JP6582933B2 - Method for producing functional film - Google Patents
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Description
本発明は、基材フィルム及び当該基材フィルム上に設けられた機能性層を備える機能性フィルムの製造方法に関する。 The present invention relates to a base film and a method for producing a functional film including a functional layer provided on the base film.
基材フィルム及び機能性層を有する機能性フィルムは、前記の機能性層が所定の機能を有する複層構造のフィルムである。このような機能性フィルムは、広範な用途において使用されており、例えば、液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の表示装置の構成部材として用いられうる。 A functional film having a base film and a functional layer is a film having a multilayer structure in which the functional layer has a predetermined function. Such a functional film is used in a wide range of applications, and can be used, for example, as a constituent member of a display device such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display device.
機能性フィルムは、塗工液を用いて製造されることがある。通常は、機能性層を形成するための塗工液を基材フィル上に塗工し、必要に応じて塗工された塗工液を硬化させて、機能性フィルムを得る。このような塗工液の塗工は、バックアップロールを備える塗工装置を用いて行われることがあった（特許文献１〜３参照）。一般に、このような従来の塗工装置では、バックアップロールの周面に基材フィルムを支持した状態で基材フィルムを搬送しながら、基材フィルム上に塗工液を塗工していた。 A functional film may be manufactured using a coating liquid. Usually, the coating liquid for forming a functional layer is applied on the substrate film, and the coated coating liquid is cured as necessary to obtain a functional film. Such coating of the coating liquid may be performed using a coating apparatus including a backup roll (see Patent Documents 1 to 3). In general, in such a conventional coating apparatus, the coating liquid is applied onto the base film while the base film is transported in a state where the base film is supported on the peripheral surface of the backup roll.
バックアップロールを用いた塗工装置では、バックアップロールに基材フィルムが進入する際に、バックアップロールと基材フィルムとの間に空気が浸入することがある。浸入した空気は、バックアップロールと基材フィルムとの間に留まって空気溜まりを形成し、基材フィルムに、シワ、たるみ等の変形部を生じさせる。このような変形部が基材フィルムに生じると、当該基材フィルム上に塗工液を均一な厚みで塗工することができなくなって、機能性層に厚みムラを生じる。 In a coating apparatus using a backup roll, when the base film enters the backup roll, air may enter between the backup roll and the base film. The infiltrated air stays between the backup roll and the base film to form an air pocket, and causes deformation parts such as wrinkles and sagging in the base film. When such a deformation | transformation part arises in a base film, it becomes impossible to apply a coating liquid with the uniform thickness on the said base film, and thickness unevenness arises in a functional layer.
厚みムラが生じると、当該厚みムラが形成された機能性層の部分において光の干渉が生じ、外観においてムラを生じることがある。また、前記のような厚みムラは、機能性フィルムをロール状に巻き取る場合に、ブロッキングの原因となりうる。さらに、機能性層が当該機能性層の表面形状の調整のために粒子を含む場合、厚みムラが形成された部分では、厚みが過剰となって粒子数が極端に多くなりヘイズが部分的に高くなったり、厚みが不足して粒子が機能性層から脱離したりする可能性がある。そのため、厚みムラは、抑制することが望まれる。 When the thickness unevenness occurs, light interference occurs in the functional layer portion where the thickness unevenness is formed, and the appearance may be uneven. Further, the thickness unevenness as described above can cause blocking when the functional film is wound into a roll. Furthermore, when the functional layer contains particles for adjusting the surface shape of the functional layer, in the portion where the thickness unevenness is formed, the thickness becomes excessive and the number of particles becomes extremely large, and the haze is partially There is a possibility that the particle size is increased or the thickness is insufficient and the particles are detached from the functional layer. Therefore, it is desired to suppress the thickness unevenness.
前記のような厚みムラを抑制するため、従来から検討がなされている。例えば、特許文献１では、基材フィルムがバックアップロールに接触を開始する位置に、基材フィルムとバックアップロールとの間に形成される空間を減圧する減圧装置を設ける技術が提案されている。特許文献１記載の技術によれば、基材フィルムとバックアップロールとの間に浸入する空気の量を減らすことができる。そのため、通常は、バックアップロールと基材フィルムとの間に浸入する空気を原因とした機能性層の厚みムラを抑制できる。 In order to suppress the thickness unevenness as described above, studies have been made conventionally. For example, Patent Document 1 proposes a technique of providing a decompression device that decompresses a space formed between the base film and the backup roll at a position where the base film starts to contact the backup roll. According to the technique described in Patent Document 1, the amount of air entering between the base film and the backup roll can be reduced. Therefore, normally, the thickness nonuniformity of the functional layer caused by air entering between the backup roll and the base film can be suppressed.
ところが、特許文献１記載の技術は、製造装置に減圧装置を設けることが求められる。このように新たに減圧装置を設けることは、製造コストの上昇を招く可能性がある。また、既存設備の配置によっては、新たな減圧装置を設けるスペースが無いこともありえる。そのため、従来技術とは別に、機能性層の厚みムラを抑制できる新たな技術の開発が望まれている。 However, the technique described in Patent Document 1 is required to provide a decompression device in the manufacturing apparatus. Providing a new decompression device in this way may increase the manufacturing cost. Further, depending on the arrangement of existing equipment, there may be no space for installing a new decompression device. Therefore, the development of a new technology that can suppress the thickness unevenness of the functional layer is desired separately from the conventional technology.
また、安定な塗工を実現するために、塗工液の塗工のためにバックアップロールの周面で支持されながら搬送される基材フィルムは、搬送ズレ、搬送しわ、ばたつき等の搬送異常を生じないことが求められる。ここで、搬送ズレとは、バックアップロールの周面によって支持された状態で搬送される基材フィルムに生じうる、基材フィルムの幅方向における搬送位置の周期的又はランダムなズレをいう。また、搬送シワとは、バックアップロールの周面によって支持された状態で搬送される基材フィルムに生じうる、基材フィルムの長手方置に延在するシワをいう。 In addition, in order to realize stable coating, the base film that is transported while being supported on the peripheral surface of the backup roll for coating of the coating liquid is subject to transport abnormalities such as transport misalignment, transport wrinkles, and flapping. It is required not to occur. Here, conveyance deviation means the periodic or random deviation of the conveyance position in the width direction of a base film which may arise in the base film conveyed in the state supported by the peripheral surface of a backup roll. Moreover, a conveyance wrinkle means the wrinkle extended in the longitudinal direction of a base film which may arise in the base film conveyed in the state supported by the surrounding surface of the backup roll.
本発明は前記の課題に鑑みて創案されたものであって、搬送異常及び厚みムラを抑制しながら機能性フィルムを製造できる、機能性フィルムの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above-described problems, and an object thereof is to provide a functional film manufacturing method capable of manufacturing a functional film while suppressing conveyance abnormality and thickness unevenness.
本発明者らは、前記の課題を解決するべく、鋭意検討を行った。その結果、本発明者らは、バックアップロールで支持されながら搬送される基材フィルム上に塗工液を塗工して機能性層を形成する際に、（１）基材フィルムを高速で搬送速度すること、（２）基材フィルムの搬送方向の張力を適切に調整すること、及び、（３）基材フィルムの搬送速度をバックアップロールの周速よりも僅かに速くすること、を組み合わせることにより、基材フィルムの搬送異常及び機能性層の厚みムラを抑制できることを見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は、下記の通りである。
The present inventors have intensively studied to solve the above-described problems. As a result, the present inventors apply (1) the base film at high speed when the coating liquid is applied onto the base film that is transported while being supported by the backup roll to form the functional layer. Combining (2) appropriately adjusting the tension in the conveyance direction of the base film, and (3) slightly increasing the conveyance speed of the base film slightly faster than the peripheral speed of the backup roll. Thus, it was found that the conveyance abnormality of the base film and the thickness unevenness of the functional layer can be suppressed, and the present invention was completed.
That is, the present invention is as follows.
〔１〕 第一表面及び第二表面を有する長尺の基材フィルムと、前記基材フィルムの前記第一表面に設けられた第一機能性層とを備える機能性フィルムの製造方法であって、
周方向に回転する第一バックアップロールの周面で、前記基材フィルムの前記第二表面を支持しながら、前記基材フィルムを搬送する工程と、
前記第二表面を前記第一バックアップロールの周面で支持された前記基材フィルムの前記第一表面に、第一塗工液を塗工して、前記第一機能性層を形成する工程と、を含み、
前記基材フィルムの前記第二表面が前記第一バックアップロールの周面で支持される支持時間Ｔ１が、０．５秒≦Ｔ１≦５秒であり、
前記第二表面を前記第一バックアップロールの周面で支持された前記基材フィルムの搬送方向の張力Ｆｆ１が、５０Ｎ／ｍ≦Ｆｆ１≦５００Ｎ／ｍであり、
前記第二表面を前記第一バックアップロールの周面で支持された前記基材フィルムの搬送速度Ｖｆ１と前記第一バックアップロールの周速Ｖｒ１との比Ｖｆ１／Ｖｒ１が、１．００１≦Ｖｆ１／Ｖｒ１≦１．０１０である、機能性フィルムの製造方法。
〔２〕 前記第一機能性層が、光学異方性層、ハードコート層、反射防止層及び帯電防止層からなる群より選ばれる１以上の層である、〔１〕記載の機能性フィルムの製造方法。
〔３〕 前記第一機能性層の湿潤膜厚が、０．５μｍ〜５０μｍである、〔１〕又は〔２〕記載の機能性フィルムの製造方法。
〔４〕 前記第一塗工液の粘度が、０．５ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓである、〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。
〔５〕 前記基材フィルムが、脂環式構造含有重合体を含む、〔１〕〜〔４〕のいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。
〔６〕 前記第一塗工液が、紫外線によって硬化しうるものであり、
前記製造方法が、前記第一機能性層に紫外線を照射する工程を含む、〔１〕〜〔５〕のいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。
〔７〕 前記第一バックアップロールの周面の算術平均粗さが、０．０２０μｍ以下であり、
前記基材フィルムの前記第二表面の算術平均粗さが、０．００５μｍ以下である、〔１〕〜〔６〕のいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。
〔８〕 前記基材フィルムの前記第一表面に前記第一機能性層を形成して、前記基材フィルム及び前記第一機能性層を備える機能性フィルムを得た後で、
周方向に回転する第二バックアップロールの周面で、前記第一機能性層の表面を支持しながら、前記機能性フィルムを搬送する工程と、
前記第一機能性層の表面を前記第二バックアップロールの周面で支持された前記機能性フィルムの前記基材フィルムの前記第二表面に、第二塗工液を塗工して、第二機能性層を形成する工程と、を含み、
前記第一機能性層の表面が前記第二バックアップロールの周面で支持される支持時間Ｔ２が、０．５秒≦Ｔ２≦５秒であり、
前記第一機能性層の表面を前記第二バックアップロールの周面で支持された前記機能性フィルムの搬送方向の張力Ｆｆ２が、５０Ｎ／ｍ≦Ｆｆ２≦５００Ｎ／ｍであり、
前記第一機能性層の表面を前記第二バックアップロールの周面で支持された前記機能性フィルムの搬送速度Ｖｆ２と前記第二バックアップロールの周速Ｖｒ２との比Ｖｆ２／Ｖｒ２が、１．００１≦Ｖｆ２／Ｖｒ２≦１．０１０である、〔１〕〜〔７〕のいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。
〔９〕 第一機能性層と第二機能性層とが、同じ機能を有する、〔８〕記載の機能性フィルムの製造方法。
〔１０〕 前記第二塗工液が、紫外線によって硬化しうるものであり、
前記製造方法が、前記第二機能性層に紫外線を照射する工程を含む、〔８〕又は〔９〕記載の機能性フィルムの製造方法。
[1] A method for producing a functional film comprising a long base film having a first surface and a second surface, and a first functional layer provided on the first surface of the base film. ,
A step of conveying the base film while supporting the second surface of the base film on the peripheral surface of the first backup roll rotating in the circumferential direction;
Applying the first coating liquid to the first surface of the base film supported by the peripheral surface of the first backup roll, and forming the first functional layer; Including,
Support time T 1 to the second surface of the base film is supported by the peripheral surface of the first back-up roll is a 0.5 sec ≦ T 1 ≦ 5 seconds,
The tension Ff 1 in the transport direction of the base film supported on the second surface by the peripheral surface of the first backup roll is 50 N / m ≦ Ff 1 ≦ 500 N / m,
The ratio Vf 1 / Vr 1 between the conveying speed Vf 1 of the base film supported on the peripheral surface of the first backup roll and the peripheral speed Vr 1 of the first backup roll is 1.001. ≦ Vf 1 / Vr 1 ≦ 1.010 A method for producing a functional film.
[2] The functional film according to [1], wherein the first functional layer is one or more layers selected from the group consisting of an optically anisotropic layer, a hard coat layer, an antireflection layer, and an antistatic layer. Production method.
[3] The method for producing a functional film according to [1] or [2], wherein the wet film thickness of the first functional layer is 0.5 μm to 50 μm.
[4] The method for producing a functional film according to any one of [1] to [3], wherein the viscosity of the first coating liquid is 0.5 mPa · s to 30 mPa · s.
[5] The method for producing a functional film according to any one of [1] to [4], wherein the base film contains an alicyclic structure-containing polymer.
[6] The first coating liquid can be cured by ultraviolet rays,
The method for producing a functional film according to any one of [1] to [5], wherein the production method includes a step of irradiating the first functional layer with ultraviolet rays.
[7] The arithmetic average roughness of the peripheral surface of the first backup roll is 0.020 μm or less,
The method for producing a functional film according to any one of [1] to [6], wherein the arithmetic average roughness of the second surface of the base film is 0.005 μm or less.
[8] After forming the first functional layer on the first surface of the base film and obtaining the functional film including the base film and the first functional layer,
The step of conveying the functional film while supporting the surface of the first functional layer on the peripheral surface of the second backup roll rotating in the circumferential direction;
A second coating solution is applied to the second surface of the base film of the functional film supported by the peripheral surface of the second backup roll on the surface of the first functional layer. Forming a functional layer, and
Supporting time T 2 to the surface of the first functional layer is supported by the peripheral surface of the second backup roll is 0.5 sec ≦ T 2 ≦ 5 seconds,
The tension Ff 2 in the transport direction of the functional film supported on the peripheral surface of the second backup roll on the surface of the first functional layer is 50 N / m ≦ Ff 2 ≦ 500 N / m,
The ratio Vf 2 / Vr 2 between the transport speed Vf 2 of the functional film supported on the peripheral surface of the second backup roll and the peripheral speed Vr 2 of the second backup roll is the surface of the first functional layer. , 1.001 ≦ Vf is 2 /
[9] The method for producing a functional film according to [8], wherein the first functional layer and the second functional layer have the same function.
[10] The second coating liquid can be cured by ultraviolet rays,
The method for producing a functional film according to [8] or [9], wherein the production method includes a step of irradiating the second functional layer with ultraviolet rays.
本発明によれば、搬送異常及び厚みムラを抑制しながら機能性フィルムを製造できる、機能性フィルムの製造方法を提供できる。 ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the manufacturing method of a functional film which can manufacture a functional film, suppressing conveyance abnormality and thickness nonuniformity can be provided.
以下、例示物及び実施形態を示して本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は、以下に示す例示物及び実施形態に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。 Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples and embodiments. However, the present invention is not limited to the following exemplifications and embodiments, and can be implemented with any modifications without departing from the scope of the claims of the present invention and the equivalents thereof.
以下の説明において、別に断らない限り、「上流」とはフィルム搬送方向の上流をいい、「下流」とはフィルム搬送方向の下流をいう。 In the following description, unless otherwise specified, “upstream” refers to the upstream in the film transport direction, and “downstream” refers to the downstream in the film transport direction.
以下の説明において、別に断らない限り、「軸方向」とはバックアップロールの軸方向を示し、「径方向」とはバックアップロールの径方向を示し、「周方向」とはバックアップロールの周方向を示す。 In the following description, unless otherwise specified, “axial direction” indicates the axial direction of the backup roll, “radial direction” indicates the radial direction of the backup roll, and “circumferential direction” indicates the circumferential direction of the backup roll. Show.
以下の説明において、別に断らない限り、「機能性層」とは、基材フィルム上に塗工液を塗工したことによって形成される基材フィルム上の層を示す。この機能性層には、液体状の塗工液の層、及び、塗工液を乾燥又は硬化させて得られる固体状の層の両方を包含する。 In the following description, unless otherwise specified, the “functional layer” refers to a layer on the base film formed by applying a coating liquid on the base film. This functional layer includes both a liquid coating liquid layer and a solid layer obtained by drying or curing the coating liquid.
以下の説明において、別に断らない限り、用語「（メタ）アクリレート」は、「アクリレート」及び「メタクリレート」の両方を包含し、用語「（メタ）アクリロイル基」は「アクリロイル基」及び「メタクリロイル基」の両方を包含する。 In the following description, unless otherwise specified, the term “(meth) acrylate” includes both “acrylate” and “methacrylate”, and the term “(meth) acryloyl group” means “acryloyl group” and “methacryloyl group”. Including both.
以下の説明において、別に断らない限り、要素の方向が「平行」、「垂直」及び「直交」とは、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±５°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。 In the following description, unless otherwise specified, the directions of the elements are “parallel”, “vertical”, and “orthogonal” include errors within a range that does not impair the effects of the present invention, for example, within ± 5 °. You may go out.
以下の説明において、別に断らない限り、「円偏光板」、「λ／２波長板」、「λ／４波長板」及び「位相差板」といった部材は、剛直な部材に限られるものではなく、フィルム状の、可撓性を有する部材を含む。 In the following description, members such as “circularly polarizing plate”, “λ / 2 wavelength plate”, “λ / 4 wavelength plate”, and “retardation plate” are not limited to rigid members unless otherwise specified. A film-like member having flexibility.
以下の説明において、ある層の遅相軸とは、別に断らない限り、当該層の面内における遅相軸を表す。 In the following description, the slow axis of a layer represents the slow axis in the plane of the layer unless otherwise specified.
以下の説明において、長尺のフィルムとは、別に断らない限り、幅に対して５倍以上の長さを有するフィルムをいい、好ましくは１０倍若しくはそれ以上の長さを有し、具体的にはロール状に巻き取られて保管又は運搬される程度の長さを有するフィルムをいう。 In the following description, unless otherwise specified, a long film means a film having a length of 5 times or more with respect to the width, preferably having a length of 10 times or more, specifically Refers to a film having a length that can be wound or stored in a roll.
以下の説明において、「組成物」とは、別に断らない限り、２種類以上の成分を含む材料だけでなく、１種類の成分のみを含む材料を包含する。 In the following description, unless otherwise specified, the “composition” includes not only a material containing two or more types of components but also a material containing only one type of components.
［１．第一実施形態］
本発明の第一実施形態に係る機能性フィルムの製造方法では、第一表面及び第二表面を有する長尺の基材フィルムの第一表面に第一機能性層を形成して、機能性フィルムを製造する。ここで、第一表面及び第二表面は、基材フィルムの互いに反対側の表面を示す。本実施形態では、溶媒を含み、且つ、紫外線によって硬化しうる第一塗工液としての塗工液を用いて、基材フィルムの第一表面に第一機能性層を形成して、機能性フィルムを製造する例を示して説明する。
[1. First embodiment]
In the method for producing a functional film according to the first embodiment of the present invention, a functional film is formed by forming a first functional layer on a first surface of a long base film having a first surface and a second surface. Manufacturing. Here, a 1st surface and a 2nd surface show the surface of the mutually opposite side of a base film. In the present embodiment, the first functional layer is formed on the first surface of the base film using the coating liquid as the first coating liquid that contains a solvent and can be cured by ultraviolet rays, and has a functionality. An example of producing a film will be shown and described.
図１は、本発明の第一実施形態に係る機能性フィルム１０の製造方法で用いる、機能性フィルム１０の製造装置２０を模式的に示す正面図である。
図１に示すように、この製造装置２０は、基材フィルムロール１１０から繰り出された基材フィルム３０の第一表面３１に塗工液４０（図２参照）を塗工しうる塗工装置１２０と、乾燥装置としてのオーブン１３０と、硬化装置としてのＵＶ照射装置１４０とを、上流からこの順に備える。
FIG. 1 is a front view schematically showing an
As shown in FIG. 1, the
〔１．２．塗工装置１２０〕
図２は、本発明の第一実施形態に係る機能性フィルム１０の製造方法で用いる、塗工装置１２０を模式的に示す正面図である。
図２に示すように、塗工装置１２０は、第一バックアップロールとしてのバックアップロール２１０と、コーター３００と、搬送速度測定装置としての供給ロール２２０と、張力測定装置としてのテンションピックアップロール２３０とを備える。
[1.2. Coating device 120]
FIG. 2 is a front view schematically showing a
As shown in FIG. 2, the
（１．２．１．バックアップロール２１０）
図２に示すように、バックアップロール２１０は、基材フィルム３０の第二表面３２を支持しうる周面２１１を有する。このバックアップロール２１０は、基材フィルム３０の搬送方向と同じ向きで、周方向に回転しうるように設けられている。また、バックアップロール２１０は、図示しないモーター等の駆動装置に接続されている。よって、バックアップロール２１０は、駆動装置から与えられる回転駆動力に応じた回転速度で回転駆動されうるように設けられている。
(1.2.1. Backup Roll 210)
As shown in FIG. 2, the
バックアップロール２１０の直径Ｄは、好ましくは１００ｍｍ以上、より好ましくは１５０ｍｍ以上であり、好ましくは３００ｍｍ以下、より好ましくは２５０ｍｍ以下である。バックアップロール２１０の直径Ｄが、前記範囲の下限値以上であることによって、搬送中に万が一発生する基材フィルム３０の揺れに対して、バックアップロール２１０が振動しない重量にすることができる。また、バックアップロール２１０の直径Ｄが、前記範囲の上限値以下であることによって、バックアップロール２１０の重量を保持するためのシャフト（図示せず。）を大がかりにする必要がないため、バックアップロール２１０の設置を簡便にすることができる。
The diameter D of the
バックアップロール２１０は、当該バックアップロール２１０によって搬送される基材フィルム３０の巻付き角θが、所望の範囲に収まるように設定することが好ましい。ここで、基材フィルム３０の巻付き角θとは、バックアップロール２１０における、基材フィルム３０が接触する周面部分の扇型の中心角である。また、前記の中心角は、バックアップロール２１０を軸方向から観察した場合の角度である。巻付き角θの具体的範囲は、好ましくは９０°以上、より好ましくは１００°以上、特に好ましくは１５０°以上であり、好ましくは２１０°以下、より好ましくは２００°以下、特に好ましくは１８０°以下である。巻付き角θが、前記範囲の下限値以上であることによって、搬送中に不意に基材フィルム３０に揺れが起きても、バックアップロール２１０上での基材フィルム３０の揺れを抑制することができる。また、巻付き角θが、前記範囲の上限値以下であることによって、バックアップロール２１０の前後の基材フィルム３０の搬送パスラインを容易に設定することができる。
The
バックアップロール２１０の周面２１１の算術平均粗さＲａは、好ましくは０．０２０μｍ以下、より好ましくは０．０１５μｍ以下である。このように滑らかな周面２１１を有するバックアップロール２１０は、入手が容易であるので、塗工装置１２０を用意するためのコストを安価にできる。また、従来の技術常識によれば、滑らかな周面を有するバックアップロールを用いた塗工方法では機能性層の厚みムラを抑制することが困難であったが、本発明の第一実施形態によれば、滑らかな周面２１１を有するバックアップロール２１０を用いた場合でも第一機能性層５０の厚みムラを抑制することが可能である。よって、従来技術で特に解決が難しかった課題を解消できるとの観点でも、バックアップロール２１０としては、滑らかな周面２１１を有するものが好ましい。バックアップロール２１０の周面２１１の算術平均粗さＲａの下限は、バックアップロール２１０の製造を容易にする観点から、好ましくは０．００１μｍ以上である。
The arithmetic average roughness Ra of the
また、第一機能性層５０の厚みムラを特に効果的に抑制する観点では、バックアップロール２１０の周面２１１の算術平均粗さＲａは、上述した範囲よりも大きくしても好ましい。バックアップロール２１０の周面２１１が粗いと、バックアップロール２１０の周面２１１で基材フィルム３０の第二表面３２を支持したときに、バックアップロール２１０の周面２１１と基材フィルム３０の第二表面３２との間に微小な空隙を形成することができる。そのため、バックアップロール２１０の周面２１１と基材フィルム３０の第二表面３２との間に浸入した空気の排出を効果的に促すことができるので、厚みムラを特に効果的に抑制できる。ただし、基材フィルム３０の搬送を安定に行う観点では、バックアップロール２１０の周面２１１の算術平均粗さＲａは、好ましくは０．３５０μｍ未満、より好ましくは０．３００μｍ以下、特に好ましくは０．２５０μｍ以下である。
Further, from the viewpoint of effectively suppressing the thickness unevenness of the first
バックアップロール２１０の周面２１１の算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に準拠して、走査距離５０ｍｍにおいて、バックアップロール２１０の軸方向を走査方向に設定して測定しうる。測定装置としては、表面粗さ・輪郭形状測定機（東京精密社製「サーフコム１３０Ａ」）を用いうる。
The arithmetic average roughness Ra of the
バックアップロール２１０の周面２１１を形成する材料としては、基材フィルム３０を安定して支持しうるものが好ましい。そのような材料としては、例えば、タングステンカーバイド（ＷＣ）、ハードクロムめっき、ＳＵＳ、鉄などが挙げられる。
As a material for forming the
また、バックアップロール２１０には、バックアップロール２１０の周速Ｖｒ１を測定しうる周速センサ（図示せず。）が設けられている。
さらに、バックアップロール２１０には、塗工液４０中の溶媒揮発による基材フィルム３０の温度低下に伴うバックアップロール２１０の温度低下を抑制するために、温調液を流通させるための流路を設けてもよい。
Further, the
Further, the
（１．２．２．コーター３００）
図２に示すように、コーター３００は、第二表面３２をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された基材フィルム３０の第一表面３１に塗工液４０を塗工しうる装置である。このコーター３００は、第二表面３２をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された基材フィルム３０の第一表面３１に塗工液４０を塗工しうるように、バックアップロール２１０の周面２１１に対向して設けられている。
(1.2.2. Coater 300)
As shown in FIG. 2, the
コーター３００としては、当該コーター３００が基材フィルム３０を押圧しない非接触式コーターを用いることが好ましい。非接触式コーターを用いることにより、基材フィルム３０の傷つきを抑制したり、流れ方向での膜厚を安定的に一定に保つことができる。
また、一般に、非接触式コーターは、当該非接触式コーターが基材フィルムを押圧しないので、基材フィルムの変形部の解消が難しく、従来の技術によって厚みムラを抑制することは特に困難であった。これに対し、本発明の第一実施形態によれば、このような非接触式コーターを用いた場合でも、厚みムラを抑制することが可能である。よって、従来技術で特に解決が難しかった課題を解消できるとの観点でも、コーター３００としては、非接触式コーターを用いることが好ましい。
As the
In general, the non-contact type coater does not press the base film, so that it is difficult to eliminate the deformed portion of the base film, and it is particularly difficult to suppress the thickness unevenness by the conventional technique. It was. On the other hand, according to the first embodiment of the present invention, even when such a non-contact coater is used, thickness unevenness can be suppressed. Therefore, it is preferable to use a non-contact type coater as the
特に好ましいコーター３００としては、ダイ３１０を備えるダイコーターが挙げられる。そこで、本実施形態は、コーター３００としてダイ３１０を備えるダイコーターを用いた例を示して、説明する。
A particularly preferred
図３は、本発明の第一実施形態に係る機能性フィルム１０の製造方法で用いる塗工装置１２０において、コーター３００によって基材フィルム３０上に塗工液４０が塗工される部分を拡大して模式的に示す断面図である。
図３に示すように、塗工装置１２０のコーター３００は、塗工液４０を吐出しうるダイ３１０を備える。このダイ３１０には、塗工液４０が流通しうる流路３２０と、この流路３２０を流通した塗工液４０を吐出しうる吐出口３３０が形成されている。
FIG. 3 is an enlarged view of a portion where the
As shown in FIG. 3, the
流路３２０は、図示しない塗工液供給装置から供給される塗工液４０を収納するポケット３２１、及び、ポケット３２１から吐出口３３０へと塗工液４０を案内するスロット３２２を含む。ポケット３２１及びスロット３２２は、いずれも、基材フィルム３０の搬送方向と垂直なダイ３１０の幅方向にその断面形状を有するように形成されている。また、スロット３２２と、バックアップロール２１０によって搬送される基材フィルム３０の搬送方向とがなす角ρは、３０°以上９０°以下であることが好ましい。
The
吐出口３３０は、通常、基材フィルム３０の幅方向と平行に延在するスリット状の開口として形成される。この吐出口３３０の長さ（基材フィルム３０の幅方向の長さ）は、基材フィルム３０に形成される第一機能性層５０の幅と、おおむね同じ長さに設定される。
The
ダイ３１０は、吐出口３３０が形成されたリップ部３４０においてバックアップロール２１０に最も近づくように設けられる。リップ部３４０は、基材フィルム３０の搬送方向上流側に設けられた上流側リップ部３４１と、基材フィルム３０の搬送方向下流側に設けられた下流側リップ部３４２とを含んでいて、これらの上流側リップ部３４１及び下流側リップ部３４２の間に、前記の吐出口３３０が開口している。通常、ダイ３１０は、リップ部３４０に近い部分ほど厚みが小さい先細り形状を有していて、上流側リップ部３４１及び下流側リップ部３４２の先端に、ダイ３１０の幅方向に延在する平坦部としてのランド３４１ａ及び３４２ａがそれぞれ形成されている。
The
通常、前記のダイ３１０は、複数部材を組み立てることにより構成され、その主たる部材は、基材フィルム３０の搬送方向上流側の上流側ブロック３５０及び下流側の下流側ブロック３６０である。各ブロック３５０及び３６０は、一般に、図示しないブロック締結用ボルトによって締結されることにより、一体化されている。これらのブロック３５０及び３６０は、温度変化によるダイ３１０の変形を抑制する観点から、線熱膨張率が低い材料によって形成されることが好ましい。具体的な線熱膨張率は、６．０×１０−６［１／Ｋ］以下であることが好ましい。また、後述のようにダイ３１０のリップ部３４０をブロック３５０及び３６０とは異なる材料で形成する場合、ブロック３５０及び３６０は、リップ部３４０よりも線熱膨張率の低い材料で形成することが好ましい。リップ部３４０よりも体積の大きなブロック３５０及び３６０の線熱膨張率を低くすることによって、温度変化による変形などの影響を効果的に低減できる。
Usually, the
ダイ３１０のリップ部３４０は、高い厚み精度で塗工液４０を塗工するために、構造を精密に制御することが好ましい。例えば、上流側リップ部３４１及び下流側リップ部３４２のランド３４１ａ及び３４２ａは、当該ランド３４１ａ及び３４２ａの凹部及び凸部の高さの変動幅を５μｍ以下にできる程度に高い真直度で、形成することが好ましい。そこで、ダイ３１０のリップ部３４０は、前記のブロック３５０及び３６０とは異なる超硬合金材料によって形成してもよい。超硬合金材料としては、例えば、ＷＣ炭化物結晶を、Ｃｏ等の結合金属で結合してなるものであって、ＷＣ結晶の平均粒径が５μｍ以内のものを用いうる。このような超硬合金材料を用いることにより、表面形状を均質にできるとともに、塗工液４０による摩耗を抑制できる（特開２００３−２０００９７号公報参照）。
The structure of the
また、前記のダイ３１０は、通常、図示しない架台に設置されて用いられる。架台の精度を高くする観点から、このような架台として、一体型の鋳物を研削加工することによって形成してなる架台を用いてもよい（特許第４３５８０１０号公報参照）。
The
上述したようなコーター３００は、基材フィルム３０に接触しないように設けられる。よって、コーター３００は、コーター３００と基材フィルム３０との間に、間隙Ｃが空くように設けられる。本実施形態で示すようなダイ３１０を備えたコーター３００は、通常、ダイ３１０のリップ部３４０が基材フィルム３０に最も近くなるように設けられるので、本実施形態では、前記の間隙Ｃは、リップ部３４０と基材フィルム３０との間に空いている。この間隙Ｃの大きさは、好ましくは３０μｍ以上、より好ましくは４０μｍ以上、特に好ましくは５０μｍ以上であり、好ましくは１５０μｍ以下、より好ましくは１４０μｍ以下、特に好ましくは１３０μｍ以下である。間隙Ｃの大きさが、前記範囲の下限値以上であることによって、液溜まり４１にダイ３１０からの振動が伝わり難くなるので、第一機能性層５０における厚みムラを効果的に抑制できる。また、間隙Ｃの大きさが、前記範囲の上限値以下であることによって、液溜まり４１を安定にできるので、第一機能性層５０におけるスジの発生を抑制できる。
The
（１．２．３．供給ロール２２０）
供給ロール２２０は、基材フィルム３０をバックアップロール２１０へと搬送しうるロールであって、通常は、図２に示すように、基材フィルム３０の搬送路においてバックアップロール２１０の直前に設けられている。ここで、供給ロール２２０が設けられたのがバックアップロール２１０の「直前」であるとは、供給ロール２２０とバックアップロール２１０との間に、基材フィルム３０に接触する他のロールが無いことを意味する。
(1.2.3. Supply roll 220)
The
供給ロール２２０は、基材フィルム３０の搬送速度と同じ周速で、基材フィルム３０の搬送方向と同じ向きに、周方向に回転可能に設けられている。また、供給ロール２２０には、当該供給ロール２２０の回転速度を測定しうる回転速度センサ（図示せず。）が設けられている。さらに、基材フィルム３０は、通常、供給ロール２２０を通る期間と、第二表面３２をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された期間とで、搬送速度は同じである。したがって、塗工装置１２０において、供給ロール２２０は、第二表面３２をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された基材フィルム３０の搬送速度Ｖｆ１を測定できる搬送速度測定装置として機能できる。
The
また、この供給ロール２２０には、基材フィルム３０の張力を測定するための張力センサ（図示せず。）が設けられていてもよい。
The
（１．２．４．テンションピックアップロール２３０）
テンションピックアップロール２３０は、バックアップロール２１０から搬送されてきた機能性フィルム１０の搬送方向と同じ向きで、周方向に回転可能に設けられたロールである。このテンションピックアップロール２３０は、機能性フィルム１０の張力を測定できる張力センサ（図示せず。）を備えていて、図２に示すように、バックアップロール２１０の下流に設けられている。
(1.2.4. Tension pickup roll 230)
The
通常、バックアップロール２１０から搬送されてきた機能性フィルム１０の搬送方向の張力は、第二表面３２をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された期間における基材フィルム３０の搬送方向の張力と同じになる。したがって、塗工装置１２０において、テンションピックアップロール２３０は、第二表面３２をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された基材フィルム３０の搬送方向の張力Ｆｆ１を測定できる張力測定装置として機能できる。
Usually, the tension in the transport direction of the
〔１．３．オーブン１３０〕
図１に示すように、オーブン１３０は、塗工装置１２０の下流に任意で設けられた乾燥装置である。溶媒を含む塗工液４０を用いて形成された第一機能性層５０は、溶媒を含みうる。オーブン１３０は、第一機能性層５０を加熱することにより、第一機能性層５０に含まれる前記の溶媒を乾燥によって除去しうるように設けられている。
[1.3. Oven 130]
As shown in FIG. 1, the
ただし、溶媒の除去は、乾燥のための処理を行わなくても、機能性フィルム１０を搬送している期間に達成される場合がありえる。また、溶媒の除去自体が不要である場合もありえる。そのような場合には、オーブン１３０のような乾燥装置は、製造装置２０に設けなくてもよい。また、乾燥装置としては、オーブン１３０以外の装置を用いてもよい。
However, the removal of the solvent may be achieved during a period in which the
〔１．４．ＵＶ照射装置１４０〕
図１に示すように、ＵＶ照射装置１４０は、塗工装置１２０の下流に任意で設けられた硬化装置である。本実施形態では、紫外線によって硬化しうる塗工液４０を用いているので、ＵＶ照射装置１４０は、第一機能性層５０に紫外線を照射することにより、第一機能性層５０を硬化させられるように設けられている。第一機能層５０を硬化させる場合、基材フィルム３０に適度な張力を掛けて、基材フィルム３０の搬送ばたつきを少なくし、平面性を維持してフィルムを搬送しながら硬化させることが好ましい。平面性とは、基材フィルム３０の幅方向および搬送方向に垂直な上下方向の振れ量であり、理想的には０ｍｍであるが、通常、１ｍｍ以下である。
[1.4. UV irradiation device 140]
As shown in FIG. 1, the
ただし、第一機能性層５０の硬化は、硬化のための処理を行わなくても、機能性フィルム１０を搬送している期間に達成される場合がありえる。また、第一機能性層５０の硬化自体が不要である場合もありえる。そのような場合には、ＵＶ照射装置１４０のような硬化装置は、製造装置２０に設けなくてもよい。また、硬化装置としては、ＵＶ照射装置１４０以外の装置を用いてもよい。
However, the curing of the first
〔１．５．機能性フィルム１０の製造方法〕
本発明の第一実施形態に係る機能性フィルム１０の製造方法では、上述した製造装置２０を用いて、長尺の基材フィルム３０をフィルム長手方向に連続的に搬送しながら、基材フィルム３０及び第一機能性層５０を備える機能性フィルム１０を、連続的に製造する。この製造方法は、具体的には、以下の工程を含む。
[1.5. Method for producing functional film 10]
In the method for manufacturing the
本実施形態に係る機能性フィルム１０の製造方法は、塗工装置１２０に基材フィルム３０を供給する工程を行う。本実施形態では、図１に示すように、巻き芯１１１に基材フィルム３０を巻回した基材フィルムロール１１０を、製造装置２０のフィルム供給部に取り付ける。この基材フィルムロール１１０から基材フィルム３０を繰り出し、所定の搬送速度でフィルム長手方向に搬送して、塗工装置１２０に供給する。
The method for manufacturing the
塗工装置１２０に基材フィルム３０が供給されると、図２に示すように、供給ロール２２０が、基材フィルム３０をバックアップロール２１０へと搬送する工程を行う。また、本実施形態では、基材フィルム３０の搬送に伴って供給ロール２２０が周方向に回転しており、この供給ロール２２０の周速を測定することにより、基材フィルム３０の搬送速度Ｖｆ１が測定される。
When the
バックアップロール２１０は、基材フィルム３０の搬送方向と同じ向きで、周速Ｖｒ１で周方向に回転している。このバックアップロール２１０へと供給ロール２２０から基材フィルム３０が搬送されてくると、バックアップロール２１０の周面２１１で基材フィルム３０の第二表面３２を支持しながら、基材フィルム３０を搬送する工程が行われる。この工程では、供給ロール２２０から搬送されてきた基材フィルム３０の第二表面３２は、地点Ｐ１においてバックアップロール２１０の周面２１１に接触を開始し、この周面２１１で支持された状態となる。そして、このようにバックアップロール２１の周面２１１で第二表面３２を支持された状態で、基材フィルム３０は、バックアップロール２１０の周面２１１に沿って搬送される。
The
バックアップロール２１の周面２１１で第二表面３２を支持された基材フィルム３０が、コーター３００が設けられた位置まで搬送されると、当該基材フィルム３０の第一表面３１に塗工液４０を塗工して第一機能性層５０を形成する工程が行われる。本実施形態では、図３に示すように、コーター３００が備えるダイ３１０の吐出口３３０から、基材フィルム３０の第一表面３１へと、塗工液４０を吐出することにより、塗工液４０の塗工が行われる。
When the
ダイ３１０の吐出口３３０から吐出された塗工液４０は、基材フィルム３０の第一表面３１に液溜まり４１を形成する。そして、この液溜まり４１の塗工液４０が基材フィルム３０の第一表面３１に定着することで、塗工液４０の塗工が達成されて、基材フィルム３０の第一表面３１に第一機能性層５０が形成される。
The
第一表面３１に第一機能性層５０を形成された基材フィルム３０は、図２に示すように、バックアップロール２１０の周面２１１で支持された状態で更に搬送される。その後、バックアップロール２１０の周面２１１での基材フィルム３０の支持が終了する地点Ｐ２まで基材フィルム３０が搬送されると、基材フィルム３０はバックアップロール２１０から離れて、バックアップロール２１０の周面２１１による基材フィルム３０の第二表面３２の支持が終了する。これにより、基材フィルム３０と、基材フィルム３０の第一表面３１に設けられた第一機能性層５０とを備える機能性フィルム１０が得られる。
The
得られた機能性フィルム１０は、テンションピックアップロール２３０を介して、オーブン１３０へと搬送される。この際、テンションピックアップロール２３０によって、基材フィルム３０の搬送方向の張力Ｆｆ１が測定される。
The obtained
前述したような塗工装置１２０を用いた第一機能性層５０の形成は、下記の条件（ｉ）、条件（ii）及び条件（iii）を組み合わせて満たすように行う。
（ｉ）基材フィルム３０の第二表面３２がバックアップロール２１０の周面２１１で支持される支持時間Ｔ１が、０．５秒≦Ｔ１≦５秒である。
（ii）第二表面３２をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された基材フィルム３０の搬送方向の張力Ｆｆ１が、５０Ｎ／ｍ≦Ｆｆ１≦５００Ｎ／ｍである。
（iii）第二表面３２をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された基材フィルム３０の搬送速度Ｖｆ１と、バックアップロール２１０の周速Ｖｒ１との比Ｖｆ１／Ｖｒ１が、１．００１≦Ｖｆ１／Ｖｒ１≦１．０１０である。
The formation of the first
(I) The support time T 1 at which the
(Ii) The tension Ff 1 in the transport direction of the
(Iii) The ratio Vf 1 / Vr 1 of the conveyance speed Vf 1 of the
前記の条件（ｉ）、条件（ii）及び条件（iii）を組み合わせて満たしながら塗工装置１２０を用いた第一機能性層５０の形成を行うことにより、基材フィルム３０及び機能性フィルム１０の搬送異常の抑制、並びに、第一機能性層５０の厚みムラの抑制が可能となる。条件（ｉ）、条件（ii）及び条件（iii）を組み合わせて満たすことによってこのような効果が得られる仕組みを、従来の技術と対比して説明する。ただし、本発明は、以下に説明する仕組みによって制限されるものでは無い。
The
図４は、従来の塗工装置の一例としての塗工装置９００を模式的に示す正面図である。また、図４において、基材フィルム９２０及び機能性層９３０については、断面を示す。
図４に示すように、バックアップロール９１０に基材フィルム９２０が進入する際、矢印Ａ１で示すように、バックアップロール９１０と基材フィルム９２０との間に空気が浸入することがある。この空気は、バックアップロール９１０の周面９１１と、バックアップロール９１０側の基材フィルム９２０の表面９２１との間に留まって、その結果、基材フィルム９２０に変形部９４０が形成される。
FIG. 4 is a front view schematically showing a
As shown in FIG. 4, when the
従来は、一般に、バックアップロール９１０の周速と基材フィルム９２０の搬送速度とは同じに設定されていた。そのため、表面９２１をバックアップロール９１０の周面９１１で支持されている期間には、基材フィルム９２０の表面９２１は、バックアップロール９１０の周面９１１に密着している。したがって、基材フィルム９２０に変形部９４０には、大きな搬送張力は作用しないので、変形部９４０は容易には無くならない。
Conventionally, in general, the peripheral speed of the
このように変形部９４０が形成された基材フィルム９２０は、バックアップロール９１０の回転によって搬送され、当該変形部９４０上にコーター９５０によって機能性層９３０を形成された後、符号９６０で示す部分のように、バックアップロール９１０から離れようとする。基材フィルム９２０の変形部９４０がバックアップロール９１０から離れると同時に、変形部９４０に搬送張力が作用し、変形部９４０は急激に平坦に戻る。この際、変形部９４０が平坦に戻るときの急激な動きによって、当該変形部９４０の機能性層９３０には、衝撃荷重がかかる。そして、この衝撃荷重によって、機能性層９３０に含まれる塗工液が流動して、厚みムラが生じる。通常は、変形部９４０の頂部（径方向に突出した部分）の塗工液がその周囲に移るように流動して、機能性層９３０に厚みムラが生じる。このような厚みムラは、特に、バックアップロール９１０の周面９１１の平滑性が高い場合、及び、基材フィルム９２０の表面９２１の平滑性が高い場合、特に生じやすい。
The
これに対し、本実施形態では、条件（ｉ）で示すように基材フィルム３０の搬送速度が速く、且つ、条件（ii）で示す適切な張力条件において、条件（iii）で示すように基材フィルム３０の搬送速度Ｖｆ１をバックアップロール２１０の周速Ｖｒ１よりも僅かに速くしている。これにより、基材フィルム３０の第二表面３２とバックアップロール２１０の周面２１１との密着が妨げられるので、バックアップロール２１０の周面２１１と基材フィルム３０の第二表面３２との間に浸入した空気の排出を促進できる。よって、図２に示すように、基材フィルム３０には、空気の浸入による変形部（図４の変形部９４０参照。）が形成され難い。したがって、バックアップロール２１０から離れるときに基材フィルム３０の急激な動きは生じ難いので、第一機能性層５０の流動は生じ難い。そのため、基材フィルム３０上に形成される第一機能性層５０の厚みムラを抑制することができる。
On the other hand, in the present embodiment, the transport speed of the
また、従来の技術常識では、バックアップロール９１０の周速よりも速い速度で基材フィルム９２０を搬送した場合、基材フィルム９２０がバックアップロール９１０の周面９１１で滑ることにより、搬送ズレ、搬送しわ、及び、ばたつきといった搬送異常が生じると認識されていた。これに対し、本実施形態では、条件（ｉ）、条件（ii）及び条件（iii）のように、搬送異常が生じ難い適切な条件を設定している。したがって、本実施形態では、第一機能性層５０の厚みムラの抑制と搬送異常の抑制との両立が可能となっている。
Further, in the conventional technical common sense, when the
前記の条件（ｉ）を更に詳しく説明する。本実施形態において、支持時間Ｔ１は、通常０．５秒以上、好ましくは０．７秒以上、より好ましくは０．９秒以上であり、通常５．０秒以下、好ましくは３．０秒以下、より好ましくは２．０秒以下である。支持時間Ｔ１が、前記範囲の下限値以上であることにより、搬送異常を効果的に抑制でき、また、前記範囲の上限値以下であることにより、第一機能性層５０の厚みムラを効果的に抑制できる。
The condition (i) will be described in more detail. In this embodiment, the support time T 1 is generally 0.5 second or more, preferably 0.7 seconds or more, more preferably not less than 0.9 seconds, usually less than 5.0 seconds, preferably 3.0 seconds Hereinafter, it is preferably 2.0 seconds or less. Support time T 1, by the range at least as large as the lower limit of the abnormal transport can effectively suppressed, by equal to or less than the upper limit value of the range, the effect of the thickness unevenness of the first
前記の支持時間Ｔ１は、基材フィルム３０とバックアップロール２１０との接触長さＬ、バックアップロール２１０の直径Ｄ、バックアップロール２１０に対する基材フィルム３０の巻付き角θ［°］、及び、基材フィルム３０の搬送速度Ｖｆ１から、下記式（Ｂ１）によって算出しうる。
Ｔ１＝Ｌ／Ｖｆ１＝｛π×Ｄ×（θ／３６０°）｝／Ｖｆ１ （Ｂ１）
The support time T 1 includes the contact length L between the
T 1 = L / Vf 1 = {π × D × (θ / 360 °)} / Vf 1 (B1)
また、前記の条件（ii）を更に詳しく説明する。本実施形態において、基材フィルム３０の張力Ｆｆ１は、通常５０Ｎ／ｍ以上、好ましくは１００Ｎ／ｍ以上、より好ましくは３００Ｎ／ｍ以上であり、通常５００Ｎ／ｍ以下、好ましくは４８０Ｎ／ｍ以下、より好ましくは４５０Ｎ／ｍ以下である。前記の張力Ｆｆ１は、基材フィルム３０の単位幅当たりの張力を表す。このような単位幅当たりの張力Ｆｆ１は、一般に多く用いられる断面積当たりの張力の数値とは異なり、基材フィルム３０の厚みによらない張力の大きさを表すことができる。そのため、基材フィルム３０の厚みが薄い場合でも、基材フィルム３０の搬送異常を抑制できる張力の範囲を適切に規定できる。張力Ｆｆ１が、前記範囲の下限値以上であることにより、基材フィルム３０の搬送異常を効果的に抑制でき、更に通常は、製造される機能性フィルム１０のカールを効果的に抑制できる。また、張力Ｆｆ１が、前記範囲の上限値以下であることにより、装置構造をシンプルにすることができる。さらに、張力Ｆｆ１が、前記範囲の上限値以下であることにより、通常は、バックアップロール２１０の周面２１１と基材フィルム３０の第二表面３２との間への空気の浸入を抑制できるので、基材フィルム３０のシワ及び折れ等の変形部の形成を効果的に抑制できる。
The condition (ii) will be described in more detail. In this embodiment, the tension Ff 1 of the
さらに、前記の条件（iii）を更に詳しく説明する。本実施形態において、比Ｖｆ１／Ｖｒ１は、通常１．００１以上、好ましくは１．００２以上であり、通常１．０１０以下、好ましくは１．００７以下、より好ましくは１．００５以下である。比Ｖｆ１／Ｖｒ１が、前記範囲の下限値以上であることは、基材フィルム３０の搬送速度Ｖｆ１が、バックアップロール２１０の周速Ｖｒ１よりも速いことを表す。そのため、第二表面３２をバックアップロール２１０の周面２１１で支持されている期間において、基材フィルム３０の第二表面３２は、その一部又は全体がバックアップロール２１０の周面２１１に密着していない。よって、基材フィルム３０の第二表面３２とバックアップロール２１０の周面２１１との間には、空気を排出するための排出路が容易に形成されるので、基材フィルム３０のシワ及び折れ等の変形部の形成を効果的に抑制できる。したがって、第一機能性層５０の厚みムラを抑制できる。また、比Ｖｆ１／Ｖｒ１が、前記範囲の上限値以下であることにより、基材フィルム３０の搬送を安定して行うことができる。
Further, the condition (iii) will be described in more detail. In the present embodiment, the ratio Vf 1 / Vr 1 is usually 1.001 or more, preferably 1.002 or more, and is usually 1.010 or less, preferably 1.007 or less, more preferably 1.005 or less. . The ratio Vf 1 / Vr 1 being equal to or higher than the lower limit of the above range indicates that the transport speed Vf 1 of the
また、本実施形態では、コーター３００と基材フィルム３０との間に適切な大きさの間隙Ｃが設けられているので、ポンプ等の振動がダイ３１０を介して液溜まり４１に伝わり難い。そのため、特に効果的に厚みムラを抑制しながら塗工液４０を塗工することが可能である。よって、本実施形態では、第一機能性層５０の厚みムラを特に効果的に抑制することができる。
In the present embodiment, since a gap C having an appropriate size is provided between the
基材フィルム３０の搬送速度Ｖｆ１は、前記の条件（ｉ）〜（iii）を満たす範囲で任意に設定でき、好ましくは５ｍ／分以上、より好ましくは７ｍ／分以上、特に好ましくは１０ｍ／分以上であり、好ましくは５０ｍ／分以下、より好ましくは４５ｍ／分以下、特に好ましくは４０ｍ／分以下である。基材フィルム３０の搬送速度Ｖｆ１が、前記範囲の下限値以上であることによって、基材フィルム３０の搬送を安定化することができ、第一機能性層５０の厚みを均一にし易い。また、搬送速度Ｖｆ１が、前記範囲の上限値以下であることによって、バックアップロール２１０に基材フィルム３０が侵入する際の搬送エアを少なくできる。
The conveyance speed Vf 1 of the
コーター３００による基材フィルム３０の第一表面３１への塗工液４０の塗工は、所望の湿潤膜厚を有する第一機能性層５０が形成されるように行うことが好ましい。ここで、第一機能性層５０の湿潤膜厚とは、液体状態を維持した状態での第一機能性層５０の厚みを示し、乾燥又は硬化した後の第一機能性層５０の厚みを示さない。第一機能性層５０の具体的な湿潤膜厚は、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１μｍ以上、特に好ましくは５μｍ以上であり、好ましくは５０μｍ以下、より好ましくは４０μｍ以下、特に好ましくは３０μｍ以下である。第一機能性層５０の湿潤膜厚が、前記範囲の下限値以上であることによって、第一機能性層５０の幅方向における厚みの均一性を容易に制御することが可能であり、また、前記範囲の上限値以下であることによって、塗工液４０の液だれを抑制し、搬送方向ならびに幅方向で均一な第一機能性層５０を形成することが可能である。
It is preferable that the
第一機能性層５０の湿潤膜厚は、例えば、基材フィルム３０の搬送速度Ｖｆ１、及び、塗工液４０の塗工速度（前記実施形態では、単位時間当たりの塗工液４０の吐出量）によって、調整しうる。
The wet film thickness of the first
塗工装置１２０において得られた機能性フィルム１０は、その後、図１に示すように、オーブン１３０へと搬送される。オーブン１３０では、第一機能性層５０を加熱することにより、第一機能性層５０を乾燥させる工程が行われる。乾燥により、第一機能性層５０から、溶媒が除去される。また、オーブン１３０では、第一機能性層５０が加熱されることにより、乾燥以外の現象が進行することがありえる。例えば、第一機能性層５０が液晶化合物を含む場合、オーブン１３０内の熱によって液晶化合物が配向することがありえる。
The
乾燥温度、乾燥時間などの乾燥条件は、機能性フィルム１０の構成（基材フィルム３０の組成及び厚み、並びに、第一機能性層５０の組成及び厚み等）に応じて、適切に設定しうる。例えば、乾燥温度は３０℃〜２００℃、乾燥時間は０．５分〜４分としうる。
Drying conditions such as drying temperature and drying time can be appropriately set according to the configuration of the functional film 10 (the composition and thickness of the
オーブン１３０での乾燥の後、機能性フィルム１０は、図１に示すように、ＵＶ照射装置１４０へと搬送される。そして、ＵＶ照射装置１４０から第一機能性層５０に矢印Ａ２で示すように紫外線を照射する工程が行われる。紫外線の照射により、第一機能性層５０は硬化する。
After drying in the
紫外線の照射量、照射温度などの硬化条件は、機能性フィルム１０の構成（基材フィルム３０の組成及び厚み、並びに、第一機能性層５０の組成及び厚み等）に応じて、適切に設定しうる。例えば、通常、紫外線照射強度は、０．１ｍＷ／ｃｍ２〜２０００ｍＷ／ｃｍ２、紫外線照射時間は、０．５秒〜３００秒である。積算光量（照射強度×照射時間）は、１０ｍＪ／ｃｍ２〜５０００ｍＪ／ｃｍ２でありうる。紫外線の最大出力波長は、３００ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましい。紫外線の照射温度は通常１５℃〜９５℃であり、紫外線の照射雰囲気は、不活性ガス中でも空気中でも良いが、酸素の影響を抑えるために不活性ガス中が好ましい。
Curing conditions such as the amount of UV irradiation and the irradiation temperature are appropriately set according to the configuration of the functional film 10 (the composition and thickness of the
第一機能性層５０が硬化した後、通常は、機能性フィルム１０を巻き芯１５１で巻き取って、機能性フィルムロール１５０として回収する工程を行う。これにより、基材フィルム３０と硬化した第一機能性層５０とを備える機能性フィルム１０が得られる。
After the 1st
〔１．６．機能性フィルム〕
本実施形態に係る製造方法で製造された機能性フィルム１０は、基材フィルム３０と、基材フィルム３０の第一表面３１に設けられた第一機能性層５０とを備える複層構造のフィルムである。長尺の基材フィルム３０を用いているので、通常は、この機能性フィルム１０も長尺のフィルムとして得られる。機能性フィルム１０においては、第一機能性層５０の厚みムラが抑制されている。
[1.6. Functional film)
The
厚みムラが抑制されているので、通常、第一機能性層５０は、厚みムラの個数密度が、小さい。ここで、厚みムラの個数密度とは、単位面積当たりの厚みムラの個数のことを表す。第一機能性層５０の厚みムラの具体的な個数密度は、好ましくは２０個／ｍ２以下、より好ましくは１０個／ｍ２以下、特に好ましくは５個／ｍ２以下であり、理想的には０個／ｍ２である。長尺の機能性フィルムにおいてこのように厚みムラの個数密度を小さくすることは従来は難しかったが、上述した製造方法では、このように厚みムラの個数密度が小さい第一機能性層５０を備えた機能性フィルム１０が得られる。したがって、上述した製造方法によれば、機能性フィルム１０の歩留まりを高めることが可能である。
Since the thickness unevenness is suppressed, the first
ここで、機能性フィルムの機能性層の厚みムラの個数密度は、下記の方法によって測定しうる。
機能性フィルムの機能性層とは反対側の面（本実施形態では、基材フィルム３０の第二表面３２）に、黒色のフィルムを貼合する。その後、３波長型蛍光管によって機能性フィルムの機能性層側の面を照らし、反射される光を観察する。機能性層に厚みムラがある部分では、厚みムラに起因する光の干渉によって着色した環状ムラが観察される。そこで、前記の方法で５ｍｍ径以上の環状ムラの数をカウントすることにより、機能性層の厚みムラの数を測定して、厚みムラの個数密度を求めうる。この測定方法によれば、両面に機能性層を備える機能性フィルムにおいて、片面の機能性層それぞれの厚みムラの個数密度を測定することができる。
Here, the number density of thickness unevenness of the functional layer of the functional film can be measured by the following method.
A black film is bonded to the surface of the functional film opposite to the functional layer (in this embodiment, the
また、上述した製造方法によれば、通常は、厚みムラの発生頻度だけでなく、厚みムラの強さも抑制できる。よって、通常、第一機能性層５０では、厚みムラにおける厚い部分と薄い部分との厚みの差が小さい。そのため、厚みムラを含むフィルム部分を機能性フィルム１０から切り出し、これを光学フィルムとして画像表示装置に設けた場合でも、画像表示装置に表示ムラは生じ難い。ここで表示ムラとは、色又は輝度が、画面の他の部分と異なる部分をいい、１ｍｍ径以上の円形状のものをいう。
In addition, according to the manufacturing method described above, it is possible to suppress not only the frequency of occurrence of thickness unevenness but also the strength of thickness unevenness. Therefore, normally, in the first
第一機能性層５０の厚みは、第一機能性層５０に求められる機能及び物性に応じて適切に設定してもよく、好ましくは０．１μｍ以上、より好ましくは０．５μｍ以上、特に好ましくは１．０μｍ以上であり、好ましくは１０．０μｍ以下、より好ましくは７．０μｍ以下、特に好ましくは５．０μｍ以下である。
The thickness of the first
機能性フィルム１０を光学フィルムとして用いる場合、機能性フィルム１０は、高い透明性を有することが好ましい。
機能性フィルム１０の具体的な全光線透過率は、好ましくは８５％以上、より好ましくは８６％以上、特に好ましくは８８％以上である。機能性フィルム１０の全光線透過率は、紫外・可視分光計を用いて、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で測定しうる。
機能性フィルム１０の具体的なヘイズは、好ましくは５％以下、より好ましくは３％以下、特に好ましくは１％以下である。機能性フィルム１０のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ７１３６に準拠して、ヘイズメーター（東洋精機社製「ヘイズガードII）を用いて測定しうる。
When the
The specific total light transmittance of the
The specific haze of the
［２．第二実施形態］
第一実施形態では、基材フィルムの片面にのみ機能性層を設けて機能性フィルムを製造する製造方法を説明したが、基材フィルムの両面に機能性層を設けてもよい。この際、基材フィルムの片面に設けられた機能性層ともう片面に設けられた機能性層とは、同じでもよく、異なっていてもよい。以下、基材フィルムの両面に機能性層を設けて機能性フィルムを製造する製造方法を、実施形態を示して説明する。
[2. Second embodiment]
In 1st embodiment, although the manufacturing method which provides a functional layer only on the single side | surface of a base film and manufactured a functional film was demonstrated, you may provide a functional layer on both surfaces of a base film. At this time, the functional layer provided on one side of the base film and the functional layer provided on the other side may be the same or different. Hereinafter, the manufacturing method which provides a functional layer on both surfaces of a base film and manufactures a functional film is shown and described.
本発明の第二実施形態に係る機能性フィルムの製造方法では、基材フィルムと、基材フィルムの第一表面に設けられた第一機能性層と、基材フィルムの第二表面に設けられた第二機能性層とを備える機能性フィルムを製造する製造方法を説明する。また、本実施形態では、第一機能性層を形成するための第一塗工液、及び、第二機能性層を形成するための第二塗工液として、共通の塗工液を用いることにより、同じ厚み、同じ組成、及び、同じ機能を有する第一機能性層及び第二機能性層を設ける例を示して説明する。 In the method for producing a functional film according to the second embodiment of the present invention, the base film, the first functional layer provided on the first surface of the base film, and the second surface of the base film are provided. A manufacturing method for manufacturing a functional film including the second functional layer will be described. In the present embodiment, a common coating liquid is used as the first coating liquid for forming the first functional layer and the second coating liquid for forming the second functional layer. Thus, an example in which the first functional layer and the second functional layer having the same thickness, the same composition, and the same function are provided will be described.
本実施形態に係る製造方法においては、目的とする機能性フィルムが得られる前に、基材フィルムと、基材フィルムの第一表面に設けられた第一機能性層とを備える機能性フィルムが、中間生産物として得られる。この中間生産物としての機能性フィルムを、目的とする機能性フィルムと区別するために、以下、適宜「中間フィルム」ということがある。また、この中間フィルムは、第一実施形態に係る製造方法で製造された機能性フィルム１０と同様の構造を有するので、以下、第一実施形態に係る製造方法で製造された機能性フィルム１０と同様の符号「１０」を付して説明する。
In the manufacturing method according to the present embodiment, a functional film including a base film and a first functional layer provided on the first surface of the base film before the intended functional film is obtained. Obtained as an intermediate product. In order to distinguish this functional film as an intermediate product from the intended functional film, hereinafter, it may be referred to as “intermediate film” as appropriate. Moreover, since this intermediate film has the same structure as the
図５は、本発明の第二実施形態に係る機能性フィルム６０（図６参照。）の製造方法で用いる製造装置７０を模式的に示す正面図である。本実施形態では、この製造装置７０を、基材フィルム３０の第一表面３１に第一機能性層５０を設ける工程、及び、基材フィルム３０の第二表面３２に第二機能性層８０を設ける工程の両方で用いるが、図５では、基材フィルム３０の第一表面３１に第一機能性層５０を形成して中間フィルム１０を得る際の製造装置７０を示す。また、図５に示される製造装置７０において、第一実施形態に係る製造装置２０と同様の部位には、第一実施形態に係る製造装置２０の説明で用いたのと同様の符号を付して説明する。
図５に示すように、この製造装置７０は、第一実施形態に係る製造方法で用いた製造装置２０と同様の構造を有しており、塗工装置１２０と、乾燥装置としてのオーブン１３０と、硬化装置としてのＵＶ照射装置１４０とを、上流からこの順に備える。
FIG. 5 is a front view schematically showing a
As shown in FIG. 5, the
本実施形態に係る製造方法において、塗工装置１２０は、基材フィルム３０の第一表面３１に塗工液４０を塗工するための第一塗工装置として機能し、且つ、基材フィルム３０の第二表面３２に塗工液４０を塗工するための第二塗工装置として機能する。この塗工装置１２０は、図２に示すように、第一実施形態に係る製造方法で用いた塗工装置１２０と同様の構造を有している。したがって、塗工装置１２０は、第一実施形態に係る製造方法で用いた塗工装置１２０と同様の、第一バックアップロール及び第二バックアップロールとしてのバックアップロール２１０と、コーター３００と、供給ロール２２０と、テンションピックアップロール２３０とを備える。
In the manufacturing method according to the present embodiment, the
本発明の第二実施形態に係る機能性フィルム６０の製造方法では、上述した製造装置７０を用いて、長尺の基材フィルム３０をフィルム長手方向に連続的に搬送しながら、基材フィルム３０及び第一機能性層５０を備える中間フィルム１０を、連続的に製造する。その後、上述した製造装置７０を用いて、長尺の中間フィルム１０をフィルム長手方向に連続的に搬送しながら、基材フィルム３０、第一機能性層５０及び第二機能性層８０を備える機能性フィルム６０を、連続的に製造する。この製造方法は、具体的には、以下の工程を含む。
In the method for manufacturing the
本実施形態に係る機能性フィルム６０の製造方法は、第一実施形態に係る機能性フィルム１０の製造方法と同様に、
塗工装置１２０に基材フィルム３０を供給する工程；
基材フィルム３０を供給された塗工装置１２０において、供給ロール２２０が、基材フィルム３０をバックアップロール２１０へと搬送する工程；
周方向に回転するバックアップロール２１０の周面２１１で、基材フィルム３０の第二表面３２を支持しながら、基材フィルム３０を搬送する工程；
バックアップロール２１の周面２１１で第二表面３２を支持された基材フィルム３０の第一表面３１に、塗工液４０を塗工して、第一機能性層５０を形成する工程；
オーブン１３０で第一機能性層５０を加熱して、第一機能性層５０を乾燥させる工程；並びに、
ＵＶ照射装置１４０から第一機能性層５０に紫外線を照射して、第一機能性層５０を硬化する工程；
を行う（図２及び図５参照）。これらの工程を行うことにより、基材フィルム３０及び硬化した第一機能性層５０を備える中間フィルム１０が得られる。こうして得られた中間フィルム１０は、巻き芯１５１で巻き取られて、中間フィルムロールとして回収される。この中間フィルムロールは、第一実施形態に係る製造方法で製造された機能性フィルムロール１５０と同様の構造を有するので、以下、第一実施形態に係る製造方法で製造された機能性フィルムロール１５０と同様の符号「１５０」を付して説明する。
The manufacturing method of the
Supplying the
In the
A step of conveying the
Applying the
Heating the first
A step of irradiating the first
(See FIGS. 2 and 5). By performing these steps, the
本実施形態に係る機能性フィルム６０の製造方法は、前記のようにして中間フィルム１０を得た後で、中間フィルム１０の基材フィルム３０の第二表面３２に、第二機能性層８０を形成する工程を行う。この工程は、第一実施形態に係る機能性フィルム１０の製造方法を、基材フィルム３０として中間フィルム１０を用いて実施する工程であり、以下に説明する工程を含む。
In the method for producing the
図６は、本発明の第二実施形態に係る機能性フィルム６０の製造方法で用いる製造装置７０を模式的に示す正面図である。この図６では、中間フィルム１０の基材フィルム３０の第二表面３２に第二機能性層８０を形成して機能性フィルム６０を得る際の製造装置７０を示す。また、図６に示される製造装置７０において、第一実施形態に係る製造装置２０と同様の部位には、第一実施形態に係る製造装置２０の説明で用いたのと同様の符号を付して説明する。
本実施形態に係る機能性フィルム６０の製造方法は、前記のようにして中間フィルム１０を得た後で、中間フィルムロール１５０を、基材フィルムロール１１０の代わりに製造装置７０のフィルム供給部に取り付ける。そして、この中間フィルムロール１５０から中間フィルム１０を繰り出し、所定の搬送速度でフィルム長手方向に搬送して、塗工装置１２０に供給する工程を行う。
FIG. 6 is a front view schematically showing a
In the method of manufacturing the
図７は、本発明の第二実施形態に係る機能性フィルム６０の製造方法で用いる塗工装置１２０を模式的に示す正面図である。この図７では、中間フィルム１０の基材フィルム３０の第二表面３２に、塗工液４０を塗工して、第二機能性層８０を形成する際の塗工装置１２０を示す。
塗工装置１２０に中間フィルム１０が供給されると、図７に示すように、供給ロール２２０が、中間フィルム１０をバックアップロール２１０へと搬送する工程を行う。また、この工程において、供給ロール２２０により、中間フィルム１０の搬送速度Ｖｆ２が測定される。
FIG. 7 is a front view schematically showing a
When the
バックアップロール２１０へと供給ロール２２０から中間フィルム１０が搬送されてくると、周方向に回転するバックアップロール２１０の周面２１１で、中間フィルム１０の第一機能性層５０の表面５１を支持しながら、中間フィルム１０を搬送する工程が行われる。この工程では、供給ロール２２０から搬送されてきた中間フィルム１０の第一機能性層５０の表面５１は、地点Ｐ１においてバックアップロール２１０の周面２１１に接触を開始し、この周面２１１で支持された状態となる。そして、このようにバックアップロール２１の周面２１１で第一機能性層５０の表面５１を支持された状態で、中間フィルム１０は、バックアップロール２１０の周面２１１に沿って搬送される。
When the
バックアップロール２１の周面２１１で第一機能性層５０の表面５１を支持された中間フィルム１０が、コーター３００が設けられた位置まで搬送されると、当該中間フィルム１０の基材フィルム３０の第二表面３２に塗工液４０を塗工して第二機能性層８０を形成する工程が行われる。
When the
基材フィルム３０の第二表面３２に第二機能性層８０を形成された中間フィルム１０は、バックアップロール２１０の周面２１１で支持された状態で更に搬送される。その後、バックアップロール２１０の周面２１１での中間フィルム１０の支持が終了する地点Ｐ２まで中間フィルム１０が搬送されると、中間フィルム１０はバックアップロール２１０から離れて、バックアップロール２１０の周面２１１による中間フィルム１０の第一機能性層５０の表面５１の支持が終了する。これにより、基材フィルム３０と、基材フィルム３０の第一表面３１に設けられた第一機能性層５０と、基材フィルム３０の第二表面３２に設けられた第二機能性層８０とを備える機能性フィルム６０が得られる。
The
得られた機能性フィルム６０は、テンションピックアップロール２３０を介して、オーブン１３０へと搬送される。この際、テンションピックアップロール２３０によって、機能性フィルム６０の張力が測定されることにより、中間フィルム１０の搬送方向の張力Ｆｆ２が測定される。
The obtained
前述したような塗工装置１２０を用いた第二機能性層８０の形成は、下記の条件（iv）、条件（ｖ）及び条件（vi）を組み合わせて満たすように行う。
（vi）中間フィルム１０の第一機能性層５０の表面５１がバックアップロール２１０の周面２１１で支持される支持時間Ｔ２が、０．５秒≦Ｔ２≦５秒である。
（ｖ）第一機能性層５０の表面５１をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された中間フィルム１０の搬送方向の張力Ｆｆ２が、５０Ｎ／ｍ≦Ｆｆ２≦５００Ｎ／ｍである。
（vi）第一機能性層５０の表面５１をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された中間フィルム１０の搬送速度Ｖｆ２と、バックアップロール２１０の周速Ｖｒ２との比Ｖｆ２／Ｖｒ２が、１．００１≦Ｖｆ２／Ｖｒ２≦１．０１０である。
The formation of the second
(Vi) The support time T 2 during which the
(V) The tension Ff 2 in the transport direction of the
(Vi) Ratio Vf 2 / Vr 2 between the conveyance speed Vf 2 of the
前記の条件（iv）は、本実施形態に係る支持時間Ｔ２が、第一実施形態に係る支持時間Ｔ１の範囲に収まることを表す。また、前記の条件（ｖ）は、本実施形態に係る張力Ｆｆ２が、第一実施形態に係る張力Ｆｆ１の範囲に収まることを表す。さらに、前記の条件（vi）は、本実施形態に係る比Ｖｆ２／Ｖｒ２が、第一実施形態に係る比Ｖｆ１／Ｖｒ１の範囲に収まることを表す。このような条件（iv）、条件（ｖ）及び条件（vi）を組み合わせて満たしながら塗工装置１２０を用いた第二機能性層８０の形成を行うことにより、中間フィルム１０及び機能性フィルム６０の搬送異常の抑制、並びに、第二機能性層８０の厚みムラの抑制が可能となる。
The condition (iv) is supporting the time T 2 according to the present embodiment, indicating that within a range of support time T 1 according to the first embodiment. The condition (v) represents that the tension Ff 2 according to the present embodiment falls within the range of the tension Ff 1 according to the first embodiment. Furthermore, the condition (vi) represents that the ratio Vf 2 / Vr 2 according to the present embodiment falls within the range of the ratio Vf 1 / Vr 1 according to the first embodiment. The
中間フィルム１０の搬送速度Ｖｆ２は、前記の条件（iv）〜（vi）を満たす範囲で任意に設定しうる。中でも、搬送速度Ｖｆ２は、第一実施形態に係る搬送速度Ｖｆ１の範囲に収まることが、第一実施形態と同様の理由により、好ましい。
Conveying speed Vf 2 of the
コーター３００による基材フィルム３０の第二表面３２への塗工液４０の塗工は、所望の湿潤膜厚を有する第二機能性層８０が形成されるように行うことが好ましい。第二機能性層８０の具体的な湿潤膜厚は、第一機能性層５０の湿潤膜厚の範囲と同様の範囲に収まることが好ましい。中でも、機能性フィルム６０のカールを抑制する観点では、第二機能性層８０の湿潤膜厚は、第一機能性層５０の湿潤膜厚と同じであることが特に好ましい。
It is preferable that the
さらに、第二機能性層８０を形成するための塗工液４０の塗工条件（例えば、バックアップロール２１０への中間フィルム１０の巻付き角θ、コーター３００と中間フィルム１０との間の間隔Ｃ、など）は、第一実施形態において第一機能性層８０を形成するための塗工液４０の塗工条件（例えば、バックアップロール２１０への基材フィルム３０の巻付き角θ、コーター３００と基材フィルム３０との間の間隔Ｃ、など）として説明した条件に収まるように設定することが、好ましい。
Furthermore, the coating conditions of the
塗工装置１２０において得られた機能性フィルム６０は、その後、図６に示すように、オーブン１３０へと搬送される。そして、オーブン１３０において、第二機能性層８０を加熱することにより、第二機能性層８０を乾燥させる工程が行われる。
The
オーブン１３０での乾燥の後、機能性フィルム６０は、図６に示すように、ＵＶ照射装置１４０へと搬送される。そして、ＵＶ照射装置１４０から第二機能性層８０に紫外線を照射する工程が行われる。紫外線の照射により、第二機能性層８０は硬化する。
After drying in the
第二機能性層８０が硬化した後、通常は、機能性フィルム６０を巻き芯１６１で巻き取って、機能性フィルムロール１６０として回収する工程を行う。これにより、基材フィルム３０と、硬化した第一機能性層５０と、硬化した第二機能性層８０を備える機能性フィルム６０が得られる。
After the 2nd
本実施形態に係る製造方法で製造された機能性フィルム６０は、基材フィルム３０と、基材フィルム３０の第一表面３１に設けられた第一機能性層５０と、基材フィルム３０の第二表面３２に設けられた第二機能性層８０とを備える複層構造のフィルムである。長尺の基材フィルム３０を用いているので、通常は、この機能性フィルム６０も、長尺のフィルムとして得られる。機能性フィルム６０においては、第一機能性層５０及び第二機能性層８０の厚みムラが抑制されている。
The
厚みムラが抑制されているので、通常、第一機能性層５０及び第二機能性層８０は、それぞれ、厚みムラの個数密度が、小さい。本実施形態において、第一機能性層５０の厚みムラの具体的な個数密度は、第一実施形態において説明したのと同様の範囲に収まることが好ましい。他方、第二機能性層８０の厚みムラの具体的な個数密度は、第一機能性層５０の厚みムラの個数密度と同じでもよいが、通常は、第一機能性層５０の厚みムラの個数密度よりも少ない。
Since thickness unevenness is suppressed, normally, the first
また、本実施形態の製造方法によれば、第一実施形態において説明したのと同様の利点を得ることが可能である。 Moreover, according to the manufacturing method of this embodiment, it is possible to obtain the same advantages as described in the first embodiment.
さらに、機能性フィルム６０を光学フィルムとして用いる場合、機能性フィルム６０は、高い透明性を有することが好ましい。例えば、機能性フィルム６０の全光線透過率及びヘイズは、第一実施形態で説明した機能性フィルム１０の全光線透過率及びヘイズの範囲に収まることが好ましい。
Furthermore, when using the
［３．変更例］
以上、本発明の第一実施形態及び第二実施形態を説明したが、本発明は更に変更して実施してもよい。
例えば、第二実施形態では、第一機能性層５０と第二機能性層８０とが、同じ厚み、同じ組成、及び、同じ機能を有していたが、第一機能性層５０と第二機能性層８０とは、異なる厚み、異なる組成、及び、異なる機能を有していてもよい。
[3. Example of change]
Although the first embodiment and the second embodiment of the present invention have been described above, the present invention may be further modified.
For example, in the second embodiment, the first
また、第二実施形態に係る製造方法では、基材フィルム３０の第一表面３１に第一機能性層５０を設ける工程と、基材フィルム３０の第二表面３２に第二機能性層８０を設ける工程とを、共通の製造装置７０を用いて行っていた。しかし、基材フィルム３０の第一表面３１に第一機能性層５０を設ける工程と、基材フィルム３０の第二表面３２に第二機能性層８０を設ける工程とは、異なる製造装置を用いて行ってもよい。
In the manufacturing method according to the second embodiment, the step of providing the first
さらに、第二実施形態に係る製造方法では、基材フィルム３０の第一表面３１に第一機能性層５０を形成して得た中間フィルム１０を巻き取って中間フィルムロール１５０を得た後で、この中間フィルムロール１５０から中間フィルム１０を繰り出して、塗工装置１２０に供給した。しかし、中間フィルム１０の巻き取りは、行わなくてもよい。よって、例えば、中間フィルム１０の第一機能性層５０を硬化させるＵＶ照射装置１４０の下流に、中間フィルム１０の基材フィルム３０の第二表面３２に塗工液４０を塗工しうる塗工装置を、塗工装置１２０とは別に設けてもよい。
Furthermore, in the manufacturing method according to the second embodiment, after the
また、上述した実施形態では、紫外線の照射によって硬化しうる塗工液を例に挙げて説明したが、紫外線の照射以外の方法によって硬化しうる塗工液を用いてもよい。 In the embodiment described above, the coating liquid that can be cured by irradiation with ultraviolet rays has been described as an example. However, a coating liquid that can be cured by a method other than irradiation with ultraviolet rays may be used.
さらに、上述した機能性フィルムの第一機能性層５０又は第二機能性層８０の表面に、更に別の機能性層を設けてもよい。
Furthermore, you may provide another functional layer in the surface of the 1st
また、乾燥装置としては、オーブン以外の装置を用いてもよい。
さらに、硬化装置としては、ＵＶ照射装置以外の装置を用いてもよい。
また、機能性フィルム１０又は６０の製造装置２０及び７０は、上述した構成要素に加えて、更に任意の構成要素を備えていてもよい。例えば、塗工装置１２０のダイ３１０のリップ部３４０の、フィルム搬送方向上流側に、減圧チャンバー（図示せず。）を備えてもよい。減圧チャンバーを設けることにより、塗工液４０の液溜まり４１に対して十分な減圧調整を行えるので、第一機能性層５０及び第二機能性層８０の厚みムラを更に効果的に抑制できる。
Moreover, you may use apparatuses other than oven as a drying apparatus.
Furthermore, a device other than the UV irradiation device may be used as the curing device.
Moreover, the
さらに、機能性フィルム１０又は６０の製造方法は、上述した工程に加えて、更に任意の工程を含んでいてもよい。例えば、機能性フィルム１０又は６０の製造方法は、第一機能性層５０又は８０に含まれうる液晶化合物を配向させる工程；基材フィルム３０又は機能性フィルム１０若しくは６０に、ラビング処理、コロナ処理、薬品処理等の表面処理を施す工程；基材フィルム３０又は機能性フィルム１０若しくは６０を延伸する工程；機能性フィルム１０又は６０に、保護フィルム等の任意のフィルムを貼合する工程；機能性フィルム１０又は６０をスリットする工程；を含んでいてもよい。
Furthermore, the manufacturing method of the
［４．基材フィルム］
基材フィルムとしては、１層のみを備える単層構造のフィルムを用いてもよく、２層以上の層を備える複層構造のフィルムを用いてもよい。このような基材フィルムとしては、樹脂フィルムを用いうる。樹脂としては、各種の重合体を含む樹脂が挙げられる。当該重合体としては、脂環式構造含有重合体、セルロースエステル、ポリビニルアルコール、ポリイミド、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、エポキシ重合体、ポリスチレン、アクリル重合体、メタクリル重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、及びこれらの組み合わせが挙げられる。これらの中でも、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性等の観点から、脂環式構造含有重合体及びセルロースエステルが好ましく、脂環式構造含有重合体がより好ましい。
[4. Base film]
As the base film, a film having a single layer structure including only one layer may be used, or a film having a multilayer structure including two or more layers may be used. As such a substrate film, a resin film can be used. Examples of the resin include resins containing various polymers. Examples of the polymer include an alicyclic structure-containing polymer, cellulose ester, polyvinyl alcohol, polyimide, polycarbonate, polysulfone, polyethersulfone, epoxy polymer, polystyrene, acrylic polymer, methacrylic polymer, polyethylene, polypropylene, and these. The combination of is mentioned. Among these, from the viewpoints of transparency, low hygroscopicity, dimensional stability, lightness, and the like, alicyclic structure-containing polymers and cellulose esters are preferable, and alicyclic structure-containing polymers are more preferable.
脂環式構造含有重合体は、その重合体の構造単位が脂環式構造を有する重合体である。脂環式構造含有重合体は、主鎖に脂環式構造を有する重合体、側鎖に脂環式構造を有する重合体、主鎖及び側鎖に脂環式構造を有する重合体、並びに、これらの２以上の任意の比率の混合物としうる。中でも、機械的強度及び耐熱性の観点から、主鎖に脂環式構造を有する脂環式構造含有重合体が好ましい。 An alicyclic structure-containing polymer is a polymer in which the structural unit of the polymer has an alicyclic structure. The alicyclic structure-containing polymer is a polymer having an alicyclic structure in the main chain, a polymer having an alicyclic structure in the side chain, a polymer having an alicyclic structure in the main chain and the side chain, and A mixture of any two or more of these may be used. Among these, from the viewpoint of mechanical strength and heat resistance, an alicyclic structure-containing polymer having an alicyclic structure in the main chain is preferable.
脂環式構造の例としては、飽和脂環式炭化水素（シクロアルカン）構造、及び不飽和脂環式炭化水素（シクロアルケン、シクロアルキン）構造が挙げられる。中でも、機械強度及び耐熱性の観点から、シクロアルカン構造及びシクロアルケン構造が好ましく、シクロアルカン構造が特に好ましい。 Examples of the alicyclic structure include a saturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkane) structure and an unsaturated alicyclic hydrocarbon (cycloalkene, cycloalkyne) structure. Among these, from the viewpoint of mechanical strength and heat resistance, a cycloalkane structure and a cycloalkene structure are preferable, and a cycloalkane structure is particularly preferable.
脂環式構造を構成する炭素原子数は、一つの脂環式構造あたり、好ましくは４個以上、より好ましくは５個以上、特に好ましくは６個以上であり、好ましくは３０個以下、より好ましくは２０個以下、特に好ましくは１５個以下である。脂環式構造を構成する炭素原子数がこの範囲であると、基材フィルムの機械強度、耐熱性及び成形性が高度にバランスされる。 The number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is preferably 4 or more, more preferably 5 or more, particularly preferably 6 or more, preferably 30 or less, more preferably per alicyclic structure. Is 20 or less, particularly preferably 15 or less. When the number of carbon atoms constituting the alicyclic structure is within this range, the mechanical strength, heat resistance and moldability of the base film are highly balanced.
脂環式構造含有重合体において、脂環式構造を有する構造単位の割合は、好ましくは５０重量％以上、さらに好ましくは７０重量％以上、特に好ましくは９０重量％以上である。脂環式構造含有重合体における脂環式構造を有する構造単位の割合がこの範囲にあると、基材フィルムの透明性及び耐熱性が良好となる。 In the alicyclic structure-containing polymer, the proportion of structural units having an alicyclic structure is preferably 50% by weight or more, more preferably 70% by weight or more, and particularly preferably 90% by weight or more. When the ratio of the structural unit having an alicyclic structure in the alicyclic structure-containing polymer is in this range, the transparency and heat resistance of the base film are improved.
脂環式構造含有重合体の具体例としては、（１）ノルボルネン重合体、（２）単環の環状オレフィン重合体、（３）環状共役ジエン重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物が挙げられる。これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン重合体及びこれらの水素添加物がより好ましい。 Specific examples of the alicyclic structure-containing polymer include (1) norbornene polymer, (2) monocyclic olefin polymer, (3) cyclic conjugated diene polymer, and (4) vinyl alicyclic hydrocarbon heavy. Combined and these hydrogenated substances are mentioned. Among these, norbornene polymers and hydrogenated products thereof are more preferable from the viewpoints of transparency and moldability.
ノルボルネン系重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体及びその水素化物；ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体及びその水素化物が挙げられる。また、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する１種類の単量体の開環単独重合体、ノルボルネン構造を有する２種類以上の単量体の開環共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる任意の単量体との開環共重合体が挙げられる。さらに、ノルボルネン構造を有する単量体の付加重合体の例としては、ノルボルネン構造を有する１種類の単量体の付加単独重合体、ノルボルネン構造を有する２種類以上の単量体の付加共重合体、並びに、ノルボルネン構造を有する単量体及びこれと共重合しうる任意の単量体との付加共重合体が挙げられる。これらの重合体としては、例えば、特開２００２−３２１３０２号公報等に開示されている重合体が挙げられる。これらの中で、ノルボルネン構造を有する単量体の開環重合体の水素化物は、透明性、成形性、耐熱性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性の観点から、特に好適である。 Examples of the norbornene-based polymer include a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof; an addition polymer of a monomer having a norbornene structure and a hydride thereof. Examples of a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure include a ring-opening homopolymer of one kind of monomer having a norbornene structure and a ring-opening of two or more kinds of monomers having a norbornene structure. Examples thereof include a copolymer and a ring-opening copolymer of a monomer having a norbornene structure and an arbitrary monomer copolymerizable therewith. Furthermore, examples of the addition polymer of a monomer having a norbornene structure include an addition homopolymer of one kind of monomer having a norbornene structure and an addition copolymer of two or more kinds of monomers having a norbornene structure. And addition copolymers of a monomer having a norbornene structure and an arbitrary monomer copolymerizable therewith. Examples of these polymers include polymers disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-321302. Among these, a hydride of a ring-opening polymer of a monomer having a norbornene structure is particularly suitable from the viewpoints of transparency, moldability, heat resistance, low hygroscopicity, dimensional stability and lightness.
脂環式構造含有重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは１０，０００以上、より好ましくは２５，０００以上であり、好ましくは１００，０００以下、より好ましくは８０，０００以下、特に好ましくは５０，０００以下である。重合体の重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、基材フィルムの機械的強度および成型加工性が高度にバランスされる。 The weight average molecular weight (Mw) of the alicyclic structure-containing polymer is preferably 10,000 or more, more preferably 25,000 or more, preferably 100,000 or less, more preferably 80,000 or less, particularly preferably. Is 50,000 or less. When the weight average molecular weight of the polymer is in such a range, the mechanical strength and moldability of the base film are highly balanced.
脂環式構造含有重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は、好ましくは１以上、より好ましくは１．２以上であり、好ましくは１０以下、より好ましくは４以下、特に好ましくは３．５以下である。 The molecular weight distribution (weight average molecular weight (Mw) / number average molecular weight (Mn)) of the alicyclic structure-containing polymer is preferably 1 or more, more preferably 1.2 or more, preferably 10 or less, more preferably 4 or less, particularly preferably 3.5 or less.
ここで、重合体の重量平均分子量及び数平均分子量は、溶媒としてシクロヘキサンを用いて（但し、試料がシクロヘキサンに溶解しない場合にはトルエンを用いてもよい）、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーにより、ポリイソプレン換算（溶媒がトルエンのときは、ポリスチレン換算）の値として測定しうる。 Here, the weight average molecular weight and number average molecular weight of the polymer are determined by gel permeation chromatography using cyclohexane as a solvent (however, if the sample does not dissolve in cyclohexane, toluene may be used). It can be measured as a value in terms of polyisoprene (when the solvent is toluene, in terms of polystyrene).
脂環式構造含有重合体のガラス転移温度は、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００℃以上であり、好ましくは２５０℃以下の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にある脂環式構造含有重合体は、高温下での使用における変形及び応力の発生が抑制されるので、耐久性に優れる。 The glass transition temperature of the alicyclic structure-containing polymer is preferably 80 ° C or higher, more preferably 100 ° C or higher, and preferably 250 ° C or lower. The alicyclic structure-containing polymer having a glass transition temperature in such a range is excellent in durability since the deformation and stress generation during use at high temperatures are suppressed.
脂環式構造含有重合体を含む樹脂は、その分子量２，０００以下の樹脂成分（すなわち、オリゴマー成分）の含有量が、好ましくは５重量％以下、より好ましくは３重量％以下、さらに好ましくは２重量％以下である。オリゴマー成分の含有量が、前記範囲内にあると、基材フィルムの第一表面及び第二表面における微細な凸部の発生が減少し、厚みのばらつきが小さくなり、面精度が向上する。オリゴマー成分の量の低減は、例えば、重合触媒及び水素化触媒の選択；重合、水素化等の反応条件；樹脂を成形用材料としてペレット化する工程における温度条件；を適切に設定することにより、行いうる。また、オリゴマー成分の量は、前述のゲル・パーミエーション・クロマトグラフィーによって測定しうる。 The resin containing the alicyclic structure-containing polymer has a resin component (that is, an oligomer component) having a molecular weight of 2,000 or less, preferably 5% by weight or less, more preferably 3% by weight or less, and still more preferably 2% by weight or less. When the content of the oligomer component is within the above range, the occurrence of fine convex portions on the first surface and the second surface of the base film is reduced, the thickness variation is reduced, and the surface accuracy is improved. The amount of the oligomer component can be reduced by appropriately setting, for example, selection of a polymerization catalyst and a hydrogenation catalyst; reaction conditions such as polymerization and hydrogenation; and temperature conditions in a step of pelletizing a resin as a molding material. Yes. The amount of the oligomer component can be measured by the above-mentioned gel permeation chromatography.
脂環式構造含有重合体を含む樹脂は、脂環式構造含有重合体のみを含んでいてもよいが、脂環式構造含有重合体以外の任意の成分を含んでもよい。脂環式構造含有重合体を含む樹脂中の、脂環式構造含有重合体の割合は、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上である。 The resin containing the alicyclic structure-containing polymer may contain only the alicyclic structure-containing polymer, but may contain any component other than the alicyclic structure-containing polymer. The ratio of the alicyclic structure-containing polymer in the resin containing the alicyclic structure-containing polymer is preferably 70% by weight or more, more preferably 80% by weight or more.
脂環式構造含有重合体を含む樹脂のフィルムは、例えば、当該樹脂を任意のフィルム成形法で成形することによって製造しうる。フィルム成形法としては、例えば、キャスト成形法、押出成形法、インフレーション成形法などが挙げられる。中でも、溶媒を使用しない溶融押出法は、揮発性成分の量を効率よく低減させることができ、地球環境の観点、作業環境の観点、及び、製造効率の観点から好ましい。溶融押出法としては、例えばダイスを用いるインフレーション法などが挙げられ、生産性及び厚み精度に優れる点で、Ｔダイを用いる方法が好ましい。 The resin film containing the alicyclic structure-containing polymer can be produced, for example, by molding the resin by any film forming method. Examples of the film forming method include a cast forming method, an extrusion forming method, and an inflation forming method. Especially, the melt extrusion method which does not use a solvent can reduce the quantity of a volatile component efficiently, and is preferable from a viewpoint of a global environment viewpoint, a viewpoint of work environment, and a viewpoint of manufacturing efficiency. Examples of the melt extrusion method include an inflation method using a die, and a method using a T die is preferable in terms of excellent productivity and thickness accuracy.
脂環式構造含有重合体を含む樹脂の好適な具体例としては、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０」、「ゼオノア１４２０Ｒ」を挙げうる。 Preferable specific examples of the resin containing the alicyclic structure-containing polymer include “Zeonor 1420” and “Zeonor 1420R” manufactured by Nippon Zeon.
脂環式構造含有重合体を含む樹脂のフィルムを基材フィルムとして用いる場合、当該基材フィルムの厚みは、好ましくは１μｍ以上、より好ましくは５μｍ以上、特に好ましくは１０μｍ以上であり、好ましくは１０００μｍ以下、より好ましくは３００μｍ以下、特に好ましくは１００μｍ以下である。このような厚みを有する基材フィルムは、生産性が良好であり、厚みが薄く、且つ、軽量化が可能である。 When a resin film containing an alicyclic structure-containing polymer is used as a base film, the thickness of the base film is preferably 1 μm or more, more preferably 5 μm or more, particularly preferably 10 μm or more, preferably 1000 μm. Hereinafter, it is more preferably 300 μm or less, particularly preferably 100 μm or less. A substrate film having such a thickness has good productivity, is thin, and can be reduced in weight.
セルロースエステルとしては、セルロースの低級脂肪酸エステル（例えば、セルロースアセテート、セルロースアセテートブチレート及びセルロースアセテートプロピオネート）が代表的である。低級脂肪酸とは、１分子あたりの炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味する。セルロースアセテートには、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）及びセルロースジアセテート（ＤＡＣ）が含まれる。 The cellulose ester is typically a lower fatty acid ester of cellulose (for example, cellulose acetate, cellulose acetate butyrate and cellulose acetate propionate). Lower fatty acid means a fatty acid having 6 or less carbon atoms per molecule. Cellulose acetate includes triacetyl cellulose (TAC) and cellulose diacetate (DAC).
セルロースアセテートの酢化度は、５０％〜７０％が好ましく、５５％〜６５％がより好ましい。また、セルロースアセテートの重量平均分子量は、７００００〜１２００００が好ましく、８００００〜１０００００がより好ましい。さらに、上記セルロースアセテートは、酢酸だけでなく、上記酢化度を満足する限り、一部がプロピオン酸、酪酸等の脂肪酸でエステル化されていてもよい。また、樹脂フィルムに含まれる樹脂が、セルロースアセテートと、セルロースアセテート以外のセルロースエステル（セルロースプロピオネート及びセルロースブチレート等）とを組み合わせて含んでもよい。その場合、これらのセルロースエステルの全体が、上記酢化度を満足することが好ましい。 The acetylation degree of cellulose acetate is preferably 50% to 70%, more preferably 55% to 65%. Moreover, 70,000-120,000 are preferable and the weight average molecular weight of a cellulose acetate has more preferable 80,000-100,000. Furthermore, the cellulose acetate may be partially esterified with a fatty acid such as propionic acid or butyric acid as long as the degree of acetylation is satisfied in addition to acetic acid. Moreover, the resin contained in the resin film may contain a combination of cellulose acetate and cellulose esters other than cellulose acetate (cellulose propionate, cellulose butyrate, etc.). In that case, it is preferable that all of these cellulose esters satisfy the above acetylation degree.
トリアセチルセルロースを含む樹脂のフィルムを基材フィルムとして用いる場合、基材フィルムとしては、ジクロロメタンを実質的に含まない溶媒にトリアセチルセルロースを溶解して得られるトリアセチルセルロースドープを用いて作製されるフィルムが、好ましい。これにより、環境保全性が良好である。前記のトリアセチルセルロースドープジクロロメタンを実質的に含まない溶媒にトリアセチルセルロースを溶解する方法としては、低温溶解法又は高温溶解法を用いうる。また、トリアセチルセルロースを含む樹脂のフィルムは、流延法によって製造しうる。 When a resin film containing triacetyl cellulose is used as a base film, the base film is prepared using a triacetyl cellulose dope obtained by dissolving triacetyl cellulose in a solvent substantially free of dichloromethane. A film is preferred. Thereby, environmental conservation is favorable. As a method for dissolving triacetyl cellulose in a solvent substantially free of the triacetyl cellulose-doped dichloromethane, a low temperature dissolution method or a high temperature dissolution method can be used. Moreover, the resin film containing triacetyl cellulose can be produced by a casting method.
流延法では、トリアセチルセルロースの原料フレークを溶媒に溶解し、これに必要に応じて任意の成分を混合して、溶液（ドープ）を調製する。その後、当該ドープをドープ供給器（ダイ等）から支持体の上に流延して、流涎物を得る。この流延物をある程度乾燥して剛性を付与した時点で、フィルムとして支持体から剥離する。その後、当該フィルムをさらに乾燥して溶媒を除去することにより、樹脂フィルムが得られる。 In the casting method, raw material flakes of triacetyl cellulose are dissolved in a solvent, and arbitrary components are mixed therewith as necessary to prepare a solution (dope). Thereafter, the dope is cast on a support from a dope supply device (die or the like) to obtain a flowable product. When the cast is dried to some extent and given rigidity, it is peeled off from the support as a film. Thereafter, the resin film is obtained by further drying the film and removing the solvent.
原料フレークを溶解する溶媒としては、例えば、ハロゲン化炭化水素溶媒（ジクロロメタン等）、アルコール溶媒（メタノール、エタノール、ブタノール等）、エステル溶媒（蟻酸メチル、酢酸メチル等）、エーテル溶媒（ジオキサン、ジオキソラン、ジエチルエーテル等）等が挙げられる。 Solvents for dissolving the raw material flakes include, for example, halogenated hydrocarbon solvents (dichloromethane, etc.), alcohol solvents (methanol, ethanol, butanol, etc.), ester solvents (methyl formate, methyl acetate, etc.), ether solvents (dioxane, dioxolane, Diethyl ether and the like).
ドープに混合しうる任意の成分としては、例えば、レターデーション上昇剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、滑り剤、剥離促進剤等が挙げられる。
ドープを流延する支持体としては、例えば、水平式のエンドレスの金属ベルト、回転するドラムが挙げられる。
Examples of optional components that can be mixed with the dope include a retardation increasing agent, a plasticizer, an ultraviolet absorber, a deterioration preventing agent, a slipping agent, and a peeling accelerator.
Examples of the support for casting the dope include a horizontal endless metal belt and a rotating drum.
ドープの流延に際しては、単一のドープを単層流延してもよく、複数の層を共流延してもよい。複数の層を共流延する場合、例えば、低濃度のセルロースエステルドープの層と、そのおもて面及び裏面に接して設けられた高濃度のセルロースエステルドープの層が形成されるよう、複数のドープを順次流延しうる。
フィルムを乾燥して溶媒を除去する手段の例としては、フィルムを搬送して、内部を乾燥に適した条件に設定した乾燥部を通過させる手段が挙げられる。
In casting the dope, a single dope may be cast as a single layer, or a plurality of layers may be co-cast. When co-casting a plurality of layers, for example, a low concentration cellulose ester dope layer and a high concentration cellulose ester dope layer provided in contact with the front and back surfaces are formed. The dopes can be cast sequentially.
Examples of means for drying the film and removing the solvent include means for transporting the film and passing it through a drying section set to conditions suitable for drying.
トリアセチルセルロースを含む樹脂のフィルムの好ましい例としては、富士写真フィルム社製「ＴＡＣ−ＴＤ８０Ｕ」、並びに、発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号にて公開されたものが挙げられる。 Preferable examples of the resin film containing triacetyl cellulose include “TAC-TD80U” manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. and those disclosed in JIII Journal of Technical Disclosure No. 2001-1745.
トリアセチルセルロースを含む樹脂のフィルムを基材フィルムとして用いる場合、当該基材フィルムの厚みは、好ましくは２０μｍ以上、より好ましくは３０μｍ以上、特に好ましくは４０μｍ以上であり、好ましくは１５０μｍ以下、より好ましくは１３０μｍ以下、とくに好ましくは１２０μｍ以下である。 When a film of a resin containing triacetyl cellulose is used as a base film, the thickness of the base film is preferably 20 μm or more, more preferably 30 μm or more, particularly preferably 40 μm or more, preferably 150 μm or less, more preferably Is 130 μm or less, particularly preferably 120 μm or less.
基材フィルムは、第二表面が平滑であることが好ましい。基材フィルムの第二表面の算術平均粗さ（Ｒａ）は、好ましくは０．００５μｍ以下、より好ましくは０．００４μｍ以下、特に好ましくは０．００３μｍ以下である。基材フィルムの第二表面が平滑であることにより、基材フィルムの搬送性を向上させたり、基材フィルムのヘイズを小さくしたりできる。また、平滑な第二表面を有する基材フィルムは、第一表面に形成される第一機能性層の厚みムラを抑制することが、従来、特に困難であったが、上述した製造方法によれば、第一機能性層における厚みムラを効果的に抑制できる。したがって、従来技術で特に解決が難しかった課題を解消できるとの観点から、基材フィルムの第二表面は平滑であることが好ましい。基材フィルムの第二表面の算術平均粗さの下限は、特段の制限は無いが、工業生産上で現実的な範囲としては、通常０．００１μｍ以上である。 The substrate film preferably has a smooth second surface. The arithmetic average roughness (Ra) of the second surface of the base film is preferably 0.005 μm or less, more preferably 0.004 μm or less, and particularly preferably 0.003 μm or less. When the second surface of the base film is smooth, the transportability of the base film can be improved, or the haze of the base film can be reduced. Further, it has been conventionally difficult for the base film having a smooth second surface to suppress the thickness unevenness of the first functional layer formed on the first surface. If it is, the thickness nonuniformity in a 1st functional layer can be suppressed effectively. Therefore, it is preferable that the second surface of the base film is smooth from the viewpoint that the problem that has been difficult to solve with the prior art can be solved. The lower limit of the arithmetic average roughness of the second surface of the base film is not particularly limited, but as a practical range in industrial production, it is usually 0.001 μm or more.
基材フィルムの表面の算術平均粗さは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−２００１に準拠して、走査距離５０ｍｍにおいて、フィルム幅方向を走査方向に設定して測定しうる。測定装置としては、ザイゴ社製「Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ５０００」又はＣＮＣ表面粗さ測定機（ミツトヨ社製「サーフテストエクストリーム Ｖ−３０００ ＣＮＣ」）を用いうる。 The arithmetic average roughness of the surface of the base film can be measured by setting the film width direction as the scanning direction at a scanning distance of 50 mm in accordance with JIS B0601-2001. As a measuring device, “New View 5000” manufactured by Zygo or CNC surface roughness measuring machine (“Surf Test Extreme V-3000 CNC” manufactured by Mitutoyo Corporation) can be used.
前記のように平滑性が高い第二表面を有する基材フィルムは、様々な方法によって得られる。例えば、基材フィルムが樹脂フィルムである場合、粒子を含まない樹脂を用いる方法が挙げられる。また、例えば、基材フィルムが樹脂フィルムである場合、当該樹脂フィルムに延伸処理を施す方法が挙げられる。さらに、例えば、基材フィルムが、溶融押出法又は溶液流涎法で製造されるフィルムである場合、溶融押出法用又は溶液流涎法用のダイスのリップに電解研磨処理を施して、そのリップを平滑にする方法が挙げられる。 The base film having the second surface having high smoothness as described above can be obtained by various methods. For example, when a base film is a resin film, the method of using resin which does not contain particle | grains is mentioned. Moreover, for example, when the base film is a resin film, a method of performing a stretching process on the resin film can be mentioned. Further, for example, when the base film is a film produced by a melt extrusion method or a solution smelting method, an electrolytic polishing treatment is applied to the lip of the die for the melt extrusion method or the solution stencil method to smooth the lip. The method to make is mentioned.
前記の樹脂フィルムは、延伸処理を施された延伸フィルムであってもよい。適切な延伸条件で延伸処理を施すことにより、樹脂フィルムにレターデーション等の光学特性を発現させたり、樹脂フィルムの表面に配向規制力を発現させたりできる。 The resin film may be a stretched film that has been stretched. By performing a stretching treatment under appropriate stretching conditions, the resin film can exhibit optical properties such as retardation, or the surface of the resin film can exhibit an orientation regulating force.
樹脂フィルムの表面が配向規制力を有する場合、樹脂フィルムの表面に塗工液として液晶組成物を塗工して機能性層を形成すると、その機能性層に含まれる液晶組成物中の液晶化合物を、前記の配向規制力に応じて配向させられる。よって、塗工液として液晶組成物を用いる場合には、前記のような延伸処理を施された樹脂フィルムを基材フィルムとして用いることは、有用である。 When the surface of the resin film has orientation regulating power, when the liquid crystal composition is applied to the surface of the resin film as a coating liquid to form a functional layer, the liquid crystal compound in the liquid crystal composition contained in the functional layer Is oriented according to the orientation regulating force. Therefore, when a liquid crystal composition is used as the coating liquid, it is useful to use a resin film that has been subjected to the stretching treatment as described above as a base film.
延伸によって樹脂フィルムに配向規制力が発現する方向は、通常、延伸による配向方向と一致する。延伸による配向方向とは、延伸により生じた、樹脂フィルムを構成する分子の配向の方向であり、通常は延伸方向そのものに一致する。 The direction in which the orientation regulating force appears in the resin film by stretching usually coincides with the orientation direction by stretching. The orientation direction by stretching refers to the orientation direction of the molecules constituting the resin film produced by stretching, and usually coincides with the stretching direction itself.
延伸による配向方向と樹脂フィルムの幅方向とがなす角度は、０〜９０°としうる。特に、０°超９０°未満の角度としうる。このような範囲の角度において配向方向を有することにより、当該樹脂フィルムを、円偏光板等の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。 The angle formed by the orientation direction by stretching and the width direction of the resin film can be 0 to 90 °. In particular, the angle may be greater than 0 ° and less than 90 °. By having an orientation direction in such an angle range, the resin film can be a material that enables efficient production of a circularly polarizing plate or the like.
また、ある態様において、樹脂フィルムの配向方向と樹脂フィルムの幅方向とがなす角度は、１０°〜６０°であることが好ましく、４０°〜５０°であることが特に好ましい。このような角度関係とすることにより、当該樹脂フィルムを、特定の円偏光板の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。具体的には、直線偏光子と、一枚又は二枚の位相差板とを有する円偏光板の効率的な製造が可能となる。 Moreover, in a certain aspect, it is preferable that the angle which the orientation direction of a resin film and the width direction of a resin film make is 10 degrees-60 degrees, and it is especially preferable that it is 40 degrees-50 degrees. By setting it as such an angular relationship, the said resin film can be made into the material which enables the efficient manufacture of a specific circularly-polarizing plate. Specifically, it is possible to efficiently manufacture a circularly polarizing plate having a linear polarizer and one or two retardation plates.
より具体的には、樹脂フィルムの配向方向と樹脂フィルムの幅方向とがなす角度を、好ましくは１５°±５°、２２．５±５°、４５°±５°、７５°±５°、より好ましくは１５°±４°、２２．５±４°、４５°±４°、７５°±４°、さらにより好ましくは１５°±３°、２２．５°±３°、４５°±３°、７５°±３°といった特定の範囲とすることにより、当該樹脂フィルムを、特定の円偏光板の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。 More specifically, the angle formed by the orientation direction of the resin film and the width direction of the resin film is preferably 15 ° ± 5 °, 22.5 ± 5 °, 45 ° ± 5 °, 75 ° ± 5 °, More preferably 15 ° ± 4 °, 22.5 ± 4 °, 45 ° ± 4 °, 75 ° ± 4 °, even more preferably 15 ° ± 3 °, 22.5 ° ± 3 °, 45 ° ± 3 By setting the specific range such as ° and 75 ° ± 3 °, the resin film can be a material that enables efficient production of a specific circularly polarizing plate.
基材フィルムとしては、通常、長尺のフィルムを用いる。基材フィルムの具体的な長さは、好ましくは５００ｍ以上、より好ましくは１，０００ｍ以上、特に好ましくは２，０００ｍ以上である。このように長い基材フィルムに塗工液を塗工して第一機能性層及び第二機能性層を形成する際、上述した製造方法によれば、第一機能性層及び第二機能性層における厚みムラの発生頻度を低くできる。そのため、機能性フィルムの歩留まりを高めることが可能となるので、工業生産上、大きな利点が得られる。基材フィルムの長さの上限に特段の制限は無いが、好ましくは８，０００ｍ以下、より好ましくは５，０００ｍ以下、特に好ましくは４，０００ｍ以下である。 As the base film, a long film is usually used. The specific length of the base film is preferably 500 m or more, more preferably 1,000 m or more, and particularly preferably 2,000 m or more. Thus, when forming a 1st functional layer and a 2nd functional layer by applying a coating liquid to a long base film, according to the manufacturing method mentioned above, the 1st functional layer and the 2nd functionality The frequency of occurrence of uneven thickness in the layer can be reduced. As a result, the yield of the functional film can be increased, and a great advantage can be obtained in industrial production. Although there is no special restriction | limiting in the upper limit of the length of a base film, Preferably it is 8,000 m or less, More preferably, it is 5,000 m or less, Most preferably, it is 4,000 m or less.
基材フィルムの幅は、好ましくは１，０００ｍｍ以上、より好ましくは１，２００ｍｍ以上、特に好ましくは１，３００ｍｍ以上であり、好ましくは３，０００ｍｍ以下、より好ましくは２，６００ｍｍ以下、特に好ましくは２，５００ｍｍ以下である。 The width of the base film is preferably 1,000 mm or more, more preferably 1,200 mm or more, particularly preferably 1,300 mm or more, preferably 3,000 mm or less, more preferably 2,600 mm or less, particularly preferably. It is 2,500 mm or less.
［５．塗工液］
塗工液としては、液体状の任意の材料を用いうる。この塗工液の粘度は、好ましくは０．５ｍＰａ・ｓ以上、より好ましくは１．０ｍＰａ・ｓ以上、特に好ましくは２．０ｍＰａ・ｓ以上であり、好ましくは３０ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは２０ｍＰａ・ｓ以下、特に好ましくは１５ｍＰａ・ｓ以下である。塗工液の粘度が、前記範囲の下限値以上であることによって、液だれを抑制できる。また、塗工液の粘度が、前記範囲の上限値以下であることによって、搬送気流の影響による液溜まりの変形を抑制できるので、第一機能性層及び第二機能性層におけるスジの形成を抑制できる。塗工液の粘度は、塗工液の温度２３℃において測定しうる。
[5. Coating liquid]
As the coating liquid, any liquid material can be used. The viscosity of the coating solution is preferably 0.5 mPa · s or more, more preferably 1.0 mPa · s or more, particularly preferably 2.0 mPa · s or more, preferably 30 mPa · s or less, more preferably 20 mPa · s. · S or less, particularly preferably 15 mPa · s or less. When the viscosity of the coating liquid is not less than the lower limit of the above range, dripping can be suppressed. In addition, since the viscosity of the coating liquid is less than or equal to the upper limit of the above range, deformation of the liquid pool due to the influence of the conveying airflow can be suppressed, so that streaks are formed in the first functional layer and the second functional layer. Can be suppressed. The viscosity of the coating solution can be measured at a coating solution temperature of 23 ° C.
通常、第一機能性層及び第二機能性層は、塗工液の固形分を含む。また、例えば硬化処理を施された場合には、第一機能性層及び第二機能性層は、塗工液に含まれる成分の反応生成物を含みうる。よって、塗工液の種類は、その塗工液によって形成しようとする第一機能性層及び第二機能性層の種類に応じて適切なものを選択することが好ましい。第一機能性層及び第二機能性層として好適な例を挙げると、光学異方性層、ハードコート層、反射防止層、帯電防止層、防眩層、易接着層などが挙げられる。そこで、以下、このような層それぞれについて、好ましい塗工液を説明する。ただし、第一機能性層及び第二機能性層は、複数の機能を有する層であってもよく、例えば、一つの機能性層がハードコート層及び帯電防止層の両方に該当してもよい。 Usually, a 1st functional layer and a 2nd functional layer contain solid content of a coating liquid. For example, when a curing process is performed, the first functional layer and the second functional layer can include reaction products of components included in the coating liquid. Therefore, it is preferable to select an appropriate type of coating liquid according to the types of the first functional layer and the second functional layer to be formed by the coating liquid. Suitable examples of the first functional layer and the second functional layer include an optically anisotropic layer, a hard coat layer, an antireflection layer, an antistatic layer, an antiglare layer, and an easy adhesion layer. Therefore, a preferable coating solution will be described below for each of these layers. However, the first functional layer and the second functional layer may be layers having a plurality of functions. For example, one functional layer may correspond to both the hard coat layer and the antistatic layer. .
〔５．１．光学異方性層用の塗工液〕
光学異方性層とは、光学的な異方性を有する層をいう。この光学異方性層用の塗工液としては、例えば、重合性液晶化合物を含有する液晶組成物（以下において、当該組成物を、「組成物（Ａ）」と略称する場合がある。）を用いうる。この組成物（Ａ）を用いることにより、硬化後の機能性層として、硬化液晶分子を含む光学異方性層を得ることができる。「硬化液晶分子」とは、液晶相を呈しうる化合物を、液晶相を呈した状態のまま固体とした際の当該化合物の分子を意味する。硬化液晶分子の例としては、硬化性の液晶化合物を硬化させてなるものが挙げられ、より具体的には、重合性液晶化合物を重合させてなる重合体が挙げられる。
[5.1. Coating liquid for optically anisotropic layer]
An optically anisotropic layer refers to a layer having optical anisotropy. Examples of the coating liquid for the optically anisotropic layer include a liquid crystal composition containing a polymerizable liquid crystal compound (hereinafter, the composition may be abbreviated as “composition (A)”). Can be used. By using this composition (A), an optically anisotropic layer containing cured liquid crystal molecules can be obtained as a functional layer after curing. The “cured liquid crystal molecule” means a molecule of the compound when a compound capable of exhibiting a liquid crystal phase is turned into a solid while exhibiting a liquid crystal phase. Examples of the cured liquid crystal molecules include those obtained by curing a curable liquid crystal compound, and more specifically, a polymer obtained by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound.
組成物（Ａ）の成分としての液晶化合物とは、組成物（Ａ）に配合し配向させた際に、液晶相を呈しうる化合物である。重合性液晶化合物とは、かかる液晶相を呈した状態で組成物（Ａ）中で重合し、液晶相における分子の配向を維持したまま重合体となりうる液晶化合物である。さらに、逆波長分散重合性液晶化合物とは、そのように重合体とした場合、得られた重合体が逆波長分散性を示す重合性液晶化合物である。以下の説明では、組成物（Ａ）の成分であって、重合性を有する化合物（重合性液晶化合物及びその他の重合性を有する化合物等）を総称して、単に「重合性化合物」ということがある。 The liquid crystal compound as a component of the composition (A) is a compound that can exhibit a liquid crystal phase when blended and oriented in the composition (A). The polymerizable liquid crystal compound is a liquid crystal compound that can be polymerized in the composition (A) in a state of exhibiting such a liquid crystal phase and can be a polymer while maintaining the molecular orientation in the liquid crystal phase. Further, the reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound is a polymerizable liquid crystal compound in which, when such a polymer is used, the obtained polymer exhibits reverse wavelength dispersion. In the following description, compounds having a polymerizable property (polymerizable liquid crystal compound and other polymerizable compounds, etc.) that are components of the composition (A) are collectively referred to simply as “polymerizable compound”. is there.
重合性液晶化合物の例としては、各種の円盤状液晶化合物、及び棒状液晶化合物が挙げられる。 Examples of the polymerizable liquid crystal compound include various disc-shaped liquid crystal compounds and rod-shaped liquid crystal compounds.
円盤状液晶化合物の例としては、円盤状コア（ディスコティックコア）及び重合性基を有し、液晶相を呈しうる各種の化合物が挙げられる。円盤状液晶化合物は、通常、分子自身が光学的に負の一軸性を有する。円盤状液晶化合物としては、特に、ハイブリッド配向しうるものが好ましい。円盤状液晶化合物を用いて形成され、ハイブリッド配向した光学異方性層は、例えば、ＴＮ型液晶セルの視角特性改良に有用である。円盤状液晶化合物として、側鎖末端にエポキシ基やアクリレート基のような架橋基を有するものを用い、ディスコティックネマティック相形成温度範囲において架橋させることによりその配向構造を熱的に安定に保つことができる。 Examples of the discotic liquid crystal compound include various compounds having a discotic core (discotic core) and a polymerizable group and capable of exhibiting a liquid crystal phase. In general, the discotic liquid crystal compound has an optically negative uniaxial property. As the discotic liquid crystal compound, those capable of hybrid alignment are particularly preferable. An optically anisotropic layer formed using a discotic liquid crystal compound and hybrid-aligned is useful, for example, for improving the viewing angle characteristics of a TN liquid crystal cell. As a discotic liquid crystal compound, a compound having a crosslinking group such as an epoxy group or an acrylate group at the end of the side chain is used, and the alignment structure can be kept thermally stable by crosslinking in the discotic nematic phase formation temperature range. it can.
円盤状液晶化合物のより具体的な例としては、以下の円盤状液晶化合物Ｄ１〜Ｄ３が挙げられる。 More specific examples of the discotic liquid crystal compound include the following discotic liquid crystal compounds D1 to D3.
円盤状液晶化合物Ｄ１〜Ｄ３において、置換基Ｒの例としては、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣｎＨ２ｎ＋１、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｐｈ−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ＋１、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｐｈ−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｐｈ−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｐｈ−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ２、及び−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｐｈ−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−Ｃ（ＣＨ３）＝ＣＨ２が挙げられる。これらの中でも、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｐｈ−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２、及び−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｐｈ−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ２が好ましく、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｐｈ−Ｏ−ＣｎＨ２ｎ−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ２が更に好ましい。ここで、「−Ｐｈ−」は、フェニレン基を表す。
In the discotic liquid crystal compounds D1 to D3, examples of the substituent R include —O—C (═O) —C n H 2n + 1 , —O—C (═O) —Ph—O—C n H 2n + 1 , − O—C (═O) —C n H 2n —O—C (═O) —CH═CH 2 , —O—C (═O) —C n H 2n —O—C (═O) —C ( CH 3 ) ═CH 2 , —O—C (═O) —C n H 2 n —O—CH═CH 2 , —O—C (═O) —C n H 2n —O—C (CH 3 ) = CH 2 , —O—C (═O) —Ph—O—C n H 2 n —O—C (═O) —CH═CH 2 , —O—C (═O) —Ph—O—C n H 2n -O-C (= O) -C (CH 3) =
置換基Ｒにおいて、ｎは、好ましくは３〜１０の自然数であり、より好ましくは４〜８の自然数である。円盤状液晶化合物Ｄ２において、Ｘは、ＣＨ２、Ｏ、Ｓ又はＮＨである。中でも、ＣＨ２又はＯが好ましく、ＣＨ２が更に好ましい。 In the substituent R, n is preferably a natural number of 3 to 10, more preferably a natural number of 4 to 8. In the discotic liquid crystal compound D2, X is CH 2 , O, S, or NH. Among these, CH 2 or O is preferable, and CH 2 is more preferable.
円盤状液晶化合物の他の具体例としては、特開平８−５０２０６号公報、及び文献（C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol. 71, page 111 (1981) ；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節(1994)；B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (1985)；J. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994)）に記載されているものが挙げられる。
Other specific examples of the discotic liquid crystal compound include JP-A-8-50206 and literature (C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., Vol. 71, page 111 (1981); Japan; Chemical Society, Quarterly Review, No. 22, Liquid Crystal Chemistry, Chapter 5,
重合性液晶化合物として、円盤状液晶化合物、主鎖骨格に芳香族を有する芳香族ポリエステル、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリイミド、芳香族ポリアミド等を用いた場合、得られる光学異方性層を、負の一軸性を有する層としうる。光学異方性層の負の一軸性とは、光学異方性層の３軸方向屈折率を、その値が小さい順にｎ１、ｎ２、及びｎ３としたとき、ｎ１＜ｎ２＝ｎ３の関係を有する性質である。したがって、負の一軸性を有する光学異方性層においては、光学軸方向の屈折率が最も小さい。ただし、ｎ２及びｎ３の値は厳密に等しい必要はなく、ほぼ等しい場合は、負の一軸性を有するとしうる。具体的には、
（｜ｎ２−ｎ３｜／｜ｎ２−ｎ１｜）≦０．２
であるものを、負の一軸性を有する層として実用に供しうる。また、ツイスティッドネマチック型液晶セルの視野角特性を大幅に改良しうる光学異方性層を得るためには、光学軸は、光学異方性層の面の法線方向からの傾きβが５°〜６０°であることが好ましく、１０°〜５０°がより好ましく、２０°〜４０°が特に好ましい。さらに、光学異方性層は、波長５９０ｎｍでの面内レターデーションＲｅが５０≦Ｒｅ≦４００（ｎｍ）の条件を満足することが好ましい。
When a discotic liquid crystal compound, an aromatic polyester having an aromatic main chain skeleton, an aromatic polycarbonate, an aromatic polyimide, an aromatic polyamide, or the like is used as the polymerizable liquid crystal compound, the resulting optically anisotropic layer is negatively charged. A layer having uniaxiality. The negative uniaxial property of the optically anisotropic layer has a relationship of n1 <n2 = n3, where n1, n2, and n3 are the order of the triaxial refractive index of the optically anisotropic layer in ascending order. Is the nature. Therefore, in the optically anisotropic layer having negative uniaxiality, the refractive index in the optical axis direction is the smallest. However, the values of n2 and n3 do not have to be exactly equal, and if they are approximately equal, it may be assumed to have negative uniaxiality. In particular,
(| N2-n3 | / | n2-n1 |) ≦ 0.2
Can be put to practical use as a layer having negative uniaxiality. Also, in order to obtain an optically anisotropic layer that can greatly improve the viewing angle characteristics of the twisted nematic liquid crystal cell, the optical axis has an inclination β of 5 from the normal direction of the surface of the optically anisotropic layer. The angle is preferably from 60 ° to 60 °, more preferably from 10 ° to 50 °, and particularly preferably from 20 ° to 40 °. Furthermore, the optically anisotropic layer preferably satisfies the condition that the in-plane retardation Re at a wavelength of 590 nm is 50 ≦ Re ≦ 400 (nm).
棒状液晶化合物の例としては、特開２００２−０３００４２号公報、特開２００４−２０４１９０号公報、特開２００５−２６３７８９号公報、特開２００７−１１９４１５号公報、特開２００７−１８６４３０号公報、及び特開平１１−５１３３６０号公報に記載された重合性基を有する棒状液晶化合物が挙げられる。また、好ましい液晶化合物の例を製品名で挙げると、ＢＡＳＦ社製「ＬＣ２４２」等が挙げられる。液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the rod-like liquid crystal compound include JP 2002-030042 A, JP 2004-204190 A, JP 2005-263789 A, JP 2007-119415 A, JP 2007-186430 A, and a special one. The rod-shaped liquid crystal compound which has a polymeric group described in Kaihei 11-513360 gazette is mentioned. Further, examples of preferable liquid crystal compounds include “LC242” manufactured by BASF and the like. A liquid crystal compound may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
棒状液晶化合物の屈折率異方性Δｎは、好ましくは０．０２以上、より好ましくは０．０５以上であり、好ましくは０．３０以下、より好ましくは０．２５以下である。屈折率異方性Δｎが０．０２未満では、所望の光学的機能を得るために光学異方性層の厚さが厚くなって配向均一性が低下する可能性があり、また、経済コスト的にも不利である。屈折率異方性Δｎが０．３０より大きいと、所望の光学的機能を得るために光学異方性層の厚さが薄くなり、厚さ精度に対して不利である。また、Δｎが０．３０より大きい場合、光学異方性層の紫外線吸収スペクトルの長波長側の吸収端が可視域に及ぶ場合がありえるが、該スペクトルの吸収端が可視域に及んでも所望する光学的性能に悪影響を及ぼさない限り、使用可能である。組成物（Ａ）が液晶化合物を１種類だけ含む場合には、当該液晶化合物の屈折率異方性を、そのまま組成物（Ａ）における液晶化合物の屈折率異方性とする。また、組成物（Ａ）が液晶化合物を２種類以上含む場合には、各液晶化合物それぞれの屈折率異方性Δｎの値と各液晶化合物の含有比率とから求めた屈折率異方性Δｎの値を、組成物（Ａ）における液晶化合物の屈折率異方性とする。屈折率異方性Δｎの値は、セナルモン法により測定しうる。
これらの液晶化合物及び以下に説明する逆波長分散重合性液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
The refractive index anisotropy Δn of the rod-like liquid crystal compound is preferably 0.02 or more, more preferably 0.05 or more, preferably 0.30 or less, more preferably 0.25 or less. When the refractive index anisotropy Δn is less than 0.02, there is a possibility that the thickness of the optically anisotropic layer is increased in order to obtain a desired optical function, and the alignment uniformity may be lowered. It is also disadvantageous. If the refractive index anisotropy Δn is larger than 0.30, the thickness of the optically anisotropic layer becomes thin in order to obtain a desired optical function, which is disadvantageous for the thickness accuracy. In addition, when Δn is larger than 0.30, the absorption edge on the long wavelength side of the ultraviolet absorption spectrum of the optically anisotropic layer may reach the visible range, but it is desirable even if the absorption edge of the spectrum extends to the visible range. As long as the optical performance is not adversely affected, it can be used. When the composition (A) contains only one type of liquid crystal compound, the refractive index anisotropy of the liquid crystal compound is directly used as the refractive index anisotropy of the liquid crystal compound in the composition (A). When the composition (A) contains two or more types of liquid crystal compounds, the refractive index anisotropy Δn determined from the value of the refractive index anisotropy Δn of each liquid crystal compound and the content ratio of each liquid crystal compound The value is defined as the refractive index anisotropy of the liquid crystal compound in the composition (A). The value of the refractive index anisotropy Δn can be measured by the Senarmon method.
One of these liquid crystal compounds and the reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound described below may be used alone, or two or more thereof may be used in combination at any ratio.
重合性液晶化合物の一部又は全部として、逆波長分散重合性液晶化合物を用いうる。逆波長分散重合性液晶化合物を用いることにより、逆波長分散性を有する光学異方性層を容易に得ることができる。 A reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound may be used as a part or all of the polymerizable liquid crystal compound. By using the reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound, an optically anisotropic layer having reverse wavelength dispersion can be easily obtained.
逆波長分散重合性液晶化合物の例としては、その分子中に主鎖メソゲンと、主鎖メソゲンに結合した側鎖メソゲンとを有する化合物が挙げられる。このような逆波長分散重合性液晶化合物が配向した状態において、側鎖メソゲンは、主鎖メソゲンと異なる方向に配向しうる。したがって、光学異方性層において、主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンは異なる方向に配向しうる。そのような配向により、光学異方性層が逆波長分散特性を呈しうる。 Examples of the reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound include a compound having a main chain mesogen and a side chain mesogen bonded to the main chain mesogen in the molecule. In the state where such a reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound is aligned, the side chain mesogen can be aligned in a different direction from the main chain mesogen. Therefore, in the optically anisotropic layer, the main chain mesogen and the side chain mesogen can be oriented in different directions. Such an orientation allows the optically anisotropic layer to exhibit reverse wavelength dispersion characteristics.
逆波長分散重合性液晶化合物の例としては、下記式（Ｉ）で示される化合物（以下において「化合物（Ｉ）」という場合がある。）を挙げることができる。 Examples of the reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound include a compound represented by the following formula (I) (hereinafter sometimes referred to as “compound (I)”).
逆波長分散重合性液晶化合物が化合物（Ｉ）である場合、基−Ｙ５−Ａ４−Ｙ３−Ａ２−Ｙ１−Ａ１−Ｙ２−Ａ３−Ｙ４−Ａ５−Ｙ６−が主鎖メソゲンとなり、一方基＞Ａ１−Ｃ（Ｑ１）＝Ｎ−Ｎ（Ａｘ）Ａｙが側鎖メソゲンとなり、基Ａ１は、主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンの両方の性質に影響する。 If reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound is a compound (I), group -Y 5 -A 4 -Y 3 -A 2 -Y 1 -A 1 -Y 2 -A 3 -Y 4 -A 5 -Y 6 -Is the main chain mesogen, while the group> A 1 -C (Q 1 ) = NN (A x ) A y is the side chain mesogen, and the group A 1 is a property of both the main chain mesogen and the side chain mesogen. Affects.
前記式（Ｉ）において、Ｙ１〜Ｙ８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−ＮＲ１−、又は、−ＮＲ１−Ｏ−を表す。 In the formula (I), Y 1 to Y 8 are each independently a chemical single bond, —O—, —S—, —O—C (═O) —, —C (═O) —. O—, —O—C (═O) —O—, —NR 1 —C (═O) —, —C (═O) —NR 1 —, —O—C (═O) —NR 1 —, —NR 1 —C (═O) —O—, —NR 1 —C (═O) —NR 1 —, —O—NR 1 —, or —NR 1 —O— is represented.
ここで、Ｒ１は水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ１の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基等が挙げられる。
Ｒ１としては、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
Here, R 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Examples of the alkyl group having 1 to 6 carbon atoms of R 1 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, a sec-butyl group, a t-butyl group, an n-pentyl group, An n-hexyl group etc. are mentioned.
R 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
化合物（Ｉ）においては、Ｙ１〜Ｙ８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であるのが好ましい。 In the compound (I), Y 1 to Y 8 are each independently a chemical single bond, —O—, —O—C (═O) —, —C (═O) —O—, or , —O—C (═O) —O— is preferable.
前記式（Ｉ）において、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。
炭素数１〜２０の二価の脂肪族基としては、例えば、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルケニレン基等の鎖状構造を有する二価の脂肪族基；炭素数３〜２０のシクロアルカンジイル基、炭素数４〜２０のシクロアルケンジイル基、炭素数１０〜３０の二価の脂環式縮合環基等の二価の脂肪族基；等が挙げられる。
In the formula (I), G 1 and G 2 each independently represent a divalent aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms, which may have a substituent.
Examples of the divalent aliphatic group having 1 to 20 carbon atoms include a divalent aliphatic group having a chain structure such as an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms and an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms; And divalent aliphatic groups such as 3 to 20 cycloalkanediyl groups, 4 to 20 carbon cycloalkylene diyl groups, and 10 to 30 carbon divalent alicyclic fused ring groups.
Ｇ１及びＧ２の二価の脂肪族基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；等が挙げられる。なかでも、フッ素原子、メトキシ基、エトキシ基が好ましい。 Examples of the substituent for the divalent aliphatic group represented by G 1 and G 2 include halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom, bromine atom and iodine atom; methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group , An n-butoxy group, a sec-butoxy group, a t-butoxy group, an n-pentyloxy group, an n-hexyloxy group or the like, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; Of these, a fluorine atom, a methoxy group, and an ethoxy group are preferable.
また、前記脂肪族基には、１つの脂肪族基当たり１以上の−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−、−ＮＲ２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−又は−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Ｒ２は、前記Ｒ１と同様の、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
前記脂肪族基に介在する基としては、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−が好ましい。
The aliphatic group includes one or more —O—, —S—, —O—C (═O) —, —C (═O) —O—, —O—C per one aliphatic group. Even if (═O) —O—, —NR 2 —C (═O) —, —C (═O) —NR 2 —, —NR 2 —, or —C (═O) — are present. Good. However, the case where two or more of -O- or -S- are adjacent to each other is excluded. Here, R 2 represents the same hydrogen atom or alkyl group having 1 to 6 carbon atoms as R 1, and is preferably a hydrogen atom or a methyl group.
As the group intervening in the aliphatic group, —O—, —O—C (═O) —, —C (═O) —O—, and —C (═O) — are preferable.
これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルケニレン基等の鎖状構造を有する二価の脂肪族基が好ましく、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基〔−（ＣＨ２）１０−〕等の、炭素数１〜１２のアルキレン基がより好ましく、テトラメチレン基〔−（ＣＨ２）４−〕、ヘキサメチレン基〔−（ＣＨ２）６−〕、オクタメチレン基〔−（ＣＨ２）８−〕、及び、デカメチレン基〔−（ＣＨ２）１０−〕が特に好ましい。 Among these, G 1 and G 2 are each independently an alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms, or the like, from the viewpoint of better expressing the desired effect of the present invention. A divalent aliphatic group having a chain structure is preferable, and a methylene group, an ethylene group, a trimethylene group, a propylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group, a hexamethylene group, an octamethylene group, a decamethylene group [— (CH 2 ) 10 - a] and the like, more preferably an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, a tetramethylene group [- (CH 2) 4 -], hexamethylene group [- (CH 2) 6 -], octamethylene [- ( CH 2 ) 8 —] and decamethylene group [— (CH 2 ) 10 —] are particularly preferred.
前記式（Ｉ）において、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、無置換又はハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
該アルケニル基の炭素数としては、２〜６が好ましい。Ｚ１及びＺ２のアルケニル基の置換基であるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。
In the formula (I), Z 1 and Z 2 each independently represent an alkenyl group having 2 to 10 carbon atoms which may be unsubstituted or substituted with a halogen atom.
As carbon number of this alkenyl group, 2-6 are preferable. Examples of the halogen atom that is a substituent of the alkenyl group of Z 1 and Z 2 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and the like, and a chlorine atom is preferable.
なかでも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ｚ１及びＺ２としては、それぞれ独立して、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−が好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−がより好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ−であるのが特に好ましい。
Especially, from a viewpoint of expressing the desired effect of the present invention better, Z 1 and Z 2 are each independently CH 2 = CH-, CH 2 = C (CH 3 )-, CH 2 = C (Cl) -, CH 2 = CH-CH 2 -,
前記式（Ｉ）において、Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。「芳香環」は、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、及びチオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示す環状構造を意味する。 In the formula (I), A x represents an organic group having 2 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring. “Aromatic ring” means a cyclic structure having a broad sense of aromaticity according to the Huckle rule, that is, a cyclic conjugated structure having (4n + 2) π electrons, and sulfur, oxygen, typified by thiophene, furan, benzothiazole, etc. It means a cyclic structure in which a lone electron pair of a hetero atom such as nitrogen is involved in the π-electron system and exhibits aromaticity.
Ａｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環を有するものであってもよい。 Of A x, having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and aromatic heterocyclic organic group having 2 to 30 carbon atoms may be those having a plurality of aromatic rings And having an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocycle.
前記芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられる。前記芳香族複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環等の単環の芳香族複素環；ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、チアゾロピリジン環、オキサゾロピリジン環、チアゾロピラジン環、オキサゾロピラジン環、チアゾロピリダジン環、オキサゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、オキサゾロピリミジン環等の縮合環の芳香族複素環；等が挙げられる。 Examples of the aromatic hydrocarbon ring include a benzene ring, a naphthalene ring, and an anthracene ring. Examples of the aromatic heterocyclic ring include monocyclic aromatic heterocyclic rings such as a pyrrole ring, a furan ring, a thiophene ring, a pyridine ring, a pyridazine ring, a pyrimidine ring, a pyrazine ring, a pyrazole ring, an imidazole ring, an oxazole ring, and a thiazole ring; Benzothiazole ring, benzoxazole ring, quinoline ring, phthalazine ring, benzimidazole ring, benzopyrazole ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, thiazolopyridine ring, oxazolopyridine ring, thiazolopyrazine ring, oxazolopyrazine ring, thia And a condensed aromatic heterocycle such as a zolopyridazine ring, an oxazolopyridazine ring, a thiazolopyrimidine ring, and an oxazolopyrimidine ring.
Ａｘが有する芳香環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ５；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ５；−ＳＯ２Ｒ６；等が挙げられる。ここで、Ｒ５は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、又は、炭素数３〜１２のシクロアルキル基を表し、Ｒ６は後述するＲ４と同様の、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。
The aromatic ring of A x may have a substituent. Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom and chlorine atom; cyano group; alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group and propyl group; and
また、Ａｘが有する芳香環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であってもよく、縮合多環であってもよく、不飽和環であってもよく、飽和環であってもよい。
なお、Ａｘの炭素数２〜３０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する（後述するＡｙにて同じである。）。
Further, the aromatic ring within A x may have a plurality of identical or different substituents, bonded two adjacent substituents together may form a ring. The ring formed may be a monocycle, a condensed polycycle, an unsaturated ring, or a saturated ring.
The “carbon number” of the organic group having 2 to 30 carbon atoms of A x means the total number of carbon atoms in the whole organic group not including the carbon atom of the substituent (the same applies to Ay described later). .
Ａｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基としては、例えば、芳香族炭化水素環基；芳香族複素環基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜３０のアルキル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜３０のアルケニル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜３０のアルキニル基；等が挙げられる。 Of A x, having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and aromatic heterocyclic ring, examples of the organic group having 2 to 30 carbon atoms, for example, an aromatic hydrocarbon ring group, aromatic A heterocyclic group; an alkyl group having 3 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group; an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic ring An alkenyl group having 4 to 30 carbon atoms having at least one aromatic ring selected from the group consisting of a group; having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring group and an aromatic heterocyclic group, An alkynyl group having 4 to 30 carbon atoms; and the like.
中でも、Ａｘは、下記に示すいずれかの基であることが更に好ましい。下記式中、Ｘは、ＮＲ７、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、又は、−ＳＯ２−を表す（ただし、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ２−が、それぞれ隣接する場合を除く。）。Ｒ７は、水素原子；又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。 Among them, A x is more preferably any group shown below. In the formulas, X represents, NR 7, oxygen atom, sulfur atom, -SO-, or, -SO 2 - represents a (where oxygen atom, a sulfur atom, -SO -, - SO 2 - is, respective adjacent Except in cases). R 7 represents a hydrogen atom; or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.
Ａｘが有する環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ８；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ８；−ＳＯ２Ｒ６；等が挙げられる。ここでＲ８は、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；又は、フェニル基等の炭素数６〜１４のアリール基；を表す。なかでも、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、及び炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。
The ring of A x may have a substituent. Examples of the substituent include halogen atoms such as fluorine atom and chlorine atom; cyano group; alkyl group having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group and propyl group; and
Ａｘが有する環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は、単環であってもよく、縮合多環であってもよい。
Ａｘの炭素数２〜３０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する（後述するＡｙにて同じである。）。
The ring of A x may have a plurality of the same or different substituents, and two adjacent substituents may be bonded together to form a ring. The ring formed may be a single ring or a condensed polycycle.
The “carbon number” of the organic group having 2 to 30 carbon atoms of A x means the total number of carbon atoms of the entire organic group not including the carbon atom of the substituent (the same applies to A y described later).
前記式（Ｉ）において、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ９、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ここで、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表し、Ｒ９は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。
In the formula (I), A y is a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having from 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent, which may have a substituent group an alkynyl group having a carbon number of 2~20, -C (= O) -R 3, -
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基が挙げられる。置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数は、１〜１２であることが好ましく、４〜１０であることが更に好ましい。 Of A y, the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent, such as methyl group, ethyl group, n- propyl group, an isopropyl radical, n -Butyl group, isobutyl group, 1-methylpentyl group, 1-ethylpentyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group, isopentyl group, neopentyl group, n-hexyl group, isohexyl group, n -Heptyl group, n-octyl group, n-nonyl group, n-decyl group, n-undecyl group, n-dodecyl group, n-tridecyl group, n-tetradecyl group, n-pentadecyl group, n-hexadecyl group, n -Heptadecyl group, n-octadecyl group, n-nonadecyl group, n-icosyl group are mentioned. The carbon number of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent is preferably 1 to 12, and more preferably 4 to 10.
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数２〜２０のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基等が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。 Examples of the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms that may have a substituent in A y include, for example, a vinyl group, a propenyl group, an isopropenyl group, a butenyl group, and an isobutenyl group. Pentenyl group, hexenyl group, heptenyl group, octenyl group, decenyl group, undecenyl group, dodecenyl group, tridecenyl group, tetradecenyl group, pentadecenyl group, hexadecenyl group, heptadecenyl group, octadecenyl group, nonadecenyl group, icocenyl group and the like. It is preferable that carbon number of the C2-C20 alkenyl group which may have a substituent is 2-12.
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基等が挙げられる。 Of A y, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent, for example, cyclopropyl group, cyclobutyl group, cyclopentyl group, cyclohexyl group, A cyclooctyl group etc. are mentioned.
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の炭素数２〜２０のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基）、ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基、２−ペンチニル基、ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、２−オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、７−デカニル基等が挙げられる。 Of A y, the alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms alkynyl group having carbon atoms of 2 to 20 which may have a substituent, such as ethynyl group, propynyl group, 2-propynyl group (propargyl group), Butynyl, 2-butynyl, 3-butynyl, pentynyl, 2-pentynyl, hexynyl, 5-hexynyl, heptynyl, octynyl, 2-octynyl, nonanyl, decanyl, 7-decanyl Etc.
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、及び置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、少なくとも１個がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアルコキシ基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ７ａ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ７ａ；−ＳＯ２Ｒ８ａ；−ＳＲ１０；−ＳＲ１０で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；水酸基；が挙げられる。ここで、Ｒ７ａ及びＲ１０は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表し、Ｒ８ａは、前記Ｒ４と同様の、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。 Examples of the substituent of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent and the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms that may have a substituent of A y include, for example, a fluorine atom Halogen atom such as chlorine atom; cyano group; substituted amino group such as dimethylamino group; alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms such as methoxy group, ethoxy group, isopropoxy group, butoxy group; methoxymethoxy group, methoxyethoxy group A C1-C12 alkoxy group substituted with a C1-C12 alkoxy group; a nitro group; an aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group; a carbon number such as a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, or a cyclohexyl group A cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms; a cycloalkyloxy group having 3 to 8 carbon atoms such as a cyclopentyloxy group and a cyclohexyloxy group; A cyclic ether group having 2 to 12 carbon atoms such as a ru group, a tetrahydropyranyl group, a dioxolanyl group and a dioxanyl group; an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms such as a phenoxy group and a naphthoxy group; a trifluoromethyl group and pentafluoroethyl A fluoroalkoxy group having 1 to 12 carbon atoms in which at least one is substituted with a fluorine atom, such as a group, —CH 2 CF 3 ; benzofuryl group; benzopyranyl group; benzodioxolyl group; benzodioxanyl group; (= O) -R 7a; -C (= O) -OR 7a; alkoxy group -SR 10 carbon atoms substituted with 1~12;; -SO 2 R 8a; -SR 10 hydroxyl; and the like. Here, R 7a and R 10 are each independently an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, or 6 to 12 carbon atoms. And R 8a represents the same alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group, or a 4-methylphenyl group as in R 4 above. .
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ７ａ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ７ａ；−ＳＯ２Ｒ８ａ；水酸基；等が挙げられる。ここでＲ７ａ、Ｒ８ａは前記と同じ意味を表す。 Examples of the substituent of the cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms that may have a substituent for A y include, for example, a halogen atom such as a fluorine atom and a chlorine atom; a cyano group; a substituted amino group such as a dimethylamino group Groups: alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl, ethyl, and propyl groups; alkoxy groups having 1 to 6 carbon atoms such as methoxy, ethoxy, and isopropoxy groups; nitro groups; phenyl groups, naphthyl groups, and the like A cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms such as a cyclopropyl group, a cyclopentyl group, and a cyclohexyl group; —C (═O) —R 7a ; —C (═O) —OR 7a ; —SO 2 R 8a A hydroxyl group; and the like. Here, R 7a and R 8a represent the same meaning as described above.
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の置換基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、及び置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の置換基と同様な置換基が挙げられる。 Examples of the substituent of the alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms that may have a substituent of A y include, for example, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms that may have a substituent, and a substituent. The same substituent as the substituent of the C2-C20 alkenyl group which may have is mentioned.
Ａｙの、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３で表される基において、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素基を表す。これらの具体例は、前記Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の例として挙げたものと同様のものが挙げられる。 In the group of A y represented by —C (═O) —R 3 , R 3 may have a substituent, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, or a substituent. It represents a good alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may have a substituent, or an aromatic hydrocarbon group having 5 to 12 carbon atoms. Specific examples of these include an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent of the above Ay. The thing similar to what was mentioned as an example of a C3-C12 cycloalkyl group which you may have is mentioned.
Ａｙの、−ＳＯ２−Ｒ４で表される基において、Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ４の、炭素数１〜２０のアルキル基、及び炭素数２〜２０のアルケニル基の具体例は、前記Ａｙの、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基の例として挙げたものと同様のものが挙げられる。 Of A y, in the group represented by -SO 2 -R 4, R 4 is an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, a phenyl group, or a 4-methylphenyl group To express. Specific examples of the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms of R 4 include the alkyl group having 1 to 20 carbon atoms and the alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms of the above Ay . The thing similar to what was mentioned as an example is mentioned.
Ａｙの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基としては、前記Ａｘで例示したのと同様のものが挙げられる。 Of A y, having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and aromatic heterocyclic ring, examples of the organic group having 2 to 30 carbon atoms, the same ones as exemplified in the A x Is mentioned.
これらの中でも、Ａｙとしては、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基で表される基が好ましい。さらに、Ａｙとしては、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４で表される基が更に好ましい。ここで、Ｒ３及びＲ４は、前記と同じ意味を表す。 Among these, as Ay , a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms which may have a substituent, an alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, and a substituent A cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms which may have an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms which may have a substituent, —C (═O) —R 3 , —SO 2 —R 4 or a group represented by an organic group having 2 to 30 carbon atoms and having at least one aromatic ring selected from the group consisting of an aromatic hydrocarbon ring and an aromatic heterocyclic ring. Further, Ay includes a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, and a substituent. An optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an optionally substituted alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, and an aromatic carbon atom having 6 to 12 carbon atoms that may have a substituent. A group represented by a hydrogen group, an optionally substituted aromatic heterocyclic group having 3 to 9 carbon atoms, —C (═O) —R 3 , or —SO 2 —R 4 is more preferable. Here, R 3 and R 4 represent the same meaning as described above.
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜１２の環状エーテル基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、フェニルスルホニル基、４−メチルフェニルスルホニル基、ベンゾイル基、−ＳＲ１０が好ましい。ここで、Ｒ１０は前記と同じ意味を表す。 Ay , an optionally substituted alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an optionally substituted alkenyl group having 2 to 20 carbon atoms, and an optionally substituted carbon As a substituent of the alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms substituted with an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, phenyl group, a cyclohexyl group, a cyclic ether group having 2 to 12 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, a hydroxyl group, benzodioxanyl group, phenylsulfonyl group, 4-methyl phenylsulfonyl group, a benzoyl group, -SR 10 Is preferred. Here, R 10 represents the same meaning as described above.
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基の置換基としては、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基が好ましい。 Ay has an optionally substituted cycloalkyl group having 3 to 12 carbon atoms, an optionally substituted aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms, and a substituent. As the substituent of the aromatic heterocyclic group having 3 to 9 carbon atoms, a fluorine atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, and a cyano group are preferable.
また、ＡｘとＡｙは、一緒になって、環を形成していてもよい。かかる環としては、例えば、置換基を有していてもよい、炭素数４〜３０の不飽和複素環、炭素数６〜３０の不飽和炭素環が挙げられる。 A x and A y may be combined to form a ring. Examples of such a ring include an unsaturated heterocyclic ring having 4 to 30 carbon atoms and an unsaturated carbocyclic ring having 6 to 30 carbon atoms, which may have a substituent.
前記炭素数４〜３０の不飽和複素環、炭素数６〜３０の不飽和炭素環としては、特に制約はなく、芳香族性を有していても有していなくてもよい。 The unsaturated heterocyclic ring having 4 to 30 carbon atoms and the unsaturated carbocyclic ring having 6 to 30 carbon atoms are not particularly limited and may or may not have aromaticity.
ＡｘとＡｙに含まれるπ電子の総数は、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、好ましくは４以上、より好ましくは６以上であり、好ましくは２４以下、より好ましくは２０以下、特に好ましくは１８以下である。 The total number of π electrons contained in A x and A y is preferably 4 or more, more preferably 6 or more, preferably 24 or less, more preferably from the viewpoint of better expressing the desired effect of the present invention. 20 or less, particularly preferably 18 or less.
ＡｘとＡｙの特に好ましい組み合わせとしては、
（δ）Ａｘが下記構造を有する基のいずれかであり、Ａｙが水素原子、炭素数３〜８のシクロアルキル基、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、若しくは炭素数３〜８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、（ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基）を置換基として有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜１２の環状エーテル基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基、及び、−ＳＲ１０のいずれかである組み合わせである。下記式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。ここで、Ｒ１０は前記と同じ意味を表す。
As a particularly preferred combination of A x and A y ,
(Δ) A x is any of the groups having the following structure, and A y is a hydrogen atom, a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms, (a halogen atom, a cyano group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, carbon An aromatic hydrocarbon group having 6 to 12 carbon atoms which may have an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms or a cycloalkyl group having 3 to 8 carbon atoms as a substituent, (halogen atom, 1 to 6 carbon atoms) An alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, or a cyano group) as an optionally substituted aromatic heterocyclic group having 3 to 9 carbon atoms or an optionally substituted carbon atom having 1 substituent. An -20 alkyl group, an optionally substituted alkenyl group having 1 to 20 carbon atoms, or an optionally substituted alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, wherein the substituent is , Halogen atom, cyano group, alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, carbon number C1-C12 alkoxy group substituted with 1-12 alkoxy group, phenyl group, cyclohexyl group, C2-C12 cyclic ether group, C6-C14 aryloxy group, hydroxyl group, benzodioxa group, a benzenesulfonyl group, a benzoyl group, and a combination of any of -SR 10. In the following formula, X represents the same meaning as described above. Here, R 10 represents the same meaning as described above.
前記式（Ｉ）において、Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。三価の芳香族基としては、三価の炭素環式芳香族基であってもよく、三価の複素環式芳香族基であってもよい。本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、三価の炭素環式芳香族基が好ましく、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がより好ましく、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がさらに好ましい。 In the formula (I), A 1 represents a trivalent aromatic group which may have a substituent. The trivalent aromatic group may be a trivalent carbocyclic aromatic group or a trivalent heterocyclic aromatic group. From the viewpoint of better expressing the desired effect of the present invention, a trivalent carbocyclic aromatic group is preferred, a trivalent benzene ring group or a trivalent naphthalene ring group is more preferred, and a trivalent benzene ring group. Or a trivalent naphthalene ring group is more preferable.
これらの中でも、Ａ１としては、下記に示す式（Ａ１１）〜（Ａ２５）で表される基がより好ましく、式（Ａ１１）、（Ａ１３）、（Ａ１５）、（Ａ１９）、（Ａ２３）で表される基がさらに好ましく、式（Ａ１１）、（Ａ２３）で表される基が特に好ましい。なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、置換基Ｙ１、Ｙ２を便宜上記載している（Ｙ１、Ｙ２は、前記と同じ意味を表す。以下にて同じ。）。 Among these, the A 1, and more preferably a group represented by the formula (A11) ~ (A25) shown below, equation (A11), (A13), (A15), in (A19), (A23) Groups represented by formulas (A11) and (A23) are particularly preferred. In the following formula, the substituents Y 1 and Y 2 are described for convenience in order to clarify the bonding state (Y 1 and Y 2 represent the same meaning as described above, and the same applies hereinafter). .
Ａ１の、三価の芳香族基が有していてもよい置換基としては、前記ＡＸの芳香族基の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。Ａ１としては、置換基を有さないものが好ましい。 Of A 1, as a trivalent substituent which may be possessed by the aromatic group, the same ones as exemplified as the substituents of the aromatic groups of the A X and the like. A 1 preferably has no substituent.
前記式（Ｉ）において、Ａ２及びＡ３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、炭素数３〜３０のシクロアルカンジイル基、炭素数１０〜３０の二価の脂環式縮合環基等が挙げられる。 In the formula (I), A 2 and A 3 each independently represent a C 3-30 divalent alicyclic hydrocarbon group which may have a substituent. Examples of the divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms include a cycloalkanediyl group having 3 to 30 carbon atoms and a divalent alicyclic condensed ring group having 10 to 30 carbon atoms. .
炭素数３〜３０のシクロアルカンジイル基としては、例えば、シクロプロパンジイル基；シクロブタン−１，２−ジイル基、シクロブタン−１，３−ジイル基等のシクロブタンジイル基；シクロペンタン−１，２−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基等のシクロペンタンジイル基；シクロヘキサン−１，２−ジイル基、シクロヘキサン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基等のシクロへキサンジイル基；シクロヘプタン−１，２−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基等のシクロへプタンジイル基；シクロオクタン−１，２−ジイル基、シクロオクタン−１，３−ジイル基、シクロオクタン−１，４−ジイル基、シクロオクタン−１，５−ジイル基等のシクロオクタンジイル基；シクロデカン−１，２−ジイル基、シクロデカン−１，３−ジイル基、シクロデカン−１，４−ジイル基、シクロデカン−１，５−ジイル基等のシクロデカンジイル基；シクロドデカン−１，２−ジイル基、シクロドデカン−１，３−ジイル基、シクロドデカン−１，４−ジイル基、シクロドデカン−１，５−ジイル基等のシクロドデカンジイル基；シクロテトラデカン−１，２−ジイル基、シクロテトラデカン−１，３−ジイル基、シクロテトラデカン−１，４−ジイル基、シクロテトラデカン−１，５−ジイル基、シクロテトラデカン−１，７−ジイル基等のシクロテトラデカンジイル基；シクロエイコサン−１，２−ジイル基、シクロエイコサン−１，１０−ジイル基等のシクロエイコサンジイル基；等が挙げられる。 Examples of the cycloalkanediyl group having 3 to 30 carbon atoms include cyclopropanediyl group; cyclobutanediyl group such as cyclobutane-1,2-diyl group and cyclobutane-1,3-diyl group; cyclopentane-1,2- Cyclopentanediyl group such as diyl group, cyclopentane-1,3-diyl group; cyclohexanediyl group such as cyclohexane-1,2-diyl group, cyclohexane-1,3-diyl group, cyclohexane-1,4-diyl group Groups: cycloheptane-1,2-diyl group, cycloheptane-1,3-diyl group, cycloheptanediyl group such as cycloheptane-1,4-diyl group; cyclooctane-1,2-diyl group, cyclooctane Cyclooctane such as -1,3-diyl group, cyclooctane-1,4-diyl group, cyclooctane-1,5-diyl group, etc. Cyclodecane-1, 2-diyl group, cyclodecane-1,3-diyl group, cyclodecane-1,4-diyl group, cyclodecane-1,5-diyl group and the like; cyclododecane-1, Cyclododecanediyl groups such as 2-diyl group, cyclododecane-1,3-diyl group, cyclododecane-1,4-diyl group, cyclododecane-1,5-diyl group; cyclotetradecane-1,2-diyl group Cyclotetradecane-1,3-diyl group, cyclotetradecane-1,4-diyl group, cyclotetradecane-1,5-diyl group, cyclotetradecane-1,7-diyl group and the like; cycloeicosane -1,2-diyl group, cycloeicosanediyl group such as cycloeicosane-1,10-diyl group; and the like.
炭素数１０〜３０の二価の脂環式縮合環基としては、例えば、デカリン−２，５−ジイル基、デカリン−２，７−ジイル基等のデカリンジイル基；アダマンタン−１，２−ジイル基、アダマンタン−１，３−ジイル基等のアダマンタンジイル基；ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，３−ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，５−ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，６−ジイル基等のビシクロ［２．２．１］へプタンジイル基；等が挙げられる。 Examples of the divalent alicyclic fused ring group having 10 to 30 carbon atoms include decalindiyl groups such as decalin-2,5-diyl group and decalin-2,7-diyl group; adamantane-1,2-diyl group An adamantanediyl group such as an adamantane-1,3-diyl group; a bicyclo [2.2.1] heptane-2,3-diyl group, a bicyclo [2.2.1] heptane-2,5-diyl group Bicyclo [2.2.1] heptanediyl group such as bicyclo [2.2.1] heptane-2,6-diyl group; and the like.
これらの二価の脂環式炭化水素基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。置換基としては、前記ＡＸの芳香族基の置換基として例示したのと同様のものが挙げられる。 These divalent alicyclic hydrocarbon groups may have a substituent at any position. Examples of the substituent, the same ones as exemplified as the substituents of the aromatic groups of the A X and the like.
これらの中でも、Ａ２及びＡ３としては、炭素数３〜１２の二価の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数３〜１２のシクロアルカンジイル基がより好ましく、下記式（Ａ３１）〜（Ａ３４）で表される基がさらに好ましく、前記式（Ａ３２）で表される基が特に好ましい。 Among these, the A 2 and A 3, preferably a divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 12 carbon atoms, more preferably a cycloalkane-diyl group having 3 to 12 carbon atoms, following formula (A31) ~ The group represented by (A34) is more preferred, and the group represented by the formula (A32) is particularly preferred.
前記炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基は、Ｙ１及びＹ３（又はＹ２及びＹ４）と結合する炭素原子の立体配置の相違に基づく、シス型及びトランス型の立体異性体が存在しうる。例えば、シクロヘキサン−１，４−ジイル基の場合には、下記に示すように、シス型の異性体（Ａ３２ａ）とトランス型の異性体（Ａ３２ｂ）が存在しうる。 The divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms is based on a difference in configuration of carbon atoms bonded to Y 1 and Y 3 (or Y 2 and Y 4 ). Stereoisomers can exist. For example, in the case of a cyclohexane-1,4-diyl group, as shown below, a cis-type isomer (A32a) and a trans-type isomer (A32b) may exist.
前記炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基は、シス型であってもよく、トランス型であってもよく、シス型及びトランス型の異性体混合物であってもよい。中でも、配向性が良好であることから、トランス型あるいはシス型であるのが好ましく、トランス型がより好ましい。 The divalent alicyclic hydrocarbon group having 3 to 30 carbon atoms may be cis, trans, or a mixture of cis and trans isomers. Of these, the trans-type or cis-type is preferable because the orientation is good, and the trans-type is more preferable.
前記式（Ｉ）において、Ａ４及びＡ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数６〜３０の二価の芳香族基を表す。Ａ４及びＡ５の芳香族基は、単環のものであっても、多環のものであってもよい。 In the formula (I), A 4 and A 5 each independently represent a C 6-30 divalent aromatic group which may have a substituent. The aromatic groups of A 4 and A 5 may be monocyclic or polycyclic.
上記Ａ４及びＡ５の二価の芳香族基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。当該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ８ｂ基；が挙げられる。ここでＲ８ｂは、炭素数１〜６のアルキル基である。なかでも、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、アルコキシ基が好ましい。また、ハロゲン原子としては、フッ素原子がより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましく、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。 The divalent aromatic groups of A 4 and A 5 may have a substituent at any position. Examples of the substituent include a halogen atom, a cyano group, a hydroxyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms, a nitro group, and a —C (═O) —OR 8b group. Can be mentioned. Here, R 8b is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. Especially, a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, and an alkoxy group are preferable. Moreover, as a halogen atom, a fluorine atom is more preferable, As a C1-C6 alkyl group, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group are more preferable, As a alkoxy group, a methoxy group and an ethoxy group are more preferable.
これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ａ４及びＡ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、下記式（Ａ４１）、（Ａ４２）又は（Ａ４３）で表される基がより好ましく、置換基を有していてもよい式（Ａ４１）で表される基が特に好ましい。 Among these, from the viewpoint of better expressing the desired effect of the present invention, A 4 and A 5 may each independently have a substituent, and the following formulas (A41) and (A42) Or the group represented by (A43) is more preferable, and the group represented by the formula (A41) which may have a substituent is particularly preferable.
前記式（Ｉ）において、Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示す。置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、前記ＡＸで例示したのと同様のものが挙げられる。これらの中でも、Ｑ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、水素原子及びメチル基がより好ましい。 In the formula (I), Q 1 represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms which may have a substituent. The optionally substituted alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, the same ones as exemplified in the A X and the like. Among these, Q 1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group.
化合物（Ｉ）は、例えば、国際公開第ＷＯ２０１２／１４７９０４号に記載される、ヒドラジン化合物とカルボニル化合物との反応により製造しうる。 Compound (I) can be produced, for example, by a reaction of a hydrazine compound and a carbonyl compound described in International Publication No. WO2012 / 147904.
組成物（Ａ）が重合性液晶化合物として逆波長分散重合性液晶化合物を含有する場合、組成物（Ａ）は、任意の成分として、重合性モノマー（ａ）を含有しうる。「重合性モノマー（ａ）」とは、重合能を有しモノマーとして働きうる化合物のうち、特に、逆波長分散重合性液晶化合物以外の化合物をいう。 When the composition (A) contains a reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound as the polymerizable liquid crystal compound, the composition (A) can contain a polymerizable monomer (a) as an optional component. The “polymerizable monomer (a)” refers to a compound other than a reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound, among compounds having a polymerization ability and capable of functioning as a monomer.
重合性モノマー（ａ）としては、例えば、１分子当たり１以上の重合性基を有するものを用いうる。そのような重合性基を有することにより、光学異方性層の形成に際し重合を達成することができる。重合性モノマー（ａ）が１分子当たり２以上の重合性基を有する架橋性モノマーである場合、架橋的な重合を達成することができる。かかる重合性基の例としては、化合物（Ｉ）中の基Ｚ１−Ｙ７−及び基Ｚ２−Ｙ８−と同様の基を挙げることができ、より具体的には例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、及びエポキシ基を挙げることができる。 As the polymerizable monomer (a), for example, one having one or more polymerizable groups per molecule can be used. By having such a polymerizable group, polymerization can be achieved in forming the optically anisotropic layer. When the polymerizable monomer (a) is a crosslinkable monomer having two or more polymerizable groups per molecule, crosslinkable polymerization can be achieved. Examples of the polymerizable group include the same groups as the groups Z 1 -Y 7 -and Z 2 -Y 8- in the compound (I), and more specifically, for example, an acryloyl group, A methacryloyl group and an epoxy group can be mentioned.
重合性モノマー（ａ）は、それ自体が液晶性のものであってもよく、非液晶性のものであってもよい。ここで、それ自体が「非液晶性」であるとは、当該重合性モノマー（ａ）そのものを、室温から２００℃のいずれの温度に置いた場合にも、配向処理をした基材フィルム３０上で配向を示さないものをいう。配向を示すかどうかは、偏光顕微鏡のクロスニコル透過観察にて面内で回転させた場合に、明暗のコントラストがあるかどうかで判断しうる。
The polymerizable monomer (a) may itself be liquid crystalline or non-liquid crystalline. Here, “non-liquid crystalline” per se means that the polymerizable monomer (a) itself is aligned on the
組成物（Ａ）において、重合性モノマー（ａ）の量は、逆波長分散重合性液晶化合物１００重量部に対し、好ましくは１重量部〜１００重量部、好ましくは５重量部〜５０重量部である。当該範囲内で、重合性モノマー（ａ）の量を、所望の逆波長分散特性を示すように適宜調整することにより、逆波長分散特性の精密な制御が容易となる。
また、重合性モノマー（ａ）を配合することで、重合性液晶組成物の硬化度を上げることができる。
In the composition (A), the amount of the polymerizable monomer (a) is preferably 1 part by weight to 100 parts by weight, preferably 5 parts by weight to 50 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound. is there. Within this range, the amount of the polymerizable monomer (a) is appropriately adjusted so as to exhibit a desired reverse wavelength dispersion characteristic, whereby precise control of the reverse wavelength dispersion characteristic is facilitated.
Moreover, the hardening degree of a polymeric liquid crystal composition can be raised by mix | blending polymeric monomer (a).
重合性モノマー（ａ）は、既知の製造方法により製造することができる。または、化合物（Ｉ）と類似の構造を持つものについては、化合物（Ｉ）の製造方法に準じて製造することができる。 The polymerizable monomer (a) can be produced by a known production method. Or what has a structure similar to compound (I) can be manufactured according to the manufacturing method of compound (I).
組成物（Ａ）は、重合性液晶化合物及び上に述べた任意の化合物（重合性モノマー（ａ）等）に加えて、必要に応じて、以下に例示するもの等の任意の成分を含みうる。 The composition (A) may contain optional components such as those exemplified below in addition to the polymerizable liquid crystal compound and any of the above-described compounds (polymerizable monomer (a), etc.). .
組成物（Ａ）は、重合開始剤を含みうる。重合開始剤としては、組成物（Ａ）中の、重合性液晶化合物、重合性モノマー（ａ）及びその他の重合性化合物が有する重合性基の種類に応じて適宜選択しうる。例えば、重合性基がラジカル重合性であればラジカル重合開始剤を、アニオン重合性の基であればアニオン重合開始剤を、カチオン重合性の基であればカチオン重合開始剤を、それぞれ使用しうる。 The composition (A) can contain a polymerization initiator. As a polymerization initiator, it can select suitably according to the kind of polymeric group which the polymerizable liquid crystal compound, the polymerizable monomer (a), and other polymerizable compound have in a composition (A). For example, a radical polymerization initiator can be used if the polymerizable group is radical polymerizable, an anionic polymerization initiator can be used if it is an anion polymerizable group, and a cationic polymerization initiator can be used if it is a cationic polymerizable group. .
ラジカル重合開始剤としては、加熱することにより、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である熱ラジカル発生剤；及び可視光線、紫外線（ｉ線など）、遠紫外線、電子線、Ｘ線等の露光光の露光により、重合性化合物の重合を開始しえる活性種が発生する化合物である光ラジカル発生剤；のいずれも使用可能であるが、光ラジカル発生剤を使用するのが好適である。 As the radical polymerization initiator, a thermal radical generator which is a compound that generates an active species capable of initiating polymerization of a polymerizable compound by heating; and visible light, ultraviolet light (i-line, etc.), far ultraviolet light, electron beam Any of photoradical generators, which are compounds that generate active species capable of initiating polymerization of a polymerizable compound upon exposure to exposure light such as X-rays, can be used, but photoradical generators are used. Is preferred.
光ラジカル発生剤としては、例えば、国際公開第ＷＯ２０１２／１４７９０４号に記載される、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、Ｏ−アシルオキシム系化合物、オニウム塩系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、イミドスルホナート系化合物等を挙げることができる。 Examples of the photoradical generator include acetophenone compounds, biimidazole compounds, triazine compounds, O-acyloxime compounds, onium salt compounds, benzoin compounds described in International Publication No. WO2012 / 147904, Examples include benzophenone compounds, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, diazo compounds, and imide sulfonate compounds.
前記アニオン重合開始剤としては、例えば、アルキルリチウム化合物；ビフェニル、ナフタレン、ピレン等の、モノリチウム塩又はモノナトリウム塩；ジリチウム塩やトリリチウム塩等の多官能性開始剤；等が挙げられる。 Examples of the anionic polymerization initiator include alkyl lithium compounds; monolithium salts or monosodium salts such as biphenyl, naphthalene, and pyrene; polyfunctional initiators such as dilithium salts and trilithium salts; and the like.
また、前記カチオン重合開始剤としては、例えば、硫酸、リン酸、過塩素酸、トリフルオロメタンスルホン酸等のプロトン酸；三フッ化ホウ素、塩化アルミニウム、四塩化チタン、四塩化スズのようなルイス酸；芳香族オニウム塩又は芳香族オニウム塩と、還元剤との併用系；が挙げられる。 Examples of the cationic polymerization initiator include proton acids such as sulfuric acid, phosphoric acid, perchloric acid, and trifluoromethanesulfonic acid; Lewis acids such as boron trifluoride, aluminum chloride, titanium tetrachloride, and tin tetrachloride. An aromatic onium salt or a combination system of an aromatic onium salt and a reducing agent.
重合開始剤として用いうる市販の製品の例としては、イルガキュア９０７及びイルガキュア３７９（ＢＡＳＦ製）等の光重合開始剤が挙げられる。
これらの重合開始剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
Examples of commercially available products that can be used as the polymerization initiator include photopolymerization initiators such as Irgacure 907 and Irgacure 379 (manufactured by BASF).
One of these polymerization initiators may be used alone, or two or more thereof may be used in combination at any ratio.
組成物（Ａ）において、重合開始剤の量は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは０．１重量部〜３０重量部、より好ましくは０．５重量部〜１０重量部である。 In the composition (A), the amount of the polymerization initiator is preferably 0.1 to 30 parts by weight, more preferably 0.5 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound.
組成物（Ａ）は、表面張力を調整するための、界面活性剤を含みうる。当該界面活性剤としては、ノニオン系界面活性剤が好ましい。当該ノニオン系界面活性剤としては、市販品を用いうる。例えば、分子量が数千程度のオリゴマーであるノニオン系界面活性剤が挙げられる。これらの界面活性剤であって市販のものの具体例としては、ＯＭＮＯＶＡ社ＰｏｌｙＦｏｘの「ＰＦ−１５１Ｎ」、「ＰＦ−６３６」、「ＰＦ−６３２０」、「ＰＦ−６５６」、「ＰＦ−６５２０」、「ＰＦ−３３２０」、「ＰＦ−６５１」、「ＰＦ−６５２」；ネオス社フタージェントの「ＦＴＸ−２０９Ｆ」、「ＦＴＸ−２０８Ｇ」、「ＦＴＸ−２０４Ｄ」；セイミケミカル社サーフロンの「ＫＨ−４０」、「Ｓ−４２０」等を用いることができる。また、界面活性剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。組成物（Ａ）において、界面活性剤の量は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは０．０１重量部〜１０重量部、より好ましくは０．１重量部〜２重量部である。 The composition (A) may contain a surfactant for adjusting the surface tension. As the surfactant, a nonionic surfactant is preferable. A commercially available product can be used as the nonionic surfactant. For example, a nonionic surfactant which is an oligomer having a molecular weight of about several thousand is mentioned. As specific examples of these surfactants that are commercially available, “PF-151N”, “PF-636”, “PF-6320”, “PF-656”, “PF-6520” of PolyFox of OMNOVA, “PF-3320”, “PF-651”, “PF-652”; “FTX-209F”, “FTX-208G”, “FTX-204D” from Neos, Inc., “KH-40” from Surflon, Seimi Chemical Co., Ltd. ”,“ S-420 ”or the like. Moreover, surfactant may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. In the composition (A), the amount of the surfactant is preferably 0.01 parts by weight to 10 parts by weight, more preferably 0.1 parts by weight to 2 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound.
組成物（Ａ）は、表面張力の調整等の目的で、セルロース系高分子化合物を含みうる。重合性液晶化合物として円盤状液晶化合物を用いる際には、セルロース系高分子化合物を含むことにより、塗工した際のハジキを抑制できる。セルロース系高分子化合物は、円盤状液晶化合物に対してなじみが良く、配向状態を乱す傾向が低い。セルロース系高分子化合物の例としては、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピレート、ヒドロキシプロピルセルロース、メチルセルロース、及びカルボキシメチルセルロースが挙げられる。組成物（Ａ）におけるセルロース系高分子化合物の割合は、重合性液晶化合物の総量に対する重量百分率として、好ましくは１％〜８％、より好ましくは１．５％〜６％である。セルロース系高分子化合物の割合が、前記範囲の下限以上であることにより、有効なハジキ抑制効果を得ることができ、前記範囲の上限％以下であることにより、円盤状液晶化合物の配向速度の極端な低下を回避することができる。 The composition (A) can contain a cellulosic polymer compound for the purpose of adjusting the surface tension. When a discotic liquid crystal compound is used as the polymerizable liquid crystal compound, repelling at the time of coating can be suppressed by including a cellulosic polymer compound. Cellulosic polymer compounds are well adapted to discotic liquid crystal compounds and have a low tendency to disturb the alignment state. Examples of the cellulose-based polymer compound include cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propyrate, hydroxypropyl cellulose, methyl cellulose, and carboxymethyl cellulose. The ratio of the cellulose-based polymer compound in the composition (A) is preferably 1% to 8%, more preferably 1.5% to 6% as a weight percentage with respect to the total amount of the polymerizable liquid crystal compound. When the ratio of the cellulosic polymer compound is not less than the lower limit of the above range, an effective repellency suppressing effect can be obtained, and when it is not more than the upper limit% of the above range, the orientation speed of the discotic liquid crystal compound is extremely high. Can be avoided.
組成物（Ａ）は、有機溶媒等の溶媒を含みうる。かかる溶媒の例としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；及びトルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素溶媒が挙げられる。また、溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。溶媒の沸点は、取り扱い性に優れる観点から、６０℃〜２５０℃であることが好ましく、６０℃〜１５０℃であることがより好ましい。溶媒の使用量は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは１００重量部〜１０００重量部である。 The composition (A) can contain a solvent such as an organic solvent. Examples of such solvents include ketone solvents such as cyclopentanone, cyclohexanone, methyl ethyl ketone, acetone and methyl isobutyl ketone; acetate solvents such as butyl acetate and amyl acetate; halogenated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane and dichloroethane; 1 Ether solvents such as 1,4-dioxane, cyclopentylmethyl ether, tetrahydrofuran, tetrahydropyran, 1,3-dioxolane, 1,2-dimethoxyethane; and aromatic hydrocarbon solvents such as toluene, xylene and mesitylene. Moreover, a solvent may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. The boiling point of the solvent is preferably 60 ° C. to 250 ° C., more preferably 60 ° C. to 150 ° C., from the viewpoint of excellent handleability. The amount of the solvent used is preferably 100 parts by weight to 1000 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound.
組成物（Ａ）は、さらに、金属、金属錯体、染料、顔料、蛍光材料、燐光材料、レベリング剤、チキソ剤、ゲル化剤、多糖類、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタン等の金属酸化物、などの配合剤を含みうる。配合剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。組成物（Ａ）において、かかる任意の配合剤の割合は、重合性化合物１００重量部に対し、好ましくは、各々０．１重量部〜２０重量部である。 The composition (A) is further composed of metal, metal complex, dye, pigment, fluorescent material, phosphorescent material, leveling agent, thixotropic agent, gelling agent, polysaccharide, ultraviolet absorber, infrared absorber, antioxidant, ion. It may contain compounding agents such as exchange resins and metal oxides such as titanium oxide. A compounding agent may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. In the composition (A), the ratio of such an optional compounding agent is preferably 0.1 to 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable compound.
上述した光学異方性層用の塗工液を用いることにより、第一機能性層及び第二機能性層として、光学異方性層が得られる。この光学異方性層は、硬化液晶分子を含む層である。また、基材フィルムとして延伸処理を施された樹脂フィルムを用いた場合、光学異方性層は、通常、樹脂フィルムの延伸による配向方向と略同一方向に沿った遅相軸を有しうる。具体的には、光学異方性層に含まれる硬化液晶分子が、樹脂フィルムの配向規制力により配向規則性を呈し、それにより遅相軸の方向が制御される。硬化液晶分子は、ホモジニアス配向規則性又はハイブリッド配向規則性を有しうる。 By using the coating liquid for the optically anisotropic layer described above, optically anisotropic layers can be obtained as the first functional layer and the second functional layer. This optically anisotropic layer is a layer containing cured liquid crystal molecules. Further, when a resin film that has been subjected to a stretching treatment is used as the base film, the optically anisotropic layer can usually have a slow axis that is substantially in the same direction as the orientation direction due to stretching of the resin film. Specifically, the cured liquid crystal molecules contained in the optically anisotropic layer exhibit alignment regularity due to the alignment regulating force of the resin film, thereby controlling the direction of the slow axis. The cured liquid crystal molecules can have homogeneous alignment regularity or hybrid alignment regularity.
ここで、「ハイブリッド配向規則性を有する」とは、基材フィルムとしての樹脂フィルムの表面近くにおいては分子が当該表面に対して水平に配向し、表面から遠い空気界面側の分子ほど水平方向に対して傾く配向規則性を有することをいう。ある態様においては、硬化液晶分子が、円盤状液晶化合物の硬化物であり、当該態様においては、液晶分子はハイブリッド配向しうる。 Here, “having hybrid alignment regularity” means that molecules are oriented horizontally with respect to the surface of the resin film as the base film, and molecules on the air interface side farther from the surface are horizontally oriented. It has the orientation regularity which inclines with respect to it. In one embodiment, the cured liquid crystal molecule is a cured product of a discotic liquid crystal compound, and in this embodiment, the liquid crystal molecule can be hybrid-aligned.
ハイブリッド配向の具体例を、図８及び図９を参照して説明する。図８及び図９は、円盤状液晶化合物のハイブリッド配向の状態を模式的に示す斜視図及び上面図である。図８及び図９においては、水平な方向（矢印４２２に直交する方向）に載置された樹脂フィルムの表面の上に、円盤状液晶化合物４１１が配向した状態を示している。樹脂フィルムの延伸による配向方向は、矢印４２１で示される。円盤状液晶化合物４１１は、下側即ち樹脂フィルムの表面近くの分子は水平に配向している一方、上側の分子ほど矢印４１５方向に傾いている。このような円盤状液晶化合物のハイブリッド配向は、光学異方性層の屈折率異方性を、極角０°方向（矢印４２２の方向）及び、極角０°方向から、矢印４３１〜４３４に示すように様々な方位角及び極角で傾いた方向から測定することにより確認しうる。このようにハイブリッド配向した円盤状液晶化合物の層は、通常矢印４１５が傾く方向に遅相軸を有し、したがって、通常矢印４２１方向に遅相軸を有する。
A specific example of the hybrid orientation will be described with reference to FIGS. 8 and 9 are a perspective view and a top view schematically showing a hybrid alignment state of the discotic liquid crystal compound. 8 and 9 show a state in which the discotic
一方「ホモジニアス配向規則性を有する」とは、硬化液晶分子のメソゲンの長軸方向を基材フィルムとしての樹脂フィルムの表面に投影して得られる線の平均方向が、表面に水平なある一の方向（例えば樹脂フィルムの表面ダイレクターの方向）に整列することをいう。さらに、ある所定の方向に「沿った」ホモジニアス配向規則性とは、当該整列方向が、前記所定の方向と略同一方向に沿うことをいう。前記所定の方向は、樹脂フィルムの延伸による配向方向としうる。硬化液晶分子がホモジニアス配向規則性を有しているか否か、及びその整列方向は、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社製）に代表されるような位相差計を用いた遅相軸方向の測定と、遅相軸方向ならびに遅相軸と直交方向における入射角毎のレターデーション分布の測定とにより確認しうる。 On the other hand, “having homogeneous alignment regularity” means that the average direction of the line obtained by projecting the major axis direction of the mesogen of the cured liquid crystal molecules onto the surface of the resin film as the base film is horizontal to the surface. Alignment in the direction (for example, the direction of the surface director of the resin film). Furthermore, the homogeneous alignment regularity “along” in a predetermined direction means that the alignment direction is substantially in the same direction as the predetermined direction. The said predetermined direction can be made into the orientation direction by extending | stretching of a resin film. Whether or not the cured liquid crystal molecules have homogeneous alignment regularity and the alignment direction are determined by measuring the slow axis direction using a phase difference meter represented by AxoScan (manufactured by Axometrics), and the slow phase This can be confirmed by measuring the retardation distribution at each incident angle in the axial direction and in the direction orthogonal to the slow axis.
ここで、硬化液晶分子が、棒状の分子構造を有する重合性液晶化合物を重合させてなるものである場合は、通常は、当該重合性液晶化合物のメソゲンの長軸方向が、硬化液晶分子のメソゲンの長軸方向となる。また、重合性液晶化合物として逆波長分散重合性液晶化合物を用いた場合のように、光学異方性層中に、配向方向の異なる複数種類のメソゲンが存在する場合は、それらのうち最も長い種類のメソゲンの長軸方向が整列する方向が、当該整列方向となる。 Here, when the cured liquid crystal molecule is obtained by polymerizing a polymerizable liquid crystal compound having a rod-like molecular structure, the major axis direction of the mesogen of the polymerizable liquid crystal compound is usually the mesogen of the cured liquid crystal molecule. It becomes the major axis direction. In addition, when multiple types of mesogens having different orientation directions are present in the optically anisotropic layer as in the case where a reverse wavelength dispersion polymerizable liquid crystal compound is used as the polymerizable liquid crystal compound, the longest type among them The direction in which the major axis directions of the mesogens are aligned is the alignment direction.
本願において、樹脂フィルムの延伸による配向方向と「略」同一方向に沿った遅相軸とは、樹脂フィルムの延伸による配向方向と、当該遅相軸とがなす角が、５°以内であることをいう。当該角は、好ましくは３°以内であり、より好ましくは１°以内である。 In this application, the orientation direction by the stretching of the resin film and the slow axis along the “substantially” same direction are the angle between the orientation direction by the stretching of the resin film and the slow axis is within 5 °. Say. The angle is preferably within 3 °, more preferably within 1 °.
樹脂フィルムとして上に説明した所定のものを用い、さらに光学異方性層の材料を適宜選択することにより、光学異方性層に、樹脂フィルムの延伸による配向方向と略同一方向に沿った配向規則性を付与することができ、その結果、配向規則性を有する光学異方性層を得ることができる。 By using the predetermined ones described above as the resin film and further selecting the material of the optically anisotropic layer as appropriate, the optically anisotropic layer is oriented along substantially the same direction as the orientation direction of the resin film by stretching. Regularity can be imparted, and as a result, an optically anisotropic layer having orientation regularity can be obtained.
光学異方性層は、逆波長分散性を有することが好ましい。即ち、光学異方性層は、短波長より長波長の透過光について高い面内レターデーションを示す波長分散を有することが好ましい。光学異方性層は、少なくとも可視光の帯域の一部、好ましくは全部においてそのような逆波長分散性を有することが好ましい。光学異方性層が逆波長分散性を有することにより、λ／４波長板又はλ／２波長板といった光学用途において、広い帯域において均一に機能を発現しうる。 The optically anisotropic layer preferably has reverse wavelength dispersion. That is, the optically anisotropic layer preferably has a wavelength dispersion exhibiting a high in-plane retardation for transmitted light having a longer wavelength than a short wavelength. The optically anisotropic layer preferably has such reverse wavelength dispersion in at least a part of the visible light band, preferably all. Since the optically anisotropic layer has reverse wavelength dispersion, the function can be expressed uniformly in a wide band in optical applications such as a λ / 4 wavelength plate or a λ / 2 wavelength plate.
好ましい態様として、光学異方性層は、λ／４波長板又はλ／２波長板として用いうる光学特性を有する。具体的には、測定波長５９０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅが、１０８ｎｍ〜１６８ｎｍの範囲である場合、λ／４波長板として使用しうる。また測定波長５９０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅが２４５ｎｍ〜３０５ｎｍの範囲である場合、λ／２波長板として使用しうる。より具体的には、λ／４波長板の場合、測定波長５９０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅは、好ましくは１２８ｎｍ〜１４８ｎｍ、より好ましくは１３３ｎｍ〜１４３ｎｍの範囲である。またλ／２波長板の場合、測定波長５９０ｎｍで測定した面内レターデーションＲｅは、好ましくは２６５ｎｍ〜２８５ｎｍ、より好ましくは２７０ｎｍ〜２８０ｎｍの範囲である。ここで、面内レターデーションＲｅは、下記式に従って算出する。
Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（式中、ｎｘは、光学異方性層の面内の遅相軸方向の屈折率（面内の最大屈折率）であり、ｎｙは、光学異方性層の面内の遅相軸に垂直な方向の屈折率であり、ｄは、光学異方性層の厚み（ｎｍ）である。）
光学異方性層が、このようなλ／４波長板又はλ／２波長板として用いうる光学特性を有する場合、それを利用して、λ／４波長板又はλ／２波長板を有する円偏光板等の光学素子を容易に製造しうる。
As a preferred embodiment, the optically anisotropic layer has optical characteristics that can be used as a λ / 4 wavelength plate or a λ / 2 wavelength plate. Specifically, when the in-plane retardation Re measured at a measurement wavelength of 590 nm is in the range of 108 nm to 168 nm, it can be used as a λ / 4 wavelength plate. When the in-plane retardation Re measured at a measurement wavelength of 590 nm is in the range of 245 nm to 305 nm, it can be used as a λ / 2 wavelength plate. More specifically, in the case of a λ / 4 wavelength plate, the in-plane retardation Re measured at a measurement wavelength of 590 nm is preferably in the range of 128 nm to 148 nm, more preferably 133 nm to 143 nm. In the case of a λ / 2 wavelength plate, the in-plane retardation Re measured at a measurement wavelength of 590 nm is preferably in the range of 265 nm to 285 nm, more preferably 270 nm to 280 nm. Here, the in-plane retardation Re is calculated according to the following formula.
Re = (nx−ny) × d (where nx is the refractive index in the slow axis direction in the plane of the optically anisotropic layer (maximum refractive index in the plane), and ny is the optical anisotropy. (The refractive index in the direction perpendicular to the slow axis in the plane of the layer, and d is the thickness (nm) of the optically anisotropic layer.)
When the optically anisotropic layer has an optical characteristic that can be used as such a λ / 4 wave plate or λ / 2 wave plate, a circle having a λ / 4 wave plate or a λ / 2 wave plate is used. An optical element such as a polarizing plate can be easily produced.
光学異方性層の遅相軸と光学異方性層の幅方向とがなす角度は、基材フィルムとしての樹脂フィルムの延伸による配向方向と樹脂フィルムの幅方向とがなす角度と同様としうる。具体的には、光学異方性層の遅相軸と光学異方性層の幅方向とがなす角度は、０°〜９０°としうる。また、ある態様において、光学異方性層の遅相軸と光学異方性層の幅方向とがなす角度が、４０°〜５０°であることが特に好ましい。また、具体的には、光学異方性層の遅相軸と光学異方性層の幅方向とがなす角度を、好ましくは１５°±５°、２２．５±５°、４５°±５°、７５°±５°、より好ましくは１５°±４°、２２．５±４°、４５°±４°、７５°±４°、さらにより好ましくは１５°±３°、２２．５±３°、４５°±３°、７５°±３°といった特定の範囲としうる。このような角度関係を有することにより、機能性フィルムを、特定の円偏光板の効率的な製造を可能にする材料とすることができる。 The angle formed by the slow axis of the optically anisotropic layer and the width direction of the optically anisotropic layer can be the same as the angle formed by the orientation direction of the resin film as the base film and the width direction of the resin film. . Specifically, the angle formed by the slow axis of the optically anisotropic layer and the width direction of the optically anisotropic layer can be 0 ° to 90 °. In some embodiments, the angle formed by the slow axis of the optically anisotropic layer and the width direction of the optically anisotropic layer is particularly preferably 40 ° to 50 °. Specifically, the angle formed by the slow axis of the optically anisotropic layer and the width direction of the optically anisotropic layer is preferably 15 ° ± 5 °, 22.5 ± 5 °, 45 ° ± 5. °, 75 ° ± 5 °, more preferably 15 ° ± 4 °, 22.5 ± 4 °, 45 ° ± 4 °, 75 ° ± 4 °, even more preferably 15 ° ± 3 °, 22.5 ± Specific ranges such as 3 °, 45 ° ± 3 °, and 75 ° ± 3 ° can be used. By having such an angular relationship, the functional film can be a material that enables efficient production of a specific circularly polarizing plate.
〔５．２．ハードコート層用の塗工液〕
ハードコート層とは、高い硬度を有する層をいう。このハードコート層用の塗工液としては、重合性単量体を含む液状組成物を用いうる。特に、ハードコート層用の塗工液は、重合性単量体として、（メタ）アクリロイル基を１分子中に３個以上有する化合物を、重合性単量体の全量の５０重量％以上含む液状組成物が好ましい。このようなハードコート層用の塗工液は、通常、紫外線等の活性エネルギー線の照射によって硬化しうる。
[5.2. Coating liquid for hard coat layer)
The hard coat layer refers to a layer having high hardness. As the coating liquid for the hard coat layer, a liquid composition containing a polymerizable monomer can be used. In particular, the coating liquid for the hard coat layer is a liquid containing 50% by weight or more of a compound having three or more (meth) acryloyl groups in one molecule as a polymerizable monomer. Compositions are preferred. Such a coating liquid for a hard coat layer can usually be cured by irradiation with active energy rays such as ultraviolet rays.
（メタ）アクリロイル基を１分子中に３個以上有する化合物としては、例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。 Examples of the compound having three or more (meth) acryloyl groups in one molecule include pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta ( And (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate.
また、（メタ）アクリロイル基を１分子中に３個以上有する化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。例えば、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートとペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートとの組み合わせ；ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートとジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートとジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートとの組み合わせを用いてもよい。 Moreover, the compound which has 3 or more of (meth) acryloyl groups in 1 molecule may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. For example, a combination of pentaerythritol tri (meth) acrylate and pentaerythritol tetra (meth) acrylate; a combination of dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate May be used.
中でも、ハードコート層用の塗工液としては、１分子中に（メタ）アクリロイル基を４個以上有する化合物を、重合性単量体の全量の６０重量％以上含む液状組成物が好ましい。さらには、ハードコート層用の塗工液としては、１分子中に（メタ）アクリロイル基を４個有する化合物、５個有する化合物、及び、６個有する化合物を、合計で、重合性単量体の全量の８０重量％以上含む液状組成物が、特に好ましい。 Especially, as a coating liquid for hard-coat layers, the liquid composition which contains 60 weight% or more of the compound which has 4 or more of (meth) acryloyl groups in 1 molecule of the whole quantity of a polymerizable monomer is preferable. Furthermore, as the coating liquid for the hard coat layer, a compound having four (meth) acryloyl groups in one molecule, a compound having five, and a compound having six are total polymerizable monomers. A liquid composition containing 80% by weight or more of the total amount of is particularly preferable.
前記のハードコート層用の塗工液は、（メタ）アクリロイル基を１分子中に３個以上有する化合物に組み合わせて、任意の重合性単量体を含んでいてもよい。任意の重合性単量体としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の３官能の（メタ）アクリレート類；エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジエチレングリコールジメタクリレート、メタクリル酸アリル、フタル酸ジアリル、トリメチロールプロパントリアクリレート、グリセリンジアリルエーテル、ポリエチレングリコールジメタクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート等の多官能不飽和単量体類；ビスフェノキシエタノールフルオレンジアクリレート、２−プロペノイックアシッド［５，５’−（９−フルオレン−９−イリデン）ビス（１，１’−ビフェニル）−２−（ポリオキシエチレン）エステル］、２−プロペノイックアシッド［５，５’−４−（１，１’ビフェニリル）メチレンビス（１，１’−ビフェニル）−２−（ポリオキシエチレン）エステル］等の芳香環及び（メタ）アクリロイル基を有する化合物類；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜３０のアルキル（メタ）アクリレート類のアクリル系不飽和単量体類；等が挙げられる。また、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The coating solution for the hard coat layer may contain an arbitrary polymerizable monomer in combination with a compound having three or more (meth) acryloyl groups in one molecule. Examples of the arbitrary polymerizable monomer include trifunctional (meth) acrylates such as trimethylolpropane tri (meth) acrylate and pentaerythritol tri (meth) acrylate; ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol Polyfunctional unsaturated monomers such as dimethacrylate, allyl methacrylate, diallyl phthalate, trimethylolpropane triacrylate, glyceryl diallyl ether, polyethylene glycol dimethacrylate, polyethylene glycol diacrylate; bisphenoxyethanol full orange acrylate, 2-propene Noic acid [5,5 ′-(9-fluorene-9-ylidene) bis (1,1′-biphenyl) -2- (polyoxyethylene) ester] Aromatic rings such as 2-propenoic acid [5,5′-4- (1,1′biphenylyl) methylenebis (1,1′-biphenyl) -2- (polyoxyethylene) ester] and (meth) acryloyl groups Compounds having: methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, nonyl And acrylic unsaturated monomers of alkyl (meth) acrylates having 1 to 30 carbon atoms such as (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, and the like. Moreover, these may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
前記のハードコート層用の塗工液は、カルボキシル基と重合性炭素−炭素二重結合とを有する化合物を、重合性単量体の全量中の０．０１〜５重量％含むことが好ましい。これにより、ハードコート層の表面抵抗値を低くできる。前記のカルボキシル基と重合性炭素−炭素二重結合とを有する化合物としては、例えば、アクリル酸；メタクリル酸；クロトン酸；フマル酸；イタコン酸；ムコン酸；無水マレイン酸とモノアルコールとのハーフエステル類；ジペンタエリスリトールペンタアクリレート及びペンタエリスリトールトリアクリレート等の水酸基を有するアクリレート類中の水酸基の一部が、アクリル酸の炭素−炭素二重結合に付加した化合物；ジペンタエリスリトールペンタアクリレート及びペンタエリスリトールトリアクリレート等の水酸基を有するアクリレート類中の水酸基とジカルボン酸もしくは無水カルボン酸とが反応した化合物；などが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The coating liquid for the hard coat layer preferably contains 0.01 to 5% by weight of the compound having a carboxyl group and a polymerizable carbon-carbon double bond in the total amount of the polymerizable monomer. Thereby, the surface resistance value of a hard-coat layer can be made low. Examples of the compound having a carboxyl group and a polymerizable carbon-carbon double bond include acrylic acid; methacrylic acid; crotonic acid; fumaric acid; itaconic acid; muconic acid; half ester of maleic anhydride and monoalcohol. Compounds in which a part of hydroxyl groups in acrylates having hydroxyl groups such as dipentaerythritol pentaacrylate and pentaerythritol triacrylate are added to the carbon-carbon double bond of acrylic acid; dipentaerythritol pentaacrylate and pentaerythritol tris And a compound obtained by reacting a hydroxyl group in an acrylate having a hydroxyl group such as acrylate with a dicarboxylic acid or carboxylic anhydride. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
重合性単量体の酸価は、０．０１ｍｇＫＯＨ／ｇ〜０．０５ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。塗工液の酸価が、前記範囲の下限値以上であることにより、ハードコート層の表面抵抗値を効果的に低くでき、また、前記範囲の上限値以下であることにより、塗工液の安定性を良好にできる。
前記の酸化は、ＪＩＳ Ｋ ００７０（化学製品の酸価、けん化価、エステル価、よう素価、水酸基価及び不けん化物の試験方法）により、指示薬にブロモチモールブルーを用いて測定しうる。
The acid value of the polymerizable monomer is preferably 0.01 mgKOH / g to 0.05 mgKOH / g. When the acid value of the coating liquid is equal to or higher than the lower limit value of the range, the surface resistance value of the hard coat layer can be effectively lowered, and when the acid value is equal to or lower than the upper limit value of the range, Stability can be improved.
The oxidation can be measured by using bromothymol blue as an indicator according to JIS K 0070 (Testing method for acid value, saponification value, ester value, iodine value, hydroxyl value and unsaponified product of chemical products).
ハードコート層用の塗工液は、粒子を含むことが好ましい。粒子により、ハードコート層の導電性及び屈折率を調整することができる。
粒子は、有機粒子でもよく、無機粒子でもよく、有機粒子と無機粒子とを組み合わせて用いてもよい。粒子の材料の例を挙げると、シリカ、チタニア（酸化チタン）、ジルコニア（酸化ジルコニウム）、酸化亜鉛、酸化スズ、酸化セリウム、五酸化アンチモン、二酸化チタン、スズをドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンをドープした酸化スズ（ＡＴＯ）、リンをドープした酸化スズ（ＰＴＯ）、亜鉛をドープした酸化インジウム（ＩＺＯ）、アルミニウムをドープした酸化亜鉛（ＡＺＯ）、フッ素をドープした酸化スズ（ＦＴＯ）等が挙げられる。これらの中でも、シリカは、基材フィルムとの密着性及び透明性のバランスに優れるので、屈折率を調整するための成分として適している。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
The coating liquid for the hard coat layer preferably contains particles. The conductivity and refractive index of the hard coat layer can be adjusted by the particles.
The particles may be organic particles, inorganic particles, or a combination of organic particles and inorganic particles. Examples of particle materials include silica, titania (titanium oxide), zirconia (zirconium oxide), zinc oxide, tin oxide, cerium oxide, antimony pentoxide, titanium dioxide, tin-doped indium oxide (ITO), antimony Doped tin oxide (ATO), phosphorus doped tin oxide (PTO), zinc doped indium oxide (IZO), aluminum doped zinc oxide (AZO), fluorine doped tin oxide (FTO), etc. Can be mentioned. Among these, silica is suitable as a component for adjusting the refractive index because it is excellent in the balance between adhesion to the base film and transparency. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
粒子の数平均粒子径は、好ましくは１ｎｍ以上であり、好ましくは１０００ｎｍ以下、より好ましくは５００ｎｍ以下、特に好ましくは２５０ｎｍ以下である。通常は、粒子径が小さいほど、ハードコート層のヘイズが低くなり、基材フィルムとハードコート層との密着性が向上する。 The number average particle diameter of the particles is preferably 1 nm or more, preferably 1000 nm or less, more preferably 500 nm or less, and particularly preferably 250 nm or less. Usually, the smaller the particle size, the lower the haze of the hard coat layer and the better the adhesion between the substrate film and the hard coat layer.
粒子の量は、重合性単量体１００重量部に対して、好ましくは１０重量部以上、より好ましくは２０重量部以上であり、好ましくは８０重量部以下、より好ましくは５０重量部以下、特に好ましくは４０重量部以下である。粒子の量を前記の範囲とすることにより、ヘイズ及び全光線透過率等の光学特性に優れる機能性フィルムを製造できる。 The amount of the particles is preferably 10 parts by weight or more, more preferably 20 parts by weight or more, preferably 80 parts by weight or less, more preferably 50 parts by weight or less, particularly 100 parts by weight of the polymerizable monomer. The amount is preferably 40 parts by weight or less. By setting the amount of particles in the above range, a functional film excellent in optical properties such as haze and total light transmittance can be produced.
ハードコート層用の塗工液は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン誘導体、ベンジルケタール類、α−ヒドロキシアセトフェノン類、α−アミノアセトフェノン類、アシルフォスフィンオキサイド類、ｏ−アシルオキシム類等が挙げられる。また、市販の光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン／アミン、ミヒラーケトン／ベンゾフェノン、チオキサントン／アミンなどの組み合わせ（チバガイギー社製「イルガキュア」及び「ダロキュア」等）が挙げられる。光重合開始剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The coating liquid for the hard coat layer preferably contains a photopolymerization initiator. Examples of the photopolymerization initiator include benzoin derivatives, benzyl ketals, α-hydroxyacetophenones, α-aminoacetophenones, acylphosphine oxides, o-acyloximes and the like. Examples of commercially available photopolymerization initiators include combinations of benzophenone / amine, Michlerketone / benzophenone, thioxanthone / amine, etc. ("Irgacure" and "Darocur" manufactured by Ciba Geigy). A photoinitiator may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
光重合開始剤の量は、重合性単量体１００重量部に対して、好ましくは１重量部以上、より好ましくは２重量部以上、特に好ましくは３重量部以上であり、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１５重量部以下、特に好ましくは１０重量部以下である。光重合開始剤の量を前記の範囲にすることで、重合性単量体の重合を効率良く進行させることができ、かつ光重合開始剤の過剰混合を避けて、未反応の光重合開始剤に起因するハードコート層の黄変及び膜物性の変化を抑制することができる。 The amount of the photopolymerization initiator is preferably 1 part by weight or more, more preferably 2 parts by weight or more, particularly preferably 3 parts by weight or more, preferably 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable monomer. Hereinafter, it is more preferably 15 parts by weight or less, particularly preferably 10 parts by weight or less. By setting the amount of the photopolymerization initiator within the above range, the polymerization of the polymerizable monomer can be efficiently progressed, and over-mixing of the photopolymerization initiator is avoided, so that an unreacted photopolymerization initiator is obtained. It is possible to suppress the yellowing of the hard coat layer and the change in film properties caused by the above.
前記のハードコート層用の塗工液は、必要に応じて、溶媒を含みうる。溶媒としては、例えば、水；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール、エチレングリコール、ヘキシレングリコール、イソプロピルグリコールなどのアルコール溶媒；酢酸メチルエステル、酢酸エチルエステルなどのエステル溶媒；ジエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセチルアセトン、アセト酢酸エステルなどのケトン溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のセロソルブ溶媒；トルエン、キシレンなどの芳香族化合物；イソホロン；などが挙げられる。溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The coating liquid for the hard coat layer may contain a solvent, if necessary. Examples of the solvent include water; alcohol solvents such as methanol, ethanol, propanol, isopropanol, butanol, diacetone alcohol, furfuryl alcohol, tetrahydrofurfuryl alcohol, ethylene glycol, hexylene glycol, isopropyl glycol; acetic acid methyl ester, acetic acid Ester solvents such as ethyl ester; ether solvents such as diethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, tetrahydrofuran; acetone, methyl ethyl ketone, Methyl isobutyl ketone, acetyl Acetone, ketone solvents such as acetoacetic ester; methyl cellosolve, ethyl cellosolve, cellosolve solvent butyl cellosolve and the like; toluene, aromatic compounds such as xylene; isophorone; and the like. A solvent may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
前記の溶媒の中でも、親水性の溶媒が好ましい。親水性の溶媒を用いることにより、塗工液を塗工する際に、空気中の水分を吸収することによる白化を抑制できる。特に、２５℃における水の溶解度が５ｇ（水）／１００ｇ（ケトン）以上である水溶性ケトン溶媒が好ましく、具体的にはメチルエチルケトン及びアセトンが好ましい。 Among the above solvents, hydrophilic solvents are preferable. By using a hydrophilic solvent, whitening due to absorption of moisture in the air can be suppressed when the coating liquid is applied. In particular, a water-soluble ketone solvent having a water solubility at 25 ° C. of 5 g (water) / 100 g (ketone) or more is preferable, and specifically, methyl ethyl ketone and acetone are preferable.
一般に、基材フィルムに対して塗工により透明の機能性層を形成して得られるフィルムでは、基材フィルムと機能性層との界面、及び、機能性層と空気層との界面において、光の干渉による虹模様の干渉縞が生じ、フィルムの視認性を妨げることがあった（フリンジ）。これに対し、基材フィルムへの浸食が強い溶媒を用いると、基材フィルムと機能性層との界面が荒らされることで、前記の界面で反射する光を乱すことができる。そのため、光の干渉を抑制して、干渉縞を低減することが可能である。このように基材フィルムへの浸食が強い溶媒としては、例えば基材フィルムとしてトリアセチルセルロースを用いる場合には、エステル溶媒及びケトン溶媒が挙げられ、中でも、酢酸メチル、ジメチルカーボネート、メチルエチルケトン及びアセトンが好ましい。 Generally, in a film obtained by forming a transparent functional layer by coating on a base film, light is emitted at the interface between the base film and the functional layer and at the interface between the functional layer and the air layer. Interference fringes of rainbow pattern were generated due to the interference of the film, and the visibility of the film could be hindered (fringe). On the other hand, when a solvent that strongly erodes the base film is used, the light reflected at the interface can be disturbed by roughening the interface between the base film and the functional layer. Therefore, interference fringes can be suppressed and interference fringes can be reduced. Thus, as a solvent with strong erosion to the base film, for example, when triacetyl cellulose is used as the base film, an ester solvent and a ketone solvent are exemplified, and among them, methyl acetate, dimethyl carbonate, methyl ethyl ketone and acetone are included. preferable.
溶媒の量は、ハードコート層用の塗工液の粘度が、塗工液に求められる好ましい範囲に収まるように設定しうる。 The amount of the solvent can be set so that the viscosity of the coating liquid for the hard coat layer falls within a preferable range required for the coating liquid.
ハードコート層用の塗工液は、上述した重合性単量体、粒子、光重合開始剤及び溶媒に加えて、任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、屈折率調整、導電性付与、反射防止能付与のための金属酸化物粒子；ブロッキング防止のための有機粒子；染料、顔料等の着色剤；蛍光材料、燐光材料等の発光材料；レベリング剤；チキソ剤；ゲル化剤；多糖類；紫外線吸収剤；赤外線吸収剤；抗酸化剤；イオン交換樹脂；などが挙げられる。また、任意の成分は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。かかる任意の成分の量は、重合性単量体１００重量部に対し、通常、各々０．１〜２０重量部である。 The coating liquid for the hard coat layer may contain an optional component in addition to the polymerizable monomer, particles, photopolymerization initiator and solvent described above. As optional components, for example, metal oxide particles for adjusting refractive index, imparting conductivity, imparting antireflection ability; organic particles for preventing blocking; colorants such as dyes and pigments; fluorescent materials, phosphorescent materials, etc. Luminescent materials; leveling agents; thixotropic agents; gelling agents; polysaccharides; ultraviolet absorbers; infrared absorbers; antioxidants; Moreover, arbitrary components may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. The amount of such optional components is usually 0.1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the polymerizable monomer.
上述したハードコート層用の塗工液を用いることにより、第一機能性層及び第二機能性層として、ハードコート層が得られる。このハードコート層は、通常、重合性単量体が重合した重合体を含む樹脂からなる。こうして得られたハードコート層のＪＩＳ鉛筆硬度は、好ましくはＢ以上、より好ましくはＨＢ以上、特に好ましくはＨ以上である。ここで、ＪＩＳ鉛筆硬度は、ＪＩＳ Ｋ５６００−５−４に準拠して、各種硬度の鉛筆を４５°傾けて、上から５００ｇ重の荷重を掛けて層の表面を引っ掻き、傷が付きはじめる鉛筆の硬さである。 By using the hard coat layer coating liquid described above, hard coat layers can be obtained as the first functional layer and the second functional layer. This hard coat layer is usually made of a resin containing a polymer obtained by polymerizing a polymerizable monomer. The JIS pencil hardness of the hard coat layer thus obtained is preferably B or higher, more preferably HB or higher, and particularly preferably H or higher. Here, in accordance with JIS K5600-5-4, the JIS pencil hardness is determined by tilting a pencil of various hardness by 45 °, applying a load of 500 g from above, scratching the surface of the layer, and starting scratching. Hardness.
〔５．３．反射防止層用の塗工液〕
反射防止層とは、光の反射を抑制できる層をいう。反射防止層は、通常、基材フィルムよりも低い屈折率を有することにより、光の反射を抑制しうる。この反射防止層用の塗工液としては、例えば、重合性単量体及び中空粒子を含む液状組成物を用いうる。このようなハードコート層用の塗工液は、通常、活性エネルギー線の照射によって硬化しうる。
[5.3. Coating liquid for antireflection layer)
The antireflection layer refers to a layer that can suppress reflection of light. The antireflection layer can suppress light reflection by usually having a refractive index lower than that of the base film. As the coating liquid for this antireflection layer, for example, a liquid composition containing a polymerizable monomer and hollow particles can be used. Such a coating liquid for a hard coat layer can usually be cured by irradiation with active energy rays.
重合性単量体としては、多官能（メタ）アクリル化合物が好ましい。多官能（メタ）アクリル化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールヘキサ（メタ）アクリレートのエチレンオキサイド付加物、このエチレンオキサイド不可物のエチレンオキサイドのＨをフッ素置換したもの、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリストールテトラ（メタ）アクリレートのエチレンオキサイド付加物、このエチレンオキサイド付加物のエチレンオキサイドのＨをフッ素置換したもの、などが挙げられる。
また、重合性単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
As the polymerizable monomer, a polyfunctional (meth) acrylic compound is preferable. Examples of polyfunctional (meth) acrylic compounds include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, isocyanuric acid ethylene oxide modified tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, di Pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, ethylene oxide adduct of dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, Ethylene oxide H which is not ethylene oxide, fluorine-substituted, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, pentaerythritol Tiger (meth) ethylene oxide adduct acrylate, which the H of the ethylene oxide of the ethylene oxide adduct was fluorinated, and the like.
Moreover, a polymerizable monomer may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
中空粒子としては、通常、無機材料からなる粒子を用いる。中空粒子を形成する無機材料としては、例えば、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｂ２Ｏ３、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＳｎＯ２、Ｃｅ２Ｏ３、Ｐ２Ｏ５、Ｓｂ２Ｏ３、ＭｏＯ３、ＺｎＯ２、ＷＯ３、ＴｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＴｉＯ２−ＺｒＯ２、Ｉｎ２Ｏ３−ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３−ＳｎＯ２などが挙げられる。ここで、上記「−」は、複合酸化物であることを示す。この中でも、特にシリカが好ましい。また、中空粒子は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
As the hollow particles, particles made of an inorganic material are usually used. Examples of the inorganic material forming the hollow particles include SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , TiO 2 , ZrO 2 , SnO 2 , Ce 2 O 3 , P 2 O 5 , Sb 2 O 3 , MoO. 3, ZnO 2, WO 3, TiO 2 -Al 2 O 3, etc. TiO 2 -ZrO 2, In 2 O 3 -
中空粒子の数平均粒子径は、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは２０ｎｍ以上であり、好ましくは２００ｎｍ以下、より好ましくは１００ｎｍ以下である。中空粒子の数平均粒子径が前記範囲の下限値以上であることにより、粒子内部の空洞を容易に形成できる。また、空洞によって反射防止層の屈折率を効果的に低くできる。中空粒子の数平均粒子径が前記範囲の上限値以下であることにより、中空粒子を反射防止層において良好に分散させられるので、反射防止層の透明性を高くできる。 The number average particle diameter of the hollow particles is preferably 5 nm or more, more preferably 20 nm or more, preferably 200 nm or less, more preferably 100 nm or less. When the number average particle diameter of the hollow particles is not less than the lower limit of the above range, the cavities inside the particles can be easily formed. Further, the refractive index of the antireflection layer can be effectively lowered by the cavity. When the number average particle diameter of the hollow particles is not more than the upper limit of the above range, the hollow particles can be favorably dispersed in the antireflection layer, so that the transparency of the antireflection layer can be increased.
また、中空粒子は、多孔質構造を有しうる。この中空粒子の細孔内には、溶媒又は気体が存在していてもよい。 The hollow particles can have a porous structure. A solvent or gas may be present in the pores of the hollow particles.
中空粒子の屈折率は、好ましくは１.１５以上であり、好ましくは１.４５以下、より好ましくは１．３５以下である。中空粒子の屈折率が前記範囲の下限値以上であることにより、中空粒子の製造が容易である。また、粒子の外殻層を厚くして粒子が割れるのを抑制したり、重合性単量体との混合時に粒子の空洞内への重合性単量体の浸入を抑制したりできる。また、中空粒子の屈折率が前記範囲の上限値以下であることにより、反射防止層の屈折率を効果的に低くできる。 The refractive index of the hollow particles is preferably 1.15 or more, preferably 1.45 or less, more preferably 1.35 or less. When the refractive index of the hollow particles is not less than the lower limit of the above range, the hollow particles can be easily produced. Further, the outer shell layer of the particles can be thickened to prevent the particles from cracking, and the mixing of the polymerizable monomers into the cavities of the particles when mixed with the polymerizable monomers can be suppressed. Moreover, when the refractive index of the hollow particles is not more than the upper limit of the above range, the refractive index of the antireflection layer can be effectively lowered.
中空粒子の量は、重合性単量体１００重量部に対して、好ましくは６０重量部以上、より好ましくは７０重量部以上、特に好ましくは８０重量部以上であり、好ましくは２００重量部以下、より好ましくは１５０重量部以下、特に好ましくは１２０重量部以下である。中空粒子の量が、前記範囲の下限値以上であることにより反射防止層の屈折率を効果的に低くでき、また、前記範囲の上限値以下であることにより反射防止層の機械的強度を効果的に高くできる。 The amount of the hollow particles is preferably 60 parts by weight or more, more preferably 70 parts by weight or more, particularly preferably 80 parts by weight or more, preferably 200 parts by weight or less, with respect to 100 parts by weight of the polymerizable monomer. More preferred is 150 parts by weight or less, and particularly preferred is 120 parts by weight or less. The refractive index of the antireflection layer can be effectively lowered by the amount of the hollow particles being not less than the lower limit value of the range, and the mechanical strength of the antireflection layer is effective by being not more than the upper limit value of the range. Can be expensive.
反射防止層用の塗工液は、アルコール変性反応性シリコーン化合物を含むことが好ましい。アルコール変性反応性シリコーン化合物は、ポリシロキサンの側鎖、片末端又は両末端が水酸基で置換された、反応性を有する変性シリコーン化合物である。 The coating solution for the antireflection layer preferably contains an alcohol-modified reactive silicone compound. The alcohol-modified reactive silicone compound is a reactive modified silicone compound in which the side chain, one end, or both ends of the polysiloxane is substituted with a hydroxyl group.
アルコール変性反応性シリコーン化合物の官能基当量（ｇ／ｍｏｌ）は、好ましくは１０００以上、より好ましくは１２００以上、特に好ましくは１５００以上である。このように大きい官能基当量を有するアルコール変性反応性シリコーン化合物を用いることにより、基材フィルムと反射防止層との密着性及び防汚性を向上させることができる。官能基当量の上限は、特に制限は無いが、好ましくは５０００以下、さらに好ましくは４０００以下である。 The functional group equivalent (g / mol) of the alcohol-modified reactive silicone compound is preferably 1000 or more, more preferably 1200 or more, and particularly preferably 1500 or more. By using the alcohol-modified reactive silicone compound having such a large functional group equivalent, the adhesion and antifouling property between the base film and the antireflection layer can be improved. The upper limit of the functional group equivalent is not particularly limited, but is preferably 5000 or less, more preferably 4000 or less.
ここで、官能基当量とは、官能基１個当たりに結合している主骨格の質量を示す。官能基当量は、下記の式から計算しうる。
官能基当量（ｇ／ｍｏｌ）＝分子量／水酸基価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）
ここで、標準単位ｇ／ｍｏｌは、官能基１ｍｏｌと換算している。
Here, the functional group equivalent indicates the mass of the main skeleton bonded to one functional group. The functional group equivalent can be calculated from the following formula.
Functional group equivalent (g / mol) = molecular weight / hydroxyl value (mgKOH / g)
Here, the standard unit g / mol is converted to 1 mol of the functional group.
前記の水酸基価とは、ＪＩＳ−Ｋ−００７０に準じて、試料１ｇ中に含まれるＯＨ基をアセチル化するために要する水酸化カリウムのｍｇ数である。水酸基価は、無水酢酸を用いて試料中のＯＨ基をアセチル化し、使われなかった酢酸を水酸化カリウム溶液で滴定して、下記の計算式を基に算出しうる。
水酸価量＝（（ＶＡ−ＶＢ）×ｆ×２８．０５）／試料（ｇ）＋酸価
ＶＡ：空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）
ＶＢ：滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）
ｆ：ファクター
The hydroxyl value is the mg number of potassium hydroxide required to acetylate the OH group contained in 1 g of the sample according to JIS-K-0070. The hydroxyl value can be calculated based on the following formula by acetylating OH groups in a sample using acetic anhydride and titrating acetic acid not used with a potassium hydroxide solution.
Hydroxic acid amount = ((V A −V B ) × f × 28.05) / sample (g) + acid value V A : amount of 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used in the blank test (mL )
V B : 0.5 mol / L potassium hydroxide ethanol solution used for titration (mL)
f: Factor
アルコール変性反応性シリコーン化合物としては、例えば、東レ・ダウコーニング社製のＳＦ８４２８、ＢＹ１６−２０１、ＢＹ１６−００４、ＳＦ８４２７；信越シリコーン社製のＸ−２２−４０３９、Ｘ−２２−４０１５、Ｘ−２２−１６０Ｓ、ＫＦ−６００１、ＫＦ−６００２、ＫＦ−６００３、Ｘ−２２−１７０ＢＸ、Ｘ−２２−１７０ＤＸ；モメンティンブ社製のＸＦ４２−Ｂ０９７０；が挙げられる。また、アルコール変性反応性シリコーン化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the alcohol-modified reactive silicone compound include SF8428, BY16-201, BY16-004, SF8427 manufactured by Toray Dow Corning, X-22-4039, X-22-4015, and X-22 manufactured by Shin-Etsu Silicone. -160S, KF-6001, KF-6002, KF-6003, X-22-170BX, X-22-170DX; XF42-B0970 manufactured by Momentimbu. Moreover, an alcohol-modified reactive silicone compound may be used individually by 1 type, and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
アルコール変性シリコーン化合物の屈折率は、好ましくは１．４３以下、より好ましくは１．４２以下、特に好ましくは１．４１以下である。アルコール変性シリコーン化合物の屈折率がこのように低いことにより、反射防止層の屈折率を効果的に低くできる。屈折率の下限は、特段の制限は無いが、通常１．３５以上、好ましくは１．３７以上である。 The refractive index of the alcohol-modified silicone compound is preferably 1.43 or less, more preferably 1.42 or less, and particularly preferably 1.41 or less. When the refractive index of the alcohol-modified silicone compound is thus low, the refractive index of the antireflection layer can be effectively lowered. The lower limit of the refractive index is not particularly limited, but is usually 1.35 or more, preferably 1.37 or more.
アルコール変性シリコーン化合物の量は、重合性単量体１００重量部に対して、好ましくは１．０重量部以上、より好ましくは３．０重量部以上、特に好ましくは５．０重量部以上であり、好ましくは２０．０重量部以下、より好ましくは１７．０重量部以下、特に好ましくは１５．０重量部以下である。アルコール変性シリコーン化合物の量が、前記範囲の下限値以上であることにより、基材フィルムと反射防止層との密着性を効果的に高めることができ、前記範囲の上限値以下であることによりアルコール変性シリコーン化合物のブリードアウト及び反射防止層の硬化不良を抑制できる。 The amount of the alcohol-modified silicone compound is preferably 1.0 parts by weight or more, more preferably 3.0 parts by weight or more, and particularly preferably 5.0 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight of the polymerizable monomer. The amount is preferably 20.0 parts by weight or less, more preferably 17.0 parts by weight or less, and particularly preferably 15.0 parts by weight or less. When the amount of the alcohol-modified silicone compound is not less than the lower limit value of the above range, the adhesion between the base film and the antireflection layer can be effectively increased, and when the amount is not more than the upper limit value of the above range, the alcohol The bleeding out of the modified silicone compound and the curing failure of the antireflection layer can be suppressed.
反射防止層用の塗工液は、上述した重合性単量体、中空粒子及びアルコール変性シリコーン化合物に加えて、任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、溶媒、光増感剤、重合禁止剤、重合開始助剤、レベリング剤、濡れ性改良剤、界面活性剤、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、帯電防止剤、シランカップリング剤などが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The coating solution for the antireflection layer may contain an optional component in addition to the polymerizable monomer, hollow particles, and alcohol-modified silicone compound described above. Examples of optional components include solvents, photosensitizers, polymerization inhibitors, polymerization initiation assistants, leveling agents, wettability improvers, surfactants, plasticizers, UV absorbers, antioxidants, and antistatic agents. And silane coupling agents. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
上述した反射防止層用の塗工液を用いることにより、第一機能性層及び第二機能性層として、反射防止層が得られる。この反射防止層は、通常、重合性単量体が重合した重合体及び中空粒子を含む樹脂からなる。温度２３℃、測定波長５５０ｎｍで測定した反射防止層の屈折率は、好ましくは１．３０以上、より好ましくは１．３５以上であり、好ましくは１．４５以下、より好ましくは１．４０以下の範囲である。 By using the coating liquid for the antireflection layer described above, an antireflection layer can be obtained as the first functional layer and the second functional layer. This antireflection layer is usually composed of a polymer containing a polymerizable monomer and a resin containing hollow particles. The refractive index of the antireflection layer measured at a temperature of 23 ° C. and a measurement wavelength of 550 nm is preferably 1.30 or more, more preferably 1.35 or more, preferably 1.45 or less, more preferably 1.40 or less. It is a range.
〔５．４．帯電防止層用の塗工液〕
帯電防止層とは、小さい表面抵抗値を有する層をいう。この帯電防止層用の塗工液としては、例えば、重合性単量体及び金属酸化物粒子を含む液状組成物を用いうる。このような帯電防止層用の塗工液は、通常、活性エネルギー線の照射によって硬化しうる。
[5.4. Coating liquid for antistatic layer)
The antistatic layer refers to a layer having a small surface resistance value. As the coating solution for the antistatic layer, for example, a liquid composition containing a polymerizable monomer and metal oxide particles can be used. Such a coating solution for an antistatic layer can usually be cured by irradiation with active energy rays.
重合体単量体の好ましい例としては、ハードコート層用の塗工液に用いうる重合性単量体と同様のものが挙げられる。
重合体単量体の量は、帯電防止層における重合性単量体が重合した重合体の量が、所定範囲に収まるように設定することが好ましい。前記所定範囲は、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは６０重量％以上、特に好ましくは７０重量％以上であり、好ましくは９５重量％以下、より好ましくは９０重量％以下である。帯電防止層における重合性単量体が重合した重合体の量が前記範囲に収まることにより、帯電防止層と基材フィルム層との接着性を高めることができ、かつ金属酸化物粒子の帯電防止層中での分散性を向上させることができる。また、帯電防止層の厚みを均一にすることができる。
Preferable examples of the polymer monomer include those similar to the polymerizable monomer that can be used in the coating liquid for the hard coat layer.
The amount of the polymer monomer is preferably set so that the amount of the polymer obtained by polymerizing the polymerizable monomer in the antistatic layer is within a predetermined range. The predetermined range is preferably 50% by weight or more, more preferably 60% by weight or more, particularly preferably 70% by weight or more, preferably 95% by weight or less, more preferably 90% by weight or less. When the amount of the polymer obtained by polymerizing the polymerizable monomer in the antistatic layer falls within the above range, the adhesion between the antistatic layer and the base film layer can be improved, and the antistatic property of the metal oxide particles can be improved. Dispersibility in the layer can be improved. In addition, the thickness of the antistatic layer can be made uniform.
金属酸化物粒子は、金属酸化物の粒子である。金属酸化物としては、例えば、酸化錫；アンチモン、フッ素又はリンがドーピングされた酸化錫；酸化インジウム；アンチモン、スズ又はフッ素がドーピングされた酸化インジウム；酸化アンチモン；低次酸化チタン等が挙げられる。特に、アンチモンがドーピングされた酸化錫、及び、アンチモンがドーピングされた酸化インジウムが好ましい。また、これらは１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The metal oxide particles are metal oxide particles. Examples of the metal oxide include tin oxide; tin oxide doped with antimony, fluorine or phosphorus; indium oxide; indium oxide doped with antimony, tin or fluorine; antimony oxide; low-order titanium oxide. In particular, tin oxide doped with antimony and indium oxide doped with antimony are preferable. Moreover, these may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
また、金属酸化物粒子は、当該粒子の表面を、加水分解性の有機ケイ素化合物で処理されたものであることが好ましい。このような処理を施すことにより、金属酸化物粒子の鎖状の連結を強固にて導電パスを安定にしたり、金属酸化物粒子の分散性を向上させたりすることができる。 Moreover, it is preferable that the metal oxide particle is a particle whose surface is treated with a hydrolyzable organosilicon compound. By performing such a treatment, the chain connection of the metal oxide particles can be strengthened to stabilize the conductive path, and the dispersibility of the metal oxide particles can be improved.
金属酸化物粒子の平均粒子径は、好ましくは２ｎｍ以上、より好ましくは４ｎｍ以上、特に好ましくは５ｎｍ以上であり、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは４０ｎｍ以下、特に好ましくは１０ｎｍ以下である。金属酸化物粒子の平均粒子径を前記範囲の下限値以上にすることにより、帯電防止層の表面抵抗値を効果的に低くできる。また、上限値以下にすることにより、帯電防止層のヘイズを小さくしたり、帯電防止層の表面抵抗値を効果的に低くしたりできる。ここで、金属酸化物粒子の平均粒子径は、レーザー回折法で測定された粒子径分布が正規分布を示すと仮定した場合において散乱強度が最大となる粒子径を示す。 The average particle diameter of the metal oxide particles is preferably 2 nm or more, more preferably 4 nm or more, particularly preferably 5 nm or more, preferably 50 nm or less, more preferably 40 nm or less, and particularly preferably 10 nm or less. By making the average particle diameter of the metal oxide particles equal to or more than the lower limit of the above range, the surface resistance value of the antistatic layer can be effectively lowered. Moreover, by making it into the upper limit value or less, the haze of the antistatic layer can be reduced, or the surface resistance value of the antistatic layer can be effectively reduced. Here, the average particle diameter of the metal oxide particles indicates the particle diameter at which the scattering intensity is maximum when the particle diameter distribution measured by the laser diffraction method is assumed to be a normal distribution.
金属酸化物粒子の量は、帯電防止層における金属酸化物粒子の量が、所定範囲に収まるように設定することが好ましい。前記所定範囲は、好ましくは３重量％以上、より好ましくは５重量％以上、特に好ましくは１０重量％以上であり、好ましくは５０重量％以下、より好ましくは３０重量％以下、特に好ましくは２０重量％以下である。金属酸化物粒子の量を前記範囲の下限値以上にすることにより、帯電防止層の表面抵抗値を小さくして、帯電防止性能を良好にできる。また、上限値以下にすることにより、帯電防止層のヘイズを小さくできるので、機能性フィルムの透明性を向上させることができる。 The amount of the metal oxide particles is preferably set so that the amount of the metal oxide particles in the antistatic layer is within a predetermined range. The predetermined range is preferably 3% by weight or more, more preferably 5% by weight or more, particularly preferably 10% by weight or more, preferably 50% by weight or less, more preferably 30% by weight or less, and particularly preferably 20% by weight. % Or less. By making the amount of the metal oxide particles equal to or more than the lower limit of the above range, the surface resistance value of the antistatic layer can be reduced and the antistatic performance can be improved. Moreover, since the haze of an antistatic layer can be made small by setting it as an upper limit or less, the transparency of a functional film can be improved.
帯電防止層用の塗工液は、光重合開始剤を含むことが好ましい。光重合開始剤としては、例えば、ハードコート層用の塗工液に用いうる光重合開始剤と同様のものが挙げられる。光重合開始剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The coating solution for the antistatic layer preferably contains a photopolymerization initiator. As a photoinitiator, the thing similar to the photoinitiator which can be used for the coating liquid for hard-coat layers is mentioned, for example. A photoinitiator may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
光重合開始剤の量は、重合性単量体１００重量部に対して、好ましくは１重量部以上、より好ましくは２重量部以上、特に好ましくは３重量部以上であり、好ましくは２０重量部以下、より好ましくは１０重量部以下、特に好ましくは５重量部以下である。光重合開始剤の量を前記の範囲にすることで、重合性単量体の重合を効率良く進行させることができ、かつ光重合開始剤の過剰混合を避けて、未反応の光重合開始剤起因の帯電防止層の黄変及び膜物性の変化を抑制することができる。 The amount of the photopolymerization initiator is preferably 1 part by weight or more, more preferably 2 parts by weight or more, particularly preferably 3 parts by weight or more, preferably 20 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polymerizable monomer. Hereinafter, it is more preferably 10 parts by weight or less, particularly preferably 5 parts by weight or less. By setting the amount of the photopolymerization initiator within the above range, the polymerization of the polymerizable monomer can be efficiently progressed, and over-mixing of the photopolymerization initiator is avoided, so that an unreacted photopolymerization initiator is obtained. The resulting yellowing of the antistatic layer and changes in film properties can be suppressed.
帯電防止層用の塗工液は、溶媒を含みうる。溶媒としては、例えば、ハードコート層用の塗工液に用いうる溶媒と同様のものが挙げられる。溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 The coating solution for the antistatic layer can contain a solvent. As a solvent, the thing similar to the solvent which can be used for the coating liquid for hard-coat layers is mentioned, for example. A solvent may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
前記の溶媒の中でも、親水性の溶媒が好ましい。親水性の溶媒を用いることにより、塗工液を乾燥する工程で、空気中の水分が吸着されることで、導電パスの形成を促進し、帯電防止性能を向上させることが出来る。具体的には、エタノール、メタノール、イソプロピルアルコールの混合溶媒が好ましい。
また、前記の溶媒の中でも、ジアセトンアルコール、シクロヘキサノン及びアセチルアセトンは、高沸点であるため、塗工した塗工液の膜の乾燥後の表面の平坦性が向上することから、好ましい。
さらに、金属酸化物粒子を、水を含む分散液の状態で用意にする場合には、溶媒として、水溶性を有する溶媒を用いることが好ましい。
Among the above solvents, hydrophilic solvents are preferable. By using a hydrophilic solvent, in the process of drying the coating liquid, moisture in the air is adsorbed, so that formation of a conductive path can be promoted and antistatic performance can be improved. Specifically, a mixed solvent of ethanol, methanol, and isopropyl alcohol is preferable.
Among the solvents, diacetone alcohol, cyclohexanone, and acetylacetone are preferable because they have a high boiling point and thus improve the flatness of the surface of the coated coating solution after drying.
Furthermore, when the metal oxide particles are prepared in the state of a dispersion containing water, it is preferable to use a water-soluble solvent as the solvent.
溶媒の量は、帯電防止層用の塗工液の固形分濃度が所望の範囲に収まるように設定することが好ましい。この固形分濃度は、好ましくは１０重量％以上、より好ましくは２０重量％以上、特に好ましくは３０重量％以上であり、好ましくは７０重量％以下、より好ましくは５５重量％以下である。帯電防止層用の塗工液における固形分の濃度を前記の範囲に収めることにより、帯電防止層の厚みを適切な範囲に収めやすく、充分な帯電防止性能を有する帯電防止層を形成しやすい。さらに、通常は、帯電防止層のヘイズを低くできるので、機能性フィルムの透明性を良好にできる。また、通常は、帯電防止層のクラック、基材フィルムの反りを抑制できる。さらに、帯電防止層用の塗工液の粘度を低くできるので、塗工液の塗工性を良好にできる。そのため、帯電防止層の表面の平坦性を高めることができ、筋ムラの発生を抑制できる。 The amount of the solvent is preferably set so that the solid content concentration of the coating solution for the antistatic layer falls within a desired range. This solid content concentration is preferably 10% by weight or more, more preferably 20% by weight or more, particularly preferably 30% by weight or more, preferably 70% by weight or less, more preferably 55% by weight or less. By keeping the solid content concentration in the coating solution for the antistatic layer within the above range, the thickness of the antistatic layer can be easily kept within an appropriate range, and an antistatic layer having sufficient antistatic performance can be easily formed. Furthermore, normally, since the haze of the antistatic layer can be lowered, the transparency of the functional film can be improved. Moreover, normally, the crack of an antistatic layer and the curvature of a base film can be suppressed. Furthermore, since the viscosity of the coating solution for the antistatic layer can be lowered, the coating property of the coating solution can be improved. Therefore, the flatness of the surface of the antistatic layer can be improved and the occurrence of streak unevenness can be suppressed.
さらに、帯電防止層用の塗工液は、上述した成分に加えて、任意の成分を含んでいてもよい。 Furthermore, the coating solution for the antistatic layer may contain an optional component in addition to the components described above.
上述した帯電防止層用の塗工液を用いることにより、第一機能性層及び第二機能性層として、帯電防止層が得られる。この帯電防止層は、通常、重合性単量体が重合した重合体及び金属酸化物粒子を含む樹脂からなる。この帯電防止層においては、通常、金属酸化物粒子が鎖状に連結するように凝集して鎖状連結体を形成しており、この鎖状連結体によって導電パスが形成されている。そのため、帯電防止層の表面抵抗値を低くできる。 By using the coating solution for the antistatic layer described above, an antistatic layer can be obtained as the first functional layer and the second functional layer. This antistatic layer is usually composed of a polymer containing a polymerized polymerizable monomer and a resin containing metal oxide particles. In this antistatic layer, the metal oxide particles are usually aggregated so as to be linked in a chain form to form a chain linked body, and a conductive path is formed by this chain linked body. Therefore, the surface resistance value of the antistatic layer can be lowered.
帯電防止層の表面抵抗値は、好ましくは１．０×１０６Ω／□以上、より好ましくは１．０×１０７Ω／□以上、特に好ましくは１．０×１０８Ω／□以上であり、好ましくは１．０×１０１０Ω／□以下、より好ましくは５．０×１０９Ω／□以下、特に好ましくは１．０×１０９Ω／□以下である。表面抵抗値は、ＪＩＳ Ｋ６９１１に準拠して、ディジタル超絶縁/微少電流計（日置電気社製「ＤＳＭ−８１０４」）を用いて測定しうる。 The surface resistance value of the antistatic layer is preferably 1.0 × 10 6 Ω / □ or more, more preferably 1.0 × 10 7 Ω / □ or more, and particularly preferably 1.0 × 10 8 Ω / □ or more. Yes, preferably 1.0 × 10 10 Ω / □ or less, more preferably 5.0 × 10 9 Ω / □ or less, and particularly preferably 1.0 × 10 9 Ω / □ or less. The surface resistance value can be measured using a digital super insulation / micro ammeter (“DSM-8104” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.) in accordance with JIS K6911.
〔５．５．防眩層用の塗工液〕
防眩層は、光を乱反射させうる層をいう。この防眩層用の塗工液としては、重合可能な任意のプレポリマー、オリゴマー又はモノマーと、粒子とを含む液状組成物を用いうる。このような防眩層用の塗工液は、通常、活性エネルギー線の照射によって硬化しうる。
[5.5. Coating liquid for antiglare layer]
The antiglare layer refers to a layer that can diffusely reflect light. As the coating solution for the antiglare layer, a liquid composition containing any polymerizable prepolymer, oligomer or monomer and particles can be used. Such a coating solution for an antiglare layer can usually be cured by irradiation with active energy rays.
プレポリマーとしては、例えば、ポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系等が挙げられる。また、モノマーとしては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、プレポリマーとして、ウレタンアクリレート系、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等を用いることが好ましい。また、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Examples of the prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyol acrylate, and the like. Examples of the monomer include polymethylolpropane tri (meth) acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, and dipenta Examples include erythritol hexa (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and the like. Among them, it is preferable to use urethane acrylate as a prepolymer and dipentaerythritol hexa (meth) acrylate as a monomer. Moreover, these may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
粒子としては、所定の数平均粒子径を有する粒子を用いうる。粒子の具体的な数平均粒子径は、好ましく５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上であり、好ましくは１００ｎｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以下である。このような数平均粒子径を有する粒子を用いることにより、防眩層の表面に凹凸構造を形成できるので、防眩層の表面において光を効果的に乱反射させることができる。 As the particles, particles having a predetermined number average particle diameter can be used. The specific number average particle diameter of the particles is preferably 5 nm or more, more preferably 10 nm or more, preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less. By using particles having such a number average particle diameter, a concavo-convex structure can be formed on the surface of the antiglare layer, so that light can be effectively diffusely reflected on the surface of the antiglare layer.
粒子としては、任意の材料で形成された粒子を用いうるが、透明性に優れることから、金属酸化物の粒子が好ましい。金属酸化物としては、例えば、帯電防止層用の塗工液が含みうる粒子の材料として挙げた金属酸化物が挙げられる。また、粒子は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 As the particles, particles formed of any material can be used, but metal oxide particles are preferable because of excellent transparency. Examples of the metal oxide include the metal oxides mentioned as the material of the particles that can be included in the coating solution for the antistatic layer. Moreover, particle | grains may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios.
粒子の量は、防眩層における粒子の体積割合が所定範囲に収まるように設定することが好ましい。前記の所定範囲は、好ましくは３０体積％以上、より好ましくは４０体積％以上であり、好ましくは６０体積％以下である。粒子の量が、前記範囲の下限値以上であることにより防眩層による光の反射を大きく乱すことができ、前記範囲の上限値以下であることにより防眩層の機械的強度を高めることができる。 The amount of the particles is preferably set so that the volume ratio of the particles in the antiglare layer is within a predetermined range. The predetermined range is preferably 30% by volume or more, more preferably 40% by volume or more, and preferably 60% by volume or less. When the amount of particles is not less than the lower limit of the range, the reflection of light by the antiglare layer can be greatly disturbed, and by being not more than the upper limit of the range, the mechanical strength of the antiglare layer can be increased. it can.
さらに、防眩層用の塗工液は、上述した成分に加えて、任意の成分を含んでいてもよい。任意の成分としては、例えば、溶媒、界面活性剤、などが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 Further, the coating solution for the antiglare layer may contain an optional component in addition to the components described above. Examples of the optional component include a solvent and a surfactant. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
上述した防眩層用の塗工液を用いることにより、第一機能性層及び第二機能性層として、防眩層が得られる。この防眩層は、通常、光を乱反射させうる粗い表面を有する。防眩層の表面の十点平均粗さＲｚは、好ましくは０．１μｍ〜０．８μｍ、より好ましくは０．２μｍ〜０．７μｍである。十点平均粗さＲｚは、ＪＩＳ Ｂ０６０１−１９９４に準じて測定しうる。 By using the coating solution for the antiglare layer described above, an antiglare layer is obtained as the first functional layer and the second functional layer. This antiglare layer usually has a rough surface that can diffusely reflect light. The ten-point average roughness Rz of the surface of the antiglare layer is preferably 0.1 μm to 0.8 μm, more preferably 0.2 μm to 0.7 μm. The ten-point average roughness Rz can be measured according to JIS B0601-1994.
〔５．６．易接着層用の塗工液〕
易接着層とは、当該易接着層の表面を別の部材と貼り合わせる際に高い接着性を発揮しうる層である。この易接着層用の塗工液としては、例えば、ポリウレタンと溶媒とを含む液状組成物を用いる。このような易接着層用の塗工液は、通常、活性エネルギー線の照射によって硬化しうる。
[5.6. (Coating fluid for easy adhesion layer)
The easy adhesion layer is a layer that can exhibit high adhesion when the surface of the easy adhesion layer is bonded to another member. As the coating solution for the easy adhesion layer, for example, a liquid composition containing polyurethane and a solvent is used. Such a coating solution for an easy-adhesion layer can usually be cured by irradiation with active energy rays.
易接着層用の塗工液としては、溶媒として水を含むものが好ましい。このように水及びポリウレタンを含む液状組成物では、通常、ポリウレタンは水中に分散している。このようにポリウレタン及び水を含む液状組成物は、「水系ウレタン樹脂」と呼ばれることがある。 As a coating liquid for an easily bonding layer, what contains water as a solvent is preferable. Thus, in the liquid composition containing water and polyurethane, the polyurethane is usually dispersed in water. Thus, the liquid composition containing polyurethane and water may be referred to as “water-based urethane resin”.
水系ウレタン樹脂として、市販されている水系ウレタン樹脂を使用してもよい。水系ウレタン樹脂としては、例えば、旭電化工業社製の「アデカボンタイター」シリーズ、三井東圧化学社製の「オレスター」シリーズ、大日本インキ化学工業社製の「ボンディック」シリーズ、「ハイドラン」シリーズ、バイエル社製の「インプラニール」シリーズ、日本ソフラン社製の「ソフラネート」シリーズ、花王社製の「ポイズ」シリーズ、三洋化成工業社製の「サンプレン」シリーズ、保土谷化学工業社製の「アイゼラックス」シリーズ、第一工業製薬社製の「スーパーフレックス」シリーズ、ゼネカ社製の「ネオレッツ」シリーズなどが挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。 A commercially available aqueous urethane resin may be used as the aqueous urethane resin. As water-based urethane resins, for example, “Adeka Bon titer” series manufactured by Asahi Denka Kogyo Co., Ltd., “Olestar” series manufactured by Mitsui Toatsu Chemical Co., Ltd., “Bondic” series manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc., “Hydran” Series, Bayer's "Impranil" series, Japan Soflan's "Sofuranate" series, Kao's "Poise" series, Sanyo Kasei's "Samprene" series, Hodogaya Chemical Industries' Examples include the “IZerax” series, the “Superflex” series manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku, and the “Neolets” series manufactured by Zeneca. One of these may be used alone, or two or more of these may be used in combination at any ratio.
易接着層用の塗工液は、易接着層の機械強度を向上させる目的で、架橋剤を含むことが好ましい。架橋剤としては、例えば、水系エポキシ化合物、水系アミノ化合物、水系イソシアネート化合物、水系カルボジイミド化合物、水系オキサゾリン化合物等を使用しうる。また、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。架橋剤の量は、ポリウレタン１００重量部に対して、好ましくは１重量部以上、より好ましくは５重量部以上であり、好ましくは７０重量部以下、より好ましくは６５重量部以下である。 The coating liquid for the easy adhesion layer preferably contains a crosslinking agent for the purpose of improving the mechanical strength of the easy adhesion layer. As the crosslinking agent, for example, an aqueous epoxy compound, an aqueous amino compound, an aqueous isocyanate compound, an aqueous carbodiimide compound, an aqueous oxazoline compound, or the like can be used. Moreover, these may be used individually by 1 type and may be used combining two or more types by arbitrary ratios. The amount of the crosslinking agent is preferably 1 part by weight or more, more preferably 5 parts by weight or more, preferably 70 parts by weight or less, more preferably 65 parts by weight or less, with respect to 100 parts by weight of polyurethane.
さらに、易接着層用の塗工液は、上述した成分に加えて、任意の成分を含んでいてもよい。 Furthermore, the coating liquid for an easily bonding layer may contain arbitrary components in addition to the components described above.
［６．機能性フィルムの用途］
上述した製造方法で製造された機能性フィルムは、広範な用途に用いることができ、中でも光学用途に用いることが好ましい。光学用途に用いる場合、機能性フィルムから適切な形状及び大きさで光学フィルムを切り出し、その光学フィルムを使用しうる。例えば、この光学フィルムを、液晶表示装置及び有機エレクトロルミネッセンス表示装置等の画像表示装置に設けて用いうる。
[6. Application of functional film]
The functional film produced by the production method described above can be used for a wide range of applications, and among them, it is preferably used for optical applications. When using for an optical use, an optical film can be cut out from a functional film with an appropriate shape and size, and the optical film can be used. For example, the optical film can be used by being provided in an image display device such as a liquid crystal display device and an organic electroluminescence display device.
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明するが、本発明は以下に説明する実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施してもよい。以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples. However, the present invention is not limited to the examples described below, and does not depart from the scope of the claims of the present invention and the equivalents thereof. It may be carried out by arbitrarily changing in. In the following description, “%” and “part” representing amounts are based on weight unless otherwise specified. In addition, the operations described below were performed under normal temperature and normal pressure conditions unless otherwise specified.
［評価方法の説明］
［フィルムの表面粗さの測定方法］
表面粗さを測定したいフィルムを、２００ｍｍ（幅方向）×３００ｍｍ（搬送方向）に切り出して、サンプルフィルムを得た。このサンプルフィルムの表面の算術平均粗さＲａを、ＣＮＣ表面粗さ測定機（ミツトヨ社製「サーフテストエクストリーム Ｖ−３０００ ＣＮＣ」）を用いて、幅方向を走査方向として測定した。この際、測定条件は、走査距離５０ｍｍ、走査速度０．３ｍｍ／ｓ、カットオフ値０．３ｍｍであった。
[Explanation of evaluation method]
[Measurement method of film surface roughness]
A film whose surface roughness is to be measured was cut into 200 mm (width direction) × 300 mm (conveyance direction) to obtain a sample film. The arithmetic average roughness Ra of the surface of this sample film was measured using a CNC surface roughness measuring machine (“Surf Test Extreme V-3000 CNC” manufactured by Mitutoyo Corporation) with the width direction as the scanning direction. At this time, the measurement conditions were a scanning distance of 50 mm, a scanning speed of 0.3 mm / s, and a cutoff value of 0.3 mm.
［塗工液の粘度の測定方法］
塗工液の粘度は、音叉型振動粘度計（エーアンドデイ社製「ＳＶ−Ａシリーズ」）を用いて、液温２３℃において測定した。
[Measurement method of viscosity of coating liquid]
The viscosity of the coating liquid was measured at a liquid temperature of 23 ° C. using a tuning fork type vibration viscometer (“SV-A series” manufactured by A & D).
［バックアップロールの周面の表面粗さの測定方法］
バックアップロールの周面の算術平均粗さＲａを、表面粗さ・輪郭形状測定機（東京精密社製「サーフコム１３０Ａ」）を用いて、軸方向を走査方向として測定した。この際、測定条件は、走査距離５０ｍｍ、走査速度０．３ｍｍ／ｓであった。
[Measurement method of surface roughness of backup roll surface]
The arithmetic average roughness Ra of the peripheral surface of the backup roll was measured using a surface roughness / contour measuring instrument (“Surfcom 130A” manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.) with the axial direction as the scanning direction. At this time, the measurement conditions were a scanning distance of 50 mm and a scanning speed of 0.3 mm / s.
［バックアップロールによるフィルムの支持時間の測定方法］
塗工液を塗工されるフィルムの表面がバックアップロールの周面で支持される支持時間Ｔは、バックアップロールの直径Ｄ、バックアップロールに対するフィルムの巻付き角θ［°］、及び、フィルムの搬送速度Ｖｆから、下記式（Ｂ２）によって算出した。
Ｔ ＝ ｛π×Ｄ×（θ／３６０°）｝／Ｖｆ （Ｂ２）
[Measurement method of film support time by backup roll]
The support time T during which the surface of the film to be coated with the coating liquid is supported by the peripheral surface of the backup roll is the diameter D of the backup roll, the winding angle θ [°] of the film with respect to the backup roll, and the film transport It calculated from the speed Vf by the following formula (B2).
T = {π × D × (θ / 360 °)} / Vf (B2)
［フィルムの張力の測定方法］
表面をバックアップロールの周面で支持されたときの基材フィルムの搬送方向の張力Ｆｆは、バックアップロールの直ぐ下流に設けられたテンションピックアップロールを用いて測定した。
[Measurement method of film tension]
The tension Ff in the transport direction of the base film when the surface was supported by the peripheral surface of the backup roll was measured using a tension pickup roll provided immediately downstream of the backup roll.
［機能性層が有する厚みムラの個数の測定方法］
厚みムラの個数を測定したい機能性層とは反対側の機能性フィルムの面に、黒色ポリエチレンテレフタレートフィルム（巴川製紙所社製「くっきりミエール」）を貼合した。その後、３波長型蛍光管によって、前記機能性層側の機能性フィルムの面を照らし、反射される光を観察した。そして、機能性フィルムの長さ１ｍ×塗工幅の範囲において、光の干渉によって生じる円形状の５ｍｍ径以上の干渉ムラの数を、その機能性層が有する厚みムラの数としてカウントした。
[Method for measuring the number of thickness irregularities of the functional layer]
A black polyethylene terephthalate film (“Kukikiri Mieru” manufactured by Yodogawa Paper Co., Ltd.) was bonded to the surface of the functional film on the side opposite to the functional layer for which the number of thickness irregularities was to be measured. Thereafter, the surface of the functional film on the functional layer side was illuminated with a three-wavelength fluorescent tube, and the reflected light was observed. Then, in the range of 1 m × length of the functional film × coating width, the number of circular interference irregularities having a diameter of 5 mm or more caused by light interference was counted as the number of thickness irregularities of the functional layer.
[フィルムの搬送性の評価方法]
バックアップロールの周面で支持されながら搬送されるフィルムを観察し、搬送ズレ、搬送しわ及びばたつきといった搬送異常が見られたかどうかに基づいて、下記の基準で評価した。
○：搬送異常が見られない。
△：顕著な搬送異常は見られないが、時折、フィルムが異常な挙動をすることがある。
×：搬送異常が見られる。
[Evaluation method of film transportability]
The film conveyed while being supported on the peripheral surface of the backup roll was observed, and evaluated based on the following criteria based on whether or not conveyance abnormalities such as conveyance deviation, conveyance wrinkle and fluttering were observed.
○: No conveyance abnormality is seen.
(Triangle | delta): Although remarkable conveyance abnormality is not seen, a film may behave abnormally occasionally.
X: Abnormal conveyance is observed.
［製造例１．光学異方性層用の塗工液の製造］
下記式（Ｂ３）で表される重合性液晶化合物（ＢＡＳＦ社製「ＬＣ２４２」）２４．１５部、界面活性剤（ネオス社製「フタージェントＦＴＸ−２０９Ｆ」）０．１２部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「ＩＲＧＡＣＵＲＥ３７９」）０．７３部、及び、溶媒としてシクロペンタノン（日本ゼオン社製）７５．００部を混合して、光学異方性層用の塗工液を製造した。
[Production Example 1. Production of coating liquid for optically anisotropic layer]
24.15 parts of a polymerizable liquid crystal compound represented by the following formula (B3) (“LC242” manufactured by BASF), 0.12 part of a surfactant (“Factent FTX-209F” manufactured by Neos), a polymerization initiator ( 0.73 parts of “IRGACURE379” manufactured by BASF and 75.00 parts of cyclopentanone (manufactured by Nippon Zeon Co., Ltd.) as a solvent were mixed to prepare a coating solution for the optically anisotropic layer.
［製造例２．ハードコート層用の塗工液の製造］
１分子中に６個以上のアクリロイル基を有するウレタンアクリレートオリゴマー（日本合成化学工業社製「ＵＶ−７６４０Ｂ」）１００．０部、シリカ粒子（ＣＩＫナノテック社製、数平均粒径３０ｎｍ）２０．０部、レベリング剤（ＤＩＣ社製「ＧＲＡＮＤＩＣ ＰＣ１１−６２０４Ｌ」）０．３部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「イルガキュア３７９」）６．０部、及び、溶媒としてメチルエチルケトン６２．０部を混合して、ハードコート層用の塗工液を製造した。
[Production Example 2. Production of coating liquid for hard coat layer]
100.0 parts of urethane acrylate oligomer (“UV-7640B” manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.) having 6 or more acryloyl groups in one molecule, 20.0 silica particles (CIK Nanotech Co., Ltd., number
［製造例３．反射防止層用の塗工液の製造］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１００．０部、中空シリカ粒子（触媒化成製、数平均粒子２０ｎｍ）１００．０部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製「ＩＲＧＡＣＵＲＥ１８４」）８．０部、アルコール変性反応性シリコーン化合物（官能基当量が１６００ｇ／ｍｏｌ）５．０部を混合し、反射防止層用の塗工液を製造した。
[Production Example 3. Production of coating liquid for antireflection layer]
100.0 parts of dipentaerythritol hexaacrylate, 100.0 parts of hollow silica particles (catalyst conversion,
［製造例４．帯電防止層用の塗工液の製造］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学工業社製、「Ａ−ＤＰＨ」）１４．０部；多官能ウレタンアクリレート（日本合成化学工業社製、「ＵＶ−１７００Ｂ」）６０部；アンチモンドープ酸化錫（三菱マテリアル電子化成社製「Ｔ−１」）４．２部、重合開始剤（ＢＡＳＦ社製「イルガキュア１８４」）０．４部；レベリング剤（ビックケミー・ジャパン社製「ＢＹＫ−ＵＶ３５７６」）０．５部；並びに、エタノール及びメタノールを含む混合溶媒（エタノール／メタノール＝９０／１０）２０．０部；を混合し、帯電防止層用の塗工液を製造した。
[Production Example 4. Production of coating solution for antistatic layer]
Dipentaerythritol hexaacrylate (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd., “A-DPH”) 14.0 parts; polyfunctional urethane acrylate (Nippon Gosei Chemical Co., Ltd., “UV-1700B”) 60 parts; antimony-doped tin oxide ( 4.2 parts of Mitsubishi Materials Electronics Chemical Co., Ltd. “T-1”, 0.4 parts of polymerization initiator (“Irgacure 184” manufactured by BASF); Leveling agent (“BYK-UV3576” manufactured by Big Chemie Japan) 0. 5 parts; and 20.0 parts of a mixed solvent containing ethanol and methanol (ethanol / methanol = 90/10) were mixed to prepare a coating solution for the antistatic layer.
［実施例１］
図１に示すように、上述した第一実施形態で説明した構造を有する製造装置２０を用意した。この製造装置２０の塗工装置１２０の上流に、ラビングロールを備えた図示しないラビング処理装置を取り付けた。これにより、ラビング処理装置（図示省略）、塗工装置１２０、オーブン１３０及びＵＶ照射装置１４０を、上流からこの順に備える製造装置を得た。
[Example 1]
As shown in FIG. 1, a
前記の製造装置において、塗工装置１２０に設けられていたバックアップロール２１０の周面２１１は、ＳＵＳ３０４で形成された滑らかな面（算術平均粗さＲａは０．０１２μｍ）となっていた。さらに、バックアップロールの直径は、２００ｍｍであった。また、塗工装置１２０は、バックアップロール２１０の周面２１１で支持されながら搬送される基材フィルム３０の巻付き角θが、１７８°となるように設けた。さらに、塗工装置１２０のダイ３１０の位置は、ダイ３１０の下流側リップ３４２と基材フィルム３０との間に空く間隙Ｃの大きさが８０μｍとなるように調整した。
In the manufacturing apparatus, the
基材フィルム３０として、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる長尺の延伸前フィルム（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」、厚み１００μｍ、樹脂のガラス転移温度１３６℃）を用意した。この基材フィルム３０の第二表面３２の算術平均粗さＲａは、０．００２μｍであった。この基材フィルム３０を巻き取った基材フィルムロール１１０を、前記の製造装置２０のフィルム供給部に取り付けた。
As the
基材フィルムロール１１０から基材フィルム３０を、搬送速度Ｖｆ１が５．０ｍ／分で繰り出した。この基材フィルム３０の第一表面３１に、ラビング処理装置によって搬送方向に平行な方向にラビング処理を施して、第一表面３１に配向規制力を付与した。その後、基材フィルム３０を、塗工装置１２０へと供給した。
The
塗工装置１２０では、図２に示すように、周方向に回転するバックアップロール２１０の周面２１１で基材フィルム３０の第二表面３２を支持しながら、基材フィルム３０を搬送した。また、このように第二表面３２をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された基材フィルム３０の第一表面３１に、製造例１で製造した光学異方性層用の塗工液４０を塗工して、第一機能性層５０を形成した。この際、基材フィルム３０の第二表面３２がバックアップロール２１０の周面２１１で支持される支持時間Ｔ１は、３．７秒であった。また、第二表面３２をバックアップロール２１０の周面２１１で支持されていたときの基材フィルム３０の搬送方向の張力Ｆｆ１は、１３０Ｎ／ｍであった。さらに、基材フィルム３０の搬送速度Ｖｆ１とバックアップロール２１０の周速Ｖｒ１との比Ｖｆ１／Ｖｒ１は、１．００２であった。また、塗工液４０の塗工は、湿潤膜厚が１０．０μｍとなるように行った。これにより、基材フィルム３０と、基材フィルム３０の第一表面３１に設けられた第一機能性層５０とを備える機能性フィルム１０が得られた。
In the
この機能性フィルム１０を、図１に示すように、オーブン１３０に搬送し、加熱して、第一機能性層５０を乾燥させた。また、オーブン１３０での加熱により、第一機能性層５０に含まれる重合性液晶化合物は配向した。また、第一機能性層５０の乾燥膜厚は１．２μｍであった。
As shown in FIG. 1, the
その後、第一機能性層５０に、ＵＶ照射装置１４０から波長３６５ｎｍの紫外線を照射し（紫外線照度１００ｍＷ／ｃｍ２×照射時間１秒）、第一機能性層５０を硬化させて、光学異方性層を得た。こうして得られた機能性フィルム１０は、基材フィルム３０及び第一機能性層５０としての光学異方性層を備える長尺の複層フィルムであった。光学異方性層は、位相差測定装置（フォトニックラティス社製「ＷＰＡ−ｍｉｃｒｏ」）で測定した波長５９０ｎｍでの面内レターデーションが１４５ｎｍであり、λ／４波長板としての機能が期待できる。この機能性フィルム１０は、巻き芯１５１に巻き取り、機能性フィルムロール１５０として回収した。
得られた機能性フィルム１０の第一機能性層５０の厚みムラの個数密度を測定した。
Thereafter, the first
The number density of thickness unevenness of the first
また、前記の機能性フィルム１０の製造方法において、バックアップロール２１０の周面２１１で基材フィルム３０の第二表面３２を支持されている期間に、基材フィルム３０を観察した。基材フィルム３０は、バックアップロール２１０の周面２１１でフィルム幅方向に滑らず、搬送バラツキ及び搬送ばたつきを生じず、平面性を維持してフィルム搬送ができた。また、基材フィルム３０は、バックアップロール２１０の搬送異常を生じることなく搬送されており、変形部（図４の変形部９４０参照。）は生じていなかった。
Moreover, in the manufacturing method of the said
［実施例２］
塗工液を、製造例２で製造したハードコート層用の塗工液に変更した。また、ラビング処理を行わなかった。さらに、塗工液の塗工条件（支持時間Ｔ１、張力Ｆｆ１、搬送速度Ｖｆ１、及び、搬送速度Ｖｆ１と周速Ｖｒ１との比Ｖｆ１／Ｖｒ１）並びに硬化条件（紫外線照度及び照射時間）を、表１に示すように変更した。以上の事項以外は実施例１と同様にして、基材フィルム及び第一機能性層としてのハードコート層を備える機能性フィルムの製造及び評価を行った。基材フィルムの鉛筆硬度が２Ｂであったが、ハードコート層の表面の鉛筆硬度はＨであり、ハードコート層としての機能が期待できる。
[Example 2]
The coating solution was changed to the coating solution for the hard coat layer produced in Production Example 2. Moreover, the rubbing process was not performed. Furthermore, coating conditions of the coating liquid (support time T 1, the tension Ff 1, the conveying speed Vf 1, and the ratio Vf 1 / Vr 1 of the conveying speed Vf 1 and the peripheral speed Vr 1) and curing condition (ultraviolet illuminance And irradiation time) were changed as shown in Table 1. Except for the above, a functional film including a base film and a hard coat layer as the first functional layer was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The pencil hardness of the base film was 2B, but the pencil hardness of the surface of the hard coat layer was H, and a function as a hard coat layer can be expected.
［実施例３］
塗工液を、製造例４で製造した帯電防止層用の塗工液に変更した。また、ラビング処理を行わなかった。さらに、塗工液の塗工条件（支持時間Ｔ１、張力Ｆｆ１、搬送速度Ｖｆ１、及び、搬送速度Ｖｆ１と周速Ｖｒ１との比Ｖｆ１／Ｖｒ１）並びに硬化条件（紫外線照度及び照射時間）を、表１に示すように変更した。以上の事項以外は実施例１と同様にして、基材フィルム及び第一機能性層としての帯電防止層を備える機能性フィルムの製造及び評価を行った。帯電防止層は、ＪＩＳ Ｋ６９１１に準拠して、ディジタル超絶縁／微少電流計（日置電気社製「ＤＳＭ−８１０４」）で測定した表面抵抗値が５．０×１０８Ω／□であり、帯電防止層としての機能が期待できる。
[Example 3]
The coating solution was changed to the coating solution for the antistatic layer produced in Production Example 4. Moreover, the rubbing process was not performed. Furthermore, coating conditions of the coating liquid (support time T 1, the tension Ff 1, the conveying speed Vf 1, and the ratio Vf 1 / Vr 1 of the conveying speed Vf 1 and the peripheral speed Vr 1) and curing condition (ultraviolet illuminance And irradiation time) were changed as shown in Table 1. Except for the above, a functional film including a base film and an antistatic layer as the first functional layer was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The antistatic layer has a surface resistance value of 5.0 × 10 8 Ω / □ measured with a digital super insulation / microammeter (“DSM-8104” manufactured by Hioki Electric Co., Ltd.) in accordance with JIS K6911. A function as a prevention layer can be expected.
［実施例４］
塗工液の塗工条件（支持時間Ｔ１、張力Ｆｆ１、搬送速度Ｖｆ１、及び、搬送速度Ｖｆ１と周速Ｖｒ１との比Ｖｆ１／Ｖｒ１）を、表１に示すように変更した。以上の事項以外は実施例１と同様にして、基材フィルム及び第一機能性層としての光学異方性層を備える機能性フィルムの製造及び評価を行った。光学異方性層は、波長５９０ｎｍでの面内レターデーションが１４５ｎｍであり、λ／４波長板としての機能が期待できる。
[Example 4]
Coating conditions of the coating liquid (support time T 1, the tension Ff 1, the conveying speed Vf 1, and the ratio Vf 1 / Vr 1 of the conveying speed Vf 1 and the peripheral speed Vr 1) a, as shown in Table 1 changed. Except for the above, a functional film including a base film and an optically anisotropic layer as the first functional layer was produced and evaluated in the same manner as in Example 1. The optically anisotropic layer has an in-plane retardation at a wavelength of 590 nm of 145 nm, and can be expected to function as a λ / 4 wavelength plate.
［実施例５］
基材フィルムの代わりに、実施例２で製造された基材フィルム及びハードコート層を備えた機能性フィルムを用いた。また、ラビング処理を行わなかった。さらに、塗工液を、製造例３で製造した反射防止層用の塗工液に変更した。また、塗工液の塗工条件（支持時間Ｔ１、張力Ｆｆ１、搬送速度Ｖｆ１、及び、搬送速度Ｖｆ１と周速Ｖｒ１との比Ｖｆ１／Ｖｒ１）を、表２に示すように変更した。ここで、塗工液は、機能性フィルムのハードコート層側の表面に塗工した。以上の事項以外は実施例１と同様にして、基材フィルム、ハードコート層及び第一機能性層としての反射防止層をこの順で備える機能性フィルムの製造及び評価を行った。
[Example 5]
Instead of the base film, the base film produced in Example 2 and a functional film provided with a hard coat layer were used. Moreover, the rubbing process was not performed. Further, the coating solution was changed to the coating solution for the antireflection layer produced in Production Example 3. Further, the coating conditions of the coating liquid (support time T 1, the tension Ff 1, the conveying speed Vf 1, and the ratio Vf 1 / Vr 1 of the conveying speed Vf 1 and the peripheral speed Vr 1) are shown in Table 2 It was changed as follows. Here, the coating solution was applied to the surface of the functional film on the hard coat layer side. Except for the above, a functional film comprising a base film, a hard coat layer and an antireflection layer as the first functional layer in this order was produced and evaluated in the same manner as in Example 1.
紫外可視近赤外分光光度計（日本分光社製「Ｖ−５７０」）を用いて、入射角５°にて反射防止層側の面の反射スペクトルを測定し、波長４３０ｎｍ〜７００ｎｍにおける反射防止層側の面の反射率を測定した。波長５５０ｎｍにおける反射率は０．４２％（基材フィルム及びハードコート層のみでは１．３０％）、４３０ｎｍ〜７００ｎｍにおける最大反射率は０．９％（基材フィルム及びハードコート層のみでは１．９０％）であり、反射防止層としての機能が期待できる。 Using a UV-Vis near-infrared spectrophotometer (“V-570” manufactured by JASCO Corporation), the reflection spectrum of the surface on the antireflection layer side is measured at an incident angle of 5 °, and the antireflection layer at wavelengths of 430 nm to 700 nm. The reflectance of the side surface was measured. The reflectance at a wavelength of 550 nm is 0.42% (1.30% for the base film and the hard coat layer alone), and the maximum reflectance at 430 nm to 700 nm is 0.9% (1. 90%), and a function as an antireflection layer can be expected.
［実施例６］
基材フィルム３０として、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる長尺の延伸前フィルム（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルムＺＦ１６−１００」、厚み１００μｍ、樹脂のガラス転移温度１６３℃）を用いた。以上の事項以外は実施例２と同様にして、図５に示すように、基材フィルム３０及びハードコート層としての第一機能性層５０（図２参照。）を備える中間フィルム１０を製造した。この中間フィルム１０をロール状に巻き取って、中間フィルムロール１５０を得た。
[Example 6]
As the
図６に示すように、実施例１で用いたのと同様の製造装置のフィルム供給部に、前記の中間フィルムロール１５０を取り付けた。この中間フィルムロール１５０から中間フィルム１０を、搬送速度Ｖｆ２が１０．０ｍ／分で繰り出し、ラビング処理を行うことなく、塗工装置１２０へと供給した。
As shown in FIG. 6, the
塗工装置１２０では、図７に示すように、周方向に回転するバックアップロール２１０の周面２１１で第一機能性層５０の表面５１を支持しながら、中間フィルム１０を搬送した。また、このように第一機能性層５０の表面５１をバックアップロール２１０の周面２１１で支持された中間フィルム１０の基材フィルム３０の第二表面３２に、製造例２で製造したハードコート層用の塗工液４０を塗工して、第二機能性層８０を形成した。この際、中間フィルム１０の第一機能性層５０の表面５１がバックアップロール２１０の周面２１１で支持される支持時間Ｔ２、第一機能性層５０の表面５１をバックアップロール２１０の周面２１１で支持されていたときの中間フィルム１０の搬送方向の張力Ｆｆ２、及び、中間フィルム１０の搬送速度Ｖｆ２とバックアップロール２１０の周速Ｖｒ２との比Ｖｆ２／Ｖｒ２は、それぞれ、表２に示すように、実施例２に係る支持時間Ｔ１、張力Ｆｆ１、及び、搬送速度Ｖｆ１と周速Ｖｒ１との比Ｖｆ１／Ｖｒ１と同様に設定した。また、塗工液４０の塗工は、湿潤膜厚が１０．０μｍとなるように行った。これにより、基材フィルム３０と、基材フィルム３０の第一表面３１に設けられた第一機能性層５０と、基材フィルム３０の第二表面３２に設けられた第二機能性層８０とを備える機能性フィルム６０が得られた。
In the
この機能性フィルム６０を、図６に示すように、オーブン１３０に搬送し、加熱して、第二機能性層８０を乾燥させた。その後、第二機能性層８０に、ＵＶ照射装置１４０から波長３６５ｎｍの紫外線を照射し（紫外線照度２００ｍＷ／ｃｍ２×照射時間１．５秒）、第二機能性層８０を硬化させて、ハードコート層を得た。こうして得られた機能性フィルム６０は、第一機能性層５０としてのハードコート層、基材フィルム３０及び第二機能性層８０としてのハードコート層をこの順に備える長尺の複層フィルムであった。この機能性フィルム６０は、巻き芯１６１に巻き取り、機能性フィルムロール１６０として回収した。第二機能性層８０としてのハードコート層は、表面の鉛筆硬度がＨであり、ハードコート層としての機能が期待できる。
得られた機能性フィルム６０の第一機能性層５０及び第二機能性層８０それぞれの厚みムラの個数密度を測定した。
As shown in FIG. 6, the
The number density of thickness unevenness of each of the first
［実施例７］
基材フィルムを、トリアセチルセルロース樹脂からなる長尺のフィルム（コニカミノルタ社製、厚み８０μｍ、トリアセチルセルロース樹脂のガラス転移温度１０７℃、第二表面の算術平均粗さＲａは０．００５μｍ）に変更した。以上の事項以外は実施例２と同様にして、基材フィルム及び第一機能性層としてのハードコート層を備える機能性フィルムの製造及び評価を行った。基材フィルムの鉛筆硬度がＢであったが、ハードコート層の表面の鉛筆硬度はＨであり、ハードコート層としての機能が期待できる。
[Example 7]
The base film is a long film made of triacetyl cellulose resin (manufactured by Konica Minolta,
［実施例８］
実施例１で用いたのと同様のバックアップロールの周面に、サンドブラスト処理、研削処理及びハードクロムめっき処理をこの順で施すことにより、算術平均粗さＲａが０．１４４μｍの周面を有するバックアップロールを用意した。このように用意したバックアップロールを用いたこと以外は実施例２と同様にして、基材フィルム及び第一機能性層としてのハードコート層を備える機能性フィルムの製造及び評価を行った。基材フィルムの鉛筆硬度が２Ｂであったが、ハードコート層の表面の鉛筆硬度はＨであり、ハードコート層としての機能が期待できる。
[Example 8]
A backup surface having a peripheral surface with an arithmetic average roughness Ra of 0.144 μm by subjecting the peripheral surface of the backup roll similar to that used in Example 1 to sandblasting, grinding, and hard chrome plating in this order. A roll was prepared. A functional film including a base film and a hard coat layer as the first functional layer was produced and evaluated in the same manner as in Example 2 except that the backup roll prepared in this way was used. The pencil hardness of the base film was 2B, but the pencil hardness of the surface of the hard coat layer was H, and a function as a hard coat layer can be expected.
［実施例９］
基材フィルム３０として、脂環式構造含有重合体を含む樹脂からなる長尺の延伸前フィルム（日本ゼオン社製「ゼオノアフィルムＺＦ１４−１００」、厚み１００μｍ、樹脂のガラス転移温度１３６℃）を用いた。また、バックアップロールの周面で第一機能性層の表面を支持しながら、中間フィルムを搬送する際において、中間フィルム１０の搬送速度Ｖｆ２とバックアップロール２１０の周速Ｖｒ２との比Ｖｆ２／Ｖｒ２を表３に示すように変更した。以上の事項以外は実施例６と同様にして、第一機能性層５０としてのハードコート層、基材フィルム３０及び第二機能性層８０としてのハードコート層をこの順に備える機能性フィルムの製造及び評価を行った。第二機能性層８０としてのハードコート層は、表面の鉛筆硬度がＨであり、ハードコート層としての機能が期待できる。
[Example 9]
As the
［比較例１］
塗工液の塗工条件（支持時間Ｔ１及び搬送速度Ｖｆ１）を、表３に示すように変更した。以上の事項以外は実施例１と同様にして、基材フィルム及び第一機能性層としての光学異方性層を備える機能性フィルムの製造及び評価を行った。
[Comparative Example 1]
The coating conditions (support time T 1 and transport speed Vf 1 ) of the coating liquid were changed as shown in Table 3. Except for the above, a functional film including a base film and an optically anisotropic layer as the first functional layer was produced and evaluated in the same manner as in Example 1.
［比較例２］
塗工液の塗工条件（搬送速度Ｖｆ１と周速Ｖｒ１との比Ｖｆ１／Ｖｒ１）を、表３に示すように変更した。以上の事項以外は実施例２と同様にして、基材フィルム及び第一機能性層としてのハードコート層を備える機能性フィルムの製造及び評価を行った。
[Comparative Example 2]
Coating solution coating conditions (ratio Vf 1 / Vr 1 of the conveying speed Vf 1 and the peripheral speed Vr 1), were changed as shown in Table 3. Except for the above, a functional film including a base film and a hard coat layer as the first functional layer was produced and evaluated in the same manner as in Example 2.
［比較例３］
塗工液の塗工条件（支持時間Ｔ１、張力Ｆｆ１、搬送速度Ｖｆ１、及び、搬送速度Ｖｆ１と周速Ｖｒ１との比Ｖｆ１／Ｖｒ１）を、表３に示すように変更した。以上の事項以外は実施例１と同様にして、基材フィルム及び第一機能性層としての光学異方性層を備える機能性フィルムの製造及び評価を行った。
[Comparative Example 3]
Coating conditions of the coating liquid (support time T 1, the tension Ff 1, the conveying speed Vf 1, and the ratio Vf 1 / Vr 1 of the conveying speed Vf 1 and the peripheral speed Vr 1) a, as shown in Table 3 changed. Except for the above, a functional film including a base film and an optically anisotropic layer as the first functional layer was produced and evaluated in the same manner as in Example 1.
［結果］
前記の実施例及び比較例の結果を、下記の表１〜表３に示す。下記の表において、略称の意味は、以下の通りである。
ＺＦ１４：脂環式構造含有重合体を含む、ガラス転移温度１３６℃の樹脂。
ＺＦ１６：脂環式構造含有重合体を含む、ガラス転移温度１６３℃の樹脂。
ＴＡＣ：トリアセチルセルロース樹脂。
表面Ｒａ：基材フィルムの第二表面の算術平均粗さ。
Ｔｇ：基材フィルムに含まれる樹脂のガラス転移温度。
周面Ｒａ：バックアップロールの周面の算術平均粗さ。
Ｔ１：基材フィルムの第二表面がバックアップロールの周面で支持される支持時間。
Ｖｆ１：第二表面をバックアップロールの周面で支持されていたときの基材フィルムの搬送速度。
Ｆｆ１：第二表面をバックアップロールの周面で支持されていたときの基材フィルムの搬送方向の張力。
Ｖｒ１：バックアップロールの周速.
Ｔ２：中間フィルムの第一機能性層の表面がバックアップロールの周面で支持される支持時間。
Ｖｆ２：第一機能性層の表面をバックアップロールの周面で支持されていたときの中間フィルムの搬送速度。
Ｆｆ２：第一機能性層の表面をバックアップロールの周面で支持されていたときの中間フィルムの搬送方向の張力。
Ｖｒ２：バックアップロールの周速。
[result]
The results of Examples and Comparative Examples are shown in Tables 1 to 3 below. In the following table, the meanings of the abbreviations are as follows.
ZF14: a resin having a glass transition temperature of 136 ° C. containing an alicyclic structure-containing polymer.
ZF16: a resin having a glass transition temperature of 163 ° C. containing an alicyclic structure-containing polymer.
TAC: triacetyl cellulose resin.
Surface Ra: arithmetic average roughness of the second surface of the substrate film.
Tg: Glass transition temperature of resin contained in the base film.
Circumferential surface Ra: arithmetic average roughness of the peripheral surface of the backup roll.
T 1 : Support time during which the second surface of the base film is supported by the peripheral surface of the backup roll.
Vf 1 : The conveyance speed of the base film when the second surface is supported by the peripheral surface of the backup roll.
Ff 1 : Tension in the conveyance direction of the base film when the second surface is supported by the peripheral surface of the backup roll.
Vr 1 : Backup roll peripheral speed.
T 2 : Support time during which the surface of the first functional layer of the intermediate film is supported by the peripheral surface of the backup roll.
Vf 2 : The conveyance speed of the intermediate film when the surface of the first functional layer is supported by the peripheral surface of the backup roll.
Ff 2 : Tension in the transport direction of the intermediate film when the surface of the first functional layer is supported by the peripheral surface of the backup roll.
Vr 2 : The peripheral speed of the backup roll.
［検討］
表１〜表３から、条件（ｉ）〜（iii）又は条件（iv）〜（vi）を満たす塗工方法によって塗工液を塗工された場合に、厚みムラの少ない機能性層を形成できることが分かる。また、表１〜表３から、条件（ｉ）〜（iii）又は条件（iv）〜（vi）を満たす塗工方法においては、バックアップロールで支持された状態で搬送される基材フィルム及び中間フィルムを、搬送異常を抑制しながら安定して搬送できていることが分かる。よって、上述した実施例によって、本発明の機能性フィルムの製造方法によれば、搬送異常及び厚みムラを抑制しながら機能性フィルムを製造できることが確認された。
[Consideration]
From Table 1 to Table 3, when the coating liquid is applied by a coating method that satisfies the conditions (i) to (iii) or the conditions (iv) to (vi), a functional layer with little thickness unevenness is formed. I understand that I can do it. Moreover, in Table 1-Table 3, in the coating method which satisfy | fills conditions (i)-(iii) or conditions (iv)-(vi), the base film and intermediate | middle conveyed in the state supported by the backup roll It can be seen that the film can be stably conveyed while suppressing conveyance abnormality. Therefore, according to the above-described example, it was confirmed that according to the method for producing a functional film of the present invention, a functional film can be produced while suppressing conveyance abnormality and thickness unevenness.
１０ 機能性フィルム（中間フィルム）
２０ 機能性フィルムの製造装置
３０ 基材フィルム
３１ 基材フィルムの第一表面
３２ 基材フィルムの第二表面
４０ 塗工液
４１ 液溜まり
５０ 第一機能性層
５１ 第一機能性層の表面
６０ 機能性フィルム
７０ 機能性フィルムの製造装置
８０ 第二機能性層
１１０ 基材フィルムロール
１１１ 巻き芯
１２０ 塗工装置
１３０ オーブン
１４０ ＵＶ照射装置
１５０ 機能性フィルムロール（中間フィルムロール）
１５１ 巻き芯
１６０ 機能性フィルムロール
１６１ 巻き芯
２１０ バックアップロール
２１１ バックアップロールの周面
２２０ 供給ロール
２３０ テンションピックアップロール
３００ コーター
３１０ ダイ
３２０ 流路
３２１ ポケット
３２２ スロット
３３０ 吐出口
３４０ リップ部
３４１ 上流側リップ部
３４２ 下流側リップ部
３４１ａ及び３４２ａ ランド
３５０ 上流側ブロック
３６０ 下流側ブロック
10 Functional film (intermediate film)
DESCRIPTION OF
151 winding
Claims (10)
周方向に回転する第一バックアップロールの周面で、前記基材フィルムの前記第二表面を支持しながら、前記基材フィルムを搬送する工程と、
前記第二表面を前記第一バックアップロールの周面で支持された前記基材フィルムの前記第一表面に、第一塗工液を塗工して、前記第一機能性層を形成する工程と、を含み、
前記基材フィルムの前記第二表面が前記第一バックアップロールの周面で支持される支持時間Ｔ１が、０．５秒≦Ｔ１≦５秒であり、
前記第二表面を前記第一バックアップロールの周面で支持された前記基材フィルムの搬送方向の張力Ｆｆ１が、５０Ｎ／ｍ≦Ｆｆ１≦５００Ｎ／ｍであり、
前記第二表面を前記第一バックアップロールの周面で支持された前記基材フィルムの搬送速度Ｖｆ１と前記第一バックアップロールの周速Ｖｒ１との比Ｖｆ１／Ｖｒ１が、１．００１≦Ｖｆ１／Ｖｒ１≦１．０１０である、機能性フィルムの製造方法。 A method for producing a functional film comprising a long base film having a first surface and a second surface, and a first functional layer provided on the first surface of the base film,
A step of conveying the base film while supporting the second surface of the base film on the peripheral surface of the first backup roll rotating in the circumferential direction;
Applying the first coating liquid to the first surface of the base film supported by the peripheral surface of the first backup roll, and forming the first functional layer; Including,
Support time T 1 to the second surface of the base film is supported by the peripheral surface of the first back-up roll is a 0.5 sec ≦ T 1 ≦ 5 seconds,
The tension Ff 1 in the transport direction of the base film supported on the second surface by the peripheral surface of the first backup roll is 50 N / m ≦ Ff 1 ≦ 500 N / m,
The ratio Vf 1 / Vr 1 between the conveying speed Vf 1 of the base film supported on the peripheral surface of the first backup roll and the peripheral speed Vr 1 of the first backup roll is 1.001. ≦ Vf 1 / Vr 1 ≦ 1.010 A method for producing a functional film.
前記製造方法が、前記第一機能性層に紫外線を照射する工程を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。 The first coating liquid can be cured by ultraviolet rays,
The manufacturing method of the functional film as described in any one of Claims 1-5 in which the said manufacturing method includes the process of irradiating an ultraviolet-ray to said 1st functional layer.
前記基材フィルムの前記第二表面の算術平均粗さが、０．００５μｍ以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。 The arithmetic average roughness of the peripheral surface of the first backup roll is 0.020 μm or less,
The method for producing a functional film according to claim 1, wherein the arithmetic average roughness of the second surface of the base film is 0.005 μm or less.
周方向に回転する第二バックアップロールの周面で、前記第一機能性層の表面を支持しながら、前記機能性フィルムを搬送する工程と、
前記第一機能性層の表面を前記第二バックアップロールの周面で支持された前記機能性フィルムの前記基材フィルムの前記第二表面に、第二塗工液を塗工して、第二機能性層を形成する工程と、を含み、
前記第一機能性層の表面が前記第二バックアップロールの周面で支持される支持時間Ｔ２が、０．５秒≦Ｔ２≦５秒であり、
前記第一機能性層の表面を前記第二バックアップロールの周面で支持された前記機能性フィルムの搬送方向の張力Ｆｆ２が、５０Ｎ／ｍ≦Ｆｆ２≦５００Ｎ／ｍであり、
前記第一機能性層の表面を前記第二バックアップロールの周面で支持された前記機能性フィルムの搬送速度Ｖｆ２と前記第二バックアップロールの周速Ｖｒ２との比Ｖｆ２／Ｖｒ２が、１．００１≦Ｖｆ２／Ｖｒ２≦１．０１０である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の機能性フィルムの製造方法。 After forming the first functional layer on the first surface of the base film and obtaining a functional film comprising the base film and the first functional layer,
The step of conveying the functional film while supporting the surface of the first functional layer on the peripheral surface of the second backup roll rotating in the circumferential direction;
A second coating solution is applied to the second surface of the base film of the functional film supported by the peripheral surface of the second backup roll on the surface of the first functional layer. Forming a functional layer, and
Supporting time T 2 to the surface of the first functional layer is supported by the peripheral surface of the second backup roll is 0.5 sec ≦ T 2 ≦ 5 seconds,
The tension Ff 2 in the transport direction of the functional film supported on the peripheral surface of the second backup roll on the surface of the first functional layer is 50 N / m ≦ Ff 2 ≦ 500 N / m,
The ratio Vf 2 / Vr 2 between the transport speed Vf 2 of the functional film supported on the peripheral surface of the second backup roll and the peripheral speed Vr 2 of the second backup roll is the surface of the first functional layer. The method for producing a functional film according to claim 1, wherein 1.001 ≦ Vf 2 / Vr 2 ≦ 1.010.
前記製造方法が、前記第二機能性層に紫外線を照射する工程を含む、請求項８又は９記載の機能性フィルムの製造方法。 The second coating liquid can be cured by ultraviolet rays,
The method for producing a functional film according to claim 8 or 9, wherein the production method includes a step of irradiating the second functional layer with ultraviolet rays.
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