JP6480449B2 - ブロック間レチクル検査 - Google Patents
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Description
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である。
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Claims (13)
- ブロック間レチクル検査のための方法であって、
レチクル検査サブシステムにより、レチクルの一部のスワス画像を取得することと、
前記スワス画像内のブロックの第1の発生、および前記ブロックの前記第1の発生と実質的に同様である前記スワス画像内の前記ブロックの少なくとも第2の発生を識別することと、
前記ブロックの場所、前記ブロックの1つ以上の幾何学的特徴、および前記ブロックの前記第1の発生と前記ブロックの前記少なくとも第2の発生との間の空間オフセットの少なくとも1つを決定することと、
を含み、
前記スワス画像内のブロックの第1の発生、および前記ブロックの前記第1の発生と実質的に同様である前記スワス画像内の前記ブロックの少なくとも第2の発生を前記識別することは、
前記スワス画像の自己相関アレイを生成することと、
前記自己相関アレイ内の1つ以上の局所ピークの場所を識別することと、
前記1つ以上の局所ピークの前記識別された場所に従い、前記スワス画像を平行移動させることにより、シフトされたスワス画像を生成することと、
前記スワス画像から前記シフトされたスワス画像に対し減算ルーチンを実行することにより、差分画像を生成することと、
選択された許容レベル未満のパラメータ値を有する前記差分画像内の1つ以上の領域を識別することと、
を含む、方法。 - 前記決定された場所、前記ブロックの1つ以上の幾何学的特徴および空間オフセットの少なくとも1つに従い、前記ブロックの前記第1の発生と前記ブロックの前記少なくとも第2の発生との間の差分画像を生成することにより、前記レチクル上の1つ以上の欠陥を識別することをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- レチクル検査システムにより前記レチクルの一部のスワス画像を前記取得することは、
前記レチクル検査サブシステムによりレチクルのスワスを走査して、スワス画像を形成することと、
前記スワス画像を記憶することと、を含む、請求項1に記載の方法。 - 前記ブロックの場所、前記ブロックの1つ以上の幾何学的特徴、および前記ブロックの前記第1の発生と前記ブロックの前記少なくとも第2の発生との間の空間オフセットの前記少なくとも1つを記憶することとをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記1つ以上の幾何学的特徴は、論理値アレイを記憶することにより記憶され、前記論理値は、反復ブロックにおける1つ以上のピクセルを示す、請求項1に記載の方法。
- 差分画像を生成する前に、前記シフトされたスワス画像を、サブピクセル解像度で前記スワス画像と配列させることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
- 前記レチクル検査サブシステムは、
光学的レチクル検査システムおよび電子ビームレチクル検査システムの少なくとも一方を含む、請求項1に記載の方法。 - ブロック間レチクル検査のためのシステムであって、
レチクル検査システムによりレチクルの一部のスワス画像を走査するように構成される、レチクル検査サブシステムと、
メモリ上に維持されるプログラム命令であって、
前記スワス画像内のブロックの第1の発生、および前記ブロックの前記第1の発生と実質的に同様である前記スワス画像内の前記ブロックの少なくとも第2の発生を識別するように、かつ、
前記ブロックの場所、前記ブロックの1つ以上の幾何学的特徴、および前記ブロックの前記第1の発生と前記ブロックの前記少なくとも第2の発生との間の空間オフセットの少なくとも1つを決定するように構成される、プログラム命令の組を実行するように構成される、1つ以上のプロセッサを含むコントローラと、
を備え、
前記スワス画像内のブロックの第1の発生、および前記ブロックの前記第1の発生と実質的に同様である前記スワス画像内の前記ブロックの少なくとも第2の発生を前記識別することは、
前記スワス画像の自己相関アレイを生成することと、
前記自己相関アレイ内の1つ以上の局所ピークの場所を識別することと、
前記1つ以上の局所ピークの前記識別された場所に従い、前記スワス画像を平行移動させることにより、シフトされたスワス画像を生成することと、
前記スワス画像から前記シフトされたスワス画像に対し減算ルーチンを実行することにより、差分画像を生成することと、
選択された許容レベル未満のパラメータ値を有する前記差分画像内の1つ以上の領域を識別することと、
を含む、システム。 - 前記コントローラは、
前記スワス画像を記憶するようにさらに構成される、請求項8に記載のシステム。 - 前記コントローラは、
前記ブロックの場所、前記ブロックの1つ以上の幾何学的特徴、および前記ブロックの前記第1の発生と前記ブロックの前記少なくとも第2の発生との間の空間オフセットの少なくとも1つを記憶するようにさらに構成される、請求項8に記載のシステム。 - 前記1つ以上の幾何学的特徴は、論理値アレイを記憶することにより記憶され、前記論理値は、反復ブロックにおける1つ以上のピクセルを示す、請求項10に記載のシステム。
- 前記コントローラは、
差分画像を生成する前に、前記シフトされたスワス画像を、サブピクセル解像度で前記スワス画像と配列させるようにさらに構成される、請求項8に記載のシステム。 - 前記レチクル検査サブシステムは、
光学的レチクル検査サブシステムおよび電子ビームレチクル検査サブシステムの少なくとも一方を含む、請求項8に記載のシステム。
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