JP6422372B2 - レーザ加工装置 - Google Patents
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Description
チャンバと、
前記チャンバ内に配置され、上面に加工対象物を保持するテーブルと、
前記チャンバの、前記テーブルに対向する位置に設けられたレーザ導入窓と、
前記レーザ導入窓を通して前記チャンバ内にレーザビームを導入するレーザ光学系と、
前記テーブルと前記レーザ導入窓とに挟まれた領域を、前記チャンバ内の他の領域から隔離して隔離空間を画定する隔壁と、
前記隔離空間内に、前記レーザ導入窓から前記テーブルに向かう下降気流を発生する下降気流発生機構と、
前記隔壁を昇降させる昇降機構と
を有するレーザ加工装置が提供される。
11 テーブル
12 昇降機構
13 ガス導入口
14 ガス排気口
15 レーザ導入窓
17 隔離空間
18 チャンバ内の他の空間
20 隔壁
21 開閉弁
22 ガス供給路
22a ガス供給路の環状部分
23 ガス噴出口
24 ガス吸引口
25 ガス吸引路
26 排気ポンプ
27 昇降機構
28 フレキシブル部材
29 弾性部材
30 加工対象物
40 レーザ光学系
45 制御装置
Claims (4)
- チャンバと、
前記チャンバ内に配置され、上面に加工対象物を保持するテーブルと、
前記チャンバの、前記テーブルに対向する位置に設けられたレーザ導入窓と、
前記レーザ導入窓を通して前記チャンバ内にレーザビームを導入するレーザ光学系と、
前記テーブルと前記レーザ導入窓とに挟まれた領域を、前記チャンバ内の他の領域から隔離して隔離空間を画定する隔壁と、
前記隔離空間内に、前記レーザ導入窓から前記テーブルに向かう下降気流を発生する下降気流発生機構と、
前記隔壁を昇降させる昇降機構と
を有するレーザ加工装置。 - 前記下降気流発生機構は、
前記隔離空間にガスを導入するガス導入機構と、
前記ガス導入機構により前記隔離空間にガスが導入される位置よりも低い位置において、前記隔離空間内のガスを吸引するガス吸引機構と
を含む請求項1に記載のレーザ加工装置。 - 前記ガス吸引機構は、前記テーブルの上面に開口するガス吸引口を含む請求項2に記載のレーザ加工装置。
- 前記ガス吸引機構は、前記隔壁に取り付けられ、前記隔離空間内のガスを吸引するガス吸引口を含む請求項2に記載のレーザ加工装置。
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