JP6404133B2 - 末端にチオフェンを有する屈曲型のチエノチオフェン骨格を特徴とする有機半導体材料を有機半導体層に使用した有機トランジスタ。 - Google Patents
末端にチオフェンを有する屈曲型のチエノチオフェン骨格を特徴とする有機半導体材料を有機半導体層に使用した有機トランジスタ。 Download PDFInfo
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)
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Description
また、2,1−DNTTと異性体関係にあるジナフト[1,2−b:1‘,2’−f]チエノ[3,2−b]チオフェン(以下1,2−DNTTとする。)も特許文献2、3と同一の出願人により特許されている(特許文献4)。
[化A4]
[[化A4]中、Xは、酸素、硫黄またはセレンである。]
なお、45DBT3は1,2−DNTTの端末のベンゼン環をチオフェン環に置き換えた有機半導体材料である。
[化A5]
[化A5]中、Aは、チオフェン、フラン、セレノフェン、ピロール環である。]
化合物Bに臭素などのハロゲンや塩化チオニル等の公知のハロゲン化剤と硫黄を作用させることで、67DBT3を合成することができる。
[化2]
ただし、化学式[化2]中のR1からR8は、第1発明の[化1]のR1からR8と同じである。
[化5]
[化3]
ただし、化学式[化3]中のR1からR8は、第1発明の[化1]のR1からR8と同じである。
また、ここで言うドライプロセスとは、真空蒸着法、スパッタリング法、CVD法、レーザー蒸着法、分子線エピタキシャル成長法、気相輸送成長法などを示しており、これら公知の方法が利用できる。
のような有機絶縁膜や、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化タンタル、酸化チタン、酸化スズ、チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウムなどの無機絶縁膜を用いることができる。なお、CYTOPとは、アモルファス(非晶質)構造を有するフッ素樹脂で、透明性があり、コーティング剤、絶縁膜等に使用される。
また、目的の化合物は必要に応じてMS(質量分析スペクトル)、1H―NMRおよび13C−NMRにより決定した。使用した機器は以下の通りである。
MS:ABSCIEX Q−STAR
1H―NMRおよび13C−NMR:Agilent Technologies MercuryPlus
1H―NMR(CDCl3, 400.4MHz)δ=7.23(1H,t,J=8.6Hz),7.41(1H,d,J=5.5Hz),7.47(1H,d,J=8.6Hz),7.47(1H,d,J=5.3Hz),7.74(1H,dd,J=0.8Hz,8.6Hz).
13C−NMR(CDCl3, 100.7MHz)δ=116.1,122.7,124.9,125.7,127.3,127.4,140.7,141.8.
窒素雰囲気下、化合物A0.3g(1.4mmol)のTHF溶液10mlにi−PrMgCl・LiCl(1M−THF溶液)を2.8ml(2.8mmol、2eq)滴下し、室温で2時間撹拌後、0℃でN,N−ジメチルホルムアミド0.29ml(4.2mmol、3eq)を滴下し、滴下後室温に昇温後、塩酸で処理、トルエンで抽出し、有機層を減圧濃縮後、化合物Bを0.15g、収率66%で得た。
1H―NMR(CDCl3, 400.4MHz)δ=7.42(1H,d,J=5.5Hz),7.56(1H,t,J=7.2Hz),7.64(1H,d,J=5.6Hz),7.85(1H,ddd,J=0.4Hz,1.1Hz,7.2Hz)8.03(1H,dd,J=1.1Hz,7.8Hz),10.23(1H,s).13C−NMR(CDCl3, 100.7MHz)δ=122.9,124.3,129.8,130.5,130.9,131.4,137.1,141.3,191.3.
MS(APPI) m/z=3521H―NMR(C2D2Cl4, 400.4MHz)δ=7.62(2H,d,J=5.3Hz),7.68(2H,d,J=5.3Hz),7.96(2H,d,J=8.5Hz),8.04(2H,d,J=8.5Hz).
[化7]
MS(APPI) m/z=576
1 H−NMR(C2D2Cl4, 400.4MHz)δ=0.91(6H,t,J=7.1Hz),1.31(20H,m),1.85(4H,m),3.04(4H,t,J=7.4Hz),7.25(2H,s),7.76(2H,d,J=8.6Hz),7.94(2H,d,J=8.6Hz).
13C−NMR(C2D2Cl4, 100.7MHz)δ=14.3,22.7,29.2,29.3,29.4,30.9,31.5,31.9,120.1,120.2,121.2,127.0,131.8,132.1,137.7,139.0,146.7
54DBT3のMSおよび1H−NMRの測定結果を以下に示す。また、54DBT3の1H−NMRスペクトルを図7に示す。
MS(APPI) m/z=352
1H―NMR(C2D2Cl4, 400.4MHz)δ=7.76(2H,d,J=5.3Hz),7.96(6H,m).
また、アルキル基を有する8−67DBT3の溶解度は、ジクロロメタン中1125mg/Lであり、80℃トルエン中66g/Lと溶解性が非常に高い。
Gaussianは、多種多様な分子・化学反応を解析・設計するための量子化学計算ソフトウェアであり、有名で利用者数の多い量子化学計算ソフトウェアである。分子設計・構造解析・化学反応解析などで多くの成果を上げている。Gaussianは、様々な半経験的・非経験的量子化学計算法に関する機能を有しており、密度汎関数理論に基づく計算にも対応している。また、分子構造・基準振動などの基礎物性や、NMR化学シフトや紫外・可視吸収スペクトルなどの分子の同定や材料設計に役立つ物性値などを算出することが可能である。
密度汎関数理論(Density Functional Theory, DFT)とは、物理や化学の分野に於いて、原子、分子、凝集系などの多体電子系の電子状態を調べるために用いられる量子力学の理論である。この理論では、多体系の全ての物理量は空間的に変化する電子密度の汎関数として表され、密度汎関数理論という名前はそれに由来している。汎関数理論を用いた計算は実験結果と十分に一致し、また計算コストもハートリー-フォック法などの多体の波動関数を用いる手法と比べて低為、最も広く使われている手法である。
54DBT3を170℃に加熱しながら、アルゴンガスをキャリアガスとして、100ml/minの流速で流し、結晶の析出部分を120℃にすることで54DBT3の単結晶サンプルを作成した。
54DBT3の0.01wt%メシチレン溶液を基板へキャストした。調整の際、室温でサンプルが溶解しなかったため、ヒートガンを使用した。基板は0.7wt%のポリメチルメタクリレート(PMMA)溶液を2000rpmで30秒間の条件でスピンコート法により成膜し、120℃で4時間アニールしたSi/SiO2基板(膜厚30nm)を使用した。ソース・ドレイン電極は単結晶の両端にカーボンペーストを塗布することで形成し、減圧条件下でFET測定を行った。
54DBT3を真空蒸着装置を用いて基板上に50nm蒸着し、さらにその上にソース、ドレイン電極となる金を電子ビーム法を用いて80nm蒸着(L=50μm、W=1.5mm)し、トップコンタクト型素子を作成した。なお、用いた基板はSi/SiO2基板にPSとCYTOPでそれぞれ表面処理したものと未処理(bare)のものを用い、有機膜の作製条件として、基板温度は室温で作製を行った。AFM測定によりPSの膜厚は13nm、CYTOPの膜厚は27.8nmであった。
8−67DBT3のメシチレン溶液を0.2wt%、0.1wt%、0.05wt%の濃度で調整し、基板へキャストした。調整の際、室温でサンプルが溶解しなかったため、ヒートガンを使用した。基板は0.7wt%のPMMA溶液を2000rpmで30秒間の条件でスピンコート法により成膜し、120℃で4時間アニールしたSi/SiO2基板(膜厚30nm)を使用した。ソース・ドレイン電極は単結晶の両端にカーボンペーストを塗布することで形成し、減圧条件下でFET測定を行った。
8−67DBT3を真空蒸着装置を用いて基板上に50nm蒸着し、さらにその上にソース、ドレイン電極となる金を電子ビーム法を用いて80nm蒸着(L=50μm、W=1.5mm)し、トップコンタクト型素子を作成した。なお、用いた基板はSi/SiO2基板にPSとCYTOPでそれぞれ表面処理したものと未処理(bare)のものを用い、有機膜の作製条件として、基板温度は室温で作製を行った。
2 ボトムコンタクト型FET
3 ソース
4 ドレイン
5 有機半導体
6 絶縁膜
7 基板(ゲート)
Claims (3)
- 化学式[化1]で示される末端にチオフェンを有する屈曲型のチエノチオフェン骨格を特徴とする化合物を有機半導体に使用する有機トランジスタ。[化1]
化学式〔化1〕中の置換基R1からR8は、水素原子及びハロゲン原子、炭素数が3から60のアリール基、炭素数が3から60の複素環基、炭素数が1から30のアルキル基、炭素数が2から30のアルケニル基、炭素数が2から30のアルキニル基、炭素数が1から30のアルコキシル基、炭素数が1から60のアミノ基、炭素数が1から30のアミド基、炭素数が1から30のイミノ基、炭素数が1から30のカルボキシル基、ヒドロキシル基、炭素数が1から30のエステル基、ニトロ基、ニトリル基、炭素数が1から30のスルフィド基、メルカプト基、炭素数が1から30のスルホニル基、炭素数が1から60のシリル基のうち、少なくとも一つを含み、これらの各基は置換基を有していてもよい。 - 請求項1から請求項2に記載の化学式[化1]、[化2]の有機半導体材料を組み合わせて有機半導体層に使用する有機トランジスタ。
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