JP6499754B2 - イオンミリング装置、及びイオンミリング方法 - Google Patents
イオンミリング装置、及びイオンミリング方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6499754B2 JP6499754B2 JP2017520089A JP2017520089A JP6499754B2 JP 6499754 B2 JP6499754 B2 JP 6499754B2 JP 2017520089 A JP2017520089 A JP 2017520089A JP 2017520089 A JP2017520089 A JP 2017520089A JP 6499754 B2 JP6499754 B2 JP 6499754B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- gas
- ion gun
- sample
- gas injection
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J27/00—Ion beam tubes
- H01J27/02—Ion sources; Ion guns
- H01J27/04—Ion sources; Ion guns using reflex discharge, e.g. Penning ion sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
- H01J37/08—Ion sources; Ion guns
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/02—Details
- H01J37/24—Circuit arrangements not adapted to a particular application of the tube and not otherwise provided for
- H01J37/243—Beam current control or regulation circuits
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/305—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching
- H01J37/3053—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for casting, melting, evaporating or etching for evaporating or etching
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/006—Details of gas supplies, e.g. in an ion source, to a beam line, to a specimen or to a workpiece
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/02—Details
- H01J2237/022—Avoiding or removing foreign or contaminating particles, debris or deposits on sample or tube
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/06—Sources
- H01J2237/08—Ion sources
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
しかし、特許文献1に記載の発明は、堆積物の処理について考慮していない。
図1は、本実施形態におけるイオンミリング装置100の構成を示す概略図である。
試料保持部材31は、任意の手段により試料Sを保持する部材である。試料保持部材設置部41は、試料保持部材31が設置され、試料室5が大気圧に開放されたときに試料室5の外へ引き出すことができる様に構成されている。試料保持部材駆動部44は、試料保持部材31が所定の方法により駆動可能に構成されている。即ち、試料保持系3は、試料室5の内部で試料Sを保持する。
粗引きポンプは、高真空ポンプが運転可能な圧力まで真空引き可能なポンプである。粗引きポンプとしては、例えば、135/162L/min(単相100V50/60Hz)の排気容量である真空ポンプが挙げられる。高真空ポンプとしては、例えば、ターボ分子ポンプが挙げられる。
イオンガン1は、アノード11と、アノード11を挟み込む様に配置された一対のカソード12、13と、加速電極14と、磁石15と、ガス導入口16と、を含んで構成される。
又、アノード11は、インシュレータ(図示省略)により、カソード12、カソード13、及び、磁石15に対して電気的に絶縁されている。
イオンガン1に導入される放電ガス(イオン化ガス)は、例えば、アルゴン、ヘリウム、キセノン等の希ガスが挙げられる。
イオンガン1のイオン化室17内のアノード11に囲まれた空間にガス導入口16により放電ガスGを導入する。イオンガン1のイオン化室17内のアノード11に囲まれた空間において、適切ガス分圧を保った状態で、放電電源81によりアノード11とカソード12、13間に数kV程度の電圧を印加する。アノード11は、カソード12及びカソード13に対して正の電圧が印加される。カソード12、13は、アノード11に対して負の電圧が印加され、表面から電子を放出する。
例えば、図5Aに示す様に、本実施形態におけるビーム電流検出板21は、イオンガン1の対向面にビーム電流検出領域22、ビーム電流遮断領域26、ガスノズル口23をこの順に備え、試料S側(反対側)にノズル挿入口25、ノズル固定冶具24を備える。
ガス噴射ノズル2は、例えば、ネジが切ってある部分を有し、このネジ部分と噛み合い対をなす歯車の回転により、少なくとも鉛直方向の1軸上を移動可能(上下動可能)に構成される。これらネジ部分は、例えば、外周にネジが切ってある円筒形の別体の部材(歯車)をガス噴射ノズル2に挿通することで構成されてもよい。
前記のとおり、制御系6は、制御部61と、操作部62と、表示部63と、を含んで構成される。制御部61は、演算処理部、記憶部、入力部、及び、出力部を含んで構成される。
制御部61は、イオンガン1内を整備中である旨を表示する信号を出力部に伝達し、出力部の表示等により使用者に知らせてもよい。
制御部61は、ビーム電流検出板21の移動に合わせて、ガス噴射ノズル2を繰り出して、イオンガン1の開口に近付けてもよい。
堆積物Dのイオンガン1からの排出については、後記する実施形態4で説明する。
制御部61は、真空引き系7に信号を送信して真空引き系7のポンプによりイオンビームBが射出可能な圧力まで試料室5内及びイオンガン1内を真空引きする(S8)。高真空引き用のポンプの作動は、試料室5内の状態が安定した後でもよい。
制御部61は、入力部を構成する圧力センサによって、試料室5内が真空引きされていることを確認する。
そして、制御部61は、加工条件の入力、加工開始ボタンの押下等使用者による操作を待つ(待機)。
ここでは、試料加工中における堆積物Dの検知、及び、堆積物Dの処理について説明する。
加速電極14と加速電源82に流れる電流を測定して、所定時間(例えば、5分間)における電流変動が大きくなった場合(例えば、5%以上)は、イオンガン1の放電が不安定であると判定してもよい。
なお、イオンガン1の状態の確認は、試料Sの加工と並行して1分ごと、3分ごと等適宜時間間隔を空けて行ってもよい。
なお、ビーム電流検出板21の移動(S12)と、ガス噴射ノズル2の繰り出し(S13)は、同時に行ってもよい。
堆積物Dのイオンガン1からの排出については、後記する実施形態4で説明する。
なお、ビーム電流検出板21の移動と、ガス噴射ノズル2の繰り出しは、同時に行ってもよい。
又は、制御部61は、イオンガン1に放電電圧を印加して電極間の短絡やイオンガン1の放電の不安定がない(前記電極間の短絡や放電の不安定の判断基準に該当しない)ことを確認してから、一時中断した試料Sの加工を再開してもよい。
更に、制御部61は、試料Sの加工の失敗を防止するため、安全のため、試料Sの加工を中断すると共に、その旨を表示部63に表示してもよい。
本実施形態は、ガス噴射ノズルの挿入位置を第1実施形態から変更した形態であり、イオンガンの開口とは反対側に位置するカソード12aにガス噴射ノズルの挿入口18aを設けて、イオンガン1aの内部にガス噴射ノズル2aを挿入する形態である。
図8Aは、本実施形態におけるガス噴射ノズル挿入口18aをカソード12aに設けたイオンガン1aのカソード12aを示す概略模式図である。図8Bは、本実施形態におけるガス噴射ノズル挿入口18aをカソード12aに設けたイオンガン1aの断面模式図である。
イオンガン1の開口とは反対側に位置するカソード12aにガス噴射ノズル2の挿入口18aを設けることで、アノード11とカソード12aの近傍に噴射ガスJを噴射しやすくなり、噴射ガスJの噴射圧力を低くすることが可能となる(図8B参照)。噴射ガスJの噴射圧を低くすることで、アルゴン等の噴射ガスJの使用量を削減できる。アノード11とカソード12aを短絡する堆積物(図示省略)がガス噴射ノズル2aによるガス噴射により処理(除去)されやすくなる。
本実施形態は、ガス噴射ノズルの挿入位置を第1実施形態から変更した形態であり、イオンガン1bの磁石15bにガス噴射ノズル2bの挿入口18bを設けてイオンガン1bの内部にガス噴射ノズル2bを挿入する形態である。
図9は、本実施形態におけるガス噴射ノズル挿入口18bを磁石15bに設けたイオンガン1bの断面模式図である。
本実施形態は、イオンガンに堆積物の排出口を設けた形態であり、イオンガンの磁石に排出口(排気口)を設けた形態である。
図10Aは、本実施形態における磁石15cに排出口を設けたイオンガン1cを示す概略模式図である。図10Bは、本実施形態におけるにおけるイオンガン1cの磁石15cを示す概略模式図である。
なお、堆積物Dの排出口19は、本発明の必須の構成要件ではない。
本実施形態は、ビーム電流検出板にコーティング用のターゲットを備えた形態である。
コーティングは、試料台を回転しながら、又は、角度を連続的に変えながら行ってもよい。これにより、凹凸の激しい試料に対しても均一にコーティングすることが可能となる。
本実施形態は、1台のイオンミリング装置で2種類の異なるミリング加工を可能とする形態である。本実施形態における試料保持系3は、断面ミリング加工と平面ミリング加工の両方を行うことができる。
この着脱は、人手によって、若しくは適当な器具によって行う。
操作部62には、加工モード設定部、試料台動作条件設定部、回転機構動作条件設定部、ガス噴射条件設定部が備わる。
本実施形態は、第6実施形態におけるイオンミリング方法において、制御部61で加工の種類に対応した適切な試料保持部材31であるか確認を行う実施形態である。
図13は、本実施形態におけるイオンミリング方法の加工種類とイオンミリング装置の状態を比較して、正確な装置設定を操作者に促す表示をするためのフローチャートである。
ここで、制御部61は、いずれの加工が選択されたか判断し(S22)、選択された加工に見合った試料保持部材31が試料保持部材設置部41に設置されているかを判断する(S23、又は、S26)。
制御部61は、試料台32の傾斜角が適正に設定されていることを確認した上で、回転体42の往復傾斜駆動の条件の入力を可能とする状態に移行する(S25)。
又、試料保持部材設置部41(ステージ51)が傾斜していた場合(傾斜角0°以外の場合)、非傾斜状態となる様に、制御部61は、試料保持部材設置部41(試料保持部材駆動部)を制御する様にしても良い。
本変形例は、ガス噴射ノズルの挿入に利用するビーム電流検出板を第1実施形態から変更した変形例であり、ビーム電流検出板にノズル挿入口、ガスノズル口を設けることなく、ガス噴射ノズルを配置する形態である。
ビーム電流検出板は、横長の形状であり、ビーム電流検出板の側面に沿って管状の部材を設け、端部をガスノズル口とした構成としてもよい。この構成の場合、ビーム電流検出板は、少なくとも水平方向の1軸上を左右動する。
ビーム電流検出板は、同様に、横長の形状であり裏面に沿って管状の部材を設け、下端に管状の部材の端部を配置し、端部をガスノズル口として構成してもよい。この構成の場合、ビーム電流検出板は、鉛直方向を上下動するだけではなく、水平方向を左右動してもよい。
いずれの場合であっても、噴射ガスを噴射して堆積物を処理(除去)する効果に第1実施形態との差異はない。
第1実施形態においては、ガス噴射の際に試料保持系を移動させていないが、試料保持系を加工位置から退避させて、ガス噴射ノズルをイオンガンの開口(射出口)に直接挿入してもよい。又、ガス噴射ノズルをイオンガンの開口からイオンガンの内部まで挿入してもよい。
本変形例は、第1実施形態における加速電極に向けてガスを噴射するステップ(S14)と、ガス噴射ノズルをイオンガン内に挿入するステップ(S15)の間に、電極の短絡及び放電不安定が解消したか否か確認するステップを設けた形態である。
第1実施形態においては、試料Sのイオンミリング(イオンビーム加工)前に噴射ガスを噴射してイオンガンの整備を行っている。しかし、イオンミリング装置の電源投入時に同様の手順で噴射ガスをイオンガン内部に噴射して、イオンガンの整備を行ってもよい。イオンビーム加工終了後に同様の手順で噴射ガスを噴射して、イオンガンに堆積した堆積物を処理(除去)してもよい。
第1実施形態においては、ビーム電流検出板21を利用してガス噴射ノズル2をイオンガン1の内部に挿入している。しかし、ビーム電流検出板21を利用することなく、例えば、ロボットアームを利用してガス噴射ノズル2をイオンガン1の内部に挿入してもよい。この構成であっても、発明の効果に差異はない。
第1実施形態においては、噴射ガスの噴射による堆積物の処理を制御系6の制御により行う場合について説明したが、使用者が必要に応じて堆積物の処理を行う様に構成してもよい。この場合、操作部62に手動開始用のスイッチを設ける。この構成であっても、発明の効果に差異はない。
本変形例は、第1実施形態におけるイオンガンを冷陰極型直流放電(グロー放電)方式のイオンガンに変更した変形例である。
本変形例において使用するイオンガンは、アノードと、カソードと、アノードとカソードとを絶縁する絶縁体と、イオン化室を含んで構成される。
イオン化室内の絶縁体で絶縁されたアノードとカソードの両電極間に高電圧を印加する。イオン化室内に放電に適した圧力となる様に不活性ガスを導入する。これにより、両電極間でグロー放電を起こす。このグロー放電により発生した不活性ガスのイオンの一部が、陰極であるカソードに設けた開口部からイオンビームとして射出される。
本変形例は、第1実施形態におけるイオンガンを熱陰極型直流放電(アーク放電)方式のイオンガンに変更した変形例である。
本変形例において使用するイオンガンは、プラズマ生成室と、アノードと、カソードと、ソレノイドコイル、引出電極を含んで構成される。
カソードに電極電源から電流を流して、熱電子を発生させた状態において、プラズマ生成室内に放電に適した圧力となる様に不活性ガスを導入する。アーク電圧を印加して、プラズマ生成室内のアノードとカソードの両電極間でアーク放電を起こす。このアーク放電により不活性ガス分子が、熱電子と激しく衝突して電離し、イオン化する。プラズマ生成室内では、不活性ガスイオン、電子、不活性ガスが混在して、全体として電荷が中性のプラズマが存在する。発生した不活性ガスのイオンの一部が、プラズマ生成室の開口に設けた引出電極により引き寄せられて、引出電極の開口部からイオンビームとして射出される。
又、加速電極と減速電極は、中央部がいずれも、中央部が試料室側に膨出する様に若干量湾曲していてもよい。
本変形例は、第1実施形態におけるイオンガンを高周波放電方式のイオンガンに変更した変形例である。
引出電極は、加速電極、減速電極から構成されている。加速電極と減速電極は、プラズマ拡張室から試料室に向けてこの順に間隔を開けて対向配置されている。加速電極と減速電極の間隔は、例えば、1.5mm〜2.0mm程度である。
又、引出電極として、接地電極が試料側に設けられてもよい。接地電極は、接地、又は接地に対して−100V未満の電圧が印加される。これにより、イオンビームが安定的に引き出される。
本変形例は、第1実施形態におけるイオンガンをマイクロ波放電型イオンガンに変更した変形例である。
本変形例において使用するイオンガンは、プラズマ生成室と、プラズマ拡張室と、ソレノイドコイル、磁石、加速手段とを含んで構成される。
第1〜7実施形態におけるイオンガンは、分解整備のために交換可能に構成されていてもよい。又、イオンガンは、1つに限られず複数備えられていてもよい。この構成であっても、発明の効果に差異はない。
イオンガンの放電を起こす方式によらず、アノード、カソード、加速電極、引出電極等、少なくとも電極を一つ備え、イオンビームが照射されることによりいずれかの電極において堆積物が付着する可能性を有するイオンガンであれば、本願発明の効果が得られる。
2 ガス噴射ノズル
3 試料保持系
5 試料室
6 制御系
7 真空引き系
8 電源系
11 アノード
12 カソード
13 カソード
14 加速電極
15 磁石
16 ガス導入口
17 イオン化室
18 ノズル挿入口
19 排出口
20 放電領域
21 ビーム電流検出板(シャッタ)
22 ビーム電流検出領域
23 ガスノズル口
24 ノズル固定冶具
25 ノズル挿入口
26 ビーム電流遮断領域
27 ターゲット
31 試料保持部材
32 試料台
33 遮蔽部
34 試料遮蔽ユニット
35 試料遮蔽ユニット微動機構
41 試料保持部材設置部
42 回転体
43 遮蔽ユニット固定部
44 試料保持部材駆動部
51 試料ステージ
52 フランジ
53 リニアガイド
54 加工観察窓
55 シャッタ
61 制御部
62 操作部
63 表示部
81 放電電源
82 加速電源
100 イオンミリング装置
B ビーム
C 導電性コーティング膜
D 堆積物
G 放電ガス
J 噴射ガス
S 試料
Claims (18)
- イオンビームを発生するイオンガンと、
前記イオンガンにより発生させたイオンビームによる照射加工が行われる真空状態を維持可能である試料室と、を備えるとともに、
前記イオンガンの内部に向けてガスを噴射するガス噴射手段を前記試料室内に備える
ことを特徴とするイオンミリング装置。 - イオンビームを発生するイオンガンと、
前記イオンガンにより発生させたイオンビームによる照射加工が行われる真空状態を維持可能である試料室と、
前記イオンガンの内部に向けてガスを噴射するガス噴射手段と、
前記ガス噴射手段を保持するガス噴射手段保持機構を有するイオンビーム電流検出板と、を備える
ことを特徴とするイオンミリング装置。 - イオンビームを発生するイオンガンと、
前記イオンガンにより発生させたイオンビームによる照射加工が行われる真空状態を維持可能である試料室と、
前記イオンガンの内部に向けてガスを噴射するガス噴射手段と、
コーティング用のターゲットを有するイオンビーム電流検出板と、を備える
ことを特徴とするイオンミリング装置。 - 前記ガス噴射手段は、前記イオンガンに付着した付着物にガスを噴射して前記付着物を移動させることにより、イオンビームの照射を再開させる、又は、イオンビームの照射を安定させる
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちいずれか1項に記載のイオンミリング装置。 - 前記イオンガンは、前記ガス噴射手段を内部に挿入するガス噴射手段挿入口を備える
ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のうちいずれか1項に記載のイオンミリング装置。 - イオンビームを発生するイオンガンと、
前記イオンガンにより発生させたイオンビームによる照射加工が行われる真空状態を維持可能である試料室と、を備え、
前記イオンガンは、内部に配置されて正電圧が印加されるアノード、前記アノードとの間に電位差を発生させることによってイオンを発生させるカソード、前記イオンガンの内部に磁場を形成する磁石、及び、前記イオンガンの内部にガスを供給するガス供給口、を含んで構成され、
前記ガス供給口とは異なる手段であるガスを噴射するガス噴射手段を前記試料室内に備え、
前記ガス噴射手段は、前記イオンガンに付着した付着物にガスを噴射して前記付着物を移動させることにより、イオンビームの照射を再開させる、又は、イオンビームの照射を安定させる
ことを特徴とするイオンミリング装置。 - イオンビームを発生するイオンガンと、
前記イオンガンにより発生させたイオンビームによる照射加工が行われる真空状態を維持可能である試料室と、を備え、
前記イオンガンは、内部に配置されて正電圧が印加されるアノード、前記アノードとの間に電位差を発生させることによってイオンを発生させるカソード、前記イオンガンの内部に磁場を形成する磁石、及び、前記イオンガンの内部にガスを供給するガス供給口、を含んで構成され、
前記ガス供給口とは異なる手段であるガスを噴射するガス噴射手段と、前記ガス噴射手段を保持するガス噴射手段保持機構を有するイオンビーム電流検出板と、を備え、
前記ガス噴射手段は、前記イオンガンに付着した付着物にガスを噴射して前記付着物を移動させることにより、イオンビームの照射を再開させる、又は、イオンビームの照射を安定させる
ことを特徴とするイオンミリング装置。 - イオンビームを発生するイオンガンと、
前記イオンガンにより発生させたイオンビームによる照射加工が行われる真空状態を維持可能である試料室と、を備え、
前記イオンガンは、内部に配置されて正電圧が印加されるアノード、前記アノードとの間に電位差を発生させることによってイオンを発生させるカソード、前記イオンガンの内部に磁場を形成する磁石、及び、前記イオンガンの内部にガスを供給するガス供給口、を含んで構成され、
前記ガス供給口とは異なる手段であるガスを噴射するガス噴射手段と、コーティング用のターゲットを有するイオンビーム電流検出板と、を備え、
前記ガス噴射手段は、前記イオンガンに付着した付着物にガスを噴射して前記付着物を移動させることにより、イオンビームの照射を再開させる、又は、イオンビームの照射を安定させる
ことを特徴とするイオンミリング装置。 - 前記イオンガンは、前記ガス噴射手段を挿入するガス噴射手段挿入口を前記磁石に備える
ことを特徴とする請求項6乃至8のうちいずれか1項に記載のイオンミリング装置。 - 前記イオンガンは、前記ガス噴射手段を挿入するガス噴射手段挿入口を前記カソードに備える
ことを特徴とする請求項6乃至8のうちいずれか1項に記載のイオンミリング装置。 - イオンミリング装置が備えるガス噴射手段によりイオンガンに向けてガスを噴射して、前記イオンガンに付着した付着物を移動させるに際し、
前記イオンミリング装置は、前記ガス噴射手段を保持するガス噴射手段保持機構を有するイオンビーム電流検出板を備え、
前記ガス噴射手段は、前記ガス噴射手段保持機構により保持されて、ガスを噴射する
ことを特徴とするイオンミリング方法。 - 前記イオンガンの放電が停止した場合に、前記ガス噴射手段によりガスを噴射して、前記イオンガンに付着した付着物を移動させる
ことを特徴とする請求項11に記載のイオンミリング方法。 - 前記イオンガンの放電終了後、又は、放電開始前に、前記ガス噴射手段によりガスを噴射して、前記イオンガンに付着した付着物を移動させる
ことを特徴とする請求項11に記載のイオンミリング方法。 - 前記ガス噴射手段は、前記イオンガンの内部にガスを供給するガス供給口とは異なる手段である
ことを特徴とする請求項11に記載のイオンミリング方法。 - 前記ガス噴射手段は、前記イオンガンに備わるガス噴射手段挿入口から前記イオンガンの内部に挿入されて、ガスを噴射する
ことを特徴とする請求項11に記載のイオンミリング方法。 - 試料室、及び、前記イオンガンの排気を行う高真空排気手段を停止した後、前記ガス噴射手段によるガスの噴射を行う
ことを特徴とする請求項11に記載のイオンミリング方法。 - 前記イオンガンは、
前記イオンガンの内部に配置されて正電圧が印加されるアノード、
前記アノードとの間に電位差を発生させることによってイオンを発生させるカソード、
前記イオンガンの内部に磁場を形成する磁石、及び、
前記イオンガンの内部にガスを供給するガス供給口、を含んで構成される
ことを特徴とする請求項11に記載のイオンミリング方法。 - イオンミリング装置が備えるガス噴射手段によりイオンガンに向けてガスを噴射して、前記イオンガンに付着した付着物を移動させるに際し、
前記イオンミリング装置は、コーティング用のターゲットを備えるイオンビーム電流検出板を備え、
コーティング用のターゲットにイオンビームを照射して試料をコーティングする
ことを特徴とするイオンミリング方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/JP2015/064884 WO2016189614A1 (ja) | 2015-05-25 | 2015-05-25 | イオンミリング装置、及びイオンミリング方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016189614A1 JPWO2016189614A1 (ja) | 2018-03-15 |
JP6499754B2 true JP6499754B2 (ja) | 2019-04-10 |
Family
ID=57393026
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017520089A Active JP6499754B2 (ja) | 2015-05-25 | 2015-05-25 | イオンミリング装置、及びイオンミリング方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10192710B2 (ja) |
JP (1) | JP6499754B2 (ja) |
WO (1) | WO2016189614A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11742178B2 (en) * | 2019-08-23 | 2023-08-29 | Hitachi High-Tech Corporation | Ion milling device and milling processing method using same |
WO2021152726A1 (ja) * | 2020-01-29 | 2021-08-05 | 株式会社日立ハイテク | イオンミリング装置 |
WO2022249371A1 (ja) * | 2021-05-27 | 2022-12-01 | 株式会社日立ハイテク | イオンミリング装置 |
KR20240046301A (ko) | 2021-10-01 | 2024-04-08 | 주식회사 히타치하이테크 | 이온 밀링 장치 |
CN116453925B (zh) * | 2023-06-16 | 2023-08-25 | 通威微电子有限公司 | 磁控增强等离子抛光装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62180944A (ja) | 1986-02-05 | 1987-08-08 | Hitachi Ltd | イオン打込装置用イオン源 |
JPH03205740A (ja) | 1990-01-08 | 1991-09-09 | Hitachi Ltd | 荷電粒子源 |
JPH06290723A (ja) | 1993-03-30 | 1994-10-18 | Canon Inc | イオンビーム装置 |
US6268608B1 (en) * | 1998-10-09 | 2001-07-31 | Fei Company | Method and apparatus for selective in-situ etching of inter dielectric layers |
JP4374487B2 (ja) | 2003-06-06 | 2009-12-02 | 株式会社Sen | イオン源装置およびそのクリーニング最適化方法 |
US7640832B2 (en) * | 2003-07-24 | 2010-01-05 | Hunter Engineering Company | Method and apparatus for resurfacing brake rotors |
EP2248153B1 (en) * | 2008-02-11 | 2016-09-21 | Entegris, Inc. | Ion source cleaning in semiconductor processing systems |
JP6068044B2 (ja) | 2012-08-09 | 2017-01-25 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット供給装置の制御方法、および、ターゲット供給装置 |
JP6100619B2 (ja) | 2013-06-04 | 2017-03-22 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | イオン源およびイオンミリング装置 |
-
2015
- 2015-05-25 WO PCT/JP2015/064884 patent/WO2016189614A1/ja active Application Filing
- 2015-05-25 JP JP2017520089A patent/JP6499754B2/ja active Active
- 2015-05-25 US US15/574,873 patent/US10192710B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20180130630A1 (en) | 2018-05-10 |
JPWO2016189614A1 (ja) | 2018-03-15 |
US10192710B2 (en) | 2019-01-29 |
WO2016189614A1 (ja) | 2016-12-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6499754B2 (ja) | イオンミリング装置、及びイオンミリング方法 | |
US20040075060A1 (en) | Method of cleaning ion source, and corresponding apparatus/system | |
US7090754B2 (en) | Sputtering device | |
TWI436412B (zh) | 製造已清潔的基材或被進一步處理的潔淨的基材之方法及設備 | |
JP4307628B2 (ja) | Ccp反応容器の平板型ガス導入装置 | |
US20110204252A1 (en) | Focused ion beam apparatus | |
JP2004162138A (ja) | プラズマ支援スパッタ成膜装置 | |
KR101116829B1 (ko) | 하이퍼서멀 빔을 제조하는 방법 및 장치 | |
JP2010168648A (ja) | 成膜装置及び基板の製造方法 | |
CN112708858B (zh) | 磁控液体阴极电弧等离子体蒸发离化源、镀膜装置及方法 | |
US5843293A (en) | Arc-type evaporator | |
JPH11335832A (ja) | イオン注入方法及びイオン注入装置 | |
JPH08222553A (ja) | 処理装置及び処理方法 | |
JP2007250523A (ja) | 荷電粒子照射装置及び荷電粒子制御方法 | |
JP2008038197A (ja) | プラズマ成膜装置 | |
EP2838323A1 (en) | Plasma generation device, vapor deposition device, and plasma generation method | |
CN110718440B (zh) | 原子层刻蚀设备及刻蚀方法 | |
JP2848590B1 (ja) | 電子ビーム励起プラズマ発生装置 | |
JPH06325711A (ja) | スパッタ型イオン源 | |
RU2423754C2 (ru) | Способ и устройство для изготовления очищенных подложек или чистых подложек, подвергающихся дополнительной обработке | |
KR101954541B1 (ko) | 자기장 최적화를 위한 이온원 장치 | |
JP2006344387A (ja) | 電子ビーム表面改質方法及び装置 | |
JPH0874052A (ja) | イオンビームスパッタ装置、イオンビームスパッタ方法 | |
TW202204651A (zh) | 電漿槍、成膜裝置及負離子生成裝置 | |
CN115341170A (zh) | 一种自动互为阴阳极电弧源清洗装置及镀膜机 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20171110 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180925 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20181101 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190226 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190315 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6499754 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |