JP6402543B2 - 光センサ、光半導体素子及び光撮像装置 - Google Patents
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Description
各光半導体素子は、同一の波長で同一の光強度の光を受光した時、同一の電気信号を発生することが求められている。このような同一の光応答特性を有する光半導体素子がアレイ状に配置された光センサを用いることにより、解像度の良好な画像を得ることが期待される。
S 積層体
10 光半導体素子
11 基板
12 バッファ層
13a、13b コンタクト層
14 中間層
15 第1障壁層
16 量子ドット
17 量子ドット層
18 第2障壁層
19 第3障壁層
20a、20b 電極
21 バンプ
30 光撮像装置
31 駆動部
40 ノズル
Claims (7)
- 第1障壁層と、
前記第1障壁層上に配置され、キャリアに対するポテンシャルエネルギーの大きさが、前記第1障壁層よりも小さい複数の量子ドットを有する量子ドット層と、
前記量子ドット層上に配置され、キャリアに対するポテンシャルエネルギーの大きさが、前記第1障壁層よりも小さく且つ前記量子ドットよりも大きい中間層と、
前記中間層上に配置され、キャリアに対するポテンシャルエネルギーの大きさが前記中間層よりも大きい第2障壁層と、
を有する複数の光半導体素子が、配置されたアレイを備え、
前記アレイ内において、各前記光半導体素子の前記第2障壁層の厚さは、前記第1障壁層の厚さが厚い部分では厚く、且つ、前記第1障壁層の厚さが薄い部分では薄くなっており、各前記光半導体素子の前記第2障壁層の厚さの変化と、前記第1障壁層の厚さの変化とが対応している、光センサ。 - 前記第2障壁層及び前記第1障壁層は同じ材料を用いて形成される請求項1に記載の光センサ。
- 前記第2障壁層のキャリアに対するポテンシャルエネルギーの大きさは、前記第1障壁層と同じである請求項1又は2に記載の光センサ。
- 前記量子ドットの側部及び上部を覆い、キャリアに対するポテンシャルエネルギーの大きさが前記中間層よりも大きい第3障壁層を備える請求項1〜3の何れか一項に記載の光センサ。
- 前記第1障壁層と、前記量子ドット層と、前記中間層と、前記第2障壁層とが積層された積層部を複数備える請求項1〜4の何れか一項に記載の光センサ。
- 第1障壁層と、
前記第1障壁層上に配置され、キャリアに対するポテンシャルエネルギーの大きさが、前記第1障壁層よりも小さい複数の量子ドットを有する量子ドット層と、
前記量子ドット層上に配置され、キャリアに対するポテンシャルエネルギーの大きさが、前記第1障壁層よりも小さく且つ前記量子ドットよりも大きい中間層と、
前記中間層上に配置され、キャリアに対するポテンシャルエネルギーの大きさが前記中間層よりも大きい第2障壁層と、
を有し、
前記第2障壁層の厚さは、前記第1障壁層の厚さが厚い部分では厚く、且つ、前記第1障壁層の厚さが薄い部分では薄くなっており、前記第2障壁層の厚さの変化と、前記第1障壁層の厚さの変化とが対応している光半導体素子。 - 第1障壁層と、
前記第1障壁層上に配置され、キャリアに対するポテンシャルエネルギーの大きさが、前記第1障壁層よりも小さい複数の量子ドットを有する量子ドット層と、
前記量子ドット層上に配置され、キャリアに対するポテンシャルエネルギーの大きさが、前記第1障壁層よりも小さく且つ前記量子ドットよりも大きい中間層と、
前記中間層上に配置され、キャリアに対するポテンシャルエネルギーの大きさが前記中間層よりも大きい第2障壁層と、
を有する複数の光半導体素子が配置されたアレイを備え、
前記アレイ内において、各前記光半導体素子の前記第2障壁層の厚さは、前記第1障壁層の厚さが厚い部分では厚く、且つ、前記第1障壁層の厚さが薄い部分では薄くなっており、各前記光半導体素子の前記第2障壁層の厚さの変化と、前記第1障壁層の厚さの変化とが対応している、光センサと、
各光半導体素子が出力する電気信号を読み出す読み出し部と、
を備える光撮像装置。
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