JP6553471B2 - 電極付き基板の製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、第1の実施形態に係る電極付き基板の一例の平面図である。図2は、図1のII―II線に沿った断面の模式図である。図1及び図2に示した電極付き基板10は、基板12と、電極E1とを備え、例えば、有機ELデバイスに適用される。
0<(R1/R2)≦0.5・・・(1)
を満たす。配線部16の材料は透明電極部14と同じであることから、上記(R1/R2)の関係は、透明電極部14及び配線部16の厚さd1,d2を調整することで実現され得る。配線部16の厚さd2が、透明電極部14の厚さd1の2倍以上であり、2000nm以下であれば、上記関係を満たし得る。
塗布工程では、図3に示したように、透明電極部14(或いは配線部16)の材料を含む塗布液L、すなわち、金属ナノ構造体を含む塗布液Lを、インクジェット印刷法で基板12に塗布し、基板12に塗布膜18を形成する。具体的には、基板12を搬送しながら、インクジェット装置20が有しており基板12の搬送方向に直交する方向に配置された複数のノズル(不図示)から塗布液Lを基板12に塗布して塗布膜18を形成する。図3では、インクジェット装置20を通過前においては、塗布液が塗布されるべきパターンを模式的に示している。
乾燥工程では、塗布工程で形成された塗布膜18を乾燥させ溶媒を除去する。これにより、塗布膜18において、第1塗布膜領域18aから透明電極部14が得られると共に、第2塗布膜領域18bから配線部16が得られ、その結果、電極E1が得られる。乾燥工程における乾燥方法(或いは加熱方法)は限定されないが、例えば、オーブンによる加熱及びホットプレートによる加熱が挙げられる。
図4は、一実施形態に係る有機ELデバイスの一例の概略構成を示す図面である。有機ELデバイス22は、電極付き基板10と、発光層24と、対向電極E2とを備える。電極付き基板10が有する電極E1と、発光層24と、対向電極E2とは、有機EL素子26を構成している。有機EL素子26において、断らない限り、電極E1は陽極として機能し、対向電極E2は陰極として機能する。有機ELデバイス22は、基板12側から光を出射するボトムエミッション型のデバイスである。電極付き基板10については、第1の実施形態と同様の構成であるため、説明を省略する。
a)陽極/発光層/陰極
b)陽極/正孔注入層/発光層/陰極
c)陽極/正孔注入層/発光層/電子注入層/陰極
d)陽極/正孔注入層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
e)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/陰極
f)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極
g)陽極/正孔注入層/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
h)陽極/発光層/電子注入層/陰極
i)陽極/発光層/電子輸送層/電子注入層/陰極
j)陽極/(構造単位A)/電荷発生層/(構造単位A)/陰極
k)陽極/(構造単位B)x/(構造単位A)/陰極
Claims (7)
- 金属ナノ構造体を含む第1塗布液を、基板上に塗布して透明電極部となるべき第1塗布膜領域を形成すると共に、前記第1塗布液と同じ材料を含む第2塗布液を、塗布して配線部となるべき第2塗布膜領域を形成する塗布工程と、
前記第1塗布膜領域及び前記第2塗布膜領域を乾燥することによって、前記配線部及び前記透明電極部を含む電極を得る乾燥工程と、
を備え、
前記塗布工程では、複数の区画を画成する配線部用パターンで前記基板上に前記第2塗布液を塗布することによって、前記配線部用パターンを有する前記第2塗布膜領域を形成すると共に、前記基板上において各前記区画に対応する領域に前記第1塗布液を塗布して、複数の前記第1塗布膜領域を形成し、
前記配線部の表面抵抗値が、前記透明電極部の表面抵抗値より小さくなるように、前記配線部及び前記透明電極部の厚さを制御する、
電極付き基板の製造方法。 - 前記複数の区画のうち隣接する区画の中心を含む平面で前記第2塗布膜領域を切断した場合の断面において、前記第2塗布膜領域の幅は0.5mm以上であるように、前記第2塗布液を前記基板上に塗布する、
請求項1に記載の電極付き基板の製造方法。 - 前記複数の区画のうち隣接する区画の中心を含む平面で前記第2塗布膜領域を切断した場合の断面において、隣接する前記第2塗布膜領域の距離が5mm以上であるように、前記第2塗布液を前記基板上に塗布する、
請求項1又は2に記載の電極付き基板の製造方法。 - 前記配線部の表面抵抗値をR1とし、前記透明電極部の表面抵抗値をR2としたとき、(R1/R2)が0.5以下となるように、前記配線部及び前記透明電極部の厚さを制御する、
請求項1〜3の何れか一項に記載の電極付き基板の製造方法。 - 前記第1塗布膜領域及び前記第2塗布膜領域の厚さと、前記乾燥工程での乾燥時間との少なくとも一方を制御することによって、前記配線部及び前記透明電極部の厚さを制御する、
請求項1〜4の何れか一項に記載の電極付き基板の製造方法。 - 前記透明電極部の厚さは、5nm以上1000nm以下であり、
前記配線部の厚さは、前記透明電極部の厚さの2倍以上であって2000nm以下であるように、前記第1塗布膜領域及び前記第2塗布膜領域の厚さと、前記乾燥工程での乾燥時間との少なくとも一方を制御する、
請求項1〜5の何れか一項に記載の電極付き基板の製造方法。 - 前記第1塗布液及び前記第2塗布液をインクジェット印刷法により前記基板上に塗布する、
請求項1〜6の何れか一項に記載に電極付き基板の製造方法。
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