JP6500926B2

JP6500926B2 - 表示装置および遊技機

Info

Publication number: JP6500926B2
Application number: JP2017049219A
Authority: JP
Inventors: 佳彦 ▲高▼木; 潤岸本; 高大森地
Original assignee: Omron Corp
Current assignee: Omron Corp
Priority date: 2017-03-14
Filing date: 2017-03-14
Publication date: 2019-04-17
Anticipated expiration: 2037-03-14
Also published as: WO2018168102A1; US20200233140A1; CN110268458A; US11009648B2; JP2018152301A; CN110268458B

Description

本発明は、光源および導光板を備える表示装置と、該表示装置を備えた遊技機とに関する。

光源から入射した光を導光し、その一部を光出射面から出射させることで所定の画像を表示する導光板が従来から知られている。また、導光板において画像をより鮮明に表示するための技術も種々開発されている。例えば、特許文献１には、導光板４に表示する画像の、輪郭部分の階調を強める技術が開示されている。また、特許文献２には、導光板４に形成される、画像を表現するためのパターンの向きを連続的に変化させて、導光板４から出射される光の指向性を変化させることで階調表現する技術が開示されている。

特開２０１５−１１８１２８号公報（２０１５年６月２５日公開）特開２０１５−０８８４８９号公報（２０１５年５月７日公開）

しかしながら、上述のような従来技術では、画像の立体感を自然に表現することが困難であった。例えば、特許文献１に記載の技術は、グラデーションのような階調が連続的に変化するような画像表現に適用しても効果が薄い。一方、特許文献２に記載の技術は逆に、連続的な階調変化のための技術であるため、適用して有効な範囲が限られていた。

本発明の一態様は、より自然な画像表現が可能な表示装置等を実現することを目的とする。

上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る表示装置は、光源と、前記光源から入射した光を導光し、その一部を光出射面から出射させる導光板とを備え、前記導光板に、入射した光の方向を変えて前記光出射面から出射させる光出射構造部を１以上含む画素領域が設けられており、前記画素領域のそれぞれからの出射光量を変化させることによって階調を有する所定の画像を表示するとともに、所定の範囲の階調を表示する前記画素領域の出射光量が、第１光量値、または、前記第１光量値よりも大きい第２光量値となるようにランダムに設定されている。

また、上記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る遊技機は、上記表示装置を備えており、遊技の進行に応じて前記表示装置での表示が行われる。

上記の構成によれば、所定の範囲の階調は、ランダムに設定される第１光量値または第２光量値の出射光量で表示される。ここで、例えば階調の値と１対１に対応させた出射光量となるように画素領域を設ける場合、実際には製造の精度の限界により、階調変化と出射光量変化とを完全に対応させることができない。この場合、階調変化に対する出射光量変化が段階的になり、グラデーションのような画像表現が不自然になる。

これに対して上記の構成によれば、所定の範囲の階調を表示するための構成として、出射光量が第１光量値および第２光量値となる２種類の画素領域を設ければよい。よって、製造の精度が比較的低くても十分に上記のような構造を製造することが可能である。また、所定の範囲の階調は、ランダムに設定される第１光量値または第２光量値の出射光量で表示されるので、階調変化に対する出射光量変化が段階的になることを抑制することができる。よって、グラデーションのような画像表現をより自然にすることができる。

前記表示装置は、前記所定の画像における全ての階調の範囲を複数の部分階調範囲に分割するとともに、前記部分階調範囲毎に、前記第１光量値および前記第２光量値が設定されていてもよい。

前記の構成によれば、全ての階調に関して、部分階調範囲毎に上記のような出射光量調整が行われることになる。よって、あらゆる階調で自然な画像表現を実現することができる。

前記表示装置は、前記部分階調範囲の数が１０以下であってもよい。

導光板の製造は、例えばマスタとなる型を作り、それを転写成型することによって行われる。光出射構造部は微細な構造であり、型形成の精度および転写成型の精度に応じて形状の精度に限界がある。例えば、最大の出射光量を出射可能な光出射構造部のサイズを１００％とした場合、部分階調範囲の数が１０より大きい場合には、最も小さい光出射構造部のサイズを１０％未満とする必要が生じる可能性がある。ここで、最も精度の高い型形成および転写成型を行ったとしても、１０％未満のサイズの光出射構造部を精確に製造することは難しい。これに対して、上記の構成によれば、部分階調範囲の数が１０以下であるので、最も小さい光出射構造部のサイズを１０％以上にすることが可能となる。よって、ある程度の精度を有する光出射構造部が設けられた表示装置を提供することができる。

前記表示装置は、前記部分階調範囲の数が５以下であってもよい。

前記したように、例えば、最大の出射光量を出射可能な光出射構造部のサイズを１００％とした場合、最も小さい光出射構造部のサイズが２０％未満である場合、光出射構造部の製造精度の安定性は低いものとなる。よって、上記の構成によれば、部分階調範囲の数が５以下であるので、精度安定性の高い光出射構造部が設けられた表示装置を提供することができる。

前記表示装置は、最も高い前記部分階調範囲の前記第２光量値が、最も低い前記部分階調範囲の前記第２光量値の３倍以上であってもよい。

上記の構成によれば、最も高い部分階調範囲と最も低い部分階調範囲との光量値の差を大きくすることができるので、十分な階調表現を有する画像の表示を実現することができる。

前記表示装置は、ある部分階調範囲の前記第２光量値と、該部分階調範囲よりも一段階低い部分階調反値の前記第２光量値との差を光量値差とすると、全ての階調の範囲における前記光量値差が一定ではなくてもよい。

上記の構成によれば、光量値差が一定ではないので、より自然な階調表現を実現することができる。例えば、部分階調範囲が高くなるに従って光量値差を大きくすることによって、低い階調範囲での階調表現をより繊細にする、というような表示が実現できる。
前記表示装置は、前記画素領域のそれぞれに含まれる前記光出射構造部の数が同じであるとともに、前記光出射構造部の形状を異ならせることによって前記画素領域の出射光量を変化させてもよい。

前記の構成によれば、各画素領域に含まれる光出射構造部の数が同じであるので、例えば導光板を製造する際に、光出射構造部を等間隔で形成することができる。よって、製造方法によっては、製造時の制御を単純化することが可能となる。

前記表示装置は、前記光出射構造部が、入射した光の方向を変える光学面を備えるとともに、前記光出射面側から見て、前記光源から入射する光の方向に垂直な第１方向における前記光学面の長さを異ならせることによって前記画素領域の出射光量を変化させてもよい。

上記の構成によれば、例えば、第１方向に切削工具を移動させて切削することによって光出射構造部の形状を形成する場合、切削工具の切削時の第１方向への移動量を制御することによって第２方向における光学面の長さを設定することができる。よって、比較的単純な制御によって光出射構造部を製造することができる。

前記表示装置は、前記光出射構造部が、入射した光の方向を変える光学面を備えるとともに、前記光出射面側から見て、前記光源から入射する光の方向に平行な第２方向における前記光学面の長さを異ならせることによって前記画素領域の出射光量を変化させてもよい。

上記の構成によれば、例えば、前記した第１方向に切削工具を移動させて切削することによって光出射構造部の形状を形成する場合、切削工具の切削時の押し込み量を制御することによって第２方向における光学面の長さを設定することができる。よって、比較的単純な制御によって光出射構造部を製造することができる。

前記表示装置は、前記画素領域に含まれる前記光出射構造部の数を異ならせることによって前記画素領域の出射光量を変化させてもよい。

上記の構成によれば、各光出射構造部の形状を変化させることなく、出射光量を変化させることが可能となる。よって、各光出射構造部の製造に関しては同じ制御とし、画素領域毎に光出射構造部の数を変更するだけでよいことになるので、製造方法によっては製造の制御を単純化することができる。

前記表示装置は、前記光源から入射する光の方向に垂直な第１方向に並ぶ複数の前記画素領域をまたがるように、前記第１方向に延伸する光出射構造領域が複数平行に設けられているとともに、前記光出射構造領域に光出射構造部を設けるか否かによって、前記画素領域に含まれる前記光出射構造部の数を異ならせてもよい。

上記の構成によれば、例えば、第１方向に延伸する光出射構造領域に沿って切削工具を移動させながら、光出射構造部を設けるべき箇所のみで切削する、という制御によって光出射構造部の形状を形成することができる。よって、比較的単純な制御によって光出射構造部を製造することができる。

本発明の一態様によれば、表示装置においてより自然な画像表現が可能である。

実施形態１に係る表示装置の構成の概要を示す平面図である。上記表示装置の導光板に形成される、光出射構造部の形状および配置の一例を示す図である。上記導光板に表示される画像の一例を示す図である。上記光出射構造部の形状の一例を示す図である。上記画像の画素領域の階調と輝度との関係の一例を示すグラフである。画素領域の階調と輝度との関係の他の一例を示すグラフである。ある画像を上記導光板において実現した場合と、従来の導光板において実現した場合とを比較した図である。図８の（ａ）〜（ｃ）は、画素領域のピッチの変化を示す図である。図８の（ｄ）は、光出射構造領域４４を設けた導光板４を示す図である。上記光出射構造部の形状の他の一例を示す図である。図１０の（ａ）は、図９の（ｃ）に示した光出射構造部に対する反射光の指向性の関係を説明する図である。図１０の（ｂ）および（ｃ）は、図１０の（ａ）に示した光出射構造部の、導光板における配置例を示す図である。

〔実施形態１〕
≪表示装置の概要≫
以下、本発明の実施形態１について、図１〜６を用いて説明する。図１は、本実施形態に係る表示装置１の構成の概要を示す平面図である。表示装置１は図示の通り、光源制御部２と、１つ以上の光源３と、導光板４とを備える。光源制御部２は光源３の発光を制御する。１つ以上の光源３は光源群３１を形成する。各光源３は光源制御部２の制御に従って発光する。導光板４は、光源３から入射した光を導光し、その少なくとも一部を光出射面４１から出射させる。入射光を光出射面４１から出射させるために、導光板４には光出射面４１の反対面（以降、裏面と称する）に光出射構造部が形成される。

≪光出射構造部≫
図２は、導光板４に形成される光出射構造部４３の形状および配置の一例を示す図である。図示の通り、導光板４の裏面４２には、裏面４２から導光板４の内部に向けて凸形状の光出射構造部４３が複数個形成されている。光出射構造部４３は、例えば導光板４の裏面をレーザー加工で凹ませたり、マスタとなる型を作ってそれを導光板４に転写成型したりすることで成形される。

光出射構造部４３は、光源３から導光板４へ入射した光の方向を変えて光出射面４１から出射させるものである。図２に示すように、導光板４には、裏面４２から導光板４の内部に向かう凸形状の光出射構造部４３が複数個形成されている。複数個の光出射構造部４３は、出射させる光の内、最大強度の光の方向が矢印Ａ１方向に同一となるように構成されている。これにより、導光板４内に入射した光（矢印Ａ２）は、複数個の光出射構造部４３によって、出射させる光の内、最大強度の光の方向が矢印Ａ１方向に同一となるように光の方向が変更される。その結果、導光板４からは、最大強度の光の方向が矢印Ａ１方向にそろった光が出射される。

光源２からの入射光は導光板４の内部を全反射しながら導光板４の内部を伝播し、光出射構造部４３に当たると光出射面４１から出射する方向へと反射される。光出射構造部４３は、導光板４の光出射面４１をユーザが見たときに、光出射構造部４３からの反射光により所定の画像が見えるような位置および数で形成される。以降、この光出射構造部４３の形成位置および数の設定を「パターン」と称する。導光板４は、光出射構造部４３のパターンに応じた画像を、光出射面４１に表示させることができる。

≪表示画像の階調表現≫
図３は、導光板４に表示される画像（以降、表示画像と称する）の一例を示す図である。表示画像は階調を有する所定の画像である。導光板４は、表示画像の画素領域ごとに設定された階調の値（例えば０〜２５５）に応じた光量の光を出射することにより、該表示画像の陰影を表現する。なお、画素領域とは、表示画像の階調の描写の単位を示す。

図４は、光出射構造部４３の形状の一例を示す図である。光出射構造部４３は、入射した光の方向を変える光学面Ｄ１およびＤ２を備える。光出射面４１側から見て、光源３から入射する光の方向に垂直な第１方向を長さＬ、平行な第２方向を幅Ｗとする。長さＬは０．０２ｍｍ〜０．２ｍｍ、幅Ｗは０．０１ｍｍ〜０．０２ｍｍ程度のサイズであることが望ましい。

表示画像の各画素領域における光量は、光出射構造部４３の幅Ｗおよび長さＬを変更する（特に、長さＬを変更する）ことで制御することが望ましい。例えば図４に示す光出射構造部４３の場合、所定のパターンで配置した光出射構造部４３の長さＬおよび幅Ｗの少なくとも一方を光出射構造部４３によって異ならせることによって、各画素領域における光量を調節する。

これにより、例えば、長さＬの方向に切削工具を移動させて切削することによって光出射構造部４３の形状を形成する場合、切削工具の切削時の長さＬ方向への移動量を制御することによって第２方向における光学面の長さを設定することができる。よって、比較的単純な制御によって光出射構造部４３を製造することができる。

また、これにより、例えば、前記した長さＬ方向に切削工具を移動させて切削することによって光出射構造部の形状を形成する場合、切削工具の切削時の押し込み量を制御することによって幅Ｗ方向における光学面の長さを設定することができる。よって、比較的単純な制御によって光出射構造部を製造することができる。

≪表示画像の階調と輝度≫
図５は、画素領域の階調と輝度との関係の一例を示すグラフである。横軸は階調の最大値（例えば２５５）に対する割合を、縦軸はその画素領域の輝度を示す。なお、図５の例では、各画素領域に含まれる光出射構造部４３の数は一定であるとする。

図５の実線ｆ１のように、本来、画素に設定される階調の値と、輝度とは正比例の関係にあるのが理想である。しかしながら、導光板４の製造精度には限界があり、ｆ１のように階調変化と出射光量変化とを完全に対応させることはできない。光出射構造部は微細な構造であり、レーザーまたは型形成による成形の精度に限界があるためである。例えば、階調値を最大値の２０〜３０％以下、特に１０％以下とした場合、上記製造精度は特に低下する。これは、階調の値が小さくなるほど、光出射構造部４３のサイズが小さくなるためである。例えば、光出射構造部４３を図４に示した形状で成形する場合、長さＬが０．０２ｍｍ未満、または幅Ｗが０．０１ｍｍ未満のサイズの光出射構造部４３は、安定した精度で成形することが困難である。

これに対し、本実施形態に係る導光板４は、所定の範囲の階調を表示する画素領域の出射光量が、第１光量値、または、前記第１光量値よりも大きい第２光量値となるようにランダムに設定されるように、光出射構造部４３が形成される。

また、導光板４は、表示画像の全階調の範囲を、複数の部分階調範囲に分割するとともに、部分階調範囲毎に、第１光量値および第２光量値が設定されるように、光出射構造部４３が形成される。部分階調範囲の分割方法および分割数は特に限定されないが、上述した製造精度の限界に応じて定められることが望ましい。例えば、最大値の２０％以下の階調値での転写率が特に低い場合、全階調の範囲を、５以下の部分階調範囲に区切ってもよい。これにより、最も小さい光出射構造部４３のサイズを２０％以上にすることが可能となる。また、最大値の１０％以下の階調値での転写率が特に低い場合、全階調の範囲を、１０以下の部分階調範囲に区切ってもよい。これにより、最も小さい光出射構造部４３のサイズを１０％以上にすることが可能となる。したがって、精度安定性の高い光出射構造部４３が設けられた導光板４を提供することができる。

図５の例では、階調値を２０％未満、２０％以上４０％未満、４０％以上６０％未満、６０％以上８０％未満、８０％以上の５つの部分階調範囲に分割した場合を示している。この場合、各画素の光量値は、該画素の階調値が含まれる部分階調範囲の第１光量値（ｎ１〜ｎ５）または第２光量値（ｍ１〜ｍ５）のいずれかの値にランダムに設定される。そして、導光板４は、各画素について、上述のように設定された光量値が得られるように光出射構造部４３がパターン形成される。

なお、導光板４は、最も高い部分階調範囲の第２光量値が、最も低い部分階調範囲の第２光量値の３倍以上であることが望ましい。これにより、最も高い部分階調範囲と最も低い部分階調範囲との光量値の差を大きくすることができるので、十分な階調表現を有する画像の表示を実現することができる。

なお、ある部分階調範囲の第２光量値と、該部分階調範囲よりも一段階低い部分階調反値の第２光量値との差を光量値差とすると、全ての階調の範囲における前記光量値差が一定ではなくてもよい。

図６は、画素領域の階調と輝度との関係の他の一例を示すグラフである。図示の例では、部分階調範囲は３つに分けられており、第２光量値ｎ６とｎ７、およびｎ７とｎ８は異なる光量値差となる。このように、光量値差を設定することにより、より自然な階調表現を実現することができる。例えば、部分階調範囲が高くなるに従って光量値差を大きくすることによって、低い階調範囲での階調表現をより繊細にする、というような表示が実現できる。

≪階調表現の例≫
図７は、ある画像を本実施形態に係る導光板４において実現した場合と、従来の導光板において実現した場合とを比較した図である。図中の領域Ｒ１は、ある画像を導光板４で実現した場合の、該画像の一部分を示している。領域Ｒ２は、同じ画像を従来の導光板で実現した場合の、Ｒ１と同じ領域を示している。

領域Ｒ１とＲ２とを比較することで分かるように、従来の導光板では、グラデーションのように連続的に階調を変化させるような画像表現を行おうとしても、階調変化が連続的にならない。これは、上述した導光板の製造精度の限界によって、階調変化と出射光量変化とを完全に対応させることができないからである。したがって、領域Ｒ２に示すように、従来の導光板では階調変化に対する出射光量変化が段階的になるため、階調の境目領域が目立ちグラデーションが不自然になる。

一方、本実施形態に係る導光板４における光出射構造部４３のパターン形成は、製造精度が比較的低くても十分に可能である。そして、本実施形態に係る導光板４によれば、部分階調範囲毎に、出射光量が、第１光量値または第２光量値となるようにランダムに設定される。そのため、領域Ｒ１に示すように、階調の境目をぼかすことが出来るので、グラデーションのような画像表現をより自然にすることができる。

〔実施形態２〕
導光板４は、各画素領域に含まれる光出射構造部４３の数を異ならせることによって、各画素領域の出射光量を変更してもよい。以降、各画素領域における光出射構造部４３の数を「ピッチ」と称する。

図８の（ａ）〜（ｃ）は、画素領域のピッチの変化を示す図である。図示のようにピッチを変化させることで画素領域の出射光量を変化させることで、光出射構造部４３の形状を変化させることなく、出射光量を変化させることができる。よって、光出射構造部４３の製造の際、同じ制御で同じ形状の光出射構造部４３を形成し、画素領域毎に光出射構造部４３の数を変更するだけでよいことになる。したがって、製造方法によっては製造の制御を単純化することができる。

また、導光板４には、光源３から入射する光の方向に垂直な第１方向（例えば、図４の例では長さＬ方向）に並ぶ複数の画素領域をまたがるように、第１方向に延伸する光出射構造領域が複数平行に設けられていてもよい。そして、その光出射構造領域に光出射構造部４３を設けるか否かによって、画素領域に含まれる光出射構造部４３の数を異ならせてもよい。

図８は、光出射構造領域４４を設けた導光板４を示す図である。画素領域Ｐ１〜Ｐ５には、それぞれ溝状の光出射構造領域４４が設けられている。光出射構造領域４４の点線部分は、光出射構造部４３が設けられていない部分であり、実線部分は光出射構造部４３が設けられている部分である。図示の例では、画素領域Ｐ１およびＰ４には０個、画素領域Ｐ２には２個、画素領域Ｐ３およびＰ５には３個の光出射構造部４３が設けられている。

なお、光出射構造領域４４は導光板４において第１方向に並ぶ画素領域全てではなく、一部分に設けられていてもよい。例えば、画素領域Ｐ１のように、画素領域Ｐ２〜Ｐ５よりも光出射構造領域４４が少ない画素領域があってもよい。

〔実施形態３〕
導光板４に形成される光出射構造部４３は、図２および図３に示した形状以外の形状であってもよい。また、導光板４の画素領域のそれぞれに含まれる光出射構造部４３の数は同一にするとともに、光出射構造部４３の形状を異ならせることによって画素領域の出射光量を変化させてもよい。

図９の（ａ）〜（ｅ）は、光出射構造部４３の形状の他の一例を示す図である。このように、光出射構造部４３の形状が異なれば、光出射構造部４３の出射光量もそれぞれ異なる。したがって、表示画像の各画素領域における光出射構造部４３の数を同一にしつつ、各画素領域からの出射光量（すなわち、各画素領域の輝度）を変化させことができる。

そして、導光板４をこのように設計することで、例えば導光板４を製造する際に、光出射構造部４３を等間隔で形成することができる。よって、製造方法によっては、製造時の制御を単純化することができる。

図１０の（ａ）は、図９の（ｃ）に示した光出射構造部４３に対する反射光の指向性の関係を説明する図である。図９の（ｃ）および図１０の（ａ）に示すように光出射構造部４３が湾曲面を備える場合、湾曲面と平坦な面とで、反射光の拡散角度が異なる。例えば、図１０の（ａ）に示す反射面Ｓ１からの出射光は、反射面Ｓ２からの出射光よりも広角度に拡散する。したがって、反射面Ｓ１からの出射光の指向性は反射面Ｓ２からの出射光の指向性よりも低くなる。

図１０の（ｂ）および（ｃ）は、図１０の（ａ）に示した光出射構造部４３の、導光板４における配置例を示す図である。上述の通り、図１０の（ａ）に示す光出射構造部４３は、反射面Ｓ１とＳ２とで出射光の指向性が異なる。そのため、図１０の（ｂ）に示すように、光出射構造部４３を同じ向きに並べた導光板４の場合輝度を高めるために両側に光源３を設けると、両側から光を照射した場合の反射光の拡散度合いが、反射面Ｓ１が並んでいる側と、反射面Ｓ２が並んでいる側で異なる。そのため、例えばユーザが導光板４の光出射面４１を見たときに、表示画像が見える角度が狭くなる。

一方、図１０の（ｃ）に示すように、光出射構造部４３を互い違いに並べた導光板４の場合、両側の光源３から光を照射すると、反射光の拡散度合いが、反射面Ｓ１が並んでいる側と、反射面Ｓ２が並んでいる側で略等しくなる。そのため、ユーザが導光板４の光出射面４１を見たときに、表示画像が見える角度が広くなる。このように、図１０の（ｃ）に示す配置で光出射構造部４３を配置することで、表示装置１の視野角と、輝度とを両立することができる。

〔実施形態４〕
上記各実施形態に係る表示装置１は、遊技機に備えられていてもよい。以下、本発明の実施形態４について説明する。本実施形態に係る遊技機は表示装置１を備えている。遊技機は、遊技の進行に応じて表示装置１の光源制御部２を制御することにより、導光板４に画像を浮かび上がらせる。なお、表示装置１は、当該遊技機を操作するユーザの目の正面に位置するように配置されることが望ましい。遊技機の種類は特に限定しないが、例えばパチンコ及びスロット機であってもよい。

本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。

１表示装置
２光源制御部
３光源
４導光板
４１光出射面
４２裏面
４３光出射構造部

Claims

光源と、
前記光源から入射した光を導光し、その一部を光出射面から出射させる導光板とを備え、
前記導光板に、入射した光の方向を変えて前記光出射面から出射させる光出射構造部を１以上含む画素領域が設けられており、前記画素領域のそれぞれからの出射光量を変化させることによって階調を有する所定の画像を表示するとともに、
所定の範囲の階調を表示する前記画素領域の出射光量が、第１光量値、または、前記第１光量値よりも大きい第２光量値となるようにランダムに設定されており、
前記所定の画像における全ての階調の範囲を複数の部分階調範囲に分割するとともに、前記部分階調範囲毎に、前記第１光量値または前記第２光量値が設定されていることを特徴とする表示装置。
前記部分階調範囲の数が１０以下であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
前記部分階調範囲の数が５以下であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
最も高い前記部分階調範囲の前記第２光量値が、最も低い前記部分階調範囲の前記第２光量値の３倍以上であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
ある部分階調範囲の前記第２光量値と、該部分階調範囲よりも一段階低い部分階調反値の前記第２光量値との差を光量値差とすると、全ての階調の範囲における前記光量値差が一定ではないことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
前記画素領域のそれぞれに含まれる前記光出射構造部の数が同じであるとともに、前記光出射構造部の形状を異ならせることによって前記画素領域の出射光量を変化させることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の表示装置。
前記光出射構造部が、入射した光の方向を変える光学面を備えるとともに、前記光出射面側から見て、前記光源から入射する光の方向に垂直な第１方向における前記光学面の長さを異ならせることによって前記画素領域の出射光量を変化させることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
前記光出射構造部が、入射した光の方向を変える光学面を備えるとともに、前記光出射面側から見て、前記光源から入射する光の方向に平行な第２方向における前記光学面の長さを異ならせることによって前記画素領域の出射光量を変化させることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
前記画素領域に含まれる前記光出射構造部の数を異ならせることによって前記画素領域の出射光量を変化させることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の表示装置。
前記光源から入射する光の方向に垂直な第１方向に並ぶ複数の前記画素領域をまたがるように、前記第１方向に延伸する光出射構造領域が複数平行に設けられているとともに、
前記光出射構造領域に光出射構造部を設けるか否かによって、前記画素領域に含まれる前記光出射構造部の数を異ならせることを特徴とする請求項９に記載の表示装置。
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の表示装置を備えており、
遊技の進行に応じて前記表示装置での表示が行われることを特徴とする遊技機。