JP6552138B2 - ミスト発生装置 - Google Patents

Description

本発明は、室内の空気を除菌できるミスト発生装置に関する。

この種のミスト発生装置に関して、本出願人は特許文献１の噴霧器を先に提案している。そこでは、本体ケースの内部にエアーポンプと、同ポンプを駆動するモーターおよび電池と、ミストを生成するノズルユニットなどを設けている。本体ケースには、水または化粧液を収容するタンクが着脱可能に装着してあり、タンク内の液体をノズルユニットの負圧作用で吸い上げてミスト化し、顔肌等に噴霧供給できるようにしている。

特許文献２には美顔器が開示されている。そこでは、本体ケースの内部に冷ミストを生成するスプレー装置と、温ミストを生成するスチーム発生装置を設けている。スプレー装置は、水槽内の水を加圧送給するポンプと、加圧水を噴霧するノズルなどで構成してある。また、スチーム発生装置は、水槽の下面に配置される超音波加湿ユニット（超音波振動子）と、温風を生成するファンおよびヒーターなどで構成してあり、温風の送給路の中途部において、超音波加湿ユニットで生成されたスチームを温風に混入させて、スチーム噴出口からフードカバー内に噴出させている。

特開２０１４−５１７号公報 特開昭５７−３９８４７号公報

本発明の目的は、空気を除菌できるミスト発生装置を提供することにある。

本発明に係るミスト発生装置は、本体ケース１の内部に、ミスト原液をミスト化するミスト発生部２と、ミスト原液を電気分解する陽極電極３５と陰極電極３６が設けられている。ミスト発生部２は、ミスト原液を収容する原液容器８と、原液容器８に配置した超音波振動子１０を含む。原液容器８に収容されるミスト原液に浸漬状態となるように陽極電極３５と陰極電極３６が配設されている。

また、原液容器８の底面に超音波振動子１０が配置されている。超音波振動子１０の真上のミスト生成個所の近傍に陽極電極３５が配設されている。

また、原液容器８の底面に超音波振動子１０が配置されている。超音波振動子１０の真上のミスト生成個所の左右に分離して陽極電極３５と陰極電極３６が配設されている。

また、ミスト発生部２で生成したミストを流動案内するミスト送給路３が設けられている。ミスト送給路３が、送給筒体２０で形成してある。送給筒体２０は、ミスト入口部２１とミスト出口部２２を備えている。陽極電極３５と陰極電極３６がミスト入口部２１の開口端の内径に収まるように配設されている。

本発明に係るミスト発生装置においては、次亜塩素酸含有水を生成し、これをミスト化できるので、ミスト発生装置を設置した周辺空間の空気を除菌することができる。

本発明に係るミスト発生装置の原理構造を示す縦断側面図である。 図５におけるＡ−Ａ線断面図である。 ミスト発生装置の概略を示すブロック図である。 モーター駆動用の整流回路を示す回路図である。 ミスト送給路と加熱部の関係構造を示す縦断側面図である。 冷ミストモード時の各部材の動作を示すタイミングチャートである。 温ミストモード時の各部材の動作を示すタイミングチャートである。 温冷交互モード時の各部材の動作を示すタイミングチャートである。 加熱部の別の実施例を示す横断平面図である。 加熱部のさらに別の実施例を示す横断平面図である。 加熱部のさらに別の実施例を示す縦断側面図である。 図１１におけるＢ−Ｂ線断面図である。 ミスト発生部の別の実施例を示す縦断面図である。 加熱部のさらに別の実施例を示す縦断面図である。 図１４におけるＣ−Ｃ線断面図である。

（実施例） 図１ないし図８は、本発明に係るミスト発生装置の実施例を示す。本発明における前後、左右、上下とは、図１および図２に示す交差矢印と、各矢印の近傍に表記した前後、左右、上下の表示に従う。図１においてミスト発生装置は、中空箱状の本体ケース１を有し、その内部に、ミスト原液をミスト化するミスト発生部２と、ミスト発生部２で生成した冷ミストを流動案内するミスト送給路３と、ミスト送給路３内の冷ミストを加熱して温ミスト化する加熱部４などを配置して構成してある。本体ケース１の上面は前面へ向かって下り傾斜させてあり、その下部にスイッチパネル５が配置してある。

ミスト発生部２は、ミスト原液を収容する原液容器８と、原液容器８にミスト原液を補給するタンク９と、原液容器８の底面に配置した超音波振動子１０などで構成する。原液容器８には、タンク９を装着するための補給口１１と、後述する送給筒体２０を装着するための装着口１２が設けてあり、さらに容器の後面に加圧空気を導入するための空気入口１３が開口してある。タンク９の下端には、原液容器８内の液位を一定にするための液位調整弁１４が設けてあり、タンク９の上端には、補給口を開閉するキャップ１５が装着してある。タンク９は、先に述べたスイッチパネル５を起立操作することにより、原液容器８から取外して本体ケース１の外へ取出すことができる。超音波振動子１０は、円板状の圧電セラミックスを振動源とする市販品であって、高周波の交流電圧を印加することにより、原液容器８内のミスト原液を振動させて微細ミスト化する。超音波振動子１０は、その上面が原液容器８の底面に開口した加振窓１６に臨む状態でタンク底壁に固定してある。符号１７は超音波振動子１０の周囲をシールするシールゴムである。

ミスト送給路３は、前後の分割筒体からなる送給筒体２０で形成してあり、空気入口１３から導入した加圧空気の流動作用で、超音波振動子１０で生成した冷ミストをミスト送給路３に沿って搬送する。送給筒体２０は、下端のミスト入口部２１と上端のミスト出口部２２と、上下方向中途部に設けた加熱チャンバー２３を備えており、ミスト入口部２１からミスト出口部２２に至る空間全体がミスト送給路３として機能する。送給筒体２０を原液容器８の装着口１２に装着固定した状態において、ミスト入口部２１は原液容器８の内部に位置して、超音波振動子１０の真上の液面と正対しており、ミスト出口部２２は本体ケース１の上面の傾斜壁の上部においてケース外面に露出している。つまり、ミスト入口部２１は原液容器８の内部においてミスト発生部２に臨ませてある。

ミスト入口部２１は、加熱チャンバー２３の下部に連続する入口通路２４と、入口通路２４からミスト発生部２へ向かって徐々に拡開するベルマウス状のミスト導入部２５を備えており、ミスト導入部２５の開口端がミスト発生部２の真上に位置している。また、ミスト出口部２２は、加熱チャンバー２３の上部に連続する出口通路２６と、出口通路２６に連続するベルマウス状のミスト放出部２７を備えている。加熱チャンバー２３の周囲壁は丸筒状に形成してあり、その内面の上下に堰止め体２８の一群が設けてある。堰止め体２８は、加熱チャンバー２３を通過する冷ミストと後述する伝熱ブロック３１の接触機会を増加するために設けてある。上記のように、ミスト入口部２１にベルマウス状のミスト導入部２５を形成すると、超音波振動子１０で生成された冷ミストを加圧空気と共にミスト入口部２１に確実に導入して、加熱チャンバー２３へと送給することができる。従って、超音波振動子１０で生成した冷ミストが、原液容器８内に充満して結露し流下するのを解消して、生成した冷ミストの全てを有効に活用できる。

加熱部４には加熱体Ｋが配置してある。加熱体Ｋは、表面全体が防水被膜で覆ってある市販のＰＴＣヒーター（電熱体）３０と、ＰＴＣヒーター３０を前後から挟む前後一対のアルミニウム製の伝熱ブロック３１とを一体化したユニット体からなり、電熱体３０の熱を伝熱ブロック３１で放熱してミスト送給路３内の冷ミストを加熱し温ミスト化する。図２に示すように、ＰＴＣヒーター３０は、丸筒状の加熱チャンバー２３の中央部分に配置してあり、その前後面に伝熱ブロック３１が配置してある。伝熱ブロック３１は、上下に隣接配置したＰＴＣヒーター３０に密着するベース壁３２と、同壁３２から加熱チャンバー２３の内面壁へ向かって平行に突設される７個の伝熱リブ３３とでヒートシンク状に構成してある。加圧空気で搬送された冷ミストは、伝熱リブ３３の間の伝熱通路３４を通過する間に加熱され温ミスト化される。

先に述べた堰止め体２８は、左右に隣接する伝熱リブ３３と係合して伝熱通路３４に突出しており、冷ミストの一部を上下の堰止め体２８で堰止めることにより、冷ミストの流動方向を変え、さらに流動速度を低下させて伝熱リブ３３との接触機会を増す。堰止め体２８は、伝熱ブロック３１を加熱チャンバー２３に固定保持する保持突起を兼ねており、各堰止め体２８が伝熱リブ３３の間に係合して、加熱体Ｋを回止めして安定した状態で支持できる。なお、冷ミストは、伝熱リブ３３およびＰＴＣヒーター３０の表面に接触するときの熱伝導作用で加熱されるのと同時に、伝熱リブ３３およびＰＴＣヒーター３０から放射される輻射熱によっても加熱される。換言すると、冷ミストと加熱体Ｋの伝熱機会や接触時間に関して、冷ミストと加熱体Ｋが直接接触することによる伝熱作用はもちろんのこと、冷ミストと加熱体Ｋが直接接触しない輻射熱による伝熱作用によっても、伝熱機会や接触時間を増加できることとなる。上記のように、加熱部４は、電力により発熱する電熱体３０と電熱体３０の熱を放熱して冷ミストを加熱する伝熱ブロック３１を有する加熱体Ｋと、冷ミストの一部を堰止めて、その流動方向を変える堰止め体２８とで構成されている。

本体ケース１の内部の送給筒体２０の後側には、ミスト搬送用の空気流を生成する送風部３７が設けてある。送風部３７は、本体ケース１の外部空気を吸込んで加圧する送風ファン３８と、送風ファン３８を回転駆動するモーター３９と、送風ファン３８で加圧された空気流を流動案内する空気通路４０などで構成する。空気通路４０は、加圧された空気流を原液容器８へ向かって送給案内する第１通路４１と、加圧された空気流を本体ケース１の外へ向かって送給案内する第２通路４２とを備えており、両通路４１・４２の分岐部分に設けた風洞部４３に送風ファン３７が配置してある。第１通路４１、第２通路４２及び風洞部４３は、２分岐する風洞ケース４０Ａで形成する。つまり空気通路４０は、送風ファン３８及びモーター３９を収容する風洞ケース４０Ａにより形成されている。符号４４は空気通路４０の空気吸込口４３ａに設けられるフィルターである。第１通路４１はエルボ４５を介して空気入口１３と連通しており、空気入口１３から原液容器８内へ吹出された加圧空気は、超音波振動子１０で生成された冷ミストを随伴して、ミスト入口部２１からミスト送給路３内へと流動する。モーター３９は、図４に示す整流回路で整流した直流電流で回転駆動される。整流回路は、商用電源の交流電流を全波整流するダイオードブリッジ４８と、モーター３９と並列接続される雑音防止用のコンデンサー４９と、モーター３９の駆動電流の電圧を低下するドロッパー抵抗５０など構成してある。整流前の交流電流は商用電源に接続した電源コードを介して本体ケース１内へ導入してあり、ドロッパー抵抗５０で降圧したのちダイオードブリッジ４８で整流される。ドロッパー抵抗５０は、圧縮コイルばね状に形成した抵抗線のコイル体からなる。

第２通路４２は、風洞部４３から本体ケース１の上面にわたって形成してあり、その上端に吹出しノズル５３が設けてある。吹出しノズル５３は、第２通路４２の上端の球殻状のソケット５５で傾動可能に軸支される球軸部５６と、上拡がりテーパー状に形成されるノズル筒５７を一体に備えており、ノズル筒５７を傾動操作することにより、ノズル筒５７の開口を第２通路４２の中心軸の回りの任意方向へ指向できるようにしている。第２通路４２の内部には先に述べたドロッパー抵抗５０を配置して、第２通路４２を通過する加圧空気でドロッパー抵抗５０を冷却している。換言すると、第２通路４２を通過する加圧空気を、ドロッパー抵抗５０の熱で加熱して加圧空気の相対湿度を低下させた状態で、ドロッパー抵抗４９より風下側の第２通路の内部に設けたイオン種発生部５４に送給している。

イオン種発生部５４は、筒状に形成されるプラスチック製のホルダー６０と、ホルダー６０の内部中央に配置した針状の放電電極６１と、ホルダー６０の周囲に配置されるリング状の対向電極６２と、両電極６１・６２の間の空間を絶縁する誘電筒６３などで構成してある。放電電極６１は高圧のパルス電流を供給する駆動回路（図示していない）に接続されており、対向電極６２は駆動回路のグランドリードに接続されている。放電電極６１と対向電極６２との間にパルス電流が供給されると、コロナ放電によって放電電極６１から電子が放出される。放出された電子は、空気中の酸素分子と結合してイオン種（負電荷あるいは正電荷を帯びた分子種）となる。このイオン種と水分子が結合したものがイオンであり、吹出しノズル５３からはイオン種とイオンが放出される。吹出しノズル５３の開口をミスト放出部２７に向かって指向させておくと、ミスト放出部２７から放出された温ミストまたは冷ミストにイオン種を接触させて、各ミストをマイナス電位あるいはプラス電位に帯電させることができる。

第１通路４１と第２通路４２の関係において、第２通路４２の通路断面積よりも第１通路４１の通路断面積の方を大きく設定している。これによりイオン種発生部５４側よりもミスト送給路３側により多くの空気を送給することができ、低温度のミストの吹出し量を多くすることができる。ミスト送給路３に空気抵抗が大きい加熱部４を有していた場合にミストの吹出し量が極端に減少しないので上記構成は有用である。

ミスト送給路３を構成するミスト入口部２１と、ミスト出口部２２と、加熱チャンバー２３は、それぞれ次のように構成してある。図５に示すように、加熱部４における加熱体Ｋの通気方向の長さＨを、通気方向と直交する向きの加熱体Ｋの長さＷより大きく設定している。このように、長さＨを長さＷより大きく設定することにより、加熱部４を通過する冷ミストと加熱体Ｋとの接触時間を長引かせて伝熱リブ３３で直接あるいは間接的に加熱して、温度むらのない状態の温ミストを生成することができる。つまり、長さＨが大きく設定してある分だけ、冷ミストとＰＴＣヒーター３０および伝熱ブロック３１の伝熱機会を増加して、均一な温度の温ミストを生成できる。また、ＰＴＣヒーター３０を熱源とするので、ヒーター温度が必要以上に上昇することがなく、温ミストが顔肌等に適用されることを考慮すると、安全性に優れている点で有利である。

図２に示すように、加熱チャンバー２３においてＰＴＣヒーター３０および伝熱ブロック３１が占める仮想空間の断面積Ｓ１（図２の２点鎖線）が、加熱チャンバー２３の断面積Ｓ（図２の１点鎖線）の半分以上を占めるようにして、加熱部４を通過する冷ミストと伝熱ブロック３１の接触機会を増やしている。この実施例では、ＰＴＣヒーター３０および伝熱ブロック３１が占める仮想空間の大きさが、加熱チャンバー２３の断面積Ｓより僅かに小さくなるようにして、熱容量が大きな伝熱ブロック３１による冷ミストの加熱を効果的に行えるようにした。なお、ＰＴＣヒーター３０および伝熱ブロック３１が占める仮想空間とは、ＰＴＣヒーター３０が占める空間と、伝熱ブロック３１が占めるＤ字状の空間の和を意味している。

ミスト入口部２１と加熱チャンバー２３の関係構造に関しては、ミスト入口部２１における入口通路２４の直径寸法Ｄ２を、加熱チャンバー２３の内面の直径寸法Ｄ１より小さくして、入口通路２４の断面積Ｓ２を、加熱チャンバー２３の断面積Ｓより小さく設定した。このように、不等式（Ｓ２＜Ｓ）を満足するように入口通路２４を形成することにより、ミスト入口部２１から加熱チャンバー２３へ流動してきた空気流および冷ミストの流動速度を大きく低下させて、加熱チャンバー２３における滞留時間を長引かせることができる。また、加熱チャンバー２３へ流動してきた空気流および冷ミストを、伝熱リブ３３の先端に比べて温度が高いベース壁３２に沿って流動させることができる。従って、ＰＴＣヒーター３０および伝熱ブロック３１による冷ミストおよび空気流の加熱を効果的に行えるうえ、温度むらのない状態の温ミストを生成できる。

ミスト出口部２２とミスト入口部２１の関係構造に関しては、ミスト出口部２２における出口通路２６の直径寸法Ｄ３を、ミスト入口部２１における入口通路２４の直径寸法Ｄ２より大きく設定して、出口通路２６の断面積Ｓ３を、入口通路２４の断面積Ｓ２より大きく設定した。このように、不等式（Ｓ２＜Ｓ３）を満足するように出口通路２６を形成することにより、加熱チャンバー２３で加熱された直後の温ミストの流動速度を、入口通路２４を通過する冷ミストの流動速度より低下させて、ミスト放出部２７から放出された温ミストが顔肌等に勢いよく吹付けられるのを解消し、ユーザーが熱い思いをしないですむようにしている。

入口通路２４の断面積Ｓ２と、出口通路２６の断面積Ｓ３と、加熱チャンバー２３の断面積Ｓの関係は、不等式（Ｓ２＜Ｓ３＜Ｓ）を満足するように形成してある。このように、出口通路２６の断面積Ｓ３を、入口通路２４の断面積Ｓ２より大きくしながら、加熱チャンバー２３の断面積Ｓより小さくすると、ミスト出口部２２における温ミストの流動速度を、加熱チャンバー２３における冷ミストあるいは温ミストの流動速度より大きくして、温ミストがミスト出口部２２の内面に付着して結露するのを防止できる。

上記のように構成したミスト発生装置は、冷ミストモードと、温ミストモードと、温冷交互モードのいずれかひとつの運転モード作動させることができ、そのために、スイッチパネル５に電源スイッチ６６と、冷ミストスイッチ６７と、温ミストスイッチ６８と、温冷ミストスイッチ６９を設けている。以下に、ミスト発生部２と、加熱部４と、送風部３７と、イオン種発生部５４の作動状況を、個々の運転モードごとに説明する。

（冷ミストモード）
電源スイッチ６６をオン操作したのち、冷ミストスイッチ６７をオン操作して冷ミストモードを選択すると、図６に示すようにイオン種発生部５４が作動して吹出しノズル５３へ向かってイオン種の放出を開始する。また、イオン種発生部５４の作動と同時にミスト発生部２が作動し、原液容器８内のミスト原液に超音波振動子１０の振動を作用させて冷ミストを生成する。さらに、超音波振動子１０が作動して一定時間（０．５秒）が経過すると送風部３７が起動して、加圧空気を原液容器８内へ送給し、同時に第２通路４２内へ送給する。このときの送風ファン３８はモーター３９の出力Ｈｉにより高速度（Ｈｉ状態）で回転駆動されて、温ミストモード時に比べて大量の加圧空気を原液容器８と第２通路４２へ送給する。

原液容器８内で生成された冷ミストは、流動する加圧空気で搬送されて、ミスト導入部２５および入口通路２４を通過して加熱チャンバー２３内へ流動し、冷ミストの状態のままで加熱チャンバー２３を流動して、ミスト出口部２２のミスト放出部２７からケース外へ放出される。放出された冷ミストの霧状塊に顔肌を晒すことにより、顔肌に湿り気を与えて潤いを増すことができる。また、入浴直後の顔肌を冷ミストで冷却することにより、顔肌の火照りを抑えながら、潤いを与えることができる。このとき、第２通路４２にドロッパー抵抗５０を配置して、同抵抗５０を冷却したのちの加熱空気を室内へ放出するので、第１通路４１からミスト発生部２へ送給される加圧空気がドロッパー抵抗５０の熱で加熱されるのを阻止できる。これにより、冷ミストがドロッパー抵抗５０の熱で加熱される場合に比べて、より低い温度の冷ミストをミスト出口部２２から放出して、肌面に対して冷熱刺激を効果的に作用させ、顔肌の火照りを抑えることができる。

第２通路４２側へ送給された加圧空気は、イオン種発生部５４で生成されたイオン種と共に吹出しノズル５３からケース外へ放出されて、空気中に含まれる水分子と結合してイオン化する。このとき、第２通路４２に配置したドロッパー抵抗５０の熱で加熱されたのちの、相対湿度が低い空気がイオン種発生部５４へ送給されるので、放電電極６１と対向電極６２との間の放電に伴うイオン種の生成を活発化できる。吹出しノズル５３の開口を、ミスト放出部２７に向かって指向させておくと、ミスト放出部２７から放出された冷ミストにイオン種を接触させて、冷ミストをマイナス電位またはプラス電位に帯電させることができ、帯電させた冷ミストを顔肌、首筋、および胸元などの肌面に供給できる。

冷ミストスイッチ６７がオン操作されたのち一定時間（１０分）が経過すると、ミスト発生部２の作動を停止して冷ミストの生成を停止する。また、ミスト発生部２が停止したのち一定時間（６０秒）が経過すると、イオン種発生部５４と送風部３７の作動が停止されて、イオン種の生成と加圧空気の送給を停止する。同時に加熱部４が一定時間（６０秒）だけ作動して、ＰＴＣヒーター３０の熱で伝熱ブロック３１を加熱し、伝熱ブロック３１や加熱チャンバー２３の内面に付着している冷ミストや結露を蒸散させて、伝熱ブロック３１や加熱チャンバー２３を乾燥させる。この蒸散の際のＰＴＣヒーター３０の出力は、後述する温ミストモードにおける温ミスト生成状態の出力よりも低下させてミスト送給路３内の過熱状態を防止している。冷ミストスイッチ６７がオン操作されてから、ＰＴＣヒーター３０が作動を停止するまでの時間は１２分であるが、その途中において図６に破線で示すように冷ミストスイッチ６７が再びオン操作された場合には、ミスト発生部２が作動を停止したのち、一定時間が経過してからイオン種発生部５４と送風部３７の作動を停止する。この場合にも、先に説明した時間間隔でミスト発生部２とイオン種発生部５４と送風部３７の作動を停止する。最後にＰＴＣヒーター３０を所定時間だけ低出力で作動させて乾燥処理を行う。上述のように、ミスト発生部２および送風ファン３８の作動を停止したのち、加熱部４を一定時間作動させると、加熱部４の熱でミスト送給路３内のミストを蒸散させて乾燥を促進することができる。従って、ミスト送給路３内にミストが残留するのを解消して雑菌の繁殖を防止でき、ミスト発生装置を衛生的な状態で保管できる。また、ミスト発生部２と送風ファン３８と加熱部４を、記載順に一定時間が経過するごとに作動停止させると、冷ミストの生成を停止したのち、送風ファン３８で加圧空気を送給して、ミスト送給路３内を加熱された空気で予備乾燥できる。さらに、予備乾燥が終了したのちに加熱部４を作動させて、ミスト送給路３内に残留するミストを確実に蒸散させることができる。つまり、使用後の保管準備をミスト発生装置が自ら行うことができるので、ユーザーによる手入れの手間を軽減してミスト発生装置の使い勝手を向上できる。

（温ミストモード）
電源スイッチ６６をオン操作したのち、温ミストスイッチ６８をオン操作して温ミストモードを選択すると、図７に示すようにイオン種発生部５４が作動して吹出しノズル５３へ向かってイオン種の放出を開始し、同時に加熱部４のＰＴＣヒーター３０が作動して伝熱ブロック３１を加熱する。イオン種発生部５４と加熱部４が作動を開始してから、一定時間（５秒）が経過するとミスト発生部２が作動し、原液容器８内のミスト原液に超音波振動子１０の振動を作用させて冷ミストを生成する。さらに、超音波振動子１０が作動して一定時間（０．５秒）が経過すると送風部３７が起動して、加圧空気を原液容器８内へ送給し、同時に第２通路４２内へ送給する。このときのモーター３９の出力がｌｏｗとなり、送風ファン３８は低速度（Ｌｏ状態）で回転駆動されて、冷ミストモード時に比べて低圧で、より少ない量の加圧空気を原液容器８と第２通路４２へ送給する。

図７に示すように、温ミストスイッチ６８のオン操作から送風部３７の送風ファン３８が作動するまでの加熱部４の予備加熱状態のときと、送風ファン３８が作動してから同ファン３８の作動が停止するまでの加熱部４の温ミスト生成状態のときのＰＴＣヒーター３０の出力は同じに設定している。これは、室温とほぼ同じ温度状態にある加熱部４を早期に温めて、温ミストを生成できる状態にするためである。より早く温ミストを生成できる状態にするため、予備加熱状態の出力を温ミスト生成状態のときの加熱部４の出力よりも高く設定することができる。また、送風ファン３８が停止してからの蒸散時の加熱部４の出力は、予備加熱状態や温ミスト生成状態の加熱部４の出力よりも低下させている。これは、すでに高温状態にある加熱部４が送風ファン３８を停止することによって過熱状態となり、それに伴いミスト送給路３など装置内部が過熱状態となるのを防止するためである。したがって装置内部が過熱状態となるのを避けながら加熱部４の熱でミスト送給路３内のミストや水分を蒸散させて乾燥を促進することができ、雑菌の繁殖を防止できる。

上述のように本実施例では、イオン種発生部５４と加熱部４を作動させてから所定時間が経った後に、ミスト発生部２を作動し、ミスト発生部２を作動させてから所定時間が経った後に、送風部３７の送風ファン３８を作動させているので、スイッチ操作されて温ミストモードで使用する際の使用当初、冷ミストが放出されて、ユーザーに不快感を与えてしまうのを確実に防止できる。また、加熱部４とミスト発生部２と送風ファン３８を、記載順に一定時間が経過するごとに作動させると、加熱部４を十分な温度にまで加熱し、冷ミストの生成量が充分な量に達して始めて、加圧空気によって冷ミストをミスト送給路３へ搬送し、加熱部４で加熱できる。つまり、準備作業が全て整った状態で温ミストを的確に生成して、ミスト生成装置の使用開始から温ミストを放出できる。従って、ユーザーは温ミストの放出量や温度状態などをいちいち確認する必要がなく、温ミストが放出されるのと同時に肌面の処理などを行うことができる。本実施例では、イオン種発生部５４と加熱部４を作動させてから所定時間が経った後に、ミスト発生部２を作動し、ミスト発生部２を作動させてから所定時間が経った後に、送風部３７の送風ファン３８を作動させているが、加熱部４を作動させてから所定時間が経った後に、イオン種発生部５４、ミスト発生部２および送風ファン３８の三者を同時に作動するよう制御させることもできる。この場合も、加熱部４が充分に加熱された後に、冷ミストをミスト送給路３に送給できるため、スイッチ操作されて温ミストモードで使用する際の使用当初、冷ミストが放出されて、ユーザーに不快感を与えてしまうのを確実に防止できる。

原液容器８内で生成された冷ミストは、流動する加圧空気で搬送されて、ミスト導入部２５および入口通路２４を通過して加熱チャンバー２３内へ流動する。加熱チャンバー２３内に達した冷ミストは、熱容量の大きな伝熱ブロック３１のベース壁３２や伝熱リブ３３と接触して熱伝導作用によって加熱され、さらに伝熱ブロック３１の輻射熱によって加熱される。冷ミストの一部は、ＰＴＣヒーター３０の熱で直接加熱される。さらに、冷ミストおよび加熱途中の温ミストは、上下の堰止め体２８を迂回しながら流動する間に、ベース壁３２や伝熱リブ３３と接触して加熱される。従って、冷ミストは、加熱チャンバー２３を通過する間に充分に加熱されて温ミスト化し、ミスト出口部２２からケースの外へ放出される。このときの温ミストの温度は４０〜４５℃である。放出された温ミストの霧状塊に顔肌を晒すことにより、顔肌に湿り気を与えながら肌面の潤いを増すことができる。このとき、吹出しノズル５３の開口を、ミスト放出部２７に向かって指向させておくと、ミスト放出部２７から放出された温ミストにイオン種を接触させて、温ミストをマイナス電位またはプラス電位に帯電させることができ、帯電させた温ミストを顔肌、首筋、および胸元などの肌面に供給できる。

図７に示すように、温ミストモード時の送風部３７のモーター３９の出力はｌｏｗとなり、送風ファン３８は低速度で回転駆動される。これにより、冷ミストの移動速度が温モード時に比べて低下することになり、加熱部４を通過する冷ミストの加熱部４への接触時間が長くなる。したがって冷ミストを満遍なく加熱でき、温ミストを温度むらのない状態で均一に生成できる。

温ミストスイッチ６８がオン操作されてから、ＰＴＣヒーター３０が作動を停止するまでの時間は１２分であるが、その途中において図７に破線で示すように温ミストスイッチ６８が再びオン操作された場合には、ミスト発生部２の作動停止と、イオン種発生部５４および送風部３７の作動停止とが、冷ミストモード時と同じ時間間隔で行われ、さらに一定時間が経過するまでの間ＰＴＣヒーター３０を作動させて乾燥処理を行う。

（温冷交互モード）
電源スイッチ６６をオン操作したのち、温冷スイッチ６９をオン操作して温冷交互モードを選択すると、図８に示すようにイオン種発生部５４が作動して吹出しノズル５３へ向かってイオン種の放出を開始し、同時に加熱部４のＰＴＣヒーター３０が作動して伝熱ブロック３１を加熱する。イオン種発生部５４と加熱部４が作動を開始してから、一定時間（５秒）が経過するとミスト発生部２が作動し、原液容器８内のミスト原液に超音波振動子１０の振動を作用させて冷ミストを生成する。さらに、超音波振動子１０が作動して一定時間（０．５秒）が経過すると送風部３７が起動して、加圧空気を原液容器８内へ送給し、同時に第２通路４２内へ送給する。このときの送風ファン３８は低速度（Ｌｏ状態）で回転駆動される。この状態では、冷ミストがＰＴＣヒーター３０および伝熱ブロック３１で加熱されるので、加熱された温ミストがミスト出口部２２からケースの外へ放出される。

送風部３７が起動して２分が経過すると、ＰＴＣヒーター３０の作動が停止され、同時に送風ファン３８を高速度（Ｈｉ状態）で回転駆動して、大量の加圧空気を原液容器８と第２通路４２へ送給する。従って、ミスト出口部２２から放出されるミストは冷ミストとなる。冷ミストの供給は、ＰＴＣヒーター３０が作動を停止してから１分間連続して行われ、1分が経過すると、再びＰＴＣヒーター３０が作動して伝熱ブロック３１を加熱し、同時に送風ファン３８を低速度（Ｌｏ状態）で回転駆動して、温ミストを生成しミスト出口部２２から放出する。以後、温ミストの生成を２分、冷ミストの生成を１分ずつ交互に行って、温ミストの生成が４回目に達した時点で、ミスト発生部２の作動停止と、イオン種発生部５４および送風部３７の作動停止とを、冷ミストモード時と同じ時間間隔で行う。さらに、最後の温ミスト生成に連続して、ＰＴＣヒーター３０を作動させた状態のままにして、伝熱ブロック３１や加熱チャンバー２３の乾燥処理を行って、合計１２分間の温冷交互モードを終了する。このように、温冷交互モードにおいては、ＰＴＣヒーター３０の通電状態を所定の時間間隔でオン・オフし、さらに送風ファン３８の回転速度を所定の時間間隔で増減して、温ミストと冷ミストを交互に供給する。なお必要があれば、冷ミストの生成を最初に行ってもよい。

以上のように構成した、ミスト発生装置によれば、加熱チャンバー２３に設けたＰＴＣヒーター３０を熱源にして、熱容量が大きな伝熱ブロック３１で冷ミストと加圧空気の混合気を加熱するので、常温の冷ミストはもちろん、充分に加温された温ミストを確実に生成できる。また、加圧空気を冷ミストの搬送媒体にして、これら両者が加熱チャンバー２３を通過する間に、ＰＴＣヒーター３０および伝熱ブロック３１で冷ミストと加圧空気の混合気を強制的に加熱するので、従来装置とは異なり、均一な温度状態の温ミストを生成し放出できる。

また、冷ミストの生成時と温ミストの生成時のいずれの場合にも、ミスト発生部２とミスト送給路３を共通して使用し、温ミストの生成時に限ってミスト送給路３に設けた加熱部４を作動させるので、従来装置に比べて、ミスト発生装置の全体構造を簡素化してその製造コストを削減できる。温ミストは煮沸方式、つまりミスト原液を電熱で加熱して生成することができるが、その場合には、突沸現象によって湯玉や煮沸飛沫が生成され、水蒸気圧で煮沸飛沫がミスト放出部から放出されるおそれがあり安全上問題がある。また、ミスト原液が充分に加熱されて水蒸気が生成されるまでに長い時間を要するため、ミスト発生までのレスポンスが遅い傾向がある。しかし、超音波振動子１０で冷ミストを生成する場合には、超音波振動子１０が作動すると短時間のうちに冷ミストを生成し、さらに熱容量が小さな冷ミストを、熱容量が大きく熱伝導性に優れたアルミニウム製の伝熱ブロック３１で加熱するので、温ミストを迅速にレスポンスよく生成できる。冷ミストの生成時に、湯玉や煮沸飛沫が生成されることもないので、ミスト原液を電熱で加熱して温ミストを生成する場合に比べて、安全性を格段に向上できる。

ＰＴＣヒーター３０の出力を調整することにより、冷ミストを加熱するときの熱量を加減できるので、温ミストの温度を必要に応じて自由に変更することができる。また、超音波振動子１０の出力状態を変更することにより、冷ミストの生成量を変更することができる。さらに、超音波振動子１０や遠心霧化方式で生成した冷ミストの粒径は、煮沸方式で生成した温ミストの粒径より小さくて熱容量が小さいので、加熱部４による冷ミストの加熱を速やかに行って、温ミストを迅速に生成できる。ＰＴＣヒーター３０、モーター３９、および超音波振動子１０などの電装品を作動させるには、３０〜５０Ｗの電力を出力できる電源部が必要になるが、電源部を外付構造としておくことにより、本体ケース１が肥大化するのを避けてコンパクト化できる。

図１に示すように、水道水（ミスト原液）に陽極電極３５と陰極電極３６を浸漬させておき、両電極３５・３６に１０〜２０ボルトの電圧を印加すると、電気分解作用によって中性域の塩素系電解水（次亜塩素酸含有水）が生成される。このとき、次亜塩素酸は陽極電極３５の側で生成されるため、同電極３５の付近に濃度の濃い次亜塩素酸含有水が多く存在する。そこで、陽極電極３５と陰極電極３６を超音波振動子１０の真上の左右に分離配置し、陽極電極３５をミスト生成個所に近接配置することにより、濃度の濃い次亜塩素酸含有水をミスト化して、制菌効果の高いミストを生成できる。さらに具体的には、図１に示すように陽極電極３５と陰極電極３６を、超音波振動子１０の真上以外の位置であり、かつ、ミスト入口部２１の軸方向（上下方向）の投影視においてミスト入口部２５の内径に収まるように配設している。なお、図１では、超音波振動子１０の縁の部分の上方において陽極電極３５および陰極電極３６の一部がオーバーラップしているが、実際は、ミスト原液が盛り上がってミストを生成するミスト生成部が、超音波振動子１０の縁の部分の上方には無いのでミスト生成において特に問題はない。また、得られた塩素系電解水は制菌作用があるので、タンク内の制菌が可能となる。さらに、塩素系電解水をミスト化して、ミスト放出部２７から放出することにより、ミスト装置が設置された周辺空間の空気の制菌を行うことができる。

図１〜図８に係る実施例では、堰止め体２８を加熱チャンバー２３の内面からチャンバー中央へ向かって一体に突設して、堰止め体２８が通気方向と直交する向きの板状体として形成されるようにした。しかし、堰止め体２８は通気方向と直交している必要はなく、冷ミストを堰止めてその流動方向を変えられる構造であれば、大きな角度（例えば４５度）で傾斜する構造であってもよい。つまり、板状の堰止め体２８は通気方向と交差する向きに配設してあればよい。また、堰止め体２８は加熱チャンバー２３と一体に設ける必要はなく、別体の独立部品として形成してあってもよい。さらに、堰止め体２８は伝熱リブ３３と一体に形成してあってもよい。加熱チャンバー２３の内壁寄りに堰止め体２８が配置してあると、電熱体３０から遠い部分を通過する冷ミストを、加熱チャンバー２３の中央に配置した電熱体３０へ向かって流動案内して、効果的に加熱することができる。

上記の実施例では、加熱チャンバー２３においてＰＴＣヒーター３０および伝熱ブロック３１が占める仮想空間の断面積Ｓ１が、加熱チャンバー２３の断面積Ｓより僅かに小さくなるようにしたがその必要はなく、断面積Ｓ１は断面積Ｓの２分の１以上であれば足りる。例えば図９に示すように、ＰＴＣヒーター３０の片面にのみ１個の伝熱ブロック３１を配置する場合には、ＰＴＣヒーター３０が占める空間と、伝熱ブロック３１が占めるＤ字状の空間の合計の断面積Ｓ１（図９の２点鎖線）が、加熱チャンバー２３の断面積Ｓ（図９の１点鎖線）の２分の１以上あればよい。

また、図１０に示すように、先の実施例で説明したＰＴＣヒーター３０および伝熱ブロック３１より、ひとまわり小さなＰＴＣヒーター３０および伝熱ブロック３１で熱源を構成する場合には、伝熱ブロック３１が占める２個のＤ字状の空間と、ＰＴＣヒーター３０が占める仮想空間の断面積Ｓ１（図１０の２点鎖線）が、加熱チャンバー２３の断面積Ｓ（図１０の１点鎖線）の２分の１以上あればよい。なお、ＰＴＣヒーター３０および伝熱ブロック３１が占める仮想空間の断面積Ｓ１が、加熱チャンバー２３の断面積Ｓの半分未満であると、加熱チャンバー２３を通過する冷ミストを充分に加熱するのが困難になる。また、温ミストの加熱温度を充分なものとするために、加熱チャンバー２３の通風方向の長さを大きくすると、ミスト発生装置が大形化するのを避けられない。他は先の実施例と同じであるので、同じ部材に同じ符号を付してその説明を省略する。以下の実施例においても同じとする。

図１１および図１２は、加熱部のさらに別の実施例を示す。そこでは、２枚の絶縁板７２を十文字状に組み、各絶縁板７２に段違い状に形成した巻回溝７３に沿って、電熱体３０をらせん状に配置した。また、この実施例では、堰止め体２８をらせん状に形成し、さらに交差する絶縁板７２の中央部に円板状の堰止め体２９を多段状に配置して、冷ミストと電熱体３０の接触機会を向上できるようにした。この場合の電熱体３０は、ヒーター線（ニクロム線）の外面に絶縁性のシリコン被膜を施して防水機能が付加してあるので、隣接するヒーターコイルがミストによって短絡することはない。この実施例において加熱部４に設けた加熱体Ｋは、十文字状に組んだ絶縁板７２と、絶縁板７２の周囲に巻付けた電熱体（ヒーター線）３０とからなる。この実施例においては、加熱部４における加熱体Ｋの通気方向の長さＨを、通気方向と直交する向きの加熱体Ｋの長さＷより大きく設定するので、加熱チャンバー２３を通過する冷ミストを電熱体３０で加熱して、充分な温度状態の温ミストを確実に生成できる。また、加熱体Ｋが占める仮想空間の断面積Ｓ１（図１２の２点鎖線）は、加熱チャンバー２３の断面積Ｓ（図１２の１点鎖線）とほぼ同じにした。上記のように、この実施例における加熱部４は、電力により発熱するヒーター線からなる電熱体３０と電熱体３０が巻装される絶縁板７２とを有する加熱体Ｋと、冷ミストの一部を堰止めて、その流動方向を変える堰止め体２８とで構成されている。

図１３は、ミスト発生部の別の実施例を示す。そこでは、超音波振動の代わりに遠心霧化構造を使用して、冷ミストを生成するようにした。遠心霧化構造は、ミスト原液に浸漬される円錐状の揚水体７６と、揚水体７６の上端に固定される回転基板７７と、回転基板７７の下面の径方向へ多重に配置してある一群の衝突壁７８と、回転基板７７を回転駆動するモーター７９などで構成した。モーター７９が起動すると、揚水体７６と回転基板７７が回転駆動され、ミスト原液が遠心力の作用で浸漬部から揚水体７６の表面に沿って這い上がり、回転基板７７の下面へと流動する。回転基板７７に到達したミスト原液は、そこでも遠心力を受けて径方向へ跳ね飛ばされ、回転基板７７の下面の衝突壁７８に繰返し衝突して微細された冷ミストとなる。生成された冷ミストは、原液容器８内に送給された加圧空気で加熱チャンバー２３へ搬送される。

以上のように構成した遠心霧化構造によれば、モーター７９の駆動回転数を大小に変更することで、揚水体７６から回転基板７７へ向かって流動するミスト原液の量を変化させて、生成できる冷ミスト量を増減できる。従って、例えば冷ミストモード時にはより大量の冷ミストを生成し、温ミストモード時には冷ミストの生成量を幾分抑えるように設定することができる。

図１４および図１５は、加熱部のさらに別の実施例を示す。そこでは、ペルチェ素子（熱電変換素子）で電熱体３０を構成し、その前後面のそれぞれにアルミニウム製の伝熱ブロック３１を固定して加熱体Ｋを構成した。一対の伝熱ブロック３１のうち、片方の伝熱ブロック３１は加熱チャンバー２３内に収容し、他方の伝熱ブロック３１は送給筒体２０の外に露出してある。符号８２は電熱体３０用のホルダーであり、送給筒体２０の筒壁に固定してある。

温ミストを生成する場合には、電熱体３０に駆動電流を供給して、その放熱面側に固定した伝熱ブロック３１に伝導した熱で、加熱チャンバー２３を通過する冷ミストを加熱し温ミスト化する。このとき、送給筒体２０の外の吸熱面側の伝熱ブロック３１は冷熱を放出する。また、冷ミスト生成する場合には、電熱体３０に逆極性の駆動電流を供給して、加熱チャンバー２３の側を吸熱面にして、吸熱面の冷熱を加熱チャンバー２３内の伝熱ブロック３１に伝導する。冷却された伝熱ブロック３１は、加熱チャンバー２３内の冷ミストを強制的に冷却して、室温以下の温度にすることができる。なお、冷ミストの温度を室温以下の温度にする必要がない場合には、電熱体３０への通電を停止するとよい。

この実施例においては、加熱体Ｋが占める仮想空間の断面積Ｓ１（図１５の２点鎖線）を、加熱チャンバー２３の断面積Ｓ（図１５の１点鎖線）とほぼ同じにした。また、入口通路２４の断面積Ｓ２と、出口通路２６の断面積Ｓ３と、加熱チャンバー２３の断面積Ｓは、等式（Ｓ２＝Ｓ３＝Ｓ）を満足するように形成した。なお、送給筒体２０の外に配置した伝熱ブロック３１は省略することができる。その場合には、電熱体３０に通電した場合に、加熱チャンバー２３内の伝熱ブロック３１を加熱して温ミストを生成し、電熱体３０への通電を停止した場合に冷ミストを送給できるようにする。

上記の実施例以外に、送給筒体２０は、断面円形の円筒状に形成する以外に、四角筒や楕円筒などで構成してあってもよい。ミスト導入部２５はベルマウス構造である必要はなく、ミスト発生部２へ向かって拡開するテーパー筒状や漏斗状であってもよい。必要があれば、換気フード状に構成してあってもよく、要は冷ミストを入口通路２４へ向かって集約し案内できる構造であればよい。伝熱ブロック３１はヒートシンク状に形成する必要はなく、例えば丸筒の内部が蜂の巣状に形成してあるブロックで形成することができ、その場合には、丸筒の周面の複数個所にＰＴＣヒーター３０を配置し、あるいは丸筒の周面にヒーター線をらせん状に巻付けて加熱部４とすることができる。図２で説明した伝熱リブ３３は垂直に形成する以外に、スパイラル上に傾斜させることができる。その場合には、伝熱リブ３３の表面積を増加して、冷ミストと加熱体Ｋの接触機会と接触時間をさらに増加することができる。

上記実施例のミスト発生装置は以下の態様で実施することができる。
本体ケース１の内部に、ミスト原液をミスト化するミスト発生部２と、ミスト発生部２で生成した冷ミストを流動案内するミスト送給路３が設けられており、
ミスト送給路３は、ミスト発生部２と対向するミスト入口部２１から、本体ケース１の外面に臨むミスト出口部２２にわたって形成されており、
ミスト送給路３に、冷ミストを加熱する加熱部４が設けてあることを特徴とするミスト発生装置。
このように、ミスト送給路３に加熱部４を設けて、ミスト送給路３内の冷ミストを加熱部４で直接加熱するので、熱容量が小さな加熱空気で微細ミスト化された熱容量が大きなスチームを加熱する従来装置に比べて、冷ミストの加熱を確実に行って、温ミストを効果的に生成できる。従って、冷ミストと温ミストを、それぞれ効果的に生成できるミスト発生装置を提供できる。また、冷ミストの生成時と温ミストの生成時のいずれの場合にも、ミスト発生部２とミスト送給路３を共通して使用し、温ミストの生成時に限ってミスト送給路３に設けた加熱部４を作動させるので、スプレー装置とスチーム発生装置を個別に設ける必要があった従来装置に比べて、ミスト発生装置の全体構造を簡素化してその製造コストを削減できる。全体構造が簡素化される分だけミスト発生装置を小形化できる利点もある。

上記態様において、
加熱部４が、電熱体３０を含む加熱体Ｋを備えており、
ミスト送給路３には、加熱体Ｋを収容する加熱チャンバー２３が設けられており、
加熱チャンバー２３において加熱体Ｋが占める仮想空間の断面積Ｓ１が、加熱チャンバー２３の断面積Ｓの半分以上を占めているミスト発生装置。
このように、電熱体３０を含む加熱体Ｋを備える加熱部４によれば、ミスト送給路３内の冷ミストを短時間で加熱できる。また、加熱チャンバー２３において、加熱体Ｋが占める仮想空間の断面積Ｓ１が、加熱チャンバー２３の断面積Ｓの半分以上を占める構造とすることにより、冷ミストと加熱体Ｋとの伝熱機会をさらに拡大して、温ミストを温度むらのない状態で均一に生成できる。

上記態様において、
加熱部４における加熱体Ｋの通気方向の長さＨが、前記通気方向と直交する向きの加熱体Ｋの長さＷより大きく設定してあるミスト発生装置。
このように、加熱体Ｋの通気方向の長さＨを、通気方向と直交する向きの加熱体Ｋの長さＷより大きく設定すると、長さＨが大きく設定してある分だけ、加熱部４を通過する冷ミストと加熱体Ｋとの接触時間を長引かせて、冷ミストと加熱体Ｋの伝熱機会を増加でき、均一な温度の温ミストをさらに確実に生成できる。

上記態様において、
加熱チャンバー２３の内面に、冷ミストの流動方向を変える堰止め体２８が設けられており、
加熱チャンバー２３を通過する冷ミストを堰止め体２８で受止めて、冷ミストと加熱体Ｋの接触機会を増加しているミスト発生装置。
このように、加熱チャンバー２３の内面に冷ミストの流動方向を変える堰止め体２８を設けると、加熱体Ｋを通過する冷ミストの一部を堰止め体２８で堰止めて、冷ミストおよび加熱途中の温ミストの流動方向を変え、さらに流動速度を低下させて加熱体Ｋとの伝熱機会を増やすことができる。従って、加熱部４を通過する冷ミストの加熱をさらに確実に行って、温度むらのない状態の温ミストを的確に生成できる。

上記態様において、
ミスト送給路３のミスト入口部２１における入口通路２４の断面積Ｓ２が、加熱チャンバー２３の断面積Ｓより小さく設定してあるミスト発生装置。
このように、入口通路２４の断面積Ｓ２を、加熱チャンバー２３の断面積Ｓより小さく設定すると、入口通路２４から加熱チャンバー２３へ流動してきた空気流および冷ミストの流動速度を大きく低下させることができる。また、加熱チャンバー２３へ流動してきた空気流および冷ミストを、加熱体Ｋの中央寄りに沿って流動させて、加熱体Ｋによる冷ミストおよび空気流の加熱を効果的に行えるうえ、温度むらのない状態の温ミストを生成できる。

上記態様において、
ミスト送給路３のミスト出口部２２における出口通路２２の断面積Ｓ３が、ミスト入口部２１における入口通路２４の断面積Ｓ２より大きく設定してあるミスト発生装置。
このように、ミスト出口部２２の出口通路２２の断面積Ｓ３を、ミスト入口部２１における入口通路２４の断面積Ｓ２より大きく設定すると、加熱チャンバー２３で加熱された直後の温ミストの流動速度を、入口通路２４を通過する冷ミストの流動速度より低下させることができる。従って、ミスト出口部２２から放出された温ミストの空気中における貫通度を緩和して、ミスト出口部２２から放出された温ミストが顔肌等に勢いよく吹付けられるのを解消でき、放出された温ミストに触れたユーザーが熱い思いをするのを解消できる。

上記態様において、
ミスト入口部２１における入口通路２４の断面積Ｓ２と、ミスト出口部２２における出口通路２６の断面積Ｓ３と、加熱チャンバー２３の断面積Ｓの３者が、不等式（Ｓ２＜Ｓ３＜Ｓ）を満足するように設定してあるミスト発生装置。
このように、入口通路２４の断面積Ｓ２と、出口通路２６の断面積Ｓ３と、加熱チャンバー２３の断面積Ｓの３者の関係は、不等式（Ｓ２＜Ｓ３＜Ｓ）を満足するように設定すると、ミスト出口部２２における温ミストの流動速度を、ミスト入口部２１の流動速度より小さくしながら、加熱チャンバー２３における冷ミストあるいは温ミストの流動速度より大きくして、温ミストがミスト出口部２２の内面に付着して結露するのを防止できる。従って、加熱チャンバー２３において生成した温ミストの殆どを、本体ケース１の外へ有効に放出できる。

上記態様において、
ミスト入口部２１に、入口通路２４からミスト発生部２へ向かって徐々に拡開するミスト導入部２５が形成してあるミスト発生装置。
このように、ミスト入口部２１に拡開状のミスト導入部２５を形成すると、ミスト発生部２で生成した冷ミストを、ミスト導入部２５で流動案内し集約したのち、ミスト導入部２５に連続する入口通路２４から加熱チャンバー２３へと送給することができる。このとき、入口通路２４を通過した冷ミストは、加熱体Ｋの中央寄りに向かって流動するので、加熱チャンバー２３における冷ミストの加熱をさらに的確に行える。

上記実施例では、冷ミストモード時の風量と温ミストモード時の風量を異ならせるのに、送風ファン３８の回転速度を可変することにより行ったが、これに限らず、送給筒体２０もしくは風洞ケース４０Ａに、通路面積を調整できるバルブとバルブを駆動するモーター等の駆動部とを設け、温ミストモード時は、通路面積を絞り、冷ミストモード時は、通路面積を拡大して、冷ミストモード時の風量と温ミストモード時の風量を大小異ならせることができる。なお、この実施例では、温ミストモード時と冷ミストモード時の送風ファン３８の回転速度は同じに設定する。

冷ミストは常温のものに限らず、加温された温ミストよりも低くければ、冷ミストの概念に含むものとする。例えば、体感的に温かくても冷ミストに含まれる。つまり加熱部４の電熱源３０を完全にオフせず制限して温ミストよりも低い温度に温められた冷ミストも冷ミストの概念に含むものとする。また、加熱部４の電熱源３０を完全にオフしたうえで、別途、ミスト送給路３内に設けられたペルチェ素子（熱電変換素子）により、常温より低い温度まで冷やした冷ミストも冷ミストの概念に含むものとする。

上記実施例では、ミスト送給路３を、前後の分割筒体からなる送給筒体２０で形成し、送給筒体２０の後側の空気通路４０は、送風ファン３８及びモーター３９を収容する風洞ケース４０Ａで形成されるが、送給筒体２０及び風洞ケース４０Ａを一体で形成した連続筒状の送給体で構成することができる。この連続筒状の送給体の内部に、加熱部４、ミスト発生部２、モーター３９及び送風ファン３８をミスト出口部２２から外気取り入れ部（風洞部４３）にかけて記載順に配置した形態を採用することもできる。この場合、ミスト発生部２は、超音波素子とタンクをユニット化し、これを送給体の側部から着脱可能に装着するものとする。

１ 本体ケース
２ ミスト発生部
３ ミスト送給路
４ 加熱部
８ 原液容器
１０ 超音波振動子
２０ 送給筒体
２１ ミスト入口部
２２ ミスト出口部
２３ 加熱チャンバー
２４ 入口通路
２６ 出口通路
２８ 堰止め体
３０ ＰＴＣヒーター（電熱源）
３１ 伝熱ブロック
３７ 送風部
３８ 送風ファン
３９ モーター
５０ ドロッパー抵抗
５４ イオン種発生部
Ｋ 加熱体

Claims (2)

1. 本体ケース（１）の内部に、ミスト原液をミスト化するミスト発生部（２）と、ミスト原液を電気分解する陽極電極（３５）と陰極電極（３６）が設けられており、
   ミスト発生部（２）は、ミスト原液を収容する原液容器（８）と、原液容器（８）に配置した超音波振動子（１０）を含み、
   原液容器（８）に収容されるミスト原液に浸漬状態となるように陽極電極（３５）と陰極電極（３６）が配設されており、
   原液容器（８）の底面に超音波振動子（１０）が配置されており、
   超音波振動子（１０）の真上のミスト生成個所の左右に分離し、かつ上記ミスト生成個所に寄せた位置に陽極電極（３５）と陰極電極（３６）が配設されていることを特徴とするミスト発生装置。
2. ミスト発生部（２）で生成したミストを流動案内するミスト送給路（３）が設けられており、
   ミスト送給路（３）が、送給筒体（２０）で形成してあり、
   送給筒体（２０）は、ミスト入口部（２１）とミスト出口部（２２）を備えており、
   陽極電極（３５）と陰極電極（３６）がミスト入口部（２１）の開口端の内径に収まるように配設されていることを特徴とする請求項１に記載のミスト発生装置。

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