JP6555868B2 - パターン形成方法、および物品の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の第1実施形態に係るパターン形成方法について説明する。半導体デバイスなどの製造では、一般に、リソグラフィ装置を用いて基板上にパターン層を形成する工程を繰り返し、基板上に複数のパターン層が重ね合される。各パターン層は、リソグラフィ装置によってレジストパターンが設けられた基板に対してエッチングなどの処理を施すことにより形成されうる。近年では、複数のパターン層を基板上に形成する際、複数のリソグラフィ装置を使い、異なる種類のアライメント方式を用いて各パターン層を形成することがある。例えば、原版(マスク)のパターンを投影光学系を介して基板に転写する露光装置(第2リソグラフィ装置)では、マスクと基板とのアライメント方式としてグローバルアライメント方式を用いることが主流となっている。一方で、基板上に供給されたインプリント材を原版(モールド)を用いて成形するインプリント装置(第1リソグラフィ装置)では、モールドと基板とのアライメント方式としてダイバイダイアライメント方式を用いることが主流となっている。
まず、基板上に第1パターン層を形成するためのインプリント装置1の構成について、図2を参照しながら説明する。インプリント装置1は、パターン12およびマーク(アライメントマーク)が形成されたモールド8を用いて、基板上のインプリント材14を成形するインプリント処理を行う。例えば、インプリント装置1は、モールド8を基板上のインプリント材14に接触させた状態でインプリント材14を硬化させる。そして、モールド8と基板10との間隔を広げ、硬化したインプリント材14からモールド8を剥離(離型)することによって、インプリント材14で構成されたパターンを基板上に形成することができる。インプリント材14を硬化する方法には、熱を用いる熱サイクル法と光を用いる光硬化法とがあり、第1実施形態では、光硬化法を採用した例について説明する。光硬化法とは、インプリント材14として未硬化の紫外線硬化樹脂を基板上に供給し、モールド8とインプリント材14とを接触させた状態でインプリント材14に光(紫外線)を照射することにより当該インプリント材14を硬化させる方法である。
次に、複数のマークおよび第2パターン層を基板上に形成するための露光装置30の構成について、図3を参照しながら説明する。図3は、露光装置の構成を示す概略図である。ここでは、原版(マスク40)のパターンを投影光学系33を介して基板上に転写するステップ・アンド・スキャン方式の露光装置(スキャナ)について説明するが、ステップ・アンド・リピート方式の露光装置(ステッパ)を用いてもよい。露光装置30は、例えば、照明光学系31と、マスクステージ32と、投影光学系33と、基板ステージ34と、アライメント計測部35と、制御部36とを含みうる。制御部36は、例えばCPUやメモリなどを有し、露光処理を制御する(露光装置30の各部を制御する)。
次に、本実施形態のパターン形成方法について、図4を参照しながら説明する。図4は、本実施形態に係るパターン形成方法を示すフローチャートである。S1工程では、グローバルアライメント方式を採用したリソグラフィ装置(露光装置)を用いて基板上に複数のマークを形成する。複数のマークを基板上に形成するためのリソグラフィ装置は、上述したように、第2パターン層を基板上に形成するための第2リソグラフィ装置(露光装置30)であってもよい。図5は、露光装置30を用いて基板上に複数のマークを形成する工程を示す図である。この工程では、図5(a)に示すように、例えば、複数のマーク(RX1、RY1)が形成されたマスク40aを用いて、マスク40aに設けられた複数のマーク(RX1、RY1)を、露光装置30によって基板上に転写する処理が繰り返される。これにより、図5(b)に示すように基板上に複数のマーク(rx1、ry1)を形成することができる。このように露光装置30によって基板上に複数のマークを形成することにより、複数の基板間において再現性よく各基板上に複数のマークを配置することができる。
第1実施形態では、インプリント装置1において、複数のパターン12が形成されたモールド8を用いてインプリント処理を行う例(マルチエリアインプリント処理を行う例)について説明した。このように複数のパターン12が形成されたモールド8では、製造誤差などにより、モールド上における各パターン12の形状や向きが異なることがある。その結果、1つのショット領域mpにおける複数の部分領域13aの間で形状や向きが互いに異なってしまうこととなる。この場合、1つのショット領域mpにおける複数の部分領域13aの間でアライメント情報を共通に用いてしまうと、露光装置30によって各部分領域13aにマスク40bのパターン41を精度よく転写することが困難になりうる。そこで、第2実施形態では、第1リソグラフィ装置(インプリント装置1)によって基板上に形成された各ショット領域mpにおける部分領域13aの位置ごとにアライメント情報が求められる。そして、各ショット領域mpに含まれる複数の部分領域13aの各々について、互いに異なるアライメント情報を用いてマスク40bのパターン41の転写が行われる。
第1実施形態では、S1工程において、モールド8に形成された複数のパターン12の各々に対応するように、露光装置30を用いて複数のマークを基板10に形成する例について説明した。しかしながら、S2工程では、モールド8と基板10とのアライメントを行う際、基板上に形成された複数のマークのうち幾つかのマークしか用いない。したがって、スループットを向上させるためには、S2工程においてモールド8と基板10とのアライメント行うために必要な数のマークのみを、S1工程において基板上に形成することが好ましい。そこで、第3実施形態では、S2工程においてモールド8と基板10とのアライメントを行うために必要な数のマークを基板上に形成する例について説明する。
本発明の実施形態にかかる物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等の電子デバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記のパターン形成方法を用いて潜像パターンを形成する工程(基板を露光する工程)と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を加工する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程(酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等)を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも1つにおいて有利である。
Claims (14)
- ダイバイダイアライメント方式を採用する第1リソグラフィ装置と、グローバルアライメント方式を採用する第2リソグラフィ装置とを含む複数のリソグラフィ装置を用いて、基板上に複数のパターン層を重ねて形成するパターン形成方法であって、
複数の基板間におけるアライメントマーク配置の再現性が前記第1リソグラフィ装置より高いリソグラフィ装置を用いて、前記基板上に複数のアライメントマークを形成するマーク形成工程と、
前記第1リソグラフィ装置を用いて、前記複数のアライメントマークを対象としてダイバイダイアライメントを行い、それにより得られた第1アライメント情報に基づいて、前記基板上に最初のパターン層としての第1パターン層を形成する第1層形成工程と、
前記第2リソグラフィ装置を用いて、前記第1層形成工程において前記第1リソグラフィ装置によりパターンがそれぞれ形成された前記第1パターン層の複数のショット領域を対象としてグローバルアライメントを行い、それにより得られた第2アライメント情報に基づいて、前記第1パターン層の上に第2パターン層を重ねて形成する第2層形成工程と、
を含むことを特徴とするパターン形成方法。 - 基板上にパターン層を形成するパターン形成方法であって、
前記基板は、複数のアライメントマークが形成された後、ダイバイダイアライメント方式を採用する第1リソグラフィ装置を用いて前記複数のアライメントマークを対象としてダイバイダイアライメントを行い、それにより得られた第1アライメント情報に基づいて最初のパターン層としての第1パターン層が形成されることによって構成され、
前記パターン形成方法は、グローバルアライメント方式を採用する第2リソグラフィ装置を用いて、前記第1リソグラフィ装置によりパターンがそれぞれ形成された前記第1パターン層の複数のショット領域を対象としてグローバルアライメントを行い、それにより得られた第2アライメント情報に基づいて、前記第1パターン層の上に第2パターン層を重ねて形成する工程を含み、
前記複数のアライメントマークを形成するために使用されるリソグラフィ装置は、複数の基板間におけるアライメントマーク配置の再現性が前記第1リソグラフィ装置より高い、原版のパターンを基板に露光する露光装置であることを特徴とするパターン形成方法。 - 前記複数のアライメントマークは、パターンおよびマークが形成されていない前記基板上に形成される、ことを特徴とする請求項1又は2に記載のパターン形成方法。
- 前記パターン形成方法は、複数の基板の各々にパターン層を形成し、
前記第1アライメント情報は、前記複数の基板の各々について得られ、
前記第2アライメント情報は、前記複数の基板のうちの1つから得られ、前記複数の基板間で共通に用いられる、ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載のパターン形成方法。 - 前記第1パターン層において前記第1リソグラフィ装置によりパターンが形成された前記複数のショット領域の各々は、前記第2パターン層において前記第2リソグラフィ装置によりパターンがそれぞれ形成される複数の部分領域を含み、
前記第2パターン層は、前記複数のショット領域の各々に含まれる前記複数の部分領域の各々に、前記第2リソグラフィ装置によって原版のパターンを転写することで、前記第1パターン層の上に重ねて形成される、ことを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか1項に記載のパターン形成方法。 - 前記複数の部分領域は、第1部分領域および第2部分領域を含み、
前記原版のパターンを前記第1部分領域に転写する際には、前記複数のショット領域についての前記第1部分領域を対象としてグローバルアライメントを行うことにより得られた第2アライメント情報が用いられ、
前記原版のパターンを前記第2部分領域に転写する際には、前記複数のショット領域についての前記第2部分領域を対象としてグローバルアライメントを行うことにより得られた第2アライメント情報が用いられる、ことを特徴とする請求項5に記載のパターン形成方法。 - 前記第2リソグラフィ装置によって前記原版のパターンを前記第1部分領域に転写する処理を前記複数のショット領域に対して行った後、前記第2リソグラフィ装置によって前記原版のパターンを前記第2部分領域に転写する処理を前記複数のショット領域に対して行う、ことを特徴とする請求項6に記載のパターン形成方法。
- 前記複数のアライメントマークは、前記第2リソグラフィ装置を用いて前記基板上に形成される、ことを特徴とする請求項1乃至7のうちいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記第2アライメント情報は、複数の基板において共通に用いられる、ことを特徴とする請求項1乃至8のうちいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記第1パターン層の形成前に前記基板に形成される前記複数のアライメントマークの数は、前記第1リソグラフィ装置により前記第1パターン層に形成されるアライメントマークの数より少ない、ことを特徴とする請求項1乃至9のうちいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記第2リソグラフィ装置は、複数の基板間におけるアライメントマーク配置の再現性が前記第1リソグラフィ装置より高い、ことを特徴とする請求項1乃至10のうちいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記第1リソグラフィ装置は、モールドを用いて基板上のインプリント材を成形するインプリント装置である、ことを特徴とする請求項1乃至11のうちいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 前記第2リソグラフィ装置は、原版のパターンを投影光学系を介して基板に転写する露光装置である、ことを特徴とする請求項1乃至12のうちいずれか1項に記載のパターン形成方法。
- 請求項1乃至13のうちいずれか1項に記載のパターン形成方法を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記工程でパターンを形成された前記基板を加工する工程と、
を含むことを特徴とする物品の製造方法。
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