JP6485244B2 - 球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体とその製造方法 - Google Patents

球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体とその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP6485244B2
JP6485244B2 JP2015122634A JP2015122634A JP6485244B2 JP 6485244 B2 JP6485244 B2 JP 6485244B2 JP 2015122634 A JP2015122634 A JP 2015122634A JP 2015122634 A JP2015122634 A JP 2015122634A JP 6485244 B2 JP6485244 B2 JP 6485244B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
silicon oxycarbide
spherical
sioc
spherical silicon
particles
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015122634A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2017007877A (ja
Inventor
哲朗 木崎
哲朗 木崎
敬三 岩谷
敬三 岩谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
JNC Corp
Original Assignee
JNC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by JNC Corp filed Critical JNC Corp
Priority to JP2015122634A priority Critical patent/JP6485244B2/ja
Priority to CN201610396669.6A priority patent/CN106256801A/zh
Priority to KR1020160071828A priority patent/KR20160150014A/ko
Priority to US15/185,011 priority patent/US10179737B2/en
Priority to EP16174978.3A priority patent/EP3106433A1/en
Publication of JP2017007877A publication Critical patent/JP2017007877A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6485244B2 publication Critical patent/JP6485244B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/515Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics
    • C04B35/56Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides
    • C04B35/5603Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on non-oxide ceramics based on carbides or oxycarbides with a well-defined oxygen content, e.g. oxycarbides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M103/00Lubricating compositions characterised by the base-material being an inorganic material
    • C10M103/02Carbon; Graphite
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B32/00Carbon; Compounds thereof
    • C01B32/90Carbides
    • C01B32/907Oxycarbides; Sulfocarbides; Mixture of carbides
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C1/00Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
    • C03C1/006Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C12/00Powdered glass; Bead compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03CCHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C3/00Glass compositions
    • C03C3/04Glass compositions containing silica
    • C03C3/045Silicon oxycarbide, oxynitride or oxycarbonitride glasses
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/626Preparing or treating the powders individually or as batches ; preparing or treating macroscopic reinforcing agents for ceramic products, e.g. fibres; mechanical aspects section B
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/622Forming processes; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/64Burning or sintering processes
    • C04B35/65Reaction sintering of free metal- or free silicon-containing compositions
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G77/00Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
    • C08G77/04Polysiloxanes
    • C08G77/06Preparatory processes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1409Abrasive particles per se
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00Materials not provided for elsewhere
    • C09K3/14Anti-slip materials; Abrasives
    • C09K3/1409Abrasive particles per se
    • C09K3/1418Abrasive particles per se obtained by division of a mass agglomerated by sintering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M103/00Lubricating compositions characterised by the base-material being an inorganic material
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M125/00Lubricating compositions characterised by the additive being an inorganic material
    • C10M125/26Compounds containing silicon or boron, e.g. silica, sand
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/30Particle morphology extending in three dimensions
    • C01P2004/32Spheres
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/61Micrometer sized, i.e. from 1-100 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01PINDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
    • C01P2004/00Particle morphology
    • C01P2004/60Particles characterised by their size
    • C01P2004/62Submicrometer sized, i.e. from 0.1-1 micrometer
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/38Non-oxide ceramic constituents or additives
    • C04B2235/3895Non-oxides with a defined oxygen content, e.g. SiOC, TiON
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/30Constituents and secondary phases not being of a fibrous nature
    • C04B2235/48Organic compounds becoming part of a ceramic after heat treatment, e.g. carbonising phenol resins
    • C04B2235/483Si-containing organic compounds, e.g. silicone resins, (poly)silanes, (poly)siloxanes or (poly)silazanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2235/00Aspects relating to ceramic starting mixtures or sintered ceramic products
    • C04B2235/02Composition of constituents of the starting material or of secondary phases of the final product
    • C04B2235/50Constituents or additives of the starting mixture chosen for their shape or used because of their shape or their physical appearance
    • C04B2235/54Particle size related information
    • C04B2235/5418Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof
    • C04B2235/5436Particle size related information expressed by the size of the particles or aggregates thereof micrometer sized, i.e. from 1 to 100 micron
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10MLUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
    • C10M2201/00Inorganic compounds or elements as ingredients in lubricant compositions
    • C10M2201/10Compounds containing silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2030/00Specified physical or chemical properties which is improved by the additive characterising the lubricating composition, e.g. multifunctional additives
    • C10N2030/06Oiliness; Film-strength; Anti-wear; Resistance to extreme pressure
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C10PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
    • C10NINDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
    • C10N2050/00Form in which the lubricant is applied to the material being lubricated
    • C10N2050/08Solids

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Lubricants (AREA)
  • Carbon And Carbon Compounds (AREA)

Description

本発明は、球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体、及びその製造方法、具体的にはシリコンオキシカーバイド粉粒体を潤滑剤、研磨剤又はポリマー添加剤として使用することに関する。
セラミックスは、一般的に耐熱性に優れる、硬度が高い、金属より軽い、耐酸化性に優れる、場合によっては耐溶剤性、耐酸性あるいは耐塩基性に優れるといった特徴を持つものである。セラミックスの性状及び物性を生かし、各種用途に用いられている。特に、球状のセラミックス粉粒体は、セラミックスの特徴を持ちながら、粒子が球状であることを生かし、従来の形状及び粒子の分布が不均一な材料よりも機能の向上が期待されており、また各種用途に利用可能性を有するものである。しかしながら、球状のセラミックス粒子の製造は難しく、製造コストが高く、汎用的に利用されるに至っていない。
本発明は、特に、そのような優れたセラミックスの性状及び物性を生かした、固体潤滑剤、潤滑剤用添加剤、研磨剤、プラスチックに添加するポリマー添加剤(耐熱フィラーや電材フィラーなどの各種フィラー、充填剤、分散剤)等に有用な、低温で焼結可能であり、比較的粒径が揃った球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体及びそれらの製造方法に関する。
セラミックス粉粒体を、直接、固体潤滑剤、研磨剤として用いる場合、グリースに添加して潤滑剤用添加剤として用いる場合、あるいは研磨剤用添加剤として用いる場合、さらには、プラスチックに添加してポリマー添加剤(研磨剤、研磨剤用添加剤、ポリマー添加剤、耐熱フィラーや導電材フィラーなどの各種フィラー、充填剤、分散剤)として用いる場合、セラミックス粉粒体の粒子形状、粒度分布、凝集の程度といった物性及び性状が流動性、成形性に影響し、最終的に成形品の均一性に影響し、製品の膨張、収縮の異方性、反りあるいは割れなどの点で製品の性能に大きな影響を与えることは周知のとおりである。さらに安価に工業的に製造できることが望まれている。
より具体的には、内燃機関、工作機械、物流機械、電気製品など各種の機械・装置において、摺動部における摩擦係数を低減するため潤滑剤が用いられている。摩擦係数を低減する潤滑剤の性能の向上は、機械・装置の作動効率の向上や部材の長寿命化をもたらすとともに、静粛化や振動の低減、さらには、低燃費、省エネを実現できるが、潤滑剤に用いるセラミックス粒子の形状、粒径分布などが十分に均一なものが簡易にかつ安価にできないため、望むような性能の向上が得られていない。
摺動部における摩擦の低減、エネルギーロスの低減などのため摺動部材、軸受け部品、摺接する構造部材などの表面をより精密に研磨する研磨材の性質として、硬さ、靱性、耐摩耗性、粒度、粒形の五つが重要である。また構造材を形成するセラミックス原材料の粉粒体の粒子形状、粒度分布、凝集の程度などが製品の性能に影響を及ぼすことから、均一な球状の粉粒体を得るようにし、そのセラミックス原材料により製品を成形して、表面粗さを均一化し、表面粗さの低減を図っている。
しかし、表面研磨剤及び研磨剤用添加剤として、また、セラミックス原材料として、マイクロサイズの均質なセラミックス粉粒体であって、形状、粒径分布などが均一な原料として得ることができていない、また望むような性能又は物性のものを簡易に、かつ安価に製造できるセラミックス粉粒体の製造方法が確立していない。
セラミックス粉粒体を、研磨剤又は潤滑剤として又は添加剤として、あるいは製品の原材料として、使用するセラミックス粉粒体では、その形状の均一性、粒径分布の均一性、分散性などの面から、使用目的のミクロンサイズにおいて異方性のない球状で、かつ均一な粉粒体であることが求められる。そのようなセラミックス粉粒体とするためには、従来、製造工程を増やし、より精密な工程管理を必要とし、製造コストがかかっている。
真球度が高く、均質なセラミックス粉粒体を簡単に得ること及びそのような方法として、例えば、ポリ有機カルボシランを、不活性雰囲気下1400〜1600℃で焼成することで、球状炭化ケイ素質微粒子を得られることが知られている(特許文献1)。この方法では、真球度の高いセラミックス粒子が得られるものの、原料となるポリ有機カルボシランが高価であり、さらに1400〜1600℃で焼成するという装置のコストやランニングコストがかかるといった問題がある。
一方、シリコンオキシカーバイド(SiOC)は炭化ケイ素と同類の性質を示すが、原料はポリシロキサンやポリシルセスキオキサンといった安価に入手できる有機ケイ素高分子を前駆体として、焼成温度が800〜1200℃程度で得ることができるため、経済性に優れている。
球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体を得る方法は知られている(非特許文献1〜3)。
非特許文献1には、10〜100μmの範囲で球状のシリコンオキシカーバイド粒子が得られることが報告されている。しかし、この方法では、粒度分布が広く、さらには粒子にクラックが入ってしまうという問題がある。
非特許文献2には、球状で粒径の揃った球状のシリコンオキシカーバイドが報告されている。しかし、この方法では粒子同士が連結しているため、分散性が悪く、単粒子化した場合には真球度の低いシリコンオキシカーバイド微粒子になってしまう。
非特許文献3には、クラックや凝集のない球状のシリコンオキシカーバイド微粒子が報告されている。しかし、この方法では300nm程度の粒子しか得られず、それより大きな粒径で制御されたシリコンオキシカーバイド粒子は得られていない。
何れの方法にしても、研磨、潤滑又は添加剤などの製品製造において有用なマイクロサイズの大きさの粒子であって、均一な粒径を有し、均質な製品を得るための凝集しない球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体を得るに至っていない。
特開2007−112693号公報
Soft Materials, 4(2-4), 287 (2007) J. Eur. Ceram. Soc., 28, 1871 (2008) J. Am. Ceram. Soc., 94(11), 3819 (2011)
本発明は、上記従来のセラミックス粒子における課題に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、研磨剤及びその添加剤、潤滑剤及びその添加剤、ポリマー添加剤あるいは機械部品等の製品製造のための原材料に有用な、安定して分散し得る、平均粒径が0.1μm以上、100μm以下であり、融点及び軟化点を有しない、非晶質の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体とその製造方法を提供するものである。
本発明者らは、その目的を達成するため加水分解性のアルコキシシランを酸性溶媒中で加水分解物を生成させ、アルカリ性に変移させ、アルカリ性中で加水分解物の縮重合反応を行うことにより、球状のシリコンオキシカーバイド前駆体粒状物を得て、該球状のシリコンオキシカーバイド前駆体粒状物を不活性雰囲気中で焼成することにより球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体が得られることを見出した。また、上記方法により調製した球状のシリコンオキシカーバイド前駆体粒状物は、球状ポリシルセスキオキサンであって、真球度の高い、融点や軟化点を持たないものが得られ、焼成することで球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体を得ることを見出した。これらの知見に基づき本発明をなすに至った。
すなわち、本発明の目的又は課題は、以下の技術的特徴により達成される。
[1]下記の工程A〜Cを含むことを特徴とする球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法。
工程A:下記分子構造式(1)で示されるオルガノトリアルコキシシランを酸性に調整した水性媒体中に滴下し、加水分解物を形成する工程、
工程B:得られた加水分解物を含む溶液を撹拌しつつ、アルカリ性の溶液を添加してアルカリ性に調整しつつ、縮合反応させて、融点や軟化点を持たない球状のシリコンオキシカーバイド前駆体粒状物を得る工程、及び
工程C:得られた球状のシリコンオキシカーバイド前駆体粒状物を不活性雰囲気中、600〜1400℃で焼成する工程。
Figure 0006485244
(式(1)においてRおよびRは、それぞれ独立して、置換または非置換の炭素数1〜20のアルキルの群、置換または非置換のアリールの群および置換または非置換のアリールアルキルの群から選択される基、但し、炭素数の1〜20のアルキルにおいて、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、任意の−CH−は、−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよい。置換または非置換のアリールアルキル中のアルキレンにおいて、任意の水素はハロゲンで置換えられてもよく、任意の−CH−は、−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよい。)
[2]また、本発明は、上記製造方法の発明の加水分解物の形成が、pH3〜6に調整した酸性の水性媒体中で実行される、球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法である。
[3]さらに、本発明は、加水分解物を含む溶液をpH7〜12に調整しつつ、縮合反応を実行する、球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法である。
[4]また、本発明は、縮合反応により形成される球状のシリコンオキシカーバイド前駆体粒状物が、融点や軟化点を持たない球状のポリシルセスキオキサンである、球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法である。
[5]また、本発明は、酸性の水性媒体が酢酸水溶液である、球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法である。
[6]また、本発明は、アルカリ性の溶液がアンモニア水である、球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法である。
[7]さらに、本発明は、本発明の球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体の製造方法を適用することにより製造される球状のシリコンオキシカーバイドであって、元素分析による組成がケイ素と炭素と酸素の総和で98%以上であり、ケイ素が20〜50%、炭素が10〜50%、酸素が20〜50%含む、基本的にSi、O、Cから構成されたものであり、Si、C、O以外で検出される元素があったとしても水素のみである、平均粒径が0.1〜100μmの範囲で且つ真球度が0.95〜1.0の範囲にあることを特徴とする球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体である。
[8]本発明は、球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体を摩擦低減材として用いて潤滑剤とするものである。
[9]本発明は、球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体を研磨剤又は研磨剤用添加剤として用いて研磨剤とするものである。
本発明は、従来入手し難い、マイクロサイズの大きさのセラミックス粒子であって、真球度が0.95以上の球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体を均質で分散性のよい、狭い分布のものを得ることができる。
本発明は、比較的安価な、オルガノアルコキシシランを酸性水溶液中に滴下し、加水分解性シランを加水分解してなる加水分解物を生成するとともに、さらに反応系をアルカリ性に変移させ、アルカリ性中で縮重合反応を行うことにより得られたポリシルセスキオキサンを不活性雰囲気下で焼成することで、マイクロサイズの粒子として均質な球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体を簡易でかつ安価に効率的に製造することができ、しかも、生成する粒子の粒径等を比較的簡単に制御し製造することができる方法を提供できる。そのシリコンオキシカーバイド粉粒体の粒径は、前駆体であるポリシルセスキオキサンの調製において、加水分解反応を酸性度により、重縮合反応を塩基度によりコントロールすることで、さらに基質濃度、撹拌などをコントロールすることで粒径をコントロールすることが可能である。
本発明の球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体は、真球度に優れ、硬度が高く、破壊強度にも優れているものであるので、研磨剤及びその添加剤、潤滑剤及びその添加剤、ポリマー添加剤あるいは機械部品等の製造のための原材料として好適に使用することができる。
図1は、実施例1で製造した球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体の走査型電子顕微鏡写真である。
球状のシリコンオキシカーバイド前駆体粒状物の製造方法に用いる加水分解物は、加水分解性オルガノアルコキシシランの全部又は一部を加水分解して得られる加水分解物である。
加水分解性オルガノアルコキシシランは、加水分解性基を有するシランであればよく、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基等の加水分解性基を有するオルガノアルコキシシランが挙げられる。
この加水分解性オルガノアルコキシシランは、加水分解性が高い点で、加水分解性基を3つ有するものが好ましく、3つのアルコキシ基を有するオルガノトリアルコキシシランが特に好ましい。
加水分解性オルガノトリアルコキシシランの加水分解は、公知の方法、例えば、アルコール又はDMF等の溶媒中、塩酸等の無機酸又は酢酸等の有機酸及び水の存在下、常温又は加熱下で、実施することができる。したがって、加水分解性オルガノトリアルコキシシランの加水分解物は、加水分解性オルガノトリアルコキシシランの加水分解物に加えて、溶媒、酸及び水並びにこれらに由来する物質を含有していてもよい。
また、加水分解性オルガノトリアルコキシシランの加水分解物は、加水分解性オルガノトリアルコキシシランが完全に加水分解されていなくてもよく、加水分解性基の一部又は加水分解性シランの一部が残存していてもよい。この加水分解性オルガノトリアルコキシシランの加水分解工程中では、加水分解性オルガノトリアルコキシシランの加水分解に加えて、加水分解された加水分解物の縮重合反応も部分的に進行する。したがって、この加水分解物には、ある程度分子鎖がある加水分解物が存在している。
ここで、加水分解反応が進行する程度は、加水分解温度、加水分解時間、無機酸若しくは有機酸の使用量、及び/又は、溶媒等によって制御でき、例えば、後述するように目的とするシリコンオキシカーバイド粒子に応じて適宜に設定することができる。
そして、このオルガノトリアルコキシシランを用いたシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法において、加水分解反応と縮合反応の速度はpHにより異なり、ある領域では加水分解速度が縮合反応より速く部分縮合物が生成するものの、融点や軟化点を持たないポリマーは生成しない。また、縮合反応が加水分解反応より早い領域で反応させると、加水分解物が速やかに縮合してしまうため、粒径の揃った、球状の単粒子体を得ることが難しい。反応温度は、特に限定されるものではないが、反応速度に影響を与えることは周知のとおりである。そして、オルガノトリアルコキシシランを水中に加えると発熱しながら加水分解反応が進行することが知られている。
そこで、本発明では、通常、加水分解性オルガノトリアルコキシシランが、加水分解し、目的とするシリコンオキシカーバイドの前駆体粒状物が均一な溶液としてワンポットで形成しやすくなることから、オルガノトリアルコキシシランを酸性水溶液中で加水分解し、加水分解生成物のシラノールの水溶液を形成し、その中にアルカリ性水溶液を添加してアルカリ性に変移させ、加水分解生成物のシラノールを縮合反応させることでポリシルセスキオキサン粒状物の均一に分散した溶液を生成する、水溶液中で加水分解、縮合反応を行なう系を採用する。
本発明の製造方法において、加水分解反応は反応時間と安全性を考慮して室温付近でゆっくりと加水分解性オルガノトリアルコキシシランを滴下することが望ましい。また、縮合反応の際は、粒径の揃った球状の単粒子を得るには温和な条件が望ましいため、アルカリ性で、室温付近で反応を進めるのが好ましい。
次に、本発明の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法をさらに詳しく説明する。
工程A:<加水分解性オルガノアルコキシシランの加水分解物の形成>
本発明の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法としては、まずオルガノトリアルコキシシランを加水分解(工程A)する。この加水分解反応は、室温で、酸性水溶液を攪拌しつつ、加水分解反応の発熱反応により反応系の温度条件が大きく変化しないように、オルガノトリアルコキシシランの添加速度を滴下量、添加時間などを制御し、ゆっくりと添加し、オルガノトリアルコキシシラン加水分解生成物を含む溶液を得る。
本発明のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体を製造するために用いるアルコキシランとしては、一般式R1Si(OR23で表されるオルガノトリアルコキシシランが用いられる。(式(1)においてR1およびR2は、それぞれ独立して、置換または非置換の炭素数1〜20のアルキルの群、置換または非置換のアリールの群および置換または非置換のアリールアルキルの群から選択される基、但し、炭素数の1〜20のアルキルにおいて、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、任意の−CH2−は、−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよい。置換または非置換のアリールアルキル中のアルキレンにおいて、任意の水素はハロゲンで置換えられてもよく、任意の−CH2−は、−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよい。)
本発明のオルガノトリアルコキシシランとしては、具体的には、特に、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、n−プロピルトリメトキシシラン、i−プロピルトリメトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、s−ブチルトリメトキシシラン、t−ブチルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、2−フェニルエチルトリメトキシシラン、2−シアノエチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシランなどが例示される。
これらのオルガノトリアルコキシシランは単独、あるいは二種以上の混合物で用いても良く、これらオルガノトリアルコキシシランのうち、入手が容易なメチルトリメトキシシランとフェニルトリメトキシシランが最も好ましい。
本発明の加水分解工程は、加水分解速度が重縮合反応速度より速い領域のpHで反応するものである。加水分解速度が重縮合反応速度より速い領域のpHは、オルガノトリアルコキシシランにより異なり、通常は、pH3〜6、好ましくは、pH4〜6に調整することが多い。この酸性の程度は、加水分解物生成の平衡、反応時間や部分縮合物の量・縮合数などに影響するが、粒子径に大きく影響するものではない。
このpH領域で用いる酸としては有機酸、無機酸のいずれも使用可能である。具体的には、有機酸としてはギ酸、酢酸、プロピオン酸、シュウ酸、クエン酸などが例示され、無機酸としては塩酸、硫酸、硝酸、りん酸などが例示されるが、加水分解反応及びその後の重縮合反応を制御して行うことが容易にでき、入手やpH調整も容易であることから酢酸が最も好ましい。本発明は、希酢酸水溶液を用いた場合で、オルガノトリアルコキシシランの加水分解物の溶液のpH値は5.0〜5.8である。
工程B:<重縮合反応によるシリコンオキシカーバイド前駆体粉粒体の形成>
本発明は、重縮合工程として、重縮合反応速度が加水分解速度より速い領域で進むように、加水分解工程(工程A)により形成された加水分解したオルガノトリアルコキシシランの加水分解物を撹拌しつつアルカリ性水溶液を添加し、反応系をアルカリ性に調整して重縮合反応を行い、均一な粒径を有する、球状の融点や軟化点を持たないシリコンオキシカーバイド前駆体粒状物を形成する。この重縮合工程は、加水分解性オルガノトリアルコキシシランの加水分解物を加水分解工程で得られた溶液の状態のまま、連続的に重縮合反応に利用することができる点で、好ましい。
本発明の重縮合工程における縮合反応は、縮合反応速度が加水分解速度より速い領域のpHで反応させるものである。縮合反応の縮合速度は、オルガノトリアルコキシシランにより異なるが、通常はpH3以下、又はpH7以上であることが多い。これらの領域のうち、粒径の揃った球状の単粒子体を得るには、pH7〜12に調整することが好ましい。このアルカリ性の強度によって、得られる粒子径が小さくなる。また、基質濃度を高くすると、重合度があがり、粒子径は大きくなる。
pH値をpH7〜12の領域に調整するのに用いるアルカリ性物質としては、一般的に周期律表Ia属、IIa属の金属の水酸化物、酸化物、炭酸塩又は有機窒素化合物、アンモニアなどが挙げられるが、反応後の除去が容易であることからアンモニアが最も好ましい。アンモニアは、濃度28重量%のアンモニア水として市販されているものを用いることができ、このアンモニア水を2〜100倍程度に適宜希釈して使用してもよい。本発明は、アルカリ水溶液としてアンモニア水を用いた場合で、加水分解生成物を含む酸性域のpH値が、最終的に反応系のpH値が7.8〜10.1となり、球状のポリオルガノシルセスキオキサン粒状物が均一に分散した状態の溶液が得られる。
本発明の加水分解反応や重縮合反応に際し、撹拌速度、溶液の添加速度などが変化すると形成される球状粒状物の形状、大きさ、粒度分布に影響することが分かっている。
このようにして製造した球状のポリオルガノシルセスキオキサン粒状物は、その後、0.1〜1.0μmの目開きのフィルタを用いて濾過分離し、場合によっては、水洗浄あるいは有機溶剤洗浄した後、乾燥し、球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体の前駆体を得る。
工程C:<球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の前駆体の焼成>
本発明では、焼成工程として、重縮合工程(B工程)により形成し、調製された球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体の前駆体を不活性雰囲気下、焼成し、球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体を得る。
本発明の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体は、分解温度以上(300℃付近)でも溶融することなく、融点や軟化点を持たないポリシルセスキオキサン粒状物の焼成粒子として生成される。
本発明の焼成工程(工程C)において、焼成するための不活性雰囲気としては、酸素がない雰囲気で行われる。酸素がある雰囲気下で焼成を行うと、炭素が酸化され二酸化炭素として消失し、二酸化ケイ素が生成することにより、シリコンオキシカーバイドの焼成粒子が得られない。
本発明の不活性雰囲気にするガスとしては、窒素、アルゴン、ヘリウムなどが挙げられる。また、不活性気体を用いることなく、高真空により酸素を除去した雰囲気にし、焼成することもできる。
本発明の焼成温度は、ポリオルガノシルセスキオキサンが脱水素してシリコンオキシカーバイドになる温度である。この焼成温度が低い場合には、脱水素が不十分になり易く、硬度、強度面で好ましくなく、また、脱水素反応に時間を要することとなり、コスト増大につながり好ましくない。焼成温度が高い場合には、アルコキシシラン結合中の酸素、炭素が燃焼し、CO2、H2O等として脱離し、炭化ケイ素あるいは酸化珪素に変質してしまいシリコンオキシカーバイドが得られない。
焼成温度としては、600〜1400℃であることが好ましく、この温度範囲内であれば、特段に限定されないが、焼成温度は900〜1300℃が好ましく、1000〜1200℃が特に好ましい。
焼成速度は、前駆体及び焼成生成物にヒートショックを与えて、割れなどを生じさせないように、ゆっくりと昇温及び降温することが好ましいが、コストや生産効率の観点から、必要以上に遅くしなくてもよい。そこで、昇温及び降温速度は4〜10℃/分が好ましく、4〜6℃/分が特に好ましい。
本発明では、これらの製造工程の条件が、適正であれば、ナノオーダの微細な粒子が形成されたり、一次粒子が凝集したり、あるいは溶液全体がゲル化することはなく、目的とする球状のマイクロサイズの粒子が得られる。
本発明のマイクロサイズの大きさのシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体は、平均粒径が0.1〜100μmの範囲で且つ真球度が0.95〜1.0の範囲にある球状のシリコンオキシカーバイドである。粉粒体の平均粒径が0.1μm以上であれば、凝集することもなく、球状のセラミックス粒子の製造工程として、球状粉粒体同士の焼結による異形化を防止するための分散処理なども不要となり、処理工程を簡素化できる。
真球度が0.95より小さいと潤滑材、研磨材として用いる場合、粒子間での接触等により表面状態の粗面化、潤滑性の低下、摩耗の増加などを生じ、劣化が早まることがある。また、製品の材料として用いた場合、成型体の相対密度の低下、密度の不均一、焼結体表面の粗面化が起こり良質な焼結体製品が得られないことがある。
本発明でいう「真球度」は、走査型電子顕微鏡(SEM)で観察された画像を画像解析ソフト(例えばマウンテック社製、Mac−View)を用いて解析し、算出することができる。このような画像解析ソフトでは、SEM画像から重なりのない複数の粒子を任意にサンプルとして選び、SEM画像中の粒子の断面積と周長を求め、それらの平均値から「円形度係数」を自動的に算出するプログラムが提供されている。この「円形度係数」が本発明でいう「真球度」の値として利用できる。
本発明のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体は、元素分析による組成がケイ素と炭素と酸素の総和で98%以上であり、ケイ素が20〜50%、炭素が10〜50%、酸素が20〜50%からなる球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体であって、好ましくは、ケイ素が30〜50%、炭素が10〜30%、酸素が30〜50%からなる球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体であり、基本的にSi、O、Cから構成されたものであり、Si、C、O以外で検出される元素があったとしても水素のみで、大抵は0.5%以下で、最高でも1.2%である。窒素は検出限界以下であった。
本発明のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体は、その製造方法として、酸性水性溶液を攪拌しながら、オルガノトリアルコキシシランをそのまま少量ずつ添加して、オルガノトリアルコキシシランを加水分解することにより加水分解生成物を含む溶液を得る。その後、該加水分解生成物含有溶液中にアルカリ性溶液を添加し、アルカリ性に調整しつつ、縮合反応を実行することで、シリコンオキシカーバイド前駆体である球状のポリオルガノシルセスキオキサン粒状物を形成させ、十分に反応させた後、濾過し、融点や軟化点を持たない球状のポリオルガノシルセスキオキサン粒状物を得て、焼成することにより非晶質の真球度の優れた球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体を得た。
本発明の製造方法は、平均粒径0.1〜100μmのマイクロサイズの粉粒体であって、真球度が0.95以上の球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体を安定して簡単かつ安価に得ることができる。
このように、本発明のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法によれば、多種多様に形状を制御した、粒子間凝集を起こさず、分散した球状粉粒体のシリコンオキシカーバイド粒子を得ることができる。
以下、実施例及び比較例を示し、本発明をより具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
本実施例においては、実施例1〜9、並びに比較例1〜3において調製したシリコンオキシカーバイドとしてポリシルセスキオキサンの焼成物について、下記分析・評価を行った。
実施例及び比較例における「平均粒径測定」、「元素分析測定」、「SEM観察測定」及び「形状分布測定」の測定法及び用いた装置は、以下のとおりである。
(平均粒径測定)
純水50mLに界面活性剤(カネヨ石鹸社製、スタミナジェルサッサ)を3滴入れた分散剤に、黒色粉粒体の焼結粒子を30mg加え、超音波を5分間照射させて分散させた分散液をレーザー回折式粒度分布測定装置(ベックマンコールター社製、LS230)で測定した。この粒度分布測定により、得られたシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の平均粒径、標準偏差及び変動係数を得た。
(元素分析測定)
ケイ素の元素分析は、ICP発光分光分析法によりケイ素分析装置としてTHERMO SCIENTIFIC社製、ICAP6500DUO VIEWを用い、炭素の元素分析は、IR吸収法により炭素分析装置としてLECO社製LC−LS600を用い、酸素の元素分析は、高温炭素反応ND−IR検出法により酸素元素分析装置として(株)堀場製作所EMGA−920を用いて、それぞれ、元素分析を行なった。
(SEM観察)
得られた黒色粉体を走査型電子顕微鏡(SEM)用カーボン両面テープ(日新EM社製、NEM TAPE)により台座に固定し、走査型電子顕微鏡(日立製作所社製、Microscope TM−1000)を用いて加速電圧15KV、測定倍率1000〜10000倍の範囲で適宜設定しSEM像を得て観察した。(図1)
(形状分布測定)
走査型電子顕微鏡(SEM)で得られた、観察された画像を重なりのない粒子を任意に50個サンプルとして選び、画像解析ソフト(マウンテック社製、Mac−View)により解析し、粒子の断面積と周長を求め、円形度係数(真球度)を算出した。
(圧壊試験)
試料1及び2について、試験粒子として粒子径9.1〜10.9μmの範囲の5つの粒子に対し、微小圧縮試験機(島津製作所製、MCT−510)により、圧壊試験を実施し、平均値で評価した。破壊強度は、次式で計算した。
測定条件は、試験力490mN、負荷速度9.6841mN/sec、直径20μmの平面の上部加圧圧子を用いて、下部加圧板の上に試料を極微量散布し、一粒子ずつ圧縮試験した。
Cs=2.48P/πd2
Cs:破壊強度(MPa)
P:破壊試験力(N)
d:粒子径(mm)
[実施例1]
(シリコンオキシカーバイド前駆体の調製)
(合成)
重量で1.3ppmに調整したpH5.3の酢酸水溶液222.9gを500mL四つ口フラスコ中で攪拌しながら、メチルトリメトキシシラン27.24g(0.200mol)とフェニルトリメトキシシラン9.91g(0.050mol)の混合物を滴下した。滴下後、そのまま室温で2時間攪拌した後に、0.37重量%のアンモニア水7.90gを撹拌しながら滴下し、pH9.5とした。滴下後、そのまま室温でさらに攪拌した後、攪拌を止め、一晩静置した。
得られたポリシルセスキオキサンの白濁液を100メッシュの金網でろ過した後、目開き1マイクロメートルのメンブランフィルターで吸引ろ過して球状のポリシルセスキオキ
サンを19.34g得た。
(シリコンオキシカーバイド(SiOC)焼成物の調製)
ポリシルセスキオキサン8.01gをアルミナ製のボートに載せ、ボートを管状炉(光洋サーモシステム社製、KFT433N1)に入れ、アルゴンガス流通下(流量200mL/min)、4℃/分の速度で1200℃に昇温し、1200℃で5時間焼成したのち、4℃/分の降温速度で室温にし、黒色粉体を得た。その黒色粉末の重量は、5.52gであった。
得られた黒色粉末の粒度分布測定の結果は、シャープなピークが得られ、平均粒径1.75μm、標準偏差0.47μm、変動係数26.9%であった。SEM観察の結果、きれいな真球状のポリシルセスキオキサン焼成粒子が得られていることが確認された。SEM写真を図1に示す。
また元素分析の測定結果は、ケイ素40.8重量%、炭素23.2重量%、酸素34.3重量%であった。形状分布測定の結果、円形度係数(真球度)は0.96であった。
[実施例2〜6]
実施例1で使用したpH5.3の1.3ppm酢酸水溶液と0.37重量%アンモニア水の量、pHなどの反応条件を表1のように変更した以外は、実施例1と同様に行い、球状のポリシルセスキオキサン及びポリシルセスキオキサン焼成粒子を得た。
得られた真球状のポリシルセスキオキサン焼成粒子の粒度分布測定、円形度係数(真球度)、元素分析測定の結果を表1に示す。
[実施例7]
表1の実施例6で使用した反応条件下で得られた球状のポリシルセスキオキサン粒状物を1000℃で焼成した以外は実施例6と同様に行い、球状のポリシルセスキオキサン焼成粒子を得た。
[実施例8]
表1の実施例6で使用した反応条件下で得られた球状のポリシルセスキオキサン粒状物を1400℃で焼成した以外は実施例6と同様に行い、球状のポリシルセスキオキサン焼成粒子を得た。
[実施例9]
(シリコンオキシカーバイド前駆体の調製)
(合成)
重量で1.3ppmに調整したpH5.3の酢酸水溶液458.0gを1000mL四つ口フラスコ中で攪拌しながらメチルトリメトキシシラン66.11g(0.500mol)を滴下した。滴下後、そのまま室温で2時間攪拌した後、0.37重量%のアンモニア水16.08gを撹拌しながら滴下し、pH9.3とした。滴下後、そのまま室温でさらに攪拌した後、攪拌を止め、一晩静置した。
得られたポリシルセスキオキサンの白濁液を100メッシュの金網でろ過した後、目開き1マイクロメートルのメンブランフィルターで吸引ろ過して球状のポリシルセスキオキサン前駆体を33.83g得た。
(シリコンオキシカーバイド(SiOC)焼成物の調製)
球状のポリシルセスキオキサン前駆体粉粒物15.02gをアルミナ製のボートに載せ、ボートを管状炉(光洋サーモシステム社製、KFT433N1)に入れ、アルゴンガス雰囲気(流量200mL/min)流通下、1200℃で5時間焼成し、黒色粉体を得た。その黒色粉末の重量は、13.10gであった。
得られた黒色粉末の粒度分布測定の結果は、平均粒径6.69μm、標準偏差2.01μm、変動係数30.0%であった。形状分布測定の結果、円形度係数(真球度)は0.98であった。また元素分析の測定結果は、ケイ素45.5重量%、炭素11.8重量%、酸素41.8重量%であった。SEM観察の結果、図1と同様、きれいな真球状のポリシルセスキオキサン焼成粒子が得られていることが確認された。本発明の焼成粒子は、元素分析では、基本的にSi、O、Cから構成されたものであり、元素分析でSi、C、O以外で検出される元素は水素のみで、大抵は0.5%以下で、最高でも1.2%であった。窒素は検出限界以下であった。
Figure 0006485244
[比較例1]
3.6重量%塩酸水溶液222.9gを500mL四つ口フラスコ中で攪拌しながらメチルトリメトキシシラン27.24g(0.200mol)とフェニルトリメトキシシラン9.91g(0.050mol)の混合物を滴下した。そのまま室温で攪拌したところ、塊状のポリシルセスキオキサンが得られた。塊を解砕してSEM観察した結果、球状と非球状からなるポリシルセスキオキサンの塊状体であることが確認された。
[比較例2]
0.37重量%アンモニア水222.9gを500mL四つ口フラスコ中で攪拌しながら、メチルトリメトキシシラン27.24g(0.200mol)とフェニルトリメトキシシラン9.91g(0.050mol)の混合物を滴下したところ、塊状のポリシルセスキオキサンが得られた。塊を解砕してSEM観察した結果、1μm程度の球状粒子が強固に付着しており、粒度分布測定を行うにあたり、よく分散させるため超音波を照射したが、超音波程度ではほぐすことができず、無理にほぐそうとすると、割れてしまい球状粒子が得られず、塊状のポリシルセスキオキサンであることが確認された。
[比較例3]
トルエン200mLと1mol/LのHCl水溶液3.6重量%塩酸水溶液22.9gを500mL四つ口フラスコ中で攪拌しながらメチルトリメトキシシラン27.24g(0.200mol)とフェニルトリメトキシシラン9.91g(0.050mol)の混合物を滴下した。そのまま室温で2時間攪拌した後、炭酸水素ナトリウムで中和し、有機層を純水50mLで水洗した。有機層をエバポレーターで溶媒除去したところ、塊状で非球状体のポリシルセスキオキサンが得られ、その融点は118℃であった。このポリシルセスキオキサンをトルエンに溶解させ、スプレードライにより球状粒子にした。球状ポリシルセスキオキサン12.89gをアルミナ製のボートに載せ、ボートを管状炉(光洋サーモシステム社製、KFT433N1)に入れ、アルゴンガス雰囲気流通下(200mL/min)、1200℃で5時間焼成したところ、ポリシルセスキオキサンがまず溶融して不定形となり、その状態で熱分解してシリコンオキシカーバイドへ転化したため、球状のシリコンオキシカーバイド焼成粒子は得られなかった。
真球状のポリシルセスキオキサン焼成粒子を研磨粒子、潤滑材又はポリマー添加剤として用いる上で重要となる、破壊強度について、実施例6で得られた粉粒体と実施例8で得られた粉粒体を用いて、圧壊試験を行い、破壊強度を検査した。その結果を表2に示す。
試験結果によると、ほぼ粒径は同じであっても焼成温度が高いと、圧縮強度が大きく低下している。これは、1400℃で焼成した方が部分的にSiCの生成があるため、部分的なSiCが球状粒子を脆くさせているものと推測される。
Figure 0006485244
(潤滑性の定性試験)
実施例1で作成した粉粒体及び比較例1及び2で得られた粉砕品について、潤滑性について簡易的な定性試験を行った。定性試験は、長さ20cmの石英板の片側を3cm高くして傾斜面をつくり、その傾斜面に直径3cmのシャーレを置いたが、動かなかった。次に、実施例1の粉粒体を石英板の上に均一にまぶしてからシャーレを置いたところ、瞬時に傾斜面をシャーレが滑り降りた。
同様に比較例1及び2で得られた粉砕品で試したところ、シャーレは全く動かなかった。
シリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の焼成粒子は、真球状であり、その球面により流動抵抗が小さく、低摩擦性であり、潤滑性を与えることができ、しかも、硬度は、シリコンカーバイド粉粒体の硬度22.0GPaに比較し低下しているものの、研磨剤、潤滑材又は添加剤として必要とする程度の硬度を有するものである。しかも、シリコンオキシカーバイド粉粒体は、破壊強度も大きく、割れにくいこと、また真球状で互いに摩擦摩耗し難く、あるいは滑らかに接触滑動でき、破壊に対して強いことから、焼成粒子を優れた研磨粒子、潤滑材又は添加剤として用いることができる。
シリコンオキシカーバイド粉粒体の製造方法として、アルカリ性の塩基度を強くすると粒径は小さくなり、オルガノトリアルコキシシランの加水分解生成物の基質濃度を上げると粒径は大きくなる。さらに、撹拌の強さ、速度なども粒子の大きさに影響を及ぼすこと、撹拌が強いと大きな粒子を形成し、弱い撹拌では小さな粒子が形成されるなどの知見が得られており、本発明の製造方法により、研磨剤、潤滑材又はポリマー添加剤として、従来、得られていないマイクロサイズの球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体を制御し、安価な原料を用いて簡易にワンポットで製造できる。
本発明は、真球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体としてマイクロサイズのものを制御して簡易にかつ安価に製造することができ、しかもシリコンオキシカーバイド粒子の硬度、摩擦係数、真球度などの物性を適宜変更することで、様々な分野で幅広く利用できる。具体的には、材料中に添加して又は粉粒体自体を潤滑材として、又は研磨剤として、あるいはポリマー中に添加し充填剤、滑剤、補強材などとして利用できる。

Claims (9)

  1. 下記の工程A〜Cを含み、平均粒径が0.1〜100μmの範囲で且つ真球度が0.95〜1.0の範囲にあることを特徴とする、潤滑剤または研磨剤用の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法。
    工程A:下記分子構造式(1)で示されるオルガノトリアルコキシシランを酸性に調整した水性媒体中に滴下し、加水分解物を形成する工程、
    工程B:得られた加水分解物を含む溶液を撹拌しつつ、アルカリ性の溶液を滴下し、アルカリ性に調整しつつ、縮合反応させて、融点や軟化点を持たない球状のシリコンオキシカーバイド前駆体粒状物を得る工程、及び
    工程C:得られた球状のシリコンオキシカーバイド前駆体粒状物を不活性雰囲気中、600〜1400℃で焼成する工程。
    Figure 0006485244
    式(1)においてR1およびR2は、それぞれ独立して、置換または非置換の炭素数1〜20のアルキルの群、置換または非置換のアリールの群および置換または非置換のアリールアルキルの群から選択される基、但し、炭素数の1〜20のアルキルにおいて、任意の水素はハロゲンで置き換えられてもよく、任意の−CH2−は、−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよい。置換または非置換のアリールアルキル中のアルキレンにおいて、任意の水素はハロゲンで置換えられてもよく、任意の−CH2−は、−O−、−CH=CH−、シクロアルキレン、またはシクロアルケニレンで置き換えられてもよい。
  2. 加水分解物の形成が、pH3〜6に調整した水性媒体中で実行される、請求項1に記載
    の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法。
  3. 縮合反応が、pH7〜12に調整して実行される、請求項1又は2に記載の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法。
  4. 球状のシリコンオキシカーバイド前駆体粒状物が、融点や軟化点を持たない球状のポリシルセスキオキサンである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法。
  5. 酸性の水性媒体が酢酸水溶液である、請求項1〜4のいずれか一項に記載の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法。
  6. アルカリ性の溶液がアンモニア水である、請求項1〜5のいずれか一項に記載の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体の製造方法。
  7. 元素分析による組成がケイ素と炭素と酸素の総和で98重量%以上であり、ケイ素を20〜50重量%、炭素を10〜50重量%、酸素を20〜50重量%含む、基本的にSi、O、Cから構成されたものであり、Si、C、O以外で検出される元素があったとしても水素のみである、平均粒径が0.1〜100μmの範囲で且つ真球度が0.95〜1.0の範囲にあることを特徴とする球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体。
  8. 請求項7に記載の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体を摩擦低減材として用いた潤滑剤。
  9. 請求項7に記載の球状のシリコンオキシカーバイド(SiOC)粉粒体を研磨粒子又は研磨剤用添加剤として用いた研磨剤。
JP2015122634A 2015-06-18 2015-06-18 球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体とその製造方法 Active JP6485244B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015122634A JP6485244B2 (ja) 2015-06-18 2015-06-18 球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体とその製造方法
CN201610396669.6A CN106256801A (zh) 2015-06-18 2016-06-07 球状的碳氧化硅粉粒体及其制造方法、润滑剂、研磨剂
KR1020160071828A KR20160150014A (ko) 2015-06-18 2016-06-09 구형 실리콘 옥시카바이드 분립체와 그 제조 방법
US15/185,011 US10179737B2 (en) 2015-06-18 2016-06-16 Spherical silicon oxycarbide particle material and manufacturing method thereof
EP16174978.3A EP3106433A1 (en) 2015-06-18 2016-06-17 Spherical silicon oxycarbide powder and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015122634A JP6485244B2 (ja) 2015-06-18 2015-06-18 球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体とその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017007877A JP2017007877A (ja) 2017-01-12
JP6485244B2 true JP6485244B2 (ja) 2019-03-20

Family

ID=56321738

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015122634A Active JP6485244B2 (ja) 2015-06-18 2015-06-18 球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体とその製造方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10179737B2 (ja)
EP (1) EP3106433A1 (ja)
JP (1) JP6485244B2 (ja)
KR (1) KR20160150014A (ja)
CN (1) CN106256801A (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018149475A1 (de) * 2017-02-14 2018-08-23 Wacker Chemie Ag Verfahren zur herstellung sphärischer polysilsesquioxanpartikel
JP7052495B2 (ja) * 2018-03-30 2022-04-12 Jnc株式会社 球状水素ポリシルセスキオキサン微粒子及び球状ケイ素酸化物微粒子並びにこれらの製造方法
EP3597597A1 (en) 2018-07-17 2020-01-22 Commissariat à l'Energie Atomique et aux Energies Alternatives Spherical sioc particulate electrode material
JP7260061B2 (ja) * 2020-05-07 2023-04-18 Dic株式会社 多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料及び多孔質シリコンオキシカーバイド複合材料の製造方法
CN111777057B (zh) * 2020-07-15 2022-12-27 中山大学 一种富微孔炭球及其制备方法和应用
CN111892971A (zh) * 2020-07-31 2020-11-06 云南电网有限责任公司电力科学研究院 一种纳米植物绝缘油的制备方法
CN112680187A (zh) * 2021-01-04 2021-04-20 上海晖研材料科技有限公司 一种表面改性的二氧化硅及含其的磨料组合物
CN114315326B (zh) * 2022-01-11 2022-11-25 无锡特科精细陶瓷有限公司 一种高质量陶瓷平板的制备方法
CN114716249B (zh) * 2022-03-22 2023-04-07 西北工业大学 一种SiHfOC陶瓷微球及制备方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0618879B2 (ja) * 1988-02-26 1994-03-16 東芝シリコーン株式会社 ポリオルガノシルセスキオキサン微粒子
JPH1045914A (ja) 1996-08-01 1998-02-17 Toshiba Silicone Co Ltd 球形ポリオルガノシルセスキオキサン粉末の製造方法
JP3970449B2 (ja) * 1998-12-21 2007-09-05 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 球状ポリメチルシルセスキオキサン微粒子の製造方法
JP2001192452A (ja) * 2000-01-13 2001-07-17 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子およびその製造方法
JP2003183396A (ja) * 2001-12-21 2003-07-03 Ge Toshiba Silicones Co Ltd 球状シリコーン微粒子の製造方法
JP4040362B2 (ja) 2002-05-20 2008-01-30 モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社 球状ポリメチルフェニルシルセスキオキサン微粒子の製造方法
US7488537B2 (en) * 2004-09-01 2009-02-10 Radtke Robert P Ceramic impregnated superabrasives
JP5217097B2 (ja) 2005-09-20 2013-06-19 宇部興産株式会社 球状炭化ケイ素質微粒子の製造方法
WO2009096501A1 (ja) * 2008-01-30 2009-08-06 Dow Corning Toray Co., Ltd. 含ケイ素粒子、その製造方法、有機ポリマー組成物、セラミック、およびその製造方法
US9016858B2 (en) * 2011-06-21 2015-04-28 Essilor International (Compagnie Generale D'optique) Optical article containing self-healing and abrasion-resistant coatings
CN102432287B (zh) * 2011-08-29 2013-07-10 天津大学 硅氧碳/金属氧化物复合陶瓷的制备方法
CN103849353A (zh) * 2012-11-28 2014-06-11 大连大友高技术陶瓷有限公司 一种陶瓷研磨剂的制备方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP3106433A1 (en) 2016-12-21
US10179737B2 (en) 2019-01-15
CN106256801A (zh) 2016-12-28
KR20160150014A (ko) 2016-12-28
US20160368776A1 (en) 2016-12-22
JP2017007877A (ja) 2017-01-12

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6485244B2 (ja) 球状のシリコンオキシカーバイド粉粒体とその製造方法
US7976941B2 (en) Boron nitride particles of spherical geometry and process for making thereof
TWI573758B (zh) A method for producing a spherical aluminum nitride powder and a spherical aluminum nitride powder obtained by the method
KR101080725B1 (ko) Ptfe 코팅제, 이의 제조방법 및 사용방법
US20060121068A1 (en) Boron nitride particles of spherical geometry and process for making thereof
CN1834016A (zh) 制备α-氧化铝细粒的方法
JP2017190267A (ja) アルミナ粒子材料及びその製造方法
JP2017036190A (ja) 窒化ホウ素凝集粒子組成物、bn凝集粒子含有樹脂組成物及びそれらの成形体、並びに窒化ホウ素凝集粒子の製造方法、
CN1582264A (zh) 碳化硼质烧结体及其制造方法
CN1330574C (zh) 生产α-矾土粉末的方法
JP2013087042A (ja) 窒化アルミニウム焼結顆粒の製造方法
KR100740633B1 (ko) 실리카가 코팅된 흑연의 제조방법
JP2006256940A (ja) 窒化アルミニウム粉末の製造法
JP4650598B2 (ja) 半導体製造装置用酸化物溶射用粒子およびその製造方法、ならびに半導体製造装置用部材
JP3706176B2 (ja) 窒化アルミニウム顆粒及びその製造方法
JP6349100B2 (ja) アルミナ焼結体及びその製造方法
CN1461284A (zh) 耐火材料原料、其制造方法及使用该原料的耐火材料
JP2012509367A (ja) 不活性耐摩耗性フッ素系固体潤滑剤、その製造方法、及び利用方法
JP2012111650A (ja) 多孔性球状粒子、その製造方法および該多孔性球状粒子を含むブレーキ用摩擦材
CN1610022A (zh) 磁性粉末及其生产方法
JP2015117345A (ja) 滑剤組成物及びその製造方法
Baronin et al. Structure and properties of polymer composites based on polytetrafluoroethylene and cobalt, titanium, and silicon nanoparticles
JP2005206421A (ja) 高強度導電性ジルコニア焼結体およびその製造方法
JP4683195B2 (ja) 炭化ケイ素粉末の製造法
JP2005119934A (ja) 窒化ケイ素多孔体及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20180425

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20181018

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181023

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20181221

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190122

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190204

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6485244

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250