JP6523511B1 - ファイバレーザ装置、ファイバレーザ装置の製造方法、及び、設定方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減する。【解決手段】ファイバレーザ装置(FL)に、10(2×g1×L1−am)/10+10(2×g1×L1+2×g2×L2−2×at−ar)/10<10(2×g1×L1−2×g2×L2−ar)を満たすように、ラマン散乱光の一部を反射するラマンフィルタ(RF)を設ける。【選択図】図1

Description

本発明は、ファイバレーザ装置に関する。また、ファイバレーザ装置の製造方法に関する。また、ファイバレーザ装置において、加工可能な加工対象物の反射減衰量を設定する設定方法に関する。
材料加工の分野では、メンテナンス性及び加工性に優れたレーザ加工機として、ファイバレーザ装置が注目を集めている。しかしながら、ファイバレーザ装置においては、光ファイバを導波されるレーザ光のパワー密度が高くなると、誘導ラマン散乱などの非線形光学効果が生じ易くなる。そして、誘導ラマン散乱により生じるラマン散乱光のパワーが高くなると、ファイバレーザ装置におけるレーザ発振が不安定になることが知られている(特許文献1参照)。
特開2015−95641号公報
しかしながら、従来のファイバレーザ装置においては、ラマン散乱光のパワーの増大を更に抑え、レーザ光の発振が不安定化する可能性を更に低減する余地が残されていた。
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであり、(1)ファイバレーザ装置において、ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減すること、(2)ファイバレーザ装置においてラマン散乱光のパワーの増大を抑え、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減したファイバレーザ装置を製造すること、又は、(3)ファイバレーザ装置においてラマン散乱光のパワーの増大を抑え、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減したファイバレーザ装置を実現することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明の一態様に係るファイバレーザ装置は、増幅用ファイバと、上記増幅用ファイバから出力されたレーザ光を導波するデリバリファイバと、を備えたファイバレーザ装置であって、下記不等式(a)を満たすように、上記レーザ光に引き起こされる誘導ラマン散乱により生じるラマン散乱光の一部を反射するラマンフィルタが設けられている。
Figure 0006523511
ここで、L1は、上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側と反対側の端部から上記ラマンフィルタまでの光路の長さであり、g1は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、L2は、上記ラマンフィルタから上記デリバリファイバの端部のうち上記増幅用ファイバ側と反対側の端部までの光路の長さであり、g2は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、amは、上記ラマンフィルタの反射減衰量であり、atは、上記ラマンフィルタの透過減衰量であり、arは、上記ファイバレーザ装置により加工可能な加工対象物の反射減衰量である。
本発明の一態様に係るファイバレーザ装置においては、上記不等式(a)に代えて、下記不等式(b)を満たすように、上記ラマンフィルタが設けられている。
Figure 0006523511
本発明の一態様に係るファイバレーザ装置においては、上記不等式(a)に代えて、下記不等式(c)を満たすように、上記ラマンフィルタが設けられている。
Figure 0006523511
ここで、Lは、上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側と反対側の端部から上記デリバリファイバの端部のうち上記増幅用ファイバ側と反対側の端部までの光路の長さである。
本発明の一態様に係るファイバレーザ装置においては、更に下記不等式(d)を満たすように、上記ラマンフィルタが設けられていることが好ましい。
Figure 0006523511
ここで、P(z)は、上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側と反対側の端部からの光路長がzとなる点におけるレーザ光のパワーであり、g(P(z))は、当該点において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得である。
本発明の一態様に係るファイバレーザ装置において、上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側の端部には、ファイバブラッググレーティングが設けられており、上記P(z)は、下記式(e)により定義されるr’ocを用いて下記式(f)により与えられる、ことが好ましい。
Figure 0006523511
Figure 0006523511
ここで、L0は、上記増幅用ファイバの長さであり、rocは、上記ファイバブラッググレーティングの反射減衰量であり、tocは、上記ファイバブラッググレーティングの透過減衰量である。
本発明の一態様に係るファイバレーザ装置は、上記増幅用ファイバを含む複数の増幅用ファイバと、上記複数の増幅用ファイバの各々から出力されたレーザ光を合波するコンバイナと、を備え、上記デリバリファイバは、上記コンバイナにて合波されたレーザ光を導波する、ことが好ましい。
上記課題を解決するために、本発明の一態様に係る製造方法は、増幅用ファイバと、上記増幅用ファイバから出力されたレーザ光を導波するデリバリファイバと、を備えたファイバレーザ装置の製造方法であって、下記不等式(a)を満たすように、上記レーザ光に引き起こされる誘導ラマン散乱により生じるラマン散乱光の一部を反射するラマンフィルタを設ける工程を含んでいる。
Figure 0006523511
ここで、L1は、上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側と反対側の端部から上記ラマンフィルタまでの光路の長さであり、g1は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、L2は、上記ラマンフィルタから上記デリバリファイバの端部のうち上記増幅用ファイバ側と反対側の端部までの光路の長さであり、g2は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、amは、上記ラマンフィルタの反射減衰量であり、atは、上記ラマンフィルタの透過減衰量であり、arは、上記ファイバレーザ装置により加工可能な加工対象物の反射減衰量である。
上記課題を解決するために、本発明の一態様に係る設定方法は、増幅用ファイバと、上記増幅用ファイバから出力されたレーザ光を導波するデリバリファイバと、を備えたファイバレーザ装置において、上記ファイバレーザ装置により加工可能な加工対象物の反射減衰量arを設定する設定方法であって、下記不等式(a)を満たすように上記反射減衰量arを設定する。
Figure 0006523511
ここで、L1は、上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側と反対側の端部から上記ラマンフィルタまでの光路の長さであり、g1は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、L2は、上記ラマンフィルタから上記デリバリファイバの端部のうち上記増幅用ファイバ側と反対側の端部までの光路の長さであり、g2は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、amは、上記ラマンフィルタの反射減衰量であり、atは、上記ラマンフィルタの透過減衰量であり、arは、上記ファイバレーザ装置により加工可能な加工対象物の反射減衰量である。
本発明の一態様に係るファイバレーザ装置によれば、ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減することができる。また、本発明の一態様に係るファイバレーザ装置の製造方法によれば、ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減したファイバレーザ装置を製造することができる。また、本発明の一態様に係る設定方法によれば、ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減したファイバレーザ装置を実現することができる。
本発明の第1の実施形態に係るファイバレーザ装置の構成を示すブロック図である。 図1に示すファイバレーザ装置におけるラマン散乱光の光路を示す図である。 図1に示すファイバレーザ装置におけるラマン散乱光のパワーの分布を示す図である。(a)は、加工対象物の反射率が10%である場合のラマン散乱光のパワーの分布を示し、(b)は、加工対象物の反射率が50%である場合のラマン散乱光のパワーの分布を示す。 本発明の第2の実施形態に係るファイバレーザ装置の構成を示すブロック図である。 図4に示すファイバレーザ装置におけるラマン散乱光の光路を示す図である。
〔第1の実施形態〕
(ファイバレーザ装置の構成)
本発明の第1の実施形態に係るファイバレーザ装置FLの構成について、図1を参照して説明する。図1は、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLの構成を示すブロック図である。
ファイバレーザ装置FLは、単一の増幅用ファイバを含む、加工用のレーザ装置である。ファイバレーザ装置FLは、例えば図1に示すように、m個の励起光源PS1〜PSm、m個の励起ファイバPF1〜PFm、励起コンバイナPC、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HR、増幅用ファイバAF、及び低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LR、デリバリファイバDF、及び照射ヘッドHを備えている。励起光源PS1〜PSmと励起ファイバPF1〜PFmとは、互いに一対一に対応する。ここで、mは、2以上の任意の自然数であり、励起光源PS1〜PSm及び励起ファイバPF1〜PFmの個数を表す。なお、図1においては、m=6の場合のファイバレーザ装置FLの構成例を示している。
励起光源PSj(jは1以上m以下の自然数)は、励起光を生成する。本実施形態においては、励起光源PS1〜PSmとして、レーザダイオードを用いている。励起光源PSjは、励起ファイバPFjの入力端に接続されている。励起光源PSjにて生成された励起光は、励起ファイバPFiに入力される。
励起ファイバPFj(jは1以上m以下の自然数)は、励起光源PSjにて生成された励起光を導波する。励起ファイバPFjの出力端は、励起コンバイナPCの入力ポートに接続されている。励起ファイバPFjを導波された励起光は、この入力ポートを介して励起コンバイナPCに入力される。
励起コンバイナPCは、励起ファイバPF1〜PFmの各々を導波された励起光を合波する。励起コンバイナPCの出力ポートは、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRを介して増幅用ファイバAFの入力端に接続されている。励起コンバイナPCにて合波された励起光のうち、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRを透過した励起光は、増幅用ファイバAFに入力される。
増幅用ファイバAFは、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRを透過した励起光を用いて、レーザ光を生成する。本実施形態においては、増幅用ファイバAFとして、コアに希土類元素(例えばYb)が添加されたダブルクラッドファイバを用いている。高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRを透過した励起光は、この希土類元素を反転分布状態に維持するために用いられる。増幅用ファイバAFの出力端は、低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRを介して、上述したデリバリファイバDFの入力端に接続されている。高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRは、ある波長帯域においてミラーとして機能し(例えば、反射率が99%となり)、低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRは、その波長帯域においてハーフミラーとして機能する(例えば、反射率が10%となる)。このため、増幅用ファイバAFは、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HR、及び、低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRと共に、特定の波長帯域に属するレーザ光を発振する共振器を構成する。増幅用ファイバAFにて生成されたレーザ光のうち、この低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRを透過したレーザ光は、デリバリファイバDFに入力される。
デリバリファイバDFは、低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRを透過したレーザ光を導波する。本実施形態においては、デリバリファイバDFとして、シングルモードファイバ、又は、フューモードファイバを用いている。デリバリファイバDFの出力端は、照射ヘッドHに接続されている。デリバリファイバDFを導波されたレーザ光は、照射ヘッドHを介して加工対象物Wに照射される。
(ファイバレーザ装置の特徴)
本実施形態に係るファイバレーザ装置FLにおいて特徴的な点は、誘導ラマン散乱により生じるストークス光(以下、「ラマン散乱光」と記載する)を反射するためのラマンフィルタRFが設けられている点である。本実施形態においては、ラマンフィルタRFがデリバリファイバDFに設けられている。ラマンフィルタRFとしては、ファイバブラッググレーティングを用いてもよいし、スラントファイバグレーティングを用いてもよいし、長周期ファイバブラッググレーティングを用いてもよい。ラマンフィルタRFは、ラマン散乱光の中心波長が反射帯域に含まれるように設計されており、入射したラマン散乱光の一部を反射し、一部を透過する。
図2は、ファイバレーザ装置FLにおけるラマン散乱光の光路を示す図である。高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRから増幅用ファイバAFに入射したラマン散乱光は、図2に示すように、第1の光路γ1又は第2の光路γ2を通って増幅用ファイバAFから高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRに帰還する。
ここで、第1の光路γ1は、ラマン散乱光が以下のように伝播する光路である。なお、以下の説明において、「順方向」とは、デリバリファイバDFの端部からレーザ光が出射される方向と同方向のことを指し、「逆方向」とは、デリバリファイバDFの端部からレーザ光が出射される方向と逆方向(デリバリファイバDF内での加工対象物Wで反射した反射光の導波方向)のことを指す。
(1a)高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRから低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRまで増幅用ファイバAFを順方向に伝播し、
(1b)低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRを透過し、
(1c)低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRからラマンフィルタRFまでデリバリファイバDFを順方向に伝播し、
(1d)ラマンフィルタRFによって反射され、
(1e)ラマンフィルタRFから低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRまでデリバリファイバDFを逆方向に伝播し、
(1f)低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRを透過し、
(1g)低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRから高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRまで増幅用ファイバAFを逆方向に伝播する。
第1の光路γ1を伝播するラマン散乱光は、上述した過程(1a)、過程(1c)、過程(1e)、及び過程(1g)において利得を受ける。これらの過程においてラマン散乱光が受ける利得は、2×g1×L1[dB]となる。ここで、L1は、増幅用ファイバAFの端部のうちデリバリファイバDF側と反対側の端部(増幅用ファイバAFと高反射ファイバブラッググレーティングFBG_HR側との接続点)からラマンフィルタRFまでの光路の長さであり、g1[dB]は、当該光路においてラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得である。また、第1の光路γ1を伝播するラマン散乱光は、上述した過程(1d)において損失を受ける。この過程においてラマン散乱光が受ける損失は、am[dB]となる。ここで、am[dB]は、ラマンフィルタRFの反射減衰量である。したがって、ラマン散乱光のパワーは、第1の光路γ1を伝播する過程で、元のパワーの10(2×g1×L1−am)/10倍になる。
一方、第2の光路γ2は、ラマン散乱光が以下のように伝播する光路である。
(2a)高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRから低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRまで増幅用ファイバAFを順方向に伝播し、
(2b)低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRを透過し、
(2c)低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRからラマンフィルタRFまでデリバリファイバDFを順方向に伝播し、
(2d)ラマンフィルタRFを透過し、
(2e)ラマンフィルタRFから照射ヘッドHまでデリバリファイバDFを順方向に伝播し、
(2f)照射ヘッドHから加工対象物Wまで空気中を順方向に伝播し、
(2g)加工対象物Wによって反射され、
(2h)加工対象物Wから照射ヘッドHまで空気中を順方向に伝播し、
(2i)照射ヘッドHからラマンフィルタRFまでデリバリファイバDFを逆方向に伝播し、
(2j)ラマンフィルタRFを透過し、
(2k)ラマンフィルタRFから低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRまでデリバリファイバDFを逆方向に伝播し、
(2l)低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRを透過し、
(2m)低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRから高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRまで増幅用ファイバAFを逆方向に伝播する。
第2の光路γ2を伝播するラマン散乱光は、上述した過程(2a)、過程(2c)、過程(2e)、過程(2i)、過程(2k)、及び過程(2m)において利得を受ける。これらの過程においてラマン散乱光が受ける利得は、2×g1×L1+2×g2×L2となる。ここで、L2は、ラマンフィルタRFからデリバリファイバDFの端部のうち増幅用ファイバAF側と反対側の端部(デリバリファイバDFと照射ヘッドHとの接続点)までの光路の長さであり、g2[dB]は、当該光路においてラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得である。また、第2の光路γ2を伝播するラマン散乱光は、上述した過程(2d)、過程(2g)、及び過程(2j)において損失を受ける。これらの過程においてラマン散乱光が受ける損失は、2×at+arとなる。ここで、at[dB]は、ラマンフィルタRFの透過減衰量であり、ar[dB]は、加工対象物Wの反射減衰量である。したがって、ラマン散乱光のパワーは、第2の光路γ2を伝播する過程で、元のパワーの10(2×g1×L1+2×g2×L2−2×at−ar)/10倍になる。
以上のように、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRから増幅用ファイバAFに入射したラマン散乱光のうち、第1の光路γ1を伝播した後、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRに帰還するラマン散乱光のパワーは、元のパワーの10(2×g1×L1−am)/10倍になる。また、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRから増幅用ファイバAFに入射したラマン散乱光のうち、第2の光路γ2を伝播した後、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRに帰還するラマン散乱光のパワーは、元のパワーの10(2×g1×L1+2×g2×L2−2×at−ar)/10倍になる。したがって、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRから増幅用ファイバAFに入射したラマン散乱光のうち、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRに帰還するラマン散乱光の総パワーは、元のパワーの10(2×g1×L1−am)/10+10(2×g1×L1+2×g2×L2−2×at−ar)/10倍になる。
ところで、ラマンフィルタRFが存在しない場合、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRから増幅用ファイバAFに入射したラマン散乱光のうち、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRに帰還するラマン散乱光の総パワーは、元のパワーの10(2×g1×L1+2×g2×L2−ar)/10倍となる。なぜなら、この場合、ラマン散乱光が利得を受けるのは、(a)高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRから低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRまで増幅用ファイバAFを順方向に伝播する過程、(b)低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRから照射ヘッドHまでデリバリファイバDFを順方向に伝播する過程、(c)照射ヘッドHから低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRまでデリバリファイバDFを逆方向に伝播する過程、及び(d)低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRから高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRまで増幅用ファイバAFを順方向に伝播する過程であり、ラマン散乱光が損失を受けるのは、加工対象物Wによって反射される過程である、ためである。
本実施形態に係るファイバレーザ装置FLにおいては、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRから増幅用ファイバAFに入射したラマン散乱光のうち、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRに帰還するラマン散乱光の総パワーが、ラマンフィルタRFが存在しない場合よりも小さくなるように、ラマンフィルタRFが設けられている。すなわち、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLにおいては、ラマンフィルタRFが下記の不等式(1)を満たすように設けられている。ただし、arは、加工対象物Wが予め定められている場合には、その加工対象Wの反射減衰量であり得、加工対象物Wが予め定められていない場合には、加工可能な加工対象物Wの反射減衰量であり得る。また、arは、加工可能な加工対象物Wの反射減衰量の範囲が予め定められている場合には、その範囲の最小値、最大値、中央値などであり得る。
Figure 0006523511
なお、上記の不等式(1)は、両辺を10(2×g1×L1)/10で割ることによって、下記の不等式(2)に変形することができる。
Figure 0006523511
また、上記の不等式(2)は、L2=L−L1を代入することによって、下記の不等式(3)に変形することができる。ここで、Lは、増幅用ファイバAFの端部のうちデリバリファイバDF側と反対側の端部からデリバリファイバDFの端部のうち増幅用ファイバAF側と反対側の端部までの光路の長さであり、上述した長さL1と長さL2との和に一致する。以下、Lを「合計光路長」とも記載する。
Figure 0006523511
したがって、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLは、上記の不等式(2)を満たすようにラマンフィルタRFが設けられたファイバレーザ装置であると見做すこともできるし、上記の不等式(3)を満たすようにラマンフィルタRFが設けられたファイバレーザ装置であると見做すこともできる。
なお、上記の不等式(1)を満たすようにラマンフィルタRFを設ける構成には、L1及びL2が上記の不等式(1)を満たすように合計光路長L及びラマンフィルタRFの位置を決める態様、合計光路長L=L1+L2が予め定められている場合に、L1又はL2が上記の不等式(1)を満たすようにラマンフィルタの位置を決める態様、或いは、am及びatが上記の不等式(1)を満たすようにラマンフィルタRFを設計又は選択する態様が含まれる。また、上記の不等式(2)を満たすようにラマンフィルタRFを設ける構成には、L2が上記の不等式(2)を満たすようにラマンフィルタRFの位置を決める態様、或いは、am及びatが上記の不等式(2)を満たすようにラマンフィルタRFを設計又は選択する態様が含まれる。また、上記の不等式(3)を満たすようにラマンフィルタRFを設ける構成には、L及びL1が上記の不等式(3)を満たすように合計光路長L及びラマンフィルタRFの位置を決める態様、合計光路長L=L1+L2が予め定められている場合にL1が上記の不等式(3)を満たすようにラマンフィルタRFの位置を決める態様、或いは、am及びatが上記の不等式(3)を満たすようにラマンフィルタRFを設計又は選択する態様が含まれる。
以上のように、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLには、上記の不等式(1)〜(3)の何れかを満たすようにラマンフィルタRFが設けられている。したがって、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLによれば、ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減することができる。
なお、ここでは、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRからラマンフィルタRFまでの光路においてラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得g1、及び、ラマンフィルタRFから照射ヘッドHまでの光路においてラマン散乱光が受ける利得g2が一定であることを仮定したが、これに限定されない。すなわち、ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得は、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRの出射端からの光路長zの関数g(P(z))として与えられていてもよい。ここで、P(z)は、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRの出射端からの光路長がzとなる点におけるレーザ光のパワーであり、g(P(z))は、当該点においてラマン散乱光が受ける単位長さあたりの利得である。この場合、上述した不等式に現れる利得g1×L1、g2×L2は、それぞれ、下記式(4)、(5)のように積分表現に置き換えることができる。
Figure 0006523511
Figure 0006523511
この場合、上述した不等式(1)、(2)は、それぞれ、下記の不等式(6)、(7)のように表現することができる。
Figure 0006523511
Figure 0006523511
したがって、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLは、上記の不等式(6)を満たすようにラマンフィルタRFが設けられたファイバレーザ装置であると見做すこともできるし、上記の不等式(7)を満たすようにラマンフィルタRFが設けられたファイバレーザ装置であると見做すこともできる。
なお、上述したパワーP(z)は、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRの透過損失を無視すると、下記の式(8)により定義されるr’ocを用いて、下記の式(9)により与えられる。ここで、L0は、増幅用ファイバAFの長さであり、rocは、低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRの反射減衰量であり、tocは、低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRの透過減衰量であり、Pは、上記ファイバブラッググレーティングを介して上記増幅用ファイバから出力されるレーザ光のパワーである。なお、r’ocは、加工対象物Wの表面における反射の効果を取り込んだ、ファイバブラッググレーティングFBG−LRの見かけの反射減衰量である。
Figure 0006523511
Figure 0006523511
なお、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLにおいて、ラマンフィルタRFは、更に下記の不等式(10)を満たすように設けられていることが好ましい。
Figure 0006523511
ラマンフィルタRFが更に上記の不等式(10)を満たすように設けられている場合、ラマンフィルタRFの両側に形成される2つの共振器の双方が発振条件を満たし難くなる。したがって、上記の不等式(10)を満たすように設計されたファイバレーザ装置FLによれば、ラマン散乱光のパワーの増大を更に抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を更に低減することができる。なお、上述した2つの共振器は、例えば、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRからラマンフィルタRFまでの光路により構成される共振器とラマンフィルタRFから加工対象物Wまでの光路により構成される共振器とであり得る。この場合、これらの光路により構成される共振器において、ラマンフィルタRFと対をなすミラーの機能は、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRが担ってもよいし、ラマン散乱光を散乱する、増幅用ファイバAFの材料が担ってもよい。
また、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLにおいて、ラマンフィルタRFは、スラントファイバブラッググレーティングにより構成されていることが好ましい。スラントファイバブラッググレーティングでは、コアを伝播する光の一部がクラッドモードに結合し得るため、ラマン散乱光に対する反射率の絶対値と透過率の絶対値との和を1よりも小さくすることができる。したがって、ラマンフィルタRFをスラントファイバブラッググレーティングにより構成した場合、ラマン散乱光に対する反射率の絶対値と透過率の絶対値との和が1であることにより生じ得る設計上の制約を免れることができる、という効果を奏する。
また、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLにおいて、ラマンフィルタRFは、長周期ファイバブラッググレーティングにより構成されていることが好ましい。長周期ファイバブラッググレーティングでは、コアを伝播する光の一部がクラッドモードに結合し得るため、ラマン散乱光に対する反射率の絶対値と透過率の絶対値との和を1よりも小さくすることができる。したがって、ラマンフィルタRFを長周期ファイバブラッググレーティングにより構成した場合、ラマン散乱光に対する反射率の絶対値と透過率の絶対値との和が1であることにより生じ得る設計上の制約を免れることができる、という効果を奏する。
なお、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLにおいては、増幅用ファイバAF又はデリバリファイバDFとして、フューモードファイバを用いてもよい。或いは、増幅用ファイバAF又はデリバリファイバDFとして、部分添加ファイバを用いてもよい。或いは、増幅用ファイバAFとして、ラマン散乱光を反射するラマン反射部を含まない増幅用ファイバを用いてもよい。
(実施例)
ファイバレーザ装置FLの実施例として、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRから照射ヘッドHまでの光路の長さLが24mのファイバレーザ装置FLを用意した。このファイバレーザ装置FLにおいて、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRからラマンフィルタRFまでの光路の長さL1は18mであり、当該光路においてラマン散乱光が受ける単位長さあたりの利得g1は1.2dB/mであった。また、このファイバレーザ装置FLにおいて、ラマンフィルタRFから照射ヘッドHまでの光路の長さL2は6mであり、当該光路においてラマン散乱光が受ける単位長さあたりの利得g2は1.2dB/mであった。ラマンフィルタRFとしては、ラマン散乱光の中心波長を含む反射帯域において、反射減衰量amが0.5dBであり、透過減衰量atが10dBであるファイバブラッググレーティングを用いた。
本実施例に係るファイバレーザ装置FLにおいて、順方向及び逆方向に伝播するラマン散乱光のパワーの分布を数値計算によって求めた結果を図3に示す。図3の(a)は、加工対象物Wの反射率が10%(反射減衰量arが10dB)であるときのラマン散乱光のパワーの分布であり、図3の(b)は、加工対象物Wの反射率が50%(反射減衰量arが3dB)であるときのラマン散乱光のパワーの分布である。図3の(a)及び(b)においては、本実施例に係るファイバレーザ装置FLにおけるラマン散乱光のパワーの分布(点線)の他に、比較例に係るファイバレーザ装置におけるラマン散乱光のパワーの分布(実線)も併せて示している。ここで、比較例に係るファイバレーザ装置とは、本実施例に係るファイバレーザ装置FLからラマンフィルタRFを取り除いたファイバレーザ装置のことを指す。
図3によれば、加工対象物Wの反射率が10%である場合であっても、加工対象物Wの反射率が50%であっても、以下のことが確かめられる。すなわち、第1の実施例に係るファイバレーザ装置FLにおいて高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRに帰還するラマン散乱光のパワーは、比較例に係るファイバレーザ装置において高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRに帰還するラマン散乱光のパワーよりも小さくなる、ことが確かめられる。
〔第2の実施形態〕
(ファイバレーザ装置の構成)
本発明の第2の実施形態に係るファイバレーザ装置FLSの構成について、図4を参照して説明する。図4は、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLSの構成を示すブロック図である。
ファイバレーザ装置FLSは、複数の増幅用ファイバを含む、加工用のレーザ装置である。ファイバレーザ装置FLSは、例えば図4に示すように、n個のファイバレーザユニットFLU1〜FLUn、n個のデリバリファイバDF1〜DFn、出力コンバイナOC、デリバリファイバDF、及び照射ヘッドHを備えている。ファイバレーザユニットFLU1〜FLUnとデリバリファイバDF1〜DFnとは、互いに一対一に対応する。ここで、nは、2以上の任意の自然数であり、ファイバレーザユニットFLU1〜FLUn及びデリバリファイバDF1〜DFnの個数を表す。なお、図1においては、n=3の場合のファイバレーザ装置FLSの構成例を示している。
ファイバレーザユニットFLUi(iは1以上n以下の自然数)は、レーザ光を生成する。ファイバレーザユニットFLUiは、第1の実施形態に係るファイバレーザ装置FLと同様、m個の励起ファイバPF1〜PFm、励起コンバイナPC、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HR、増幅用ファイバAF、及び低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRを含んで構成されている。ファイバレーザユニットFLUiの低反射ファイバブラッググレーティングFBG_LRは、デリバリファイバDFiの入力端に接続されている。ファイバレーザユニットFLUiにて生成されたレーザ光は、デリバリファイバDFiに入力される。
デリバリファイバDFi(iは1以上n以下の自然数)は、ファイバレーザユニットFLUiにて生成されたレーザ光を導波する。本実施形態においては、デリバリファイバDF1〜DFnとして、シングルモードファイバ、又は、フューモードファイバを用いている。デリバリファイバDFiの出力端は、出力コンバイナOCの入力ポートに接続されている。デリバリファイバDFiを導波されたレーザ光は、この入力ポートを介して出力コンバイナOCに入力される。
出力コンバイナOCは、デリバリファイバDF1〜DFnの各々を導波されたレーザ光を合波する。出力コンバイナOCの出力ポートは、デリバリファイバDFの入力端に接続されている。出力コンバイナOCにて合波されたレーザ光は、デリバリファイバDFに入力される。
デリバリファイバDFは、出力コンバイナOCにて合波されたレーザ光を導波する。本実施形態においては、デリバリファイバDFとして、マルチモードファイバを用いている。デリバリファイバDFの出力端は、照射ヘッドHに接続されている。デリバリファイバDFを導波されたレーザ光は、照射ヘッドHを介して加工対象物Wに照射される。
(ファイバレーザ装置の特徴)
ファイバレーザ装置FLSにおいて特徴的な点は、誘導ラマン散乱により生じるストークス光(以下、「ラマン散乱光」と記載する)を反射するためのラマンフィルタRF1〜RF3が設けられている点である。本実施形態においては、各ラマンフィルタRFiがデリバリファイバDFiに設けられている。ラマンフィルタRF1〜RF3としては、ファイバブラッググレーティングを用いてもよいし、スラントファイバグレーティングを用いてもよいし、長周期ファイバブラッググレーティングを用いてもよい。ラマンフィルタRF1〜RF3は、ラマン散乱光の中心波長が反射帯域に含まれるように設計されており、入射したラマン散乱光の一部を反射し、一部を透過する。
図5は、各ファイバレーザ装置FLUiにおけるラマン散乱光の光路を示す図である。高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRから増幅用ファイバAFに入射したラマン散乱光は、図5に示すように、第1の光路γ1又は第2の光路γ2を通って高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRに帰還する。
本実施形態に係るファイバレーザ装置FLSにおいては、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRに帰還するラマン散乱光の総パワーが、ラマンフィルタRFiが存在しない場合よりも小さくなるように、ラマンフィルタRFiが設けられている。すなわち、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLSにおいては、下記の不等式(1)を満たすようにラマンフィルタRFiが設けられている。
Figure 0006523511
ここで、L1は、増幅用ファイバAFの端部のうちデリバリファイバDF側と反対側の端部(増幅用ファイバAFと高反射ファイバブラッググレーティングFBG_HRとの接続点)からラマンフィルタRFiまでの光路の長さであり、g1[dB]は、当該光路においてラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得である。また、L2は、ラマンフィルタRFiからデリバリファイバDFの端部のうち増幅用ファイバAF側と反対側の端部(デリバリファイバDFと照射ヘッドHとの接続点)までの光路の長さであり、g2[dB]は、当該光路においてラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得である。また、am[dB]は、ラマンフィルタRFiの反射減衰量であり、at[dB]は、ラマンフィルタRFiの透過減衰量である。また、ar[dB]は、加工対象物Wの反射減衰量である。
なお、上記の不等式(11)は、両辺を10(2×g1×L1)/10で割ることによって、下記の不等式(12)に変形することができる。
Figure 0006523511
また、上記の不等式(12)は、L2=L−L1を代入することによって、下記の不等式(13)に変形することができる。ここで、Lは、増幅用ファイバAFの端部のうちデリバリファイバDF側と反対側の端部からデリバリファイバDFの端部のうち増幅用ファイバAF側と反対側の端部までの光路の長さであり、上述した長さL1と長さL2との和に一致する。
Figure 0006523511
したがって、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLSは、上記の不等式(12)を満たすようにラマンフィルタRFiが設けられたファイバレーザ装置であると見做すこともできるし、上記の不等式(13)を満たすようにラマンフィルタRFiが設けられたファイバレーザ装置であると見做すこともできる。
以上のように、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLSにおいては、上記の不等式(1)〜(3)の何れかを満たすようにラマンフィルタRFiが設けられている。したがって、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLSによれば、ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減することができる。
なお、ここでは、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRからラマンフィルタRFiまでの光路においてラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得g1、及び、ラマンフィルタRFiから照射ヘッドHまでの光路においてラマン散乱光が受ける利得g2が一定であることを仮定したが、これに限定されない。すなわち、ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得は、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRの出射端からの光路長zの関数g(P(z))として与えられていてもよい。ここで、P(z)は、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRの出射端からの光路長がzとなる点におけるレーザ光のパワーである。この場合、上述した不等式に現れる利得g1×L1、g2×L2は、それぞれ、下記式(14)、(15)のように一般化することができる。
Figure 0006523511
Figure 0006523511
この場合、上述した不等式(11)、(12)は、それぞれ、下記の不等式(16)、(17)のように一般化することができる。
Figure 0006523511
Figure 0006523511
したがって、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLは、上記の不等式(16)を満たすようにラマンフィルタRFiが設けられたファイバレーザ装置であると見做すこともできるし、上記の不等式(17)を満たすようにラマンフィルタRFiが設けられたファイバレーザ装置であると見做すこともできる。
なお、上述したパワーP(z)は、高反射ファイバブラッググレーティングFBG−HRの透過損失を無視すると、下記の式(18)により定義されるr’ocを用いて、下記の式(19)により与えられる。ここで、L0は、増幅用ファイバAFの長さであり、rocは、低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRの反射減衰量であり、tocは、低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LRの透過減衰量である。
Figure 0006523511
Figure 0006523511
なお、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLSにおいて、ラマンフィルタRFiは、更に下記の不等式(20)を満たすように設けられていることが好ましい。
Figure 0006523511
ラマンフィルタRFiが上記の不等式(20)を満たすように設けられている場合、ラマンフィルタRFiの両側に形成される2つの共振器の双方が発振条件を満たし難くなる。したがって、上記の不等式(20)を満たすようにラマンフィルタRFiが設けられたファイバレーザ装置FLSによれば、ラマン散乱光のパワーの増大を更に抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を更に低減することができる。
また、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLSにおいて、ラマンフィルタRFiは、スラントファイバブラッググレーティングにより構成されていることが好ましい。この場合、ラマン散乱光に対する反射率の絶対値と透過率の絶対値との和が1であることにより生じ得る設計上の制約を免れることができる、という効果を奏する。
また、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLSにおいて、ラマンフィルタRFiは、長周期ファイバブラッググレーティングにより構成されていることが好ましい。この場合、ラマン散乱光に対する反射率の絶対値と透過率の絶対値との和が1であることにより生じ得る設計上の制約を免れることができる、という効果を奏する。
なお、本実施形態に係るファイバレーザ装置FLSにおいては、増幅用ファイバAF、デリバリファイバDFi、又はデリバリファイバDFとして、フューモードファイバを用いてもよい。或いは、増幅用ファイバAF、デリバリファイバDFi、又はデリバリファイバDFとして、部分添加ファイバを用いてもよい。或いは、増幅用ファイバAFとして、ラマン散乱光を反射するラマン反射部を含まない増幅用ファイバを用いてもよい。
〔製造方法〕
第1の実施形態に係るファイバレーザ装置FLは、上述した不等式(1)、(2)、(3)、(6)、又は(7)を満たすようにラマンフィルタRFを設ける工程を含む製造方法により製造することができる。この製造方法によれば、ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減したファイバレーザFLを製造することができる。また、ラマンフィルタRFを設ける工程は、更に上述した不等式(10)を満たすように実施されてもよい。この場合、ラマン散乱光のパワーの増大を更に抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を更に低減したファイバレーザ装置FLを製造することができる。
また、第2の実施形態に係るファイバレーザ装置FLSは、上述した不等式(11)、(12)、(13)、(16)、又は(17)を満たすようにラマンフィルタRFiを設ける工程を含む製造方法により製造することができる。この製造方法によれば、ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減したファイバレーザFLSを製造することができる。また、ラマンフィルタRFiを設ける工程は、更に上述した不等式(20)を満たすように実施されてもよい。この場合、この場合、ラマン散乱光のパワーの増大を更に抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を更に低減したファイバレーザ装置FLSを製造することができる。
〔設定方法〕
なお、上述した不等式(1)、(2)、(3)、(6)、又は(7)は、第1の実施形態に係るファイバレーザ装置FLにおいて、加工可能な加工対象物の反射減衰量arを設定する設定方法に応用することができる。すなわち、上述した不等式(1)、(2)、(3)、(6)、又は(7)を満たすように反射減衰量arを設定すれば、ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減したファイバレーザFLを実現することができる。また、反射減衰量arを設定する工程は、更に上述した不等式(10)を満たすように実施されてもよい。この場合、この場合、ラマン散乱光のパワーの増大を更に抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を更に低減したファイバレーザ装置FLを実現することができる。
また、上述した不等式(11)、(12)、(13)、(16)、又は(17)は、第2の実施形態に係るファイバレーザ装置FLSにおいて、加工可能な加工対象物の反射減衰量arを設定する設定方法に応用することができる。すなわち、上述した不等式(11)、(12)、(13)、(16)、又は(17)を満たすように反射減衰量arを設定すれば、ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減したファイバレーザFLSを実現することができる。また、反射減衰量arを設定する工程は、更に上述した不等式(20)を満たすように実施されてもよい。この場合、ラマン散乱光のパワーの増大を更に抑え、その結果、レーザ光の発振が不安定化する可能性を更に低減したファイバレーザ装置FLSを実現することができる。
〔MOPA型のファイバレーザ装置〕
上述した各実施形態においては、共振器型のファイバレーザ装置FL,FLSについて説明したが、本発明は、これに限定されない。例えば、本発明は、MOPA(Master Oscillator - Power Amplifier)型のファイバレーザ装置にも適用することができる。ここで、MOPA型のファイバレーザ装置とは、MO部として機能するレーザ光源と、PA部として機能するファイバアンプと、デリバリファイバと、を備えたファイバレーザ装置である。MOPA型のファイバレーザ装置においては、PA部(ファイバアンプ)を構成する増幅用ファイバから出力されたレーザ光が、デリバリファイバを導波された後、加工対象物に照射される。したがって、MOPA型のファイバレーザ装置にラマンフィルタを設ければ、上述した各実施形態に係るファイバレーザ装置と同様、ラマン散乱光のパワーの増大を抑え、レーザ光の発振が不安定化する可能性を低減することができる。なお、共振器型のファイバレーザ装置では、デリバリファイバが増幅用ファイバの下流側の端部にファイバブラッググレーティング(上述した実施形態における低反射ファイバブラッググレーティングFBG−LR)を介して接続されるのに対して、MOPA側のファイバレーザ装置では、デリバリファイバが増幅用ファイバの下流側の端部にファイバブラッググレーティングを介さずに接続される。
〔付記事項〕
本発明は、上述した各実施形態に限定されるものでなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
FL、FLS ファイバレーザ装置
PS1〜PSm 励起光源
PF1〜PFm 励起ファイバ
PC 励起コンバイナ
FBG−HR 高反射ファイバブラッググレーティング(第1ファイバブラッググレーティング)
FBG−LR 低反射ファイバブラッググレーティング(第2ファイバブラッググレーティング)
AF 増幅用ファイバ
DF デリバリファイバ
H 照射ヘッド

Claims (8)

  1. 増幅用ファイバと、上記増幅用ファイバから出力されたレーザ光を導波するデリバリファイバと、を備えたファイバレーザ装置であって、
    下記不等式(a)を満たすように、上記レーザ光に引き起こされる誘導ラマン散乱により生じるラマン散乱光の一部を反射するラマンフィルタが設けられている、ことを特徴とするファイバレーザ装置。
    Figure 0006523511
    ここで、L1は、上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側と反対側の端部から上記ラマンフィルタまでの光路の長さであり、g1は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、L2は、上記ラマンフィルタから上記デリバリファイバの端部のうち上記増幅用ファイバ側と反対側の端部までの光路の長さであり、g2は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、amは、上記ラマンフィルタの反射減衰量であり、atは、上記ラマンフィルタの透過減衰量であり、arは、上記ファイバレーザ装置により加工可能な加工対象物の反射減衰量である。
  2. 上記不等式(a)に代えて、下記不等式(b)を満たすように、上記ラマンフィルタが設けられている、ことを特徴とする請求項1に記載のファイバレーザ装置。
    Figure 0006523511
  3. 上記不等式(a)に代えて、下記不等式(c)を満たすように、上記ラマンフィルタが設けられている、ことを特徴とする請求項1に記載のファイバレーザ装置。
    Figure 0006523511
    ここで、Lは、上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側と反対側の端部から上記デリバリファイバの端部のうち上記増幅用ファイバ側と反対側の端部までの光路の長さである。
  4. 更に下記不等式(d)を満たすように、上記ラマンフィルタが設けられている、ことを特徴とする請求項1〜3の何れか1項に記載のファイバレーザ装置。
    Figure 0006523511
    ここで、P(z)は、上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側と反対側の端部からの光路長がzとなる点におけるレーザ光のパワーであり、g(P(z))は、当該点において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得である。
  5. 上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側の端部には、ファイバブラッググレーティングが設けられており、上記P(z)は、下記式(e)により定義されるr’ocを用いて下記式(f)により与えられる、ことを特徴とする請求項4に記載のファイバレーザ装置。
    Figure 0006523511
    Figure 0006523511
    ここで、L0は、上記増幅用ファイバの長さであり、rocは、上記ファイバブラッググレーティングの反射減衰量であり、tocは、上記ファイバブラッググレーティングの透過減衰量であり、Pは、上記ファイバブラッググレーティングを介して上記増幅用ファイバから出力されるレーザ光のパワーである。
  6. 上記増幅用ファイバを含む複数の増幅用ファイバと、上記複数の増幅用ファイバの各々から出力されたレーザ光を合波するコンバイナと、を備え、
    上記デリバリファイバは、上記複数の増幅用ファイバの各々から出力されたレーザ光を上記コンバイナに導くデリバリファイバと、上記コンバイナにて合波されたレーザ光を導波するデリバリファイバと、を含む、ことを特徴とする請求項1〜5の何れか1項に記載のファイバレーザ装置。
  7. 増幅用ファイバと、上記増幅用ファイバから出力されたレーザ光を導波するデリバリファイバと、を備えたファイバレーザ装置の製造方法であって、
    下記不等式(a)を満たすように、上記レーザ光に引き起こされる誘導ラマン散乱により生じるラマン散乱光の一部を反射するラマンフィルタを設ける工程を含んでいる、ことを特徴とするファイバレーザ装置の製造方法。
    Figure 0006523511
    ここで、L1は、上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側と反対側の端部から上記ラマンフィルタまでの光路の長さであり、g1は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、L2は、上記ラマンフィルタから上記デリバリファイバの端部のうち上記増幅用ファイバ側と反対側の端部までの光路の長さであり、g2は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、amは、上記ラマンフィルタの反射減衰量であり、atは、上記ラマンフィルタの透過減衰量であり、arは、上記ファイバレーザ装置により加工可能な加工対象物の反射減衰量である。
  8. 増幅用ファイバと、上記増幅用ファイバから出力されたレーザ光を導波するデリバリファイバと、を備えたファイバレーザ装置において、上記ファイバレーザ装置により加工可能な加工対象物の反射減衰量arを設定する設定方法であって、
    下記不等式(a)を満たすように上記反射減衰量arを設定する、ことを特徴とする設定方法。
    Figure 0006523511
    ここで、L1は、上記増幅用ファイバの端部のうち上記デリバリファイバ側と反対側の端部から上記ラマンフィルタまでの光路の長さであり、g1は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、L2は、上記ラマンフィルタから上記デリバリファイバの端部のうち上記増幅用ファイバ側と反対側の端部までの光路の長さであり、g2は、当該光路において上記ラマン散乱光が受ける単位長さ辺りの利得であり、amは、上記ラマンフィルタの反射減衰量であり、atは、上記ラマンフィルタの透過減衰量であり、arは、上記ファイバレーザ装置により加工可能な加工対象物の反射減衰量である。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020142506A1 (en) * 2018-12-31 2020-07-09 Nlight, Inc. Methods for srs protection of laser components and apparatus providing srs protection
JP2022182686A (ja) * 2021-05-28 2022-12-08 コマツ産機株式会社 レーザ加工装置およびレーザ加工方法

Family Cites Families (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5838700A (en) * 1995-07-28 1998-11-17 Nauchny Tsentr Volokonnoi Optiki Pri Institute Obschei Fiziki Rossiiskoi Akademii Nauk Raman fibre laser, bragg fibre-optical grating and method for changing the refraction index in germanium silicate glass
US6778320B1 (en) * 2000-11-20 2004-08-17 Avanex Corporation Composite optical amplifier
WO2002095885A1 (fr) * 2001-05-22 2002-11-28 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Laser a fibre optique
US20040095569A1 (en) * 2002-11-20 2004-05-20 Kan Clarence Kwok-Yan Use of linear scattering losses to characterize amplified fiber spans
DE60310363T2 (de) * 2003-03-03 2007-04-12 Alcatel Raman Faserlaser mit mehrwellenlängiger, stabiler, kleiner Ausgangsleistung für Anwendungen als Seed-Laser
DE602004001038T2 (de) * 2004-01-08 2006-10-26 Alcatel Kaskadierter Ramanlaser mit ungepaartem Reflektor
JP2007123477A (ja) * 2005-10-27 2007-05-17 Fujikura Ltd 光増幅用ファイバ及び光増幅器
JP2007221037A (ja) * 2006-02-20 2007-08-30 Fujikura Ltd 光増幅器、ファイバレーザ及び反射光除去方法
JP5124490B2 (ja) * 2007-02-09 2013-01-23 株式会社フジクラ ファイバレーザ
KR100864837B1 (ko) * 2007-06-15 2008-10-23 한국전자통신연구원 라만 공동을 갖는 라만 광증폭기를 이용한 이득고정형광증폭 장치
JP5114388B2 (ja) * 2007-06-29 2013-01-09 株式会社フジクラ 光増幅器、ファイバレーザ及び反射光除去方法
US20090097807A1 (en) * 2007-10-16 2009-04-16 Xijia Gu Shaping a laser beam with a fiber-based device
EP2081264B1 (en) * 2008-01-18 2010-09-01 European Organization for Astronomical Research in the Southern Hemisphere Narrow band fiber raman optical amplifier
US7912099B2 (en) * 2008-10-21 2011-03-22 Gapontsev Valentin P Method and apparatus for preventing distortion of powerful fiber-laser systems by backreflected signals
JP2012527019A (ja) * 2009-05-11 2012-11-01 オーエフエス ファイテル,エルエルシー 高出力カスケード型ラマン・ファイバ・レーザでの逆方向発振を抑制するためのシステムおよび技術
JP2011114061A (ja) * 2009-11-25 2011-06-09 Fujikura Ltd レーザ発振器、及び、モードフィルタ
EP2521505B1 (en) * 2010-01-07 2017-09-06 Omni MedSci, Inc. Fiber lasers and mid-infrared light sources in methods and systems for selective biological tissue processing and spectroscopy
WO2011122566A1 (ja) * 2010-03-30 2011-10-06 株式会社フジクラ 光強度モニタ回路、およびファイバレーザシステム
US9325152B2 (en) * 2011-04-25 2016-04-26 Ofs Fitel, Llc Raman distributed feedback fiber laser and high power laser system using the same
JP6140072B2 (ja) 2011-05-31 2017-05-31 古河電気工業株式会社 レーザ装置および加工装置
EP2769444A4 (en) * 2011-10-19 2015-08-05 Ofs Fitel Llc CASCADED RAMAN LASER SYSTEM
EP2662939B1 (en) * 2012-05-08 2020-08-19 Fianium Limited Laser systems having tapered elements
IL221918A (en) * 2012-09-12 2016-11-30 V-Gen Ltd Optically isolated
CN103124044B (zh) * 2013-01-30 2015-04-08 中国人民解放军国防科学技术大学 频率间隔可调的多波长反斯托克斯四波混频光纤激光器
CN105960743A (zh) * 2013-10-14 2016-09-21 拉姆光学有限责任公司 用于生成高功率激光的方法和设备
JP5680170B1 (ja) 2013-11-14 2015-03-04 株式会社フジクラ ファイバレーザ装置
CN104112970A (zh) * 2014-07-22 2014-10-22 中国科学院上海光学精密机械研究所 全光纤化受激拉曼散射光剥离器
WO2016049011A1 (en) * 2014-09-22 2016-03-31 University Of Rochester Efficient lasing with excited-state absorption-impaired materials
WO2016058624A1 (de) * 2014-10-13 2016-04-21 Trumpf Werkzeugmaschinen Gmbh + Co. Kg Optische anordnung mit einer kopplungseinrichtung und faserlaseranordnung sowie verfahren zum bearbeiten eines werkstücks unter verwendung einer solchenoptischen anordnung
US9634462B2 (en) * 2014-10-15 2017-04-25 Nlight, Inc. Slanted FBG for SRS suppression
JP6062018B1 (ja) * 2015-10-30 2017-01-18 株式会社フジクラ ファイバレーザシステム
US10522967B2 (en) * 2016-01-26 2019-12-31 Fujikura Ltd. Fiber laser system, fiber laser system production method, and processing method
GB201601815D0 (en) * 2016-01-29 2016-03-16 Spi Lasers Uk Ltd Apparatus and method for optical isolation
CN106532415A (zh) * 2016-09-07 2017-03-22 华中科技大学 一种基于倾斜光栅的受激拉曼散射效应抑制型光纤激光器
JP2019079849A (ja) * 2017-10-20 2019-05-23 株式会社フジクラ ファイバレーザシステム、方法及び製造方法
CN109193337A (zh) * 2018-10-29 2019-01-11 中国人民解放军国防科技大学 高功率光纤激光放大器***受激拉曼散射抑制方法
CN113227847A (zh) * 2018-12-28 2021-08-06 恩耐公司 用于将受激拉曼散射(srs)光导向出纤芯并进入包层的光纤装置和方法
EP3903388A4 (en) * 2018-12-28 2022-09-07 NLIGHT, Inc. FIBER OPTIC DEVICES AND METHODS FOR REDUCING LIGHT EMISSIONS BY STIMULATED RAMAN SCATTERING (SRS) FROM A RESONANT CAVITY
EP3903133A4 (en) * 2018-12-28 2022-09-21 NLIGHT, Inc. FIBER OPTIC DEVICES AND METHODS FOR SUPPRESSING STIMULATED RAMAN SCATTERING (SRS)
WO2020142506A1 (en) * 2018-12-31 2020-07-09 Nlight, Inc. Methods for srs protection of laser components and apparatus providing srs protection
US20210367391A1 (en) * 2020-05-20 2021-11-25 UNIVERSITé LAVAL Pump reflectors for cladding-pumped optical fiber systems

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