JP6592281B2 - 目付量測定方法、積層フィルム製造方法、及び目付量測定装置 - Google Patents

目付量測定方法、積層フィルム製造方法、及び目付量測定装置 Download PDF

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Description

本発明は、基材フィルムと基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの塗布層の目付量測定方法、積層フィルムの製造方法、及び塗布層の目付量測定装置に関する。
磁気記録媒体の分野において、ベース・フィルム上に形成された第１層及び第２層の膜厚を測定する技術が特許文献１に開示されている。この技術では、ベース・フィルム、第１層及び第２層からなる磁気記録媒体に対して互いに異なる中心波長をもつ２種類の光を透過させ、それら透過光の強度に基づいて第１層及び第２層それぞれの膜厚を算出している。
特開平９−１７８４３３号公報（１９９７年７月１１日公開）
基材フィルムと基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの技術分野では、塗布層の単位面積あたりの質量である目付量を測定できることが好ましい。しかし、特許文献１の技術はこの目付量の測定精度が十分ではなかった。その理由は以下のとおりである。
特許文献１の技術では、第１層及び第２層それぞれの膜厚を算出するために、磁気記録媒体を構成するベース・フィルムと同等のベース・フィルムの膜厚を予め測定している。しかしながら、積層フィルムを構成する基材フィルムは、膜厚のバラツキがあり、特に、基材フィルムが延伸をへて形成されるときには、このバラツキは大きくなる。とりわけ、電池用セパレータを構成する基材フィルムなどの多孔質フィルムは、無孔フィルムであるベース・フィルムと比較して膜厚のバラツキが大きくなる。このため、基材フィルムと同等の別の基材フィルムの膜厚を予め測定しておき、その測定値を用いて塗布層の目付量を算出したのでは、算出される目付量と実際の目付量との間の誤差が大きくなってしまう。
本発明は、以上の問題に鑑み、積層フィルムの基材フィルムの膜厚バラツキに起因する上記測定誤差の発生を回避して、積層フィルムの塗布層の目付量を測定することを目的とする。
上記の課題を解決するために、本発明の目付量測定方法は、基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの前記塗布層の目付量測定方法において、互いに異なる、第１波長を中心波長とする測定光と、第２波長を中心波長とする測定光とを前記積層フィルムに透過させる透光工程と、前記積層フィルムを透過した前記測定光の透過光強度を測定する測光工程と、前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出工程とを含む。
上記方法によれば、積層フィルムを透過する測定光の強度である透過光強度は、塗布層及び基材フィルムの目付量に依存する。
このとき、塗布層及び基材フィルムが、第１波長を中心波長とする測定光（以下「第１測定光」）及び第２波長を中心波長とする測定光（以下「第２測定光」）に対して示す吸光度を予め測定しておき、目付量に対する吸光度の傾き（比例係数）を求めておくことで、予め求められた各波長における塗布層及び基材フィルムの比例係数と、測定された積層フィルムの各測定光における透過光強度から塗布層の目付量を算出することができる。
そして、二つの測定光が積層フィルムの同一部位を透過しているため、積層フィルムの基材フィルムの膜厚バラツキに起因する上記測定誤差の発生を回避して、積層フィルムの塗布層の目付量を測定できる。
また、本発明の目付量測定方法は、基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの前記塗布層の目付量測定方法において、測定光を前記積層フィルムに透過させる透光工程と、前記積層フィルムを透過した前記測定光を分光し、互いに異なる第１及び第２波長の透過光強度を測定する測光工程と、前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出工程とを含む。
上記方法によれば、積層フィルムを透過する測定光を分光して測定する透過光強度は、塗布層及び基材フィルムの目付量に依存する。
このとき、塗布層及び基材フィルムが、第１及び第２波長に対して示す吸光度を予め測定しておき、目付量に対する吸光度の傾き（比例係数）を求めておくことで、予め求められた各波長における塗布層及び基材フィルムの比例係数と、測定された積層フィルムの各波長における透過光強度から塗布層の目付量を算出することができる。
そして、第１及び第２波長の透過光強度は、積層フィルムを透過した同一の測定光を分光して測定しているため、積層フィルムの基材フィルムの膜厚バラツキに起因する上記測定誤差の発生を回避して、積層フィルムの塗布層の目付量を測定できる。
また、本発明の目付量測定方法は、前記透光工程及び測光工程中に前記積層フィルムを一方向へ搬送する搬送工程をさらに含み、前記透光工程では、前記積層フィルムの面上かつ前記一方向と交差する方向に往復移動する位置から出射した前記測定光を前記積層フィルムに透過させ、前記測光工程では、前記往復移動する位置に対応した領域で透過光強度を測定してもよい。
上記方法によれば、目付量の測定範囲を、積層フィルムの搬送方向に延びその幅方向を往復する線状とすることができる。
また、本発明の目付量測定方法は、前記透光工程及び測光工程中に前記積層フィルムを一方向へ搬送する搬送工程をさらに含み、前記透光工程では、前記積層フィルムの面上かつ前記一方向と交差する方向に沿った線状の前記測定光を前記積層フィルムに透過させ、前記測光工程では、前記測定光の形状に対応した領域で透過光強度を測定してもよい。
上記方法によれば、目付量の測定範囲を、点状又は線状ではなく面状とすることができる。
また、本発明の目付量測定方法では、前記測定光と前記積層フィルムとがなす角度は、８０°以上１００°以下であってもよい。
上記方法によれば、積層フィルムを透過する測定光を増やせる。
また、本発明の目付量測定方法では、前記塗布層は、アラミドを含むアラミド層であり、前記第１波長は、３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲に含まれ、前記第２波長は、６８０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲に含まれていてもよい。
上記方法によれば、アラミドは第１波長において測定光を吸収しやすく第２波長において測定光を吸収しにくい。このため、アラミド層の目付量の測定精度が高まる。
また、本発明の目付量測定方法では、前記塗布層は、アラミドを含むアラミド層であり、前記第１波長は、３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲に含まれ、前記第２波長は、７００ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の範囲に含まれていてもよい。
積層フィルムの塗布層の目付量は、可視光が入射する環境で測定されることが多い。そして、７００ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の範囲に含まれる波長は、可視光に多く含まれるわけではない。上記方法によれば、外乱光となる可視光の影響を受けにくくなるため、アラミド層の目付量の測定精度が高まる。
また、本発明の目付量測定方法は、前記積層フィルムを透過した前記測定光の透過光強度に基づき、前記積層フィルムの端部及び欠点の少なくとも一方を検出する検出工程をさらに含んでいてもよい。
上記方法によれば、塗布層の目付量測定と並行して、積層フィルムの端部及び欠点を検出できる。
また、本発明の積層フィルム製造方法は、基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの製造方法において、上述の目付量測定方法が含む各工程と、前記算出工程において算出した目付量に基づき前記塗布層の目付量を制御する塗工工程とを含む。
上記方法によれば、塗布層の目付量がより均一な積層フィルムを製造できる。
また、本発明の積層フィルム製造方法は、基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの製造方法において、上述の目付量測定方法が含む各工程と、前記算出工程において算出した目付量に基づき、前記積層フィルムの目付量異常部位を除去する除去工程とを含む。
上記方法によれば、面状の測定範囲に基づき目付量異常部位を除去できるため、積層フィルムの収率が向上する。
また、本発明の目付量測定装置は、基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの前記塗布層の目付量測定装置において、互いに異なる、第１波長を中心波長とする測定光と、第２波長を中心波長とする測定光とをそれぞれ投光する二つの投光器と、前記積層フィルムを透過した前記二つの測定光の透過光強度をそれぞれ測定する二つの受光器と、前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出部とを備える。
また、本発明の目付量測定装置は、基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの前記塗布層の目付量測定装置において、測定光を投光する投光器と、前記積層フィルムを透過した前記測定光を分光し、互いに異なる第１及び第２波長の透過光強度を測定する分光部と、前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出部とを備える。
本発明は、積層フィルムの基材フィルムの膜厚バラツキに起因する上記測定誤差の発生を回避して、積層フィルムの塗布層の目付量を測定できるという効果を奏する。また、塗布層の目付量がより均一な積層フィルムを製造できるという効果を奏する。また、積層フィルムの収率が向上するという効果を奏する。
リチウムイオン二次電池の断面構成を示す模式図である。 図１に示されるリチウムイオン二次電池の詳細構成を示す模式図である。 図１に示されるリチウムイオン二次電池の他の構成を示す模式図である。 本発明の実施形態の積層フィルムの製造方法が含む、塗布層に関する工程を示す模式図である。 セパレータに照射する光の波長と吸光度との関係を示すグラフである。 セパレータの塗布層（耐熱層）の目付量と吸光度平均との関係を示すグラフである。 図４に示される塗布層に関する工程の検査工程で用いられる目付量測定装置の構成を示す側面図である。 図７に示される目付量測定装置の構成を示す平面図である。 図７に示される目付量測定装置の受光器の構成を示す正面図である。 トラバース測定を行う目付量測定装置の構成を示す正面図・平面図である。 複数の分光部を用いる目付量測定装置の構成を示す正面図である。 分光部を用いずにトラバース測定を行う目付量測定装置の構成を示す正面図である。
〔基本構成〕
本発明の目付量測定対象である積層フィルムとしては、光学フィルム、及び二次電池用セパレータ等が挙げられる。なお、金属フィルム等の光を全く透過しないフィルムは本発明の目付量測定対象とはならない。
二次電池用セパレータに関し、基本構成として、リチウムイオン二次電池、セパレータ、耐熱セパレータ、セパレータ・耐熱セパレータの製造方法、スリットについて順に説明する。
（リチウムイオン二次電池）
リチウムイオン二次電池に代表される非水電解液二次電池は、エネルギー密度が高く、それゆえ、現在、パーソナルコンピュータ、携帯電話、携帯情報端末等の機器、自動車、航空機等の移動体に用いる電池として、また、電力の安定供給に資する定置用電池として広く使用されている。
図１は、リチウムイオン二次電池１（電池）の断面構成を示す模式図である。
図１に示されるように、リチウムイオン二次電池１は、カソード１１と、セパレータ１２（電池用セパレータ）と、アノード１３とを備える。リチウムイオン二次電池１の外部において、カソード１１とアノード１３との間に、外部機器２が接続される。そして、リチウムイオン二次電池１の充電時には方向Ａへ、放電時には方向Ｂへ、電子が移動する。
（セパレータ）
セパレータ１２は、リチウムイオン二次電池１の正極であるカソード１１と、その負極であるアノード１３との間に、これらに挟持されるように配置される。セパレータ１２は、カソード１１とアノード１３との間を分離しつつ、これらの間におけるリチウムイオンの移動を可能にする多孔質フィルム（基材フィルム）である。セパレータ１２は、その材料として、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンを含む。
図２は、図１に示されるリチウムイオン二次電池１の詳細構成を示す模式図であって、（ａ）は通常の構成を示し、（ｂ）はリチウムイオン二次電池１が昇温したときの様子を示し、（ｃ）はリチウムイオン二次電池１が急激に昇温したときの様子を示す。
図２の（ａ）に示されるように、セパレータ１２には、多数の孔Ｐが設けられている。通常、リチウムイオン二次電池１のリチウムイオン３は、孔Ｐを介し往来できる。
ここで、例えば、リチウムイオン二次電池１の過充電、又は、外部機器の短絡に起因する大電流等により、リチウムイオン二次電池１は、昇温することがある。この場合、図２の（ｂ）に示されるように、セパレータ１２が融解又は柔軟化し、孔Ｐが閉塞する。そして、セパレータ１２は収縮する。これにより、リチウムイオン３の移動が停止するため、上述の昇温も停止する。
しかし、リチウムイオン二次電池１が急激に昇温する場合、セパレータ１２は、急激に収縮する。この場合、図２の（ｃ）に示されるように、セパレータ１２は、破壊されることがある。そして、リチウムイオン３が、破壊されたセパレータ１２から漏れ出すため、リチウムイオン３の移動は停止しない。ゆえに、昇温は継続する。
（耐熱セパレータ）
図３は、図１に示されるリチウムイオン二次電池１の他の構成を示す模式図であって、（ａ）は通常の構成を示し、（ｂ）はリチウムイオン二次電池１が急激に昇温したときの様子を示す。
図３の（ａ）に示されるように、セパレータ１２は、基材フィルム５と、耐熱層（塗布層）４とを備える耐熱セパレータであってもよい。耐熱層４は、基材フィルム５のカソード１１側の片面に積層されている。なお、耐熱層４は、基材フィルム５のアノード１３側の片面に積層されてもよいし、基材フィルム５の両面に積層されてもよい。そして、耐熱層４にも、孔Ｐと同様の孔が設けられている。通常、リチウムイオン３は、孔Ｐと耐熱層４の孔とを介し往来する。耐熱層４は、その材料として、例えば全芳香族ポリアミド（アラミド樹脂）を含む。
図３の（ｂ）に示されるように、リチウムイオン二次電池１が急激に昇温し、基材フィルム５が融解又は柔軟化しても、耐熱層４が基材フィルム５を補助しているため、基材フィルム５の形状は維持される。ゆえに、基材フィルム５が融解又は柔軟化し、孔Ｐが閉塞するにとどまる。これにより、リチウムイオン３の移動が停止するため、上述の過放電又は過充電も停止する。このように、セパレータ１２の破壊が抑制される。
（セパレータ・耐熱セパレータの製造工程）
リチウムイオン二次電池１のセパレータ及び耐熱セパレータの製造は特に限定されるものではなく、公知の方法を利用して行うことができる。以下では、基材フィルム５がその材料として主にポリエチレンを含む場合を仮定して説明する。しかし、基材フィルム５が他の材料を含む場合でも、同様の製造工程により、セパレータ１２（耐熱セパレータ）を製造できる。
例えば、熱可塑性樹脂に無機充填剤又は可塑剤を加えてフィルム成形した後、該無機充填剤及び該可塑剤を適当な溶媒で洗浄除去する方法が挙げられる。例えば、基材フィルム５が、超高分子量ポリエチレンを含むポリエチレン樹脂から形成されてなるポリオレフィンセパレータである場合には、以下に示すような方法により製造できる。
この方法は、（１）超高分子量ポリエチレンと、無機充填剤（例えば、炭酸カルシウム、シリカ）、又は可塑剤（例えば、低分子量ポリオレフィン、流動パラフィン）とを混練してポリエチレン樹脂組成物を得る混練工程、（２）ポリエチレン樹脂組成物を用いてフィルムを成形する圧延工程、（３）工程（２）で得られたフィルム中から無機充填剤又は可塑剤を除去する除去工程、及び、（４）工程（３）で得られたフィルムを延伸して基材フィルム５を得る延伸工程を含む。なお、前記工程（４）を、前記工程（２）と（３）との間で行なうこともできる。
除去工程によって、フィルム中に多数の微細孔が設けられる。延伸工程によって延伸されたフィルムの微細孔は、上述の孔Ｐとなる。これにより、所定の厚さと透気度とを有するポリエチレン微多孔膜である基材フィルム５（耐熱層（塗布層）を有しないセパレータ１２）が得られる。
なお、混練工程において、超高分子量ポリエチレン１００重量部と、重量平均分子量１万以下の低分子量ポリオレフィン５〜２００重量部と、無機充填剤１００〜４００重量部とを混練してもよい。
その後、塗工工程において、基材フィルム５の表面に耐熱層４を形成する。例えば、基材フィルム５に、アラミド／ＮＭＰ（Ｎ−メチル−ピロリドン）溶液（塗工液）を塗布し、アラミド耐熱層である耐熱層４を形成する。耐熱層４は、基材フィルム５の片面だけに設けられても、両面に設けられてもよい。また、耐熱層４として、アルミナ／カルボキシメチルセルロース等のフィラーを含む混合液を塗工してもよい。
また、塗工工程において、基材フィルム５の表面に、ポリフッ化ビニリデン／ジメチルアセトアミド溶液（塗工液）を塗布（塗布工程）し、それを凝固（凝固工程）させることにより基材フィルム５の表面に接着層（塗布層）を形成することもできる。接着層は、基材フィルム５の片面だけに設けられても、両面に設けられてもよい。
塗工液を基材フィルム５に塗工する方法は、均一にウェットコーティングできる方法であれば特に制限はなく、従来公知の方法を採用できる。例えば、キャピラリーコート法、スピンコート法、スリットダイコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ロールコート法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、バーコーター法、グラビアコーター法、ダイコーター法などを採用できる。耐熱層４の厚さは塗工ウェット膜の厚み、塗工液中の固形分濃度によって制御できる。
なお、塗工する際に基材フィルム５を固定あるいは搬送する支持体としては、樹脂製のフィルム、金属製のベルト、ドラム等を用いることができる。
以上のように、基材フィルム５に耐熱層４が積層されたセパレータ１２（耐熱セパレータ）を製造できる。製造されたセパレータは、円筒形状のコアに巻き取られる。なお、以上の製造方法で製造される対象は、耐熱セパレータに限定されない。この製造方法は、塗工工程を含まなくてもよい。この場合、製造される対象は、耐熱層を有しないセパレータである。また、耐熱層に替えて他の塗布層（例えば、後述の接着層）を有する接着セパレータを、耐熱セパレータと同様の製造方法により製造してもよい。
（スリット）
耐熱セパレータ又は耐熱層を有しないセパレータ（以下「セパレータ」）は、リチウムイオン二次電池１などの応用製品に適した幅（以下「製品幅」）であることが好ましい。しかし、生産性を上げるために、セパレータは、その幅が製品幅以上となるように製造される。そして、一旦製造された後に、セパレータは、製品幅に切断（スリット）される。
なお、「セパレータの幅」とは、セパレータの長手方向と厚み方向とに対し略垂直である方向の、セパレータの長さを意味する。以下では、スリットされる前の幅広のセパレータを「原反」と称し、スリットされたセパレータを特に「スリットセパレータ」と称する。また、スリットとは、セパレータを長手方向（製造におけるフィルムの流れ方向、ＭＤ：Machine direction）に沿って切断することを意味し、カットとは、セパレータを横断方向（ＴＤ：Transverse Direction）に沿って切断することを意味する。横断方向（ＴＤ）とは、セパレータの長手方向（ＭＤ）と厚み方向とに対し略垂直である方向を意味する。
〔実施形態〕
本発明の実施形態を図４〜図１２に基づき説明する。
《塗布層に関する工程》
図４は、本実施形態の積層フィルムの製造方法が含む、塗布層に関する工程を示す模式図であって、（ａ）は塗工工程を示し、（ｂ）は検査工程を示す。
以下、代表的な実施形態であるセパレータ１２を例に説明する。
（塗工工程）
図４の（ａ）に示される塗工工程は、上述のとおり、セパレータ１２の塗布層である耐熱層４が含む物質（以下「塗布層物質」）と溶媒とを混合した組成物（以下「塗工液」）を、基材フィルム５に塗工する工程である。塗布層物質は、上述の接着層が含む物質であってもよい。塗工液２１は、塗工部材２５により基材フィルム５に塗工される。
塗工液２１が塗工された基材フィルム５である基材フィルム５ａは、乾燥工程をへて、後述の検査工程へ搬送される。なお、基材フィルム５ａは、乾燥工程へ搬送される前に、析出工程と洗浄工程（溶媒置換工程）とへ搬送されてもよい。析出工程は、塗布層物質を析出させる工程である。洗浄工程は、基材フィルム５ａの表面から溶媒を洗浄液で洗い流し、孔の中の溶媒と、洗浄液とを置換する工程である。乾燥工程は、洗浄工程がない場合には、基材フィルム５ａの表面の溶媒と、孔の中の溶媒とを乾燥させる工程である。洗浄工程がある場合には、基材フィルム５ａの表面の洗浄液と、孔の中の洗浄液とを乾燥させる工程である。これにより、基材フィルム５ａは、基材フィルム５に耐熱層４が形成されており、かつ、溶媒が充分に除去されたセパレータ１２として、検査工程へ搬送される。
（検査工程）
図４の（ｂ）に示される検査工程は、塗工工程の後に、セパレータ１２を検査する工程である。セパレータ１２は、目付量測定装置３０により検査される。
目付量測定装置３０は、耐熱層４の単位面積あたりの質量である目付量を測定する。後述するとおり、本発明は、目付量測定装置３０の構成に主たる特徴を有している。
セパレータ１２の塗布層（耐熱層又は接着層）は、基材フィルム５の両面に塗工されてもよい。
《目付量の測定方法》
塗布層の目付量は、塗布層の吸光度に比例する。この比例関係を利用して目付量を測定できる。「吸光度」とは、塗布層に入射する光の強度である入射光強度Ｉｉｎと、塗布層を透過したこの光の強度である透過光強度Ｉとについて「−ｌｏｇ（Ｉ／Ｉｉｎ）」で求められる値である。以下では、セパレータ１２の基材フィルム５の主成分がポリエチレンであり、かつ、塗布層である耐熱層４がアラミドを含む層であるときの目付量の測定について説明する。
（波長と吸光度との関係）
図５は、セパレータ１２に照射する光の波長と吸光度との関係（以下「吸光度波長依存性」）を示すグラフである。太い実線は、アラミドの吸光度波長依存性を表す。一点鎖線は、ポリエチレンの吸光度波長依存性を表す。なお、この吸光度波長依存性は、セパレータ１２を構成する各層中の樹脂存在比率によって変化する。例えば塗布層中に５０ｗｔ％のフィラーが含まれる場合には、樹脂存在量が半分になるため、塗布層の吸光度も半減する。また、セパレータ１２のように積層フィルムが多孔体の場合は、孔の構造による光の散乱も考慮する必要があるため、積層フィルム各層の吸光度波長依存性を求める際は、孔径および孔径分布等において同様の多孔質構造を有する単層フィルムを基準とすることが望ましい。
図５に示されるように、光が照射される物質がアラミドであるとき、波長が３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下（第１波長）である光（測定光）の吸光度は、波長が６８０ｎｍ以上７００ｎｍ以下（第２波長）である光（測定光）の吸光度よりも大きい。一方、光が照射される物質がポリエチレンであるとき、波長が３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下である光の吸光度と、波長が６８０ｎｍ以上７００ｎｍ以下である光の吸光度とは、同程度である。波長が７００ｎｍをこえる光の吸光度波長依存性は、波長が６８０ｎｍ以上７００ｎｍ以下である光の吸光度波長依存性と同様である（非図示）。以上より、アラミドの吸光度が波長に依存することと、ポリエチレンの吸光度が波長に依存しにくいこととがわかる。
（目付量と吸光度との関係）
図６は、セパレータ１２の耐熱層４の目付量と吸光度平均との関係（以下「目付量吸光度相関」）を示すグラフである。白抜きの正方形の点で示されるデータは、波長が３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下である光の目付量吸光度相関を示す。三角形の点で示されるデータは、波長が６８０ｎｍ以上７００ｎｍ以下である光の目付量吸光度相関を示す。
図６に示される吸光度は、ガラス基板上にアラミドとアルミナとからなる耐熱層を形成したサンプルに入射する光の強度である入射光強度Ｉｉｎと、このサンプルを透過したこの光の強度である透過光強度Ｉとについて「−ｌｏｇ（Ｉ／Ｉｉｎ）」で求められる値を意味する。「吸光度平均」とは、上述の波長帯における平均的な吸光度を意味する。
図６に示されるように、波長が３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下である光をサンプルに照射したときの目付量の変化に対する平均的な吸光度の変化（以下「目付量吸光度傾き」）は、波長が６８０ｎｍ以上７００ｎｍ以下である光の目付量吸光度傾きよりも大きい。波長が７００ｎｍ以上（第２波長）の波長帯（例えば、波長が７００ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の波長帯）の光の目付量吸光度傾きは、波長が６８０ｎｍ以上７００ｎｍ以下である光の目付量吸光度傾きと同様である（非図示）。
（塗布層の目付量の特定）
図５〜図６に示される関係に基づけば以下の手順でセパレータ１２の耐熱層４の目付量を特定できる。
（１）セパレータ１２の各層（耐熱層４及び基材フィルム５）が、上述の各波長に対して示す吸光度測定結果から、目付量に対する吸光度の傾き（比例係数）を求める。ここでは、耐熱層４が波長Ｘに対して示す吸光度の比例係数をＸ４、波長Ｙに対して示す吸光度の比例係数をＹ４とする。また、基材フィルム５が波長Ｘに対して示す吸光度の比例係数をＸ５、波長Ｙに対して示す吸光度の比例係数をＹ５とする。
（２）波長が６８０ｎｍ以上７００ｎｍ以下である光をセパレータ１２に照射したときの吸光度Ｘｔｏｔａｌを測定する。
（３）波長が３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下である光をセパレータ１２に照射したときの吸光度Ｙｔｏｔａｌを測定する。
（４）セパレータ１２の耐熱層４の目付をＷ４、基材フィルム５の目付をＷ５とすると、以下の連立方程式が成り立つ。
Ｘ４Ｗ４＋Ｘ５Ｗ５＝Ｘｔｏｔａｌ
Ｙ４Ｗ４＋Ｙ５Ｗ５＝Ｙｔｏｔａｌ
上記連立方程式からＷ４、Ｗ５をそれぞれ求める。
なお、セパレータ１２に照射する光の波長は、塗布層を構成する材料によって紫外〜赤外領域から適宜選択することにより、アラミドを含む耐熱層以外でも、塗布層の目付量を特定できる。具体的には、例えば塗布層がＰＶＤＦを含む場合、ＰＶＤＦが特徴的な吸収を示す波数７９０〜８４０ｃｍ−１（波長１２７００ｎｍ〜１１９００ｎｍ）の光を用いて上述の（１）〜（４）を実行することにより、塗布層の目付量を特定できる。
（セパレータ１２が３層以上の層から構成される場合の塗布層の目付量の特定）
セパレータ１２が異なる３層以上の層から構成される場合には、層数に対応する数の光を用いて、それぞれの層に対応する吸光度の比例係数を求めることで、各層の目付量を求めることができる。例えば、セパレータ１２が異なる４層から構成される場合には、四元一次連立方程式として導かれる上述の連立方程式を解くことにより、各層の目付量が求めることができる。
さらに、基材フィルム５の一面にアラミドを含む塗布層が形成され、かつ、他面にセラミックを含む塗布層が形成されたセパレータの、各塗布層の目付量を求めることもできる。また、基材フィルム５の一面にアラミドを含む塗布層が形成され、かつ、この塗布層の基材フィルム５とは反対側の一面に接着層が形成されたセパレータの、塗布層・接着層の目付量を求めることもできる。
本発明の実施形態はセパレータに限定されるものではない。例えば、透明フィルム、位相差フィルム又は偏光フィルム等の基材フィルムに、塗布層として接着層が積層された光学フィルムや、塗布層として液晶化合物の硬化膜が積層された光学フィルムにおける塗布層の目付量を求めることもできる。
《目付量測定装置の構成》
図７は、図４の（ｂ）に示される検査工程で用いられる目付量測定装置３０の構成を示す側面図である。図７に示されるように、目付量測定装置３０は、投光器３１ａ・３１ｂと、受光器３２ａ・３２ｂと、制御部３３（算出部）と、カバー３４と、仕切り板３５とを備える。
なお、図７に示されるＸＹＺ軸は、図７以外の図に示されるＸＹＺ軸に対応している。以下では、セパレータ１２が、搬送ローラーａ・ｂによりＸ軸正方向側へ搬送されており、かつ、ＸＹ平面が広がる方向に延びているものとして説明する。
（投光器・受光器）
投光器３１ａ・３１ｂは、Ｙ軸方向に並ぶ複数の発光ダイオード（ＬＥＤ：Light Emitting Diode）を含む発光部と、ＬＥＤが発光した光を拡散する拡散板とを備え、セパレータ１２のＹ軸方向のおおむね全幅に光を投光する。投光器３１ａは、中心波長が４０５ｎｍ（第１波長）の光（測定光）をセパレータ１２に投光する。投光器３１ｂは、中心波長が８５０ｎｍ（第２波長）の光（測定光）をセパレータ１２に投光する。投光器３１ａ・３１ｂと、セパレータ１２との間の距離は、１ｍｍ〜２０ｍｍである。
受光器３２ａ・３２ｂは、セパレータ１２のＹ軸方向のおおむね全幅から光を受光する。受光器３２ａは、投光器３１ａが投光し、セパレータ１２を透過した光を受光する。受光器３２ｂは、投光器３１ｂが投光し、セパレータ１２を透過した光を受光する。受光器３２ａ・３２ｂと、セパレータ１２との間の距離は、１ｍｍ〜２０ｍｍである。
位置αは、投光器３１ａにより投光されて受光器３２ａにより受光される測定光がセパレータ１２と交わる空間上の位置である。位置βは、投光器３１ｂにより投光されて受光器３２ｂにより受光される測定光がセパレータ１２と交わる空間上の位置である。そして、ある時刻に位置αにあるセパレータ１２の部位は、一定時間後に位置βまで搬送される。このため、ある時刻に受光器３２ａが受光した測定光と、この一定時間後に受光器３２ｂが受光した測定光とは、セパレータ１２の同一地点を透過している。
（制御部）
制御部３３は、投光器３１ａ・３１ｂと、受光器３２ａ・３２ｂとに接続されており、接続された部材の動作を制御できる。例えば、制御部３３は、ある時刻に受光器３２ａが受光した測定光の透過光強度と、一定時間後に受光器３２ｂが受光した測定光の透過光強度とを比較できるように、受光器３２ａ・３２ｂの動作を制御できる。
具体的には、制御部３３は、集積回路（ＩＣチップ）等に形成された論理回路（ハードウェア）によって実現されている。なお、この構成に限定されず、制御部３３は、ＣＰＵ（Central Processing Unit）を用いてソフトウェアによって実現されてもよい。
後者の場合、制御部３３は、各機能を実現するソフトウェアであるプログラムの命令を実行するＣＰＵ、上述のプログラム及び各種データがコンピュータ（又はＣＰＵ）で読み取り可能に記録されたＲＯＭ（Read Only Memory）又は記憶装置（これらを「記録媒体」と称する）、上述のプログラムを展開するＲＡＭ（Random Access Memory）などを備えている。そして、コンピュータ（又はＣＰＵ）が上述のプログラムを上述の記録媒体から読み取って実行することにより、本発明の目的が達成される。上述の記録媒体としては、「一時的でない有形の媒体」、例えば、テープ、ディスク、カード、半導体メモリ、プログラマブルな論理回路などを用いることができる。また、上述のプログラムは、該プログラムを伝送可能な任意の伝送媒体（通信ネットワークや放送波等）を介して上述のコンピュータに供給されてもよい。なお、本発明は、上述のプログラムが電子的な伝送によって具現化された、搬送波に埋め込まれたデータ信号の形態でも実現され得る。
（カバー・仕切り板）
カバー３４は、投光器３１ａ・３１ｂと、受光器３２ａ・３２ｂとを囲み、外乱光が囲みの内部へ入射することを防止している。カバー３４は、開口部３４ａ・３４ｂを備える。セパレータ１２は、開口部３４ａを介しカバー３４の内部へ搬送され、かつ、開口部３４ｂを介しカバー３４の外部へ搬送される。仕切り板３５は、投光器３１ａから投光される光が受光器３２ｂに入射すること防止し、かつ、投光器３１ｂから投光される光が受光器３２ａに入射すること防止する。
《目付量測定装置の動作》
目付量測定装置３０は、以下のとおり動作する。
（１）投光器３１ｂは、中心波長が８５０ｎｍである光をセパレータ１２に投光する。受光器３２ｂは、セパレータ１２を透過したこの光を受光する。制御部３３は、投光器３１ｂが出射した光の強度を入射光強度Ｉｉｎとし、受光器３２ｂが受光した光の強度を透過光強度Ｉとし、吸光度「−ｌｏｇ（Ｉ／Ｉｉｎ）」を求める。
（２）投光器３１ａは、中心波長が４０５ｎｍである光をセパレータ１２に投光する。受光器３２ａは、セパレータ１２を透過したこの光を受光する。制御部３３は、投光器３１ａが出射した光の強度を入射光強度Ｉｉｎとし、受光器３２ａが受光した光の強度を透過光強度Ｉとし、吸光度「−ｌｏｇ（Ｉ／Ｉｉｎ）」を求める。
（３）制御部３３は、この吸光度から吸光度と目付量との比例関係を利用し、耐熱層４の目付量に換算する。
《目付量測定装置の効果》
上記（１）（２）の工程（透光工程、測光工程）においてセパレータ１２を透過した光は、基材フィルム５が吸収する光の波長帯と、耐熱層４が吸収する光の波長帯との違いを反映する。基材フィルム５の膜厚バラツキが大きければ、その吸光度のバラツキも大きくなるが、耐熱層４の単位面積あたりの質量である目付量は、耐熱層４の吸光度に比例するため、上記（３）の工程（算出工程）において目付量が求まる。
以上により、セパレータ１２の基材フィルム５の膜厚バラツキに起因する測定誤差の発生を回避して、セパレータ１２の耐熱層４の目付量を測定できる。
（目付量測定方法・積層フィルム製造方法）
本発明には、上述の透光工程と、測光工程と、算出工程とを含む目付量測定方法も含まれる。
また、本発明には、上述の透光工程と、測光工程と、算出工程と、この算出工程において算出した目付量に基づき、塗布層（耐熱層４）の目付量を制御する塗工工程とを含む積層フィルム製造方法も含まれる。この「塗工工程」とは、例えば図４の（ａ）に示されるバー塗工を意味する。なお、この「塗工工程」は、グラビア塗工またはディップ塗工であってもよい。そして「目付量を制御」とは、算出工程において算出した目付量に基づき、基材フィルム５に塗工する塗工液の量を調整することを意味する。
塗工方法は公知の方法を用いることができる。例えばバー塗工であれば、図４の（ａ）に示される基材フィルム５と塗工部材２５との間隔を広くすれば塗工液２１の塗工量が増加し、この間隔を狭くすればこの塗工量が減少する。グラビア塗工であれば、基材フィルム５を搬送する速度に対するグラビアロールの回転比率を大きくすれば塗工液２１の塗工量が増加し、回転比率を小さくすればこの塗工量が減少する。ディップ塗工であれば塗工液２１中をくぐる基材搬送速度を大きくすれば塗工液２１の塗工量が増加し、基材搬送速度を小さくすればこの塗工量が減少する。
また、本発明には、上述の透光工程と、測光工程と、算出工程と、この算出工程において算出した目付量に基づき、セパレータ１２の目付量異常部位を除去する除去工程とを含む積層フィルム製造方法も含まれる。この「除去工程」では、スリットされたセパレータ１２（スリットセパレータ）の、目付量が予め定めた閾値をこえる又は下回る部位（目付量異常部位）を切断して除去する。切断されたスリットセパレータは、繋ぎ合わされ他のコアに巻き替えられてもよい。
（面状の目付量測定・ピンホール検査）
目付量測定装置３０を用いた目付量測定方法は、図７に示されるように、搬送ローラーａ・ｂがセパレータ１２をＸ軸正方向側へ搬送する搬送工程を含む。そして、上述の透光工程では、セパレータ１２の面上かつＸ軸方向と交差するＹ軸方向に沿った線状の二つの測定光（投光器３１ａが投光する光、及び、投光器３１ｂが投光する光）をセパレータ１２に透過させ、上述の測光工程では、線状の二つの測定光それぞれに対応した領域で透過光強度を測定している。これにより、目付量の測定範囲を、点状又は線状ではなく、面状とすることができる。
また、目付量測定装置３０は、セパレータ１２の全面の耐熱層４の目付量を測定できる。そして、セパレータ１２にピンホールが空いているときには、透過光強度のコントラストが著しく変化する。このため、目付量測定装置３０は、目付量を測定しつつピンホールも検査できる。つまり、目付計及び欠陥検査機の複合型装置を実現できる。
また、目付量測定装置３０は、セパレータ１２の全面の目付量を測定することにより、セパレータ１２の端部を検出（常時監視）できる。ゆえに、目付量測定装置３０は、ピンホールなどの欠陥が存在する位置である欠陥座標（例えばセパレータ１２の端部から欠陥が存在する位置までの長さ）を特定できる。
検査工程の後工程であるスリット工程では、欠陥座標が特定されていることが好ましい。しかし、検査工程ではセパレータ１２がランダムに蛇行し得るため、従来の検査装置では、欠陥座標を特定することが困難であった。目付量測定装置３０は欠陥座標を特定できるため、スリット工程において欠陥座標を活用し、スリットセパレータの収率を改善することができる。
（測定精度）
目付量測定装置３０は、０．１ｇ／ｍ２の精度で目付量を測定できる。この精度を高めるためには、投光器３１ａ・３１ｂが単波長の光を投光できることが好ましい。
（測定方式）
目付量測定装置３０は、セパレータ１２に測定光を透過させる透過型の目付量測定装置である。透過する測定光の光量を増加させるためには、投光器と受光器とを結ぶ直線が、セパレータ１２と成す角度は、８０度以上１００度以下であることが好ましい。また、この角度は、８５度以上９５度以下であることがより好ましい。セパレータ１２に測定光を反射させる反射型の目付量測定装置も存在する。しかし、反射型の目付量測定装置は、セパレータ１２の耐熱層４の目付量の変化を、反射した測定光の強度変化として観測できず、目付量を測定できないことがある。目付量測定装置３０は、反射型の目付量測定装置が測定不可能なセパレータについても、その塗布層の目付量を測定できる。
《その他の構成》
（キャリブレーション）
図８は、図７に示される目付量測定装置３０の構成を示す平面図である。なお、図８では、受光器３２ａ・３２ｂと制御部３３とカバー３４と仕切り板３５とは省略されている。図８に示されるように、目付量測定装置３０は、サンプルホルダ３６をさらに備える。サンプルホルダ３６には、吸光度が既知であるサンプルが配される。サンプルホルダ３６は、セパレータ１２の生産時と同等の搬送速度でＸ軸方向へ動く。そして、サンプルホルダ３６に配されたサンプルに測定光を透過させ、吸光度を測定することにより、吸光度を目付量に換算するときに用いる吸光度と目付量との正しい比例関係を知ることができる。
（受光器）
図９は、図７に示される目付量測定装置３０の受光器３２の構成を示す正面図であって、（ａ）は受光器３２が密着型センサ（ＣＩＳ；Contact Image Sensor）モジュールであるときの構成を示し、（ｂ）は受光器３２が複数の電荷結合素子（ＣＣＤ；Charge Coupled Device）カメラ３２Ａからなるときの構成を示し、（ｃ）は受光器３２が広角のＣＣＤカメラ３２Ｂであるときの構成を示す。この正面図において、受光器３２ａと受光器３２ｂとは、見かけ上同じ構成となるため、受光器３２ａ・３２ｂをまとめて「３２」と表記する。同様に、投光器３１ａ・３１ｂをまとめて「３１」と表記する。
図９の（ａ）に示されるように、受光器３２は、セパレータ１２のＹ軸方向のおおむね全幅から光を受光する、Ｙ軸方向に並ぶ複数の撮像素子とレンズアレイとを備えたＣＩＳモジュールである。この構成に限定されるわけではなく、受光器３２は、図９の（ｂ）に示されるように、複数のＣＣＤカメラ３２Ａ（受光器）からなっていてもよい。また、受光器３２は、図９の（ｃ）に示されるように、広角のＣＣＤカメラ３２Ｂ（受光器）であってもよい。
（ＣＩＳモジュール）
ＣＩＳモジュールは、以下に列挙する特徴を有する。
・装置間の品質のバラツキが少ないため、このバラツキの悪影響を抑制するための構成が不要になる。
・直径が大きなレンズを用いる構成と比較して視野の歪み（例えば、図９の（ｂ）の視野Ｄに発生する歪み）が少ない。これにより、光学的な補正（収差、光量比など）が不要になる。
・直径が大きなレンズを用いる構成と比較して色収差が少ない。このため、紫外（ＵＶ；ultraviolet）側の光（例えば中心波長が４０５ｎｍである光）と、近赤外（ＮＩＲ；near infra-red）側の光（例えば中心波長が８５０ｎｍである光）とを確実に受光できる。
・分解能は８０μｍである。他の分解能を選択することもできる。
・視野は１１５０ｍｍである。セパレータ１２の幅が約１０００ｍｍであるとき、１台のＣＩＳモジュールを一つの受光器として利用すれば、セパレータ１２の全幅にわたり、耐熱層４の目付量を測定できる。他の視野を選択することもできる。
・キャリブレーション（目付量測定装置３０の経年劣化診断を含む）及び目付換算式算出のための目付量測定は、セパレータ１２の幅方向の端部の一箇所で行えばよい。
・ＣＩＳモジュールの機械構造は１軸である。
（ＣＣＤカメラ）
ＣＣＤカメラは、以下に列挙する特徴を有する。
・ＣＩＳモジュールと比較して安価である。
・ＣＩＳモジュールと比較して選択肢（視野、分解能）が多い。
・分解能は６０μｍである。他の分解能を選択することもできる。
・視野は２００ｍｍである。セパレータ１２の幅が約１０００ｍｍであるとき、６台のＣＣＤカメラを一つの受光器として利用すれば、確実にセパレータ１２の全幅にわたり、耐熱層４の目付量を測定できる。他の視野を選択することもできる。
・視野の歪み（例えば、図９の（ｂ）の視野Ｄに発生する歪み）に対し、光学的な補正が必要になる。
・ＣＩＳモジュールと比較して色収差が大きい。
・キャリブレーション及び目付換算式算出のための目付量測定は、ＣＣＤカメラ毎に実施する必要がある。
・ＣＣＤカメラの機械構造は２軸であってＣＩＳモジュールよりも複雑である。
（広角のＣＣＤカメラ）
広角のＣＣＤカメラは、以下に列挙する特徴を有する。
・ＣＩＳモジュール及びＹ軸方向に並べた複数のＣＣＤカメラを用いる構成と比較して安価である。
・ＣＩＳモジュールと比較して選択肢（視野、分解能）が多い。
・視野の歪みに対し、光学的な補正が必要になる。
・この視野の歪みは、Ｙ軸方向に並べた複数のＣＣＤカメラを用いる構成と比較して大きい。
・ＣＩＳモジュールと比較して色収差が大きい。
（トラバース測定）
図１０は、トラバース測定を行う目付量測定装置５０の構成を示す図であって、（ａ）は正面図であり、（ｂ）は平面図である。「トラバース測定」とは、測定位置を動かしながら行う目付量測定を意味する。図１０の（ａ）に示されるように、目付量測定装置５０は、投光器５１と、分光部５２Ａと、トラバースユニット５６ｕ・５６ｌと、サンプルホルダ５７と、制御部５９（算出部）とを備える。なお、目付量測定装置５０は、ブロアー５５と、非常停止ボタン５８とを備えていてもよい。
投光器５１は、波長が４０５ｎｍ（第１波長）の光と、波長が８５０ｎｍ（第２波長）の光とを含む測定光を発光する光源（例えばＬＥＤ）である。この測定光は、これらに限定されず、３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の波長（第１波長）の光と、波長が６８０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の波長（第２波長）の光とを含んでいてもよい。
分光部５２Ａは、受光器５２と、受光ファイバ５３と、分光器５４とを含む。受光器５２はレンズを備えた筒状の部材であり、投光器５１が投光し、セパレータ１２を透過した光を受光する。受光ファイバ５３は、受光器５２が受光した光を分光器５４に導光する。分光器５４は、受光ファイバ５３が導光した光をスペクトルに分光し、互いに異なる第１及び第２波長の透過光強度を測定する。制御部５９は、これらの透過光強度から上述の吸光度を求め、耐熱層４の目付量に換算する。
トラバースユニット５６ｕは、受光器５２を一定速度でＹ軸方向に往復移動させる。受光器５２が動いても受光器５２から分光器５４へ光を導光できるように、受光ファイバ５３は充分に長い。トラバースユニット５６ｌは、投光器５１を一定速度でＹ軸方向に往復移動させる。トラバースユニット５６ｕとトラバースユニット５６ｌとは連動する。これにより、投光器５１により投光された光が受光器５２へ入射するように、投光器５１と受光器５２とは、同期して往復移動できる。つまり、往復移動する投光器５１（往復移動する位置）から出射した測定光は、セパレータ１２を透過し、これに対応して往復移動する受光器５２（往復移動する位置に対応した領域）で受光される。
投光器５１と受光器５２とをキャリブレーションするときには、吸光度が既知であるサンプルがサンプルホルダ５７に配される。このとき、トラバースユニット５６ｕは、受光器５２をサンプルホルダ５７の位置まで動かす。また、トラバースユニット５６ｌは、投光器５１をサンプルホルダ５７の位置まで動かす。非常停止ボタン５８が押下されると、トラバースユニット５６ｕ・５６ｌの動作が停止する。
トラバースユニット５６ｕ・５６ｌは、フィルム幅をこえた位置で、折り返しのために減速する。この位置にブロアー５５を配置することで、トラバースユニット５６ｌに接続された機器の埃の堆積を防ぐことができる。ブロアー５５は、エアー導管が接続されており、エアー導管から供給されたエアーを、セパレータ１２の投光器５１が光を投光している位置に吹き付ける。
制御部５９は、投光器５１と、分光器５４と、ブロアー５５と、トラバースユニット５６ｕ・５６ｌと、非常停止ボタン５８とに接続されており、接続された部材の動作を制御する。制御部５９の具体的な構成は、上述の制御部３３と同様である。
セパレータ１２が、Ｘ軸正方向（一方向）側へ搬送されているとき、図１０の（ｂ）に示されるように、目付量測定装置５０の目付量測定位置は、セパレータ１２上を位置Ｐａ、位置Ｐｂ、位置Ｐｃ、位置Ｐｄの順に動く。このように、目付量測定位置は、セパレータ１２の搬送方向に延びその幅方向を往復する線状となる。
なお、セパレータ１２の位置Ｐａと位置Ｐｃとの間の耐熱層４の目付量は測定されない。このように、目付量の測定位置がセパレータ１２の一点鎖線で示される線状を移動するため、目付量が測定されない領域がセパレータ１２上に発生する。
（複数の分光部を用いた測定）
図１１は、複数の分光部５２Ａを用いる目付量測定装置５０Ａの構成を示す正面図である。図１１に示されるように、目付量測定装置５０Ａは、投光器５１Ａと、５個の分光部５２Ａと、制御部５９（算出部）とを備える。
投光器５１Ａは、３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の波長（第１波長）の光と、波長が６８０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の波長（第２波長）の光とを含む線状の測定光を、セパレータ１２のＹ軸方向のおおむね全幅に投光する。５個の分光部５２Ａは、受光器５２が受光し、受光ファイバ５３が導光した光を、分光器５４でスペクトルに分光し、互いに異なる第１及び第２波長の透過光強度を測定する。
なお、分光部５２Ａの個数は、５個に限定されず、投光器５１Ａが出射した測定光をセパレータ１２の所望の領域で分光できるように、増やしても減らしてもよい。受光器５２は、測定光を集光するための光学系を備えていてもよい。
制御部５９は、投光器５１Ａと、５個の分光部５２Ａの分光器５４とに接続されており、接続された部材の動作を制御する。そして、制御部５９は、これらの透過光強度から上述の吸光度を求め、耐熱層４の目付量に換算する。
（分光部を用いないトラバース測定）
図１２は、分光部を用いずにトラバース測定を行う目付量測定装置５０Ｂの構成を示す正面図である。図１２に示されるように、目付量測定装置５０Ｂは、投光器５１ａ・５１ｂと、受光器５２ａ・５２ｂと、トラバースユニット５６ｕ・５６ｌと、サンプルホルダ５７と、制御部５９（算出部）とを備える。なお、目付量測定装置５０Ｂは、ブロアー５５と、非常停止ボタン５８とを備えていてもよい。
投光器５１ａは、中心波長が３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下（第１波長）である測定光を投光する。受光器５２ａは、セパレータ１２を透過したこの測定光の透過光強度を測定する。また、投光器５１ｂは、中心波長が６８０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下（第２波長）である測定光を投光する。受光器５２ｂは、セパレータ１２を透過したこの測定光の透過光強度を測定する。
位置αは、投光器５１ａにより投光されて受光器５２ａにより受光される測定光がセパレータ１２と交わる空間上の位置である。位置βは、投光器５１ｂにより投光されて受光器５２ｂにより受光される測定光がセパレータ１２と交わる空間上の位置である。そして、位置αと位置βとにおいて、セパレータ１２の基材フィルム５の膜厚バラツキが無視できる程度に小さいときには、投光器５１ａ・５１ｂは、測定光をセパレータ１２の同一地点に投光しているとみなしてよい。また、投光器５１ａ・５１ｂ及び受光器５２ａ・５２ｂの配置及び角度を調節することにより、二つの測定光をセパレータ１２の同一地点に投光してもよい。
制御部５９は、投光器５１ａ・５１ｂと、受光器５２ａ・５２ｂとに接続されており、接続された部材の動作を制御する。そして、制御部５９は、これらの透過光強度から上述の吸光度を求め、耐熱層４の目付量に換算する。
〔まとめ〕
以上の目付量測定は、測定光を分光するか否かという特徴と、測定光の出射位置が移動するか否かという特徴とにより、以下のとおり分類できる。
（「測定光を分光する」かつ「測定光の出射位置が移動する」目付量測定）
図１０の（ａ）に示される目付量測定装置５０が実行する目付量測定方法は、測定光をセパレータ１２に透過させる透光工程と、セパレータ１２を透過した測定光を分光し、互いに異なる第１及び第２波長の透過光強度を測定する測光工程と、これらの透過光強度に基づき、耐熱層４の目付量を算出する算出工程とを含む。かつ、この目付量測定方法は、透光工程及び測光工程中にセパレータ１２をＸ軸正方向へ搬送する搬送工程をさらに含み、透光工程では、Ｙ軸方向に往復移動する位置から出射した測定光をセパレータ１２に透過させ、測光工程では、往復移動する位置に対応した領域で透過光強度を測定している。
以上により、目付量の測定範囲を、図１０の（ｂ）に示されるように、セパレータ１２の搬送方向に延びその幅方向を往復する線状とすることができる。この目付量の測定結果は、目付量の、セパレータ１２の搬送方向の変動を反映したものとなる。ゆえに、目付量測定装置５０が算出工程において算出した目付量に基づき、耐熱層４の目付量を制御する塗工工程を実行できる。
（「測定光を分光する」かつ「測定光の出射位置が移動しない」目付量測定）
図１１に示される目付量測定装置５０Ａが実行する目付量測定方法は、測定光をセパレータ１２に透過させる透光工程と、セパレータ１２を透過した測定光を分光し、互いに異なる第１及び第２波長の透過光強度を測定する測光工程と、これらの透過光強度に基づき、耐熱層４の目付量を算出する算出工程とを含む。かつ、透光工程及び測光工程中にセパレータ１２をＸ軸正方向へ搬送する搬送工程をさらに含み、透光工程では、Ｙ軸方向に沿った線状の測定光をセパレータ１２に透過させ、測光工程では、測定光の形状に対応した領域で透過光強度を測定している。
以上により、目付量の測定範囲を、面状とすることができる。この目付量の測定結果は、目付量の、セパレータ１２の搬送方向の変動を反映したものとなる。ゆえに、目付量測定装置３０が算出工程において算出した目付量に基づき、耐熱層４の目付量を制御する塗工工程を実行できる。
また、目付量の測定範囲を、セパレータ１２の全面とすることにより、抜けなく目付量を測定できる。ここで、目付量は、セパレータ１２の端部において、有意な値と０との間で変化する。また、目付量は、セパレータ１２の欠点（ピンホールなど）位置において、急激に変化する。ゆえに、セパレータ１２を透過した測定光の透過光強度に基づき、セパレータ１２の端部及び欠点の少なくとも一方を検出する検出工程を実行できる。
（「測定光を分光しない」かつ「測定光の出射位置が移動する」目付量測定）
図１２に示される目付量測定装置５０Ｂが実行する目付量測定方法は、互いに異なる第１及び第２波長をそれぞれ中心波長とする二つの測定光をセパレータ１２に透過させる透光工程と、セパレータ１２を透過した測定光の透過光強度を測定する測光工程と、透過光強度に基づき、耐熱層４の目付量を算出する算出工程とを含む。かつ、透光工程及び測光工程中にセパレータ１２をＸ軸正方向へ搬送する搬送工程をさらに含み、透光工程では、Ｙ軸方向に往復移動する位置から出射した測定光をセパレータ１２に透過させ、測光工程では、往復移動する位置に対応した領域で透過光強度を測定している。
以上により、目付量の測定範囲を、セパレータ１２の搬送方向に延びその幅方向を往復する線状とすることができる。ゆえに、上述のとおり、目付量測定装置５０が算出工程において算出した目付量に基づき、耐熱層４の目付量を制御する塗工工程を実行できる。
（「測定光を分光しない」かつ「測定光の出射位置が移動しない」目付量測定）
図７に示される目付量測定装置３０が実行する目付量測定方法は、互いに異なる第１及び第２波長をそれぞれ中心波長とする二つの測定光をセパレータ１２に透過させる透光工程と、セパレータ１２を透過した測定光の透過光強度を測定する測光工程と、透過光強度に基づき、耐熱層４の目付量を算出する算出工程とを含む。かつ、透光工程及び測光工程中にセパレータ１２をＸ軸正方向へ搬送する搬送工程をさらに含み、透光工程では、Ｙ軸方向に沿った線状の測定光をセパレータ１２に透過させ、測光工程では、測定光の形状に対応した領域で透過光強度を測定している。
以上により、目付量の測定範囲を、面状とすることができる。ゆえに、上述のとおり、目付量測定装置３０が算出工程において算出した目付量に基づき、耐熱層４の目付量を制御する塗工工程を実行できる。
また、目付量の測定範囲を、セパレータ１２の全面とすることにより、抜けなく目付量を測定できる。ゆえに、上述のとおり、セパレータ１２を透過した測定光の透過光強度に基づき、セパレータ１２の端部及び欠点の少なくとも一方を検出する検出工程を実行できる。
〔付記事項〕
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
本発明は、積層フィルム以外の光を透過するフィルムに形成された塗布層の目付量測定にも利用できる。
１ リチウムイオン二次電池
４ 耐熱層
５ 基材フィルム
２１ 塗工液
２５ 塗工部材
３０ 目付量測定装置
３１・３１ａ・３１ｂ 投光器
３２・３２ａ・３２ｂ 受光器
３２Ａ・３２Ｂ ＣＣＤカメラ（受光器）
３３ 制御部（算出部）
５０ 目付量測定装置
５１ 投光器
５２Ａ 分光部
５９ 制御部（算出部）

Claims (16)

  1. 基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とからなる積層フィルムの前記塗布層の目付量測定方法において、
    互いに異なる、第１波長を中心波長とする測定光と、第２波長を中心波長とする測定光とを前記積層フィルムに透過させる透光工程と、
    前記積層フィルムを透過した前記測定光の透過光強度を測定する測光工程と、
    前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出工程と、
    を含み、
    前記算出工程にて、前記塗布層が前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数と、前記基材フィルムが前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数とに基づき、前記塗布層の目付量を算出することを特徴とする目付量測定方法。
  2. 基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とからなる積層フィルムの前記塗布層の目付量測定方法において、
    測定光を前記積層フィルムに透過させる透光工程と、
    前記積層フィルムを透過した前記測定光を分光し、互いに異なる第１及び第２波長の透過光強度を測定する測光工程と、
    前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出工程と、
    を含み、
    前記算出工程にて、前記塗布層が前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数と、前記基材フィルムが前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数とに基づき、前記塗布層の目付量を算出することを特徴とする目付量測定方法。
  3. 前記透光工程及び測光工程中に前記積層フィルムを一方向へ搬送する搬送工程をさらに含み、
    前記透光工程では、前記積層フィルムの面上かつ前記一方向と交差する方向に往復移動する位置から出射した前記測定光を前記積層フィルムに透過させ、
    前記測光工程では、前記往復移動する位置に対応した領域で透過光強度を測定する、
    ことを特徴とする請求項１または２に記載の目付量測定方法。
  4. 前記透光工程及び測光工程中に前記積層フィルムを一方向へ搬送する搬送工程をさらに含み、前記透光工程では、前記積層フィルムの面上かつ前記一方向と交差する方向に沿った線状の前記測定光を前記積層フィルムに透過させ、
    前記測光工程では、前記測定光の形状に対応した領域で透過光強度を測定する、
    ことを特徴とする請求項１または２に記載の目付量測定方法。
  5. 前記測定光と前記積層フィルムとがなす角度は、８０°以上１００°以下であることを特徴とする請求項１から４のいずれか一項に記載の目付量測定方法。
  6. 前記第１波長は、３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲に含まれ、
    前記第２波長は、６８０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の範囲に含まれる、
    ことを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載の目付量測定方法。
  7. 前記塗布層は、アラミドを含むアラミド層である、
    ことを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載の目付量測定方法。
  8. 前記積層フィルムを透過した前記測定光の透過光強度に基づき、前記積層フィルムの端部及び欠点の少なくとも一方を検出する検出工程をさらに含むことを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の目付量測定方法。
  9. 基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの製造方法において、
    請求項１から８のいずれか一項に記載の目付量測定方法が含む各工程と、
    前記算出工程において算出した目付量に基づき前記塗布層の目付量を制御する塗工工程と、
    を含むことを特徴とする積層フィルム製造方法。
  10. 基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの製造方法において、
    請求項１から８のいずれか一項に記載の目付量測定方法が含む各工程と、
    前記算出工程において算出した目付量に基づき、前記積層フィルムの目付量異常部位を除去する除去工程と、
    を含むことを特徴とする積層フィルム製造方法。
  11. 基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とからなる積層フィルムの前記塗布層の目付量測定装置において、
    互いに異なる、第１波長を中心波長とする測定光と、第２波長を中心波長とする測定光とをそれぞれ投光する二つの投光器と、
    前記積層フィルムを透過した前記二つの測定光の透過光強度をそれぞれ測定する二つの受光器と、
    前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出部と、
    を備え、
    前記算出部は、前記塗布層が前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数と、前記基材フィルムが前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数とに基づき、前記塗布層の目付量を算出することを特徴とする目付量測定装置。
  12. 基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とからなる積層フィルムの前記塗布層の目付量測定装置において、
    測定光を投光する投光器と、
    前記積層フィルムを透過した前記測定光を分光し、互いに異なる第１及び第２波長の透過光強度を測定する分光部と、
    前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出部と、
    を備え、
    前記算出部は、前記塗布層が前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数と、前記基材フィルムが前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数とに基づき、前記塗布層の目付量を算出することを特徴とする目付量測定装置。
  13. 基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの前記塗布層の目付量測定方法において、
    互いに異なる、第１波長を中心波長とする測定光と、第２波長を中心波長とする測定光とを前記積層フィルムに透過させる透光工程と、
    前記積層フィルムを透過した前記測定光の透過光強度を測定する測光工程と、
    前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出工程と、
    を含み、
    前記算出工程にて、前記塗布層が前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数と、前記基材フィルムが前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数とに基づき、前記塗布層の目付量を算出し、
    前記塗布層は、アラミドを含むアラミド層であり、
    前記第１波長は、３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲に含まれ、
    前記第２波長は、６８０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の範囲に含まれる、
    ことを特徴とする目付量測定方法。
  14. 基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの前記塗布層の目付量測定方法において、
    測定光を前記積層フィルムに透過させる透光工程と、
    前記積層フィルムを透過した前記測定光を分光し、互いに異なる第１及び第２波長の透過光強度を測定する測光工程と、
    前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出工程と、
    を含み、
    前記算出工程にて、前記塗布層が前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数と、前記基材フィルムが前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数とに基づき、前記塗布層の目付量を算出し、
    前記塗布層は、アラミドを含むアラミド層であり、
    前記第１波長は、３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲に含まれ、
    前記第２波長は、６８０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の範囲に含まれる、
    ことを特徴とする目付量測定方法。
  15. 基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの前記塗布層の目付量測定装置において、
    互いに異なる、第１波長を中心波長とする測定光と、第２波長を中心波長とする測定光とをそれぞれ投光する二つの投光器と、
    前記積層フィルムを透過した前記二つの測定光の透過光強度をそれぞれ測定する二つの受光器と、
    前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出部と、
    を備え、
    前記算出部は、前記塗布層が前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数と、前記基材フィルムが前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数とに基づき、前記塗布層の目付量を算出し、
    前記塗布層は、アラミドを含むアラミド層であり、
    前記第１波長は、３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲に含まれ、
    前記第２波長は、６８０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の範囲に含まれる、
    ことを特徴とする目付量測定装置。
  16. 基材フィルムと前記基材フィルムに形成された塗布層とを有する積層フィルムの前記塗布層の目付量測定装置において、
    測定光を投光する投光器と、
    前記積層フィルムを透過した前記測定光を分光し、互いに異なる第１及び第２波長の透過光強度を測定する分光部と、
    前記透過光強度に基づき、前記塗布層の目付量を算出する算出部と、
    を備え、
    前記算出部は、前記塗布層が前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数と、前記基材フィルムが前記第１及び第２波長に対して示す各吸光度の比例係数とに基づき、前記塗布層の目付量を算出し、
    前記塗布層は、アラミドを含むアラミド層であり、
    前記第１波長は、３９０ｎｍ以上４２０ｎｍ以下の範囲に含まれ、
    前記第２波長は、６８０ｎｍ以上８５０ｎｍ以下の範囲に含まれる、
    ことを特徴とする目付量測定装置。
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