JP6493161B2 - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
0.2≦N−〔0.000118×exp(−147170/RT)〕1/2×106×(t)1/2≦0.7
ただし、N:接合前の裏面電極のNi層の厚さ(μm)、
R:気体の状態定数(8.31J/mol・K)、
T:接合温度(K)、
t:接合温度保持時間(秒)。
図1は、本発明の実施形態に係る半導体装置1の模式的断面図であり、図2(a)は、Zn−Al系はんだに接合する前の半導体素子10の裏面電極15近傍の状態を示しており、図2(b)は、Zn−Al系はんだに接合した後の半導体素子10の裏面電極15近傍の状態を示した図である。
0.2≦N−〔0.000118×exp(−147170/RT)〕1/2×106×(t)1/2≦0.7
ただし、N:接合前の裏面電極の第3層(Ni層)の厚さ(μm)、
R:気体の状態定数(8.31J/mol・K)、
T:接合温度(K)、
t:接合温度保持時間。
半導体素子本体の裏面に、第1層に相当するAl−Si層、第2層に相当するTi層、第3層に相当するNi層(厚さ0.1μm、0.4μm、0.7μm、1.0μm、1.5μm、2.0μm、または3.0μm)、第4層に相当するAu層(0.1μm)の順に、積層し、裏面電極を形成した。その後、目視で、裏面電極の状態を確認した。
確認試験1と同様の構成の裏面電極のNi層の厚さが、0.1μm、0.4μm、0.7μm、1.0μm、1.5μm、2.0μm、3.0μmの半導体素子を準備した。これらの半導体素子の裏面電極のNi層とリードフレームとの間に、Zn−Al系はんだを配置した。次に、不活性ガス雰囲気下(水素ガス10体積%、窒素ガス90体積%)、接合温度400℃、接合時間90秒で、Zn−Al系はんだを介して、半導体素子とリードフレームとを接合し、接合試験片を作製した。得られた接合試験片のNi層とZn−Al系はんだとの界面にZn−Ni合金の生成の有無を確認した。この結果を表1に示す。
(1)Ni層厚さ0.1μmの場合
確認試験1に示す裏面電極のNi層が、0.1μmの半導体素子のNo.1〜9の半導体素子を9個準備した。そして、裏面電極とリードフレームとの間に、Zn−Al系はんだを配置し、不活性ガス雰囲気下(水素ガス10体積%、窒素ガス90体積%)、接合温度415℃、接合温度保持時間90秒のリフロー接合条件で、半導体素子とリードフレームとをリフロー接合し、No.1〜9の接合試験片を作製した。得られた半導体素子の裏面電極のNi層の厚さ(残存する厚さ)と、Ni層とZn−Al系はんだとの界面に形成されたAl−Ni合金層の厚さを測定した。この結果を表2および図3に示す。表2の結果から明らかなように、すべての接合試験片で、裏面電極がZn−Al系はんだから剥離していた。なお、同じ条件で接合しても、Al−Ni合金層(金属間化合物層)は、3次元に成長するため、Ni層の厚さと、Al−Ni合金層の厚さとの関係には、バラツキが生じている。
(2−1)接合温度415℃、接合温度保持時間90秒の場合
確認試験1に示す裏面電極のNi層が、0.4μmの半導体素子のNo.10〜44の半導体素子を35個準備した。そして、裏面電極とリードフレームとの間に、Zn−Al系はんだを配置し、不活性ガス雰囲気下(水素ガス10体積%、窒素ガス90体積%)、接合温度415℃、接合温度保持時間90秒のリフロー接合条件で、半導体素子とリードフレームとをリフロー接合し、No.10〜44の接合試験片を作製した。得られた半導体素子の裏面電極のNi層の厚さと、Ni層とZn−Al系はんだとの界面に形成されたAl−Ni合金層の厚さを測定した。この結果を表3および図4(a)に示す。表3の結果から明らかなように、すべての接合試験片で、裏面電極の剥離は無かった。
確認試験1に示す裏面電極のNi層が、0.4μmの半導体素子のNo.45〜65の半導体素子を21個準備した。そして、裏面電極とリードフレームとの間に、Zn−Al系はんだを配置し、不活性ガス雰囲気下(水素ガス10体積%、窒素ガス90体積%)、接合温度415℃、接合温度保持時間180秒のリフロー接合条件で、半導体素子とリードフレームとをリフロー接合し、No.45〜65の接合試験片を作製した。得られた半導体素子の裏面電極のNi層の厚さと、Ni層とZn−Al系はんだとの界面に形成されたAl−Ni合金層の厚さを測定した。この結果を表4および図4(b)に示す。表4の結果から明らかなように、すべての接合試験片で、裏面電極がZn−Al系はんだから剥離していた。
(3−1)接合温度400〜415℃、接合温度保持時間15〜450秒の場合
確認試験1に示す裏面電極のNi層が、0.7μmの半導体素子のNo.66〜80の半導体素子を15個準備した。そして、裏面電極とリードフレームとの間に、Zn−Al系はんだを配置し、不活性ガス雰囲気下(水素ガス10体積%、窒素ガス90体積%)、接合温度400〜415℃、接合温度保持時間15〜450秒の表5に示すリフロー接合条件で、半導体素子とリードフレームとをリフロー接合し、No.66〜80の接合試験片を作製した。得られた半導体素子の裏面電極のNi層の厚さと、Ni層とZn−Al系はんだとの界面に形成されたAl−Ni合金層の厚さを測定した。この結果を表5および図5(a)に示す。表5の結果から明らかなように、すべての接合試験片で、裏面電極の剥離は無かった。
確認試験1に示す裏面電極のNi層が、0.7μmの半導体素子のNo.81〜111の半導体素子を31個準備した。そして、裏面電極とリードフレームとの間に、Zn−Al系はんだを配置し、不活性ガス雰囲気下(水素ガス10体積%、窒素ガス90体積%)、接合温度415℃、接合温度保持時間90秒のリフロー条件で、半導体素子とリードフレームとをリフロー接合し、No.81〜111の接合試験片を作製した。得られた半導体素子の裏面電極のNi層の厚さと、Ni層とZn−Al系はんだとの界面に形成されたAl−Ni合金層の厚さを測定した。この結果を表6および図5(b)に示す。表6の結果から明らかなように、すべての接合試験片で、裏面電極の剥離は無かった。
確認試験1に示す裏面電極のNi層が、0.5μm,0.7μmの半導体素子のNo.112,113の半導体素子を2個準備した。そして、裏面電極とリードフレームとの間に、Zn−Al系はんだを配置し、室温で10秒間超音波振動を印加して、半導体素子とリードフレームとを接合した。これにより、Al−Ni合金層(層厚み0μm)が形成されていないNo.112,113の接合試験片を作製した。
k2=A・exp(−E/RT)
ただし、k:Ni層消費速度、A:定数、E:活性エネルギー(J/mol)、R:気体の状態定数8.31(J/mol・K)、T:接合温度(K)
この式の両辺で対数を取ると、
Ln(k2)=lnA−E/RT
となる。
0.2≦N−〔0.000118×exp(−147170/RT)〕1/2×106×(t)1/2≦0.7(ただし、N:接合前の裏面電極のNi層の厚さ(μm))
ただし、N:接合前の裏面電極のNi層の厚さ(μm)、
R:気体の状態定数(8.31J/mol・K)、
T:接合温度(K)、
t:接合温度保持時間(秒)
の不等式の条件を満たせば、半導体素子の裏面電極の剥離を抑え、接合試験片の使用時に、半導体素子とZn−Al系はんだの界面のクラックの発生を抑えることができる、と考えられる。
さらに、上述したNo.1〜111の半導体素子とリードフレームとを接合したZn−Al系はんだのAlの含有率を測定し、接合部分の断面をSEMにより観察した。接合後のZn-Al系はんだのAlの含有率が3質量%未満のものは、初晶Znの量が、それ以外のものに比べて多くなっていた。一方で、Alの含有率が5質量%以上の場合には、初晶Znが晶出していない、または、初晶Znがほとんど晶出していない。
確認試験1に示す半導体素子を準備し、接合試験片を作製した。具体的には、Zn−Al系はんだによる接合後、Zn−Al系はんだがZn−xAl(3≦x≦5)となり、0.2≦N−〔0.000118×exp(−147170/RT)〕1/2×106×(t)1/2≦0.7の不等式の条件を満たすように作製した。すなわち、N=0.7μm、T=400℃、t=30秒の接合条件で、半導体素子とリードフレームを接合した。なお、数式の値は、0.585であり、0.2〜0.7の範囲内である。
実施例1と同じようにして、接合試験片を作製した。実施例1と相違する点は、Zn−Al系はんだによる接合後、Zn−Al系はんだがZn−xAl(x>5)となり、上述した不等式の条件を満たすように、半導体素子とリードフレームを接合した点である。すなわち、N=0.7μm、T=400℃、t=30秒の接合条件で、半導体素子とリードフレームを接合した。なお、数式の値は、0.585であり、0.2〜0.7の範囲内である。
実施例1と同じようにして、接合試験片を作製した。実施例1と相違する点は、上述した不等式の条件を満さないように、半導体素子とリードフレームを接合した点である。すなわち、N=0.7μm、T=415℃、t=450秒の接合条件で、半導体素子とリードフレームを接合した。なお、数式の値は、0.105であり、0.2〜0.7の範囲を外れている。なお、比較例1では、Zn−Al系はんだによる接合後、Zn−Al系はんだがZn−xAl(3≦x≦5)である点は同じである。
実施例1と同じようにして、接合試験片を作製した。実施例1と相違する点は、Zn−Al系はんだによる接合後、Zn−Al系はんだがZn−xAl(x>5)となり、上述した不等式の条件を満さないように、半導体素子とリードフレームを接合した点である。すなわち、N=0.7μm、T=415℃、t=450秒の接合条件で、半導体素子とリードフレームを接合した。なお、上述した数式の値は、0.105であり、0.2〜0.7の範囲を外れている。
実施例1、2および比較例1、2の接合試験片に対して、−40℃〜250℃の温度サイクルを1サイクルとして、100サイクルで冷熱試験を行った。この結果、図10に示すように、実施例1の如く、Zn−Al系はんだがZn−xAl(3≦x≦5)となり、上述した不等式の条件を満たす接合試験片が、最も耐久性が高いことがわかった。
Claims (1)
- 裏面電極にNi層を有する半導体素子を、Zn−Al系はんだを介してリードフレームに接合した半導体装置の製造方法であって、
前記裏面電極と前記リードフレームとの間に、前記Zn−Al系はんだを配置し、接合温度が391〜419℃の範囲であり、かつ、以下の不等式を満たすように、前記半導体素子と前記リードフレームとを接合することを特徴とする半導体装置の製造方法。
0.2≦N−〔0.000118×exp(−147170/RT)〕1/2×106×(t)1/2≦0.7
ただし、N:接合前の裏面電極のNi層の厚さ(μm)、
R:気体の状態定数(8.31J/mol・K)、
T:接合温度(K)、
t:接合温度保持時間(秒)。
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