JP6493170B2 - 熱電材料 - Google Patents

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本発明は熱電材料に関する。詳しくは、特定のドーパントを含有するマグネシウムシリサイド系の熱電材料に関する。
工場、自動車、及び電子機器等から排出される熱を有効利用するため、熱エネルギーを電気エネルギーに変換する熱電素子が検討されている。
熱電素子に用いられる材料としては、例えば、Mg−Si(マグネシウムシリサイド)系、Bi−Te系、Pb−Te系、SI−Ge系、及びFe−Si系等が知られている。
例えば、特許文献1には、Mg−Si系の熱電材料にドーパントを含有させることにより、熱電変換特性をより高める技術が開示されている。
特開2014−192468号公報
Mg−Si系材料に含有されるドーパントとしては、例えば、B、P、Sb、Bi、Cu、Au、Fe、Al等が知られている。しかしながらこれらの金属の多くは、融点が高いため、低温(例えば1,000℃未満)の熱処理条件下で主相であるマグネシウムシリサイドと固溶化することは困難である。
ドーパントとして一般に使用される金属の融点を下記に示す。
B:2,300℃
Al:660.32℃
P:590℃
Sb:630.7℃
Bi:271℃
Cu:1,083℃
Au:1,064℃
Fe:1,535℃
従って、従来技術においては、ドーパントを含有する熱電材料は1,000℃以上の高温における熱処理を経て製造されている。しかし、このような高温は、主相を構成するMgの融点(1,090℃)に近く、或いはこれを超えるから、Mgの蒸発による組成ズレ、不純物の混入、酸化等の不都合を伴い、熱電性能が損なわれる場合が多い。
ドーパントとして一般に使用される金属の融点を下記に示す。
B:2,300℃
Al:660.32℃
P:590℃
Sb:630.7℃
Bi:271℃
Cu:1,083℃
Au:1,064℃
Fe:1,535℃
融点が低いAl、Sb、Bi等は、低温熱処理におけるドーパントとして有望である。しかし、いずれも熱拡散速度が遅いため、マグネシウムシリサイド相中に安定に固溶せず、主相と分離した相として存在する。図15に、SbをドープしたMg−Si系材料の断面SEM像を示す。この図の白く見える部分はSb濃度が高い領域である。
本発明は、上記のような現状に鑑みてなされた。その目的は、低温における熱処理によって容易に固溶化することのできるマグネシウムシリサイド系の熱電材料を提供することである。
本発明者らは、上記の目的を達成すべく鋭意検討を行った。その結果、特定の金属元素を特定の割合で組み合わせて用いることにより、低温処理によって容易に固溶化してn型半導体性を発現するマグネシウムシリサイド系熱電材料が得られることを見出し、本発明を完成させた。
本発明は、MgSi中に0.2〜1.0at%のドーパントを含有し、
前記ドーパントがSbBi1−x(x=0.1〜0.6)である
ことを特徴とする、熱電材料に関する。
本発明によると、低温処理によって容易に固溶化してn型半導体性を発現するマグネシウムシリサイド系熱電材料が提供される。
図1は、実施例において熱処理を行うために使用した石英管の概略図である。 図2は、である実施例において成形した原料混合物のペレットの斜視図である。 図3は、実施例において熱処理を行うために使用した耐熱容器の概略図である。 図4は、実施例における熱処理時の温度履歴を示すグラフである。 図5は、実施例における焼結時の温度履歴を示すグラフである。 図6は、SbBi1−xにおけるxに対してパワーファクターPFをプロットしたグラフである。 図7は、SbBi1−xにおけるxに対して無次元性能指数ZTをプロットしたグラフである。 図8は、施例1で得られた試料の断面SEM像である。 図9は、実施例2で得られた試料の断面SEM像である。 図10は、実施例3で得られた試料の断面SEM像である。 図11は、実施例4で得られた試料の断面SEM像である。 図12は、比較例1で得られた試料の断面SEM像である。 図13は、比較例2で得られた試料の断面SEM像である。 図14は、比較例3で得られた試料の断面SEM像である。 図15は、SbをドープしたMg−Si系材料の断面SEM像である。
以下、本発明に係る熱電材料及びその製造方法の実施形態を詳細に説明する。なお、以下に示す実施形態は、本発明を限定するものではない。
本発明の熱電材料は、MgSi中に0.2〜1.0at%のドーパントを含有する。このドーパントはSbBi1−x(X=0.1〜0.6)である。
MgSiは、これらの元素の一部がGe、Sn等の他の元素で置換されていてもよい。
上記の化学式中のxは、熱電変換のパワーファクターPF及び無次元性能指数ZTの双方を、従来技術に比べて有意に高く発現させるために、0.1〜0.6の範囲から選択されることが好ましい。また、MgSi中のドーパントの含有量は、マグネシウムシリサイドの熱電特性を減殺しない範囲でドーパントの添加効果を効果的に発現させるとの観点から、0.2〜1.0at%の範囲から選択されることが好ましい。ここで、ドーパントの添加量とは、熱電材料中に含有される全金属原子(Siを含む)中に占める、Sb及びBiの合計の原子数の割合である。
本発明の熱電材料におけるドーパントとしては、Sb及びBi以外に、B、P、Cu、Al、Au、Fe等の他のドーパント元素を含んでいてもよい。
熱電材料中の酸素原子の含有量(残存酸素濃度)は、0.46wt%以下とすることが好ましい。残留酸素濃度がこの範囲にあれば、材料中の移送の発生が抑制され、且つ熱電性能を高く維持することができるため、好ましい。
上記のような組成の熱電材料は、比較的低温における熱処理で容易に固溶化して生成することができ、しかもPF及びZTの熱電性能に優れる。従って本発明の熱電材料は、熱電素子の性能向上及びコストの低減の双方に資するものである。
以下、本発明の熱電材料の製造方法について説明する。以下に記載する方法は、本発明の熱電材料を製造するための方法の一例であり、本発明の熱電材料を以下に記載の方法によって製造されたものに限定する趣旨ではない。
本発明の熱電材料は、原料金属を混合して原料混合物を調製し、好ましくはこれをペレット状に成形した後、熱処理することにより、製造することができる。熱処理後に更に焼結処理を行うことも、好ましい態様である。
原料混合物中の原料金属の混合割合は、熱電材料における所望の組成に準じて適宜に設定されてよい。
例えば、Mg:Siの比は、原子比として2:1とすることができる。ここで、Mgの使用割合を理論当量から少し過剰になるように設定することも好ましい態様である。この場合の過剰量は任意であるが、例えば10at%以下、好ましくは7at%の数値を例示することができる。
Sb及びBiは化学式SbBi1−xにおける所望のxの値を考慮した混合割合で、Sb及びBiの合計量が熱電材料中に含有される全金属原子(Siを含む)に対して0.2〜1.0at%となる範囲で選択される。
これら以外の任意添加成分の原料も、原料混合物に混合されてよい。
原料混合物は、熱処理に際して任意の形状(例えばペレット状)に成形することが好ましい。熱処理は、絶対圧として好ましくは10kPa以下の真空下で行うことが、不要な酸素の取り込みを抑制できる点で適切である。熱処理温度は1,000℃以下とすることができ、好ましくは890℃以下とすることができる。熱処理時間は任意であるが、例えば20時間の数値を例示することができる。
熱処理後の材料は、次いで、焼結処理を行うことが好ましい。このとき、所謂「つなぎ」として、例えばAlを例えば2wt%添加することも好ましい態様である。
焼結処理は、例えば放電プラズマ焼結等の適宜の焼結方法によることができる。
このようにして本発明の熱電材料を製造することができる。本発明の熱電材料は、例えば、熱電変換モジュール、熱電冷却、光通信等の分野における熱電素子として好適に使用することができる。
以下、実施例によって本発明を更に具体的に説明する。しかしながら本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
以下の実施例及び比較例における原料金属としては、以下の市販品を使用した。
Mg:(株)高純度化学研究所製、品名「MGE02PB純度2N5」、180μm以下粉末
Si:(株)高純度化学研究所製、品名「SIE19PB純度3Nup」、45μm以下粉末
Sb(比較例2以外):(株)高純度化学研究所製、品名「SBE13PB純度2N」、38μm以下粉末
Sb(比較例2):液相還元法により合成した粒径<0.1μmのSb粉末
Bi:(株)高純度化学研究所製、品名「BIE11PB純度3N」、1〜2μm粉末
Al:(株)高純度化学研究所製、品名「ALE11PB純度3NG」、3μm粉末
<実施例1>
(1)熱電材料の製造
Mg4.000g及びSi2.076g(Mg:Si=2:1(原子比)からMgが7at%過剰となる割合)、並びにSb0.058g及びBi0.050g(ドーパント量0.3wt%、SbBi1−xにおけるx=0.6)を秤量し、混合して原料混合物を得た。この原料混合物を100MPaの圧力でプレスして、直径10mmのペレット16とした(図2)。
このペレット16をカーボン坩堝14内に収納し、コック12を備えた石英管10内に設置した(図1)。次いで、石英管10の内部を絶対圧10kPaに減圧し、真空封止した。真空封止した石英管10をSUS製耐熱容器18内に収納したうえで(株)シリコニット製の炉内に設置し、炉内温度890℃において20時間の熱処理を行った。このときの温度履歴を図4に示した。
上記の熱処理後の石英管10をグローブボックス内で割り、熱処理後の材料を回収した。
上記で回収した材料に、2wt%のAlを混合し、乳鉢で10分間粉砕混合を行い、熱電材料の粉末を得た。この粉末の1gを採り、15mmφのパンチ・ダイスを用いて800℃、20分間の放電プラズマ焼結を行うことにより、熱電材料の試料を得た。この焼結時の温度履歴を図5に示した。
得られた試料の断面SEM像を図8に示した。
(2)熱電材料の評価
上記で得た試料を研磨及び切断して、アドバンス理工(株)製の熱電特性評価装置「ZEM−3」を用いて、500℃における熱電特性におけるパワーファクターPF及び無次元性能指数ZTを測定した。また、NETZSCH社製「MicroFlash」及びTA Instruments社製「DSC Q100」を用いて、熱伝導率を測定した。試料の密度はアルキメデス法により測定した。評価結果は、表1に示した。
<実施例2〜4及び比較例1〜3>
Sb及びBiの仕込み量を変更して、SbBi1−xにおけるxの値を表1に記載のとおりに変更した他は、実施例1と同様にして、実施例2〜4及び比較例1〜3試料を調製し、評価した。ここで、ドーパント量は0.3at%を維持した。得られた試料の断面SEM像を図9〜14に、評価結果を表1に、それぞれ示した。表1には、試料中の残存酸素濃度も合わせて示した。
なお、比較例2におけるSb原料としては、液相還元法により合成した粒径<0.1μmのSb粉末を用いた。
また、SbBi1−xにおけるxに対してパワーファクターPFをプロットしたグラフを図6に示した。更にxに対して無次元性能指数ZTをプロットしたグラフを図7に示した。
比較例で得られた熱電材料は、パワーファクターPF及び無次元性能指数ZTの双方において、実施例の熱電材料に比べて劣っていた。これは、Sb及びBiが、MgSiのSiサイトに固溶せずに単独層として存在していることに起因するものと考えられる。比較例2では、Sbのナノ粒子を用いることによるSbの固溶化促進を狙ったが、奏功しなかった。これは、Sbナノ粒子の合成を液相法によったため、Sbの純度が95%程度と低く、この不純物がMgSi相中に存存して熱電性能を損なったものと推察される。
これに対して実施例で得られた熱電材料は、パワーファクターPF及び無次元性能指数ZTの双方が優れた結果を示した。本開示の方法によって合成された熱電材料は、Sb及びBiの固溶化が促進されたためと推察される。
10 石英管
12 コック
14 カーボン坩堝
16 原料混合物のペレット
18 SUS製耐熱容器

Claims (1)

  1. MgSi中に0.2〜1.0at%のドーパントを含有し、
    前記ドーパントがSbBi1−x(x=0.3〜0.6)である
    ことを特徴とする、熱電材料。
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