熱する場合の約76倍のエネルギーが必要となる。つまり、従来の窒素ガスでの希釈が必要な除害プロセスでは、多量な窒素ガスの使用に伴うコストアップのみならず、排ガスの除害に直接関係が無い窒素ガスも加熱しなければならないため、エネルギー効率が低く、電力或いは燃料などのコストアップも招いていた。
すなわち、本発明における第1の発明は、真空ポンプ14を介して排ガス発生源12より供給される排ガスEを、減圧状態に保ちフレーム22の燃焼熱で分解処理する、ことを特徴とする排ガスの減圧除害方法である。
真空ポンプ14を介して排ガス発生源12より供給される排ガスEを、減圧状態に保ちフレーム22の燃焼熱で分解処理するため、希釈用の窒素ガスが不要か極少量で足りることとなる。
また、このように窒素ガスでの希釈が不要か極少量で足りるため、フレーム22の燃焼熱のほぼ全てを直接的に排ガスEの分解に使用することができるのに加え、排ガスEの発生源から処理部までが減圧下にあるため、排ガスE中に人体にとって有毒なものが含まれる場合であっても、フレーム22の燃焼熱で加熱分解処理される前に当該排ガスEが系外へ漏れ出す心配はない。
さらに、加熱分解処理の熱源としてフレーム22を使用することにより、現在の排ガス除害装置の主流の方式の一つである大気圧燃焼方式の実績・経験をそのまま利用でき、かかる方式の排ガス除害装置における付帯配管などの多くの既存設備をそのまま転用することもできるといった利点を有する。また、電力の消費を削減してランニングコストの低減を図ることができる。
減圧状態が1Torr未満の場合には、高度な真空環境を実現するために高価で大掛かりな装置が必要になり、逆に、減圧状態が400Torrを超える場合には、大気圧との差が小さくなるため、排ガスEを多量の窒素ガスで希釈しなければならなくなる。
すなわち、本発明の排ガスの減圧除害装置10は、真空ポンプ14を介して排ガス発生源12より供給される排ガスEをフレーム22の燃焼熱で分解処理する反応室18と、略大気圧に保持され、上記の反応室18内に向けて上記フレーム22を放出する燃焼室20と、上記の真空ポンプ14の排気口から上記の反応室18に亘って減圧する後段真空ポンプ24とを備える、ことを特徴とする。
減圧下の反応室18内では、ガスの分圧が低く燃料を燃焼させてフレーム22を得ることが困難である。そこで、この発明では、略大気圧に保持された燃焼室20で燃料を燃焼させてフレーム22を生成し、そのフレーム22を反応室18内に向けて放出することで、フレーム22の燃焼熱を用いた減圧下での排ガスEの分解処理を可能としている。
この場合、排ガスE中にSiH4やNF3などと言った可燃性の物質や有害な物質が主体で且つ多量に含まれる場合であっても、上記の分解・反応補助剤を加えることにより、これらの物質を安定な状態まで容易に分解したり反応で無害化したりすることができる。
この場合、反応室18内の排ガスEの流れによるフレーム22の失火などを防止して、フレーム22の燃焼熱による排ガスEの分解処理をより一層安定して行うことができるようになる。
図1は、本発明の一実施形態の排ガスの減圧除害装置10の概要を示す図である。この図が示すように、本実施形態の排ガスの減圧除害装置10は、CVD装置などの排ガス発生源12より真空ポンプ14を介して供給される排ガスEを除害するための装置であり、反応室18及び燃焼室20を有する反応筒16と、後段真空ポンプ24とで大略構成される。
また、ケーシング16aの排ガス入口32の近傍には、必要に応じて、分解・反応補助剤供給手段26より供給される水分などの分解・反応補助剤をケーシング16a内の反応室18に導入するためのノズル36が取り付けられる。
そして、このケーシング16aの側周壁(内周壁)には、複数の燃焼室20が当該ケーシング16aの周方向及び上下方向において多段多列にて取り付けられる。
なお、図2中の符号16bは、ケーシング16aの外周を覆う断熱材を示している。
排ガス発生源12から排出される排ガスEは真空ポンプ14を介して反応筒16へと送られる。ここで、後段真空ポンプ24を作動させることにより、排ガスEは所定の減圧状態に保たれ反応室18へと導入され、この反応室18で燃焼室20より放出されるフレーム22の燃焼熱によって分解処理される。
さらに、排ガスの発生源から処理部までが減圧下にあるため、排ガスE中に人体にとって有毒なものが含まれる場合であってもフレーム22の燃焼熱で分解処理される前に当該排ガスEが系外へ漏れ出す心配はない。
前記の反応筒16として、ケーシング16aの側周壁(内壁)の周方向及び上下方向に複数の燃焼室20を多段多列にて取り付ける場合を示したが、1つの燃焼室20より放出されるフレーム22で排ガスEを十分に熱分解できるのであれば、反応筒16に取り付ける燃焼室20は1つであってもよい。また、ケーシング16aにおける燃焼室20の取付箇所も上述のものに限定されるものではない。
Claims (3)
- 真空ポンプ(14)を介して排ガス発生源(12)より供給される排ガス(E)をフレーム(22)の燃焼熱で分解処理する反応室(18)と、
略大気圧に保持され、上記の反応室(18)内に向けて上記フレーム(22)を放出する燃焼室(20)と、
上記の真空ポンプ(14)の排気口から上記の反応室(18)に亘って減圧する後段真空ポンプ(24)を備える、
ことを特徴とする排ガスの減圧除害装置。 - 請求項1の排ガスの減圧除害装置において、
前記の反応室(18)に分解・反応補助剤として水分,空気,O 2 ,H 2 又は炭化水素ガスからなる群より選ばれる少なくとも1種を供給する分解・反応補助剤供給手段(26)を設けた、ことを特徴とする排ガスの減圧除害装置。 - 請求項1又は2の排ガスの減圧除害装置において、
前記の燃焼室(20)のフレーム出口(20b)に前記フレーム(22)を安定化させるフレーム安定化ノズル(28)を設けた、ことを特徴とする排ガスの減圧除害装置。
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JP5554482B2 (ja) * | 2008-09-08 | 2014-07-23 | 大陽日酸株式会社 | 排ガス処理方法 |
GB0902234D0 (en) * | 2009-02-11 | 2009-03-25 | Edwards Ltd | Method of treating an exhaust gas stream |
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