JP6379177B2 - 流動化装置及び固体粒子を処理するための方法 - Google Patents

Description

本発明は、請求項１の前提部分に基づく流動化装置と、請求項９の前提部分に基づく、固体粒子を処理するための方法とに関するものである。

垂直方向の中心軸線周りに回転する、当該回転式乾燥機星形部材によって区分されたタービュランスチャンバ内の回転式乾燥機星形部材を有する、固体粒子の調質のために連続的に動作する流動化装置は、以前から従来技術である。特に、垂直方向の中心軸線周りに回転するタービュランスチャンバ内の回転式乾燥機星形部材により、一定かつ正確に規定された、流動化装置内の固体粒子の滞留時間が達成される。

特許文献１は、連続的に動作する流動性の原料のための流動層乾燥機が紹介されている。この流動層乾燥機は、竪穴状の乾燥空間と、気体状の乾燥媒体が貫流するろ過床と、乾燥空間内でろ過床を介して竪穴の軸線周りに周設され、その高さにまわって竪穴ジャケットまで達する複数の径方向の壁とで構成されている。上方へ拡大する竪穴ジャケットは、それぞれシールされて、上方へ固定され、竪穴に接続されたフィルタチャンバ及び供給チャンバと、ろ過床の下方にエアチャンバとに干渉する。このとき、径方向の壁は、竪穴ジャケットに固結されている。この特許文献１に開示された技術的な解決手段における欠点は、完全に流動化されていない固体粒子がろ過床に沈降あるいは落下し、竪穴軸線周りに周設された径方向の壁が固体粒子をそこで破壊し得るとともに、これにより低い製品収量となってしまうことである。

特許文献２には、処理すべき試薬の時間によって調整可能な通路を有する、化学反応及び／又は物理化学的な操作の定常的な実行のための流動層装置が記載されている。このために、流動層空間あるいは反応チャンバの個々の部分はアーム及び開口部を有する水平方向の中空軸を含んでおり、反応空間あるいは流動層空間の下方には、流入する媒体の分配のためのチャンバが配置されており、このチャンバは複数の部分あるいはセグメントで構成されており、これら部分あるいはセグメントのうち個々の部分あるいはセグメントは、気体供給配管を備えている。この気体供給配管内には、反応媒体、場合によっては流動化された媒体の供給の調整及び／又は中断のための装置が設けられている。このとき、完全に流動化されていない固体粒子が流動層空間とディストリビュータチャンバの間のろ過床へ沈降あるいは落下し、竪穴軸線周りに周設された径方向の壁が固体粒子を破壊し得るということが欠点である。

独国特許発明第１２２７８４０号明細書 オーストリア国特許第２５２８７４号明細書

本発明の目的は、上記欠点を解消することにある。

一方、タービュランスチャンバを複数のプロセス空間へセグメント化するための本発明による回転式乾燥機星形部材は、回転式乾燥機星形部材の下方に、流入床が回転式乾燥機星形部材と着脱可能に配置されているという利点を有する。このために、回転式乾燥機星形部材のタービュランスチャンバは、回転可能に配置されているとともに、搬送区間に沿った固体粒子の搬送のために分離壁又はこれに類するものを備えている。例えば格子として形成され得る流入床の、回転式乾燥機星形部材の下方における着脱可能な配置により、従来技術による欠点が解消される。完全に流動化されていない固体粒子は、ろ過床へ沈降又は落下し、そこで破壊されずに、更に、例えば空気又は不活性ガスのような流動化媒体によって流入し、調質され得る。さらに、着脱可能な配置により、いつでも交換が可能であり、その結果、調質プロセスの実状への流入床の適合が可能である。加えて、本発明による装置は、粒状化プロセス及びコーティングプロセスの実行に適している。

本発明による回転式乾燥機星形部材の有利な形態によれば、流入床の複数の開口部の大きさが、調質されるべき固体粒子に依存する。流入床の開口部は、それぞれ調質条件に適合される。したがって、異なるプロセスにおいてプロセス過程中に試薬が破壊されることが防止される。

本発明による回転式乾燥機星形部材のこれに関する有利な形態によれば、開口部が、調質プロセスにおいて生じる最小の固体粒子に依存する大きさを備えている。

本発明による回転式乾燥機星形部材の追加の有利な形態によれば、回転式乾燥機星形部材には、少なくとも１つのノズル又はこれに類するものが配置されている。回転式乾燥機星形部材におけるノズルの配置により、タービュランスチャンバ内での滞留時間中に異なる様式で固体粒子を調質することが可能となる。固体粒子を変化させたり、あるいは調質するために、例えば、液体を噴霧したり、又は異なる気体を添加することが可能である。さらに、固体ノズルによって例えば合成樹脂も固体粒子へ噴霧することも可能である。ノズルの局所的な配置を、タービュランスチャンバの外壁において、又は回転式乾燥機星形部材において行うことが可能である。全てのプロセス態様において、例えば噴射ノズルであるノズルを介して液体をプロセス空間へ導入することが本質的に重要である。例えば液体である媒体は、溶液、懸濁液、分散液、エマルジョン、溶解液又はこれに類するものとしてノズルによって導入され得る。いずれの場合でも、少なくとも１つの固体が適宜に形成された固体粒子入口ユニットを介して連続的に供給される。個々のプロセス空間内にある固体は、少なくとも１つのノズルを用いて、媒体、例えば液体によって湿潤される。存在する固体粒子及び媒体のプロセス条件及び生産特性に応じて、粒状化された粒子が湿潤される。同時に、プロセス空間内で凝固プロセスが行われ、これにより、固体が互いに結合される（塊成化プロセス）又は噴霧液体によって供給された固体が粒子表面に添加される（コーティング、成層化、噴霧粒状化、造粒）。噴霧液体によって供給される、水又は有機溶媒（エタノール、イソプロピル又はこれに類するもの）などの溶媒は、気化し、流動化媒体（空気、窒素又はこれに類するもの）と共に排出される。

これにより、粒子システムの製造又は機能化のための多数のプロセス態様を実施することが可能である。例えば、結晶化により製造された粉状の（細かく分散する）製薬上の作用物質（例えばパラセタモール）を連続的に供給することができるとともに、プロセス空間において水性の結着剤（例えばデンプンのり）によって噴霧することが可能である。この結着剤供給によって粉体の塊成化がなされ、所定の構造を有する自由に流動する凝集粒子で直接構成されている。本発明による装置により、最終製品における正確に規定された結着剤含有量が保証される。そのほか、非常に均等で再現可能な最終水分の調整が可能である。なぜなら、滞留時間範囲を通して、従来形成された連続的な造粒機に比べて不均質性が存在しないためである。

他の応用態様は、例えば連続的なコーティングである。ここで、例えばあらかじめ粒状化されているか、タブレット化されているか、又はペレット化されている原料（粒剤、凝集粒子、ペレット、タブレット又はこれに類するもの）は外皮を備えることができる。例として、ここでは、湿気に対するバリア（防水性）を有する肥料粒剤又は洗剤構成要素、製薬上の作用物質を有する基材ペレット（薬剤成層化）、例えば遊離プロフィル（ＳＲコーティング）の変更のためのポリマーによる製薬上の作用物質の機能的なコーティング、又は層安定性及びペレット安定性の改善のための添加物を有する酵素粒剤のコーティングが挙げられる。

全ての応用形態において、本発明による装置は、例えば液体である各形態の媒体の導入を、公知の噴霧装置（例えば圧力ノズル、二成分ノズル、超音波ノズル又はこれに類するもの）全体の応用においてその空間的な整列及び配置（上方からの、下方からの、傾斜した、接線方向などの噴射）にかかわらず可能とするものである。噴霧装置の数も可変である。例えば、様々な液体を同時に複数のノズルを介して各プロセス空間内に取り入れること、又は多成分ノズル（液体の同時の噴霧）を用いることが考えられる。

プロセス空間が、固体粒子入口ユニットから固体粒子出口ユニットへのその移動中に連続して複数の液体を供給することも装置技術的に可能である。したがって、正確にコントロール及び制御された、例えば多層ペレットの構造も可能である。このために、ノズルが、容易に切換可能に多数の供給システムへ接続される。

本発明による回転式乾燥機星形部材の更なる有利な形態によれば、搬送区間に沿った固体粒子の搬送のために寄与する分離壁がタービュランスチャンバの外側ジャケットに固結されている。

本発明による回転式乾燥機星形部材の追加の有利な形態によれば、少なくとも１つのプロセス空間が、１つのカバー及び／又は少なくとも１つのフィルタを備えている。回転式乾燥機星形部材の上方におけるカバーの配置により、プロセス空間端部が上方へ向けて形成される。したがって、プロセス空間から他のプロセス空間への流動化装置の動作中に流動化された固体粒子の溢流が防止され、これにより、生産物の品質が向上する。なぜなら、異なるように調質された固体粒子の個々のプロセス空間の間での逆混合が阻止されるためである。

本発明による回転式乾燥機星形部材のこれに関する有利な形態によれば、少なくとも１つのフィルタが少なくとも１つのカバーに配置されている。プロセス空間のカバーにおけるフィルタの配置は、流動化された固体粒子が各プロセス空間から出てこれにより他のセグメントへ至ることを防止するという利点を有している。さらに、これにより、セグメント化されたプロセス空間内での非混合効果又は分離が阻止される。

本発明による回転式乾燥機星形部材の追加の有利な形態によれば、少なくとも１つのプロセス空間がプロセスガス制御部を備えている。このプロセス制御部は回転式乾燥機星形部材の上方及び第１のカバーの上方に配置されており、このプロセスガス制御部によって、プロセス空間内のプロセスガス流を個々に制御することが可能である。プロセスガス制御部は、一方では、プロセス空間によって、及びカバーから流れるプロセスガスのセグメント化のための追加の星形部材（フィルタ空間）で構成されている。この星形の部材の上方には、他方で、有利には各プロセス空間に対してそれぞれ１つのコントロールバタフライバルブ又はこれに類するものがプロセスガス流の制御のために配置されている。これにより、有利には、プロセスガス流を各プロセス空間を通して、あるいは、場合によっては流入床構造を通した空気流量配分に加えて、又はこれに代えて、個々にパラメータ化することができる。これは、現在の従来技術の改善を示すものである。なぜなら、回転中の各プロセス空間内に配置されたノズルを用いた調質に際して、異なるプロセスガス流が必要となるためである。そのほか、プロセスガス流の制御は、特に各プロセス空間の充填過程又は排気過程において有利な影響をもたらし得る。

流動化装置における塊成化、コーティング、成層化、噴霧粒状化又は造粒の目的のための、固体粒子を処理するための本発明による方法は、本発明による滞留時間範囲が、流動化装置（２）における１０％台の累積分布を有する固体粒子と、９０％台の累積分布を有する固体粒子との滞留時間の比として、噴霧時に非常に狭く調整され、例えばｔ_{ＲＴＤ，９０}≦３、すなわち９０％台の累積分布が１０％台の累積分布の最大で３倍となるという利点を有している。このような狭い滞留時間範囲を有する方法の１つの利点は、製品の品質が滞留時間範囲の大きな比率を有する方法に比して明らかに向上することにある。例えば従来の構造の装置において進行する方法によっては、このような狭い滞留時間範囲を得ることができない。正確に規定されたコーティング時間、したがって層構造を保証するために、医薬品製造業においては、コーティングプロセスは通常バッチ装置において実行される。古典的な流動層流路における連続的なコーティングは、多層コーティングには適していない。なぜなら、堰構造の使用にもかかわらず十分に狭い滞留時間範囲を得ることができないためである。ただし、特に薄い層が固体粒子へ設けられる必要があるか、又は処理が一層又は複層でなされるかどうかにかかわらず非常に均一な固体粒子のカバーが必要である場合には、この狭い滞留時間範囲は必要不可欠である。例えば、
ｔ_{ＲＴＤ，９０}＝２ｔ_{ＲＴＤ，１０}
のような範囲は、従来の構造を有する装置においては不可能である。ここで、ｔ_{ＲＴＤ，．．．}は固体粒子の滞留時間（累積分布の１０％の値あるいは９０％の値）である。理想的な場合には、従来の構造を有する装置において、理論的な一連の撹拌槽の５〜１５の段数に対して等量の滞留時間範囲を生じさせることが可能である。したがって、上記設定したように、滞留時間範囲は、従来の構造における装置では達成することができない。

滞留時間範囲は、連続的な装置においては、流れプロフィルの最適化によっては、方法技術的なパラメータにかかわらず調整されることができない。ここでは、常に、例えば流量、流動化速度、被膜質量並びに粒子サイズ及び粒子密度の依存性が存在する。

直接調整可能な滞留時間は、クロスフローの強制ガイド及び除去によってのみ保証され得る。新たな種類のコンセプトは、滞留時間が方法技術的な特性量及び材料についての特性量にかかわらず設定する可能性を提供するものである。ここで、滞留時間は、回転数によって直接規定され得るとともに、これにより正確な滞留時間及びプロセス時間が記述される。プロセス経過のためのトレーサビリティがこれにより最適化され、このことは、乾燥、コーティング、塊成化及び噴霧粒状化のために必要とされるものである。

本発明による追加の有利な形態によれば、固定粒子の噴霧が請求項１〜８のいずれか１項に記載の回転式乾燥機星形部材（１）内でなされる。

本発明の他の利点及び有利な形態は、以下の説明、各請求項及び図面から把握可能である。

組み込まれた本発明による回転式乾燥機星形部材を有する流動化装置の斜視図である。 組み込まれた本発明による回転式乾燥機星形部材を有する流動化装置の斜視図である。 組み込まれた本発明による回転式乾燥機星形部材を有する流動化装置の切断された斜視図である。 本発明による回転式乾燥機星形部材の斜視図である。 本発明による回転式乾燥機星形部材の平面図である。 本発明による回転式乾燥機星形部材及びディストリビュータチャンバの取付部材の組立構造の斜視図である。 図６に示された組立構造の平面図である。 本発明による回転式乾燥機星形部材、フィルタ及びプロセスガス制御部の斜視図である。 流動化装置の空気供給の様々な実施形態の断面図である。

図１には、流動化装置２へ組み込まれた、本発明による回転式乾燥機星形部材１の一実施例が斜視図で示されている。ディストリビュータチャンバ３の上方に配置されたタービュランスチャンバ４は、固体粒子入口ユニット６及び固体粒子出口ユニット７を備えた外側ジャケット５と、円すい部８及び該円すい部に配置されつつ薄板、アルミニウム又はこれに類するもので形成された、タービュランスチャンバ４をセグメントに分割する複数の分離壁９を備えたタービュランスチャンバ４内で回転する本発明による回転式乾燥機星形部材１とで構成されている。分離壁９は、タービュランスチャンバ４の全体の構造高さにわたって延在している。分離壁９と、外側ジャケット５と、回転式乾燥機星形部材１の、例えば格子である不図示の流入床と、タービュランスチャンバ４の不図示のカバーとが複数のプロセス空間１１を形成している。本発明による回転式乾燥機星形部材１の回転は駆動ユニット１２、例えばサーボモータ又はこれに類するものによって生じ、この回転によってタービュランスチャンバ４内での固体粒子の正確な所定の滞留時間が調整される。

本発明による回転式乾燥機星形部材１が組み込まれた流動化装置２の斜視図が図２に示されている。この図示は、図１で既に挙げた回転式乾燥機星形部材１の技術的な特徴と、図１では不図示の流入床１０とが示されている。さらに、回転式乾燥機星形部材１の円すい部８に配置された分離壁９、流入床１０、外側ジャケット５及び不図示のカバーにより形成されるプロセス空間１１の開口角度１３が示されており、この開口角度は、固体粒子入口ユニット６及び固体粒子出口ユニット７の互いに対する位置によって標準的に決定される。本発明による回転式乾燥機星形部材１において着脱自在に配置された流入床１０により、両ユニット、ディストリビュータチャンバ３及びタービュランスチャンバ４の分離が達成される。不図示のカバーから流入床１０へ向けて直径が拡大する回転式乾燥機星形部材１の円すい部８は、流れの鎮静化に寄与し、したがってタービュランスチャンバ４内のより安定した流動層の形成に役立つものである。回転式乾燥機星形部材１に配置された分離壁９は、タービュランスチャンバ４の全高にわたって延在しているとともに、これにより、流動化装置２の動作中に流動化された固体粒子の溢流があり得ないほど高くなっている。分離壁９のこの特性は、製品の品質を高めるものである。なぜなら、異なって調質された固体粒子の各プロセス空間１１間での逆混合が阻止されるためである。さらに、本実施例における分離壁９は、外側の端部において回転方向１４へ湾曲あるいは角度を付けられた分離壁端部を備えており、このため、一方では回転式乾燥機星形部材１の分離壁９の追加の機械的な安定性が達成され、他方では外側ジャケット５に対するプロセス空間１１のシールがなされる。同時に、回転方向１４へ湾曲された分離壁端部１５により、外側ジャケット５に付着する固体粒子が削り取られ、したがって、外側ジャケット５の内壁の汚れが防止される。分離壁９とタービュランスチャンバ４の外側ジャケット５の間の分離壁端部１５も、別の適当なシールによっても形成されることが可能である。回転する回転式乾燥機星形部材１を用いる可能性のほかに、外側ジャケット５を本発明による回転式乾燥機星形部材１の分離壁９に固結し、したがってタービュランスチャンバ４全体を回転可能に構成する可能性も存在する。

図３には、流動化装置２及びその内部に組み込まれた本発明による回転式乾燥機星形部材１の切断された斜視図が示されている。上述の図１及び図２に示された技術的な特徴のほかに、図３には、回転式乾燥機星形部材１の流入床１０、例えば格子又はこれに類するものが、両機能ユニットであるディストリビュータチャンバ３及びタービュランスチャンバ４が組み合わされた状態で明確に視認可能に示されている。交換可能かつ回転式乾燥機星形部材１において共に回転可能に配置された流入床１０は、その平面上において異なる口径比を有している。この流入床１０の口径比は、例えば、例えば開口孔として形成され得るとともに、共に回転する流入床１０の場合には調質されるべき固体粒子の最小の大きさに依存する、複数の開口部１６の異なる直径によって、調質されるべき固体粒子に適合可能である。最小の調質されるべき固体粒子への流入床１０の適合により、滞留時間中に、タービュランスチャンバ４における固体粒子は、製造損失に対抗するものである。なぜなら、これら固体粒子は流入床１０を通して落下し得ないためである。さらに、固体粒子は破壊されない。なぜなら、これら固体粒子は、流入床上に位置しつつ分離壁９によって捕捉され得るためである。さらに、流入床１０、例えば格子又はこれに類するものは、更にプロセス空間端部を形成するとともに、したがって機能ユニットであるタービュランスチャンバ４を機能ユニットであるディストリビュータチャンバ３に対して画成する。

図４には、本発明による回転式乾燥機星形部材１の斜視図が示されている。本実施例に図示された回転式乾燥機星形部材１は、円すい部８と、回転方向１４へ湾曲された分離壁端部１５を有する複数の分離壁９と、着脱自在に配置された流入床１０、例えば格子又はこれに類するものとで構成されている。これにより複数のプロセス空間１１が得られ、このプロセス空間内では、正確に規定された滞留時間をもって固体粒子がタービュランスチャンバ４を通して搬送される。さらに、複数のノズル１７が回転式乾燥機星形部材１の円すい部８において示されている。しかしながら、これらノズルは、分離壁９においても、又はタービュランスチャンバ４の不図示の外壁５においても配置されることが可能である。これらノズルによって、様々な媒体、例えば気体、液体又は固体の吹付けが可能である。ノズルとして、従来技術において知られた全てのノズルを用いることができる。

図５には、本発明による回転式乾燥機星形部材１の平面図が示されている。図示の回転式乾燥機星形部材１は、図４に記載された技術的な特徴を備えているとともに、更にプロセス空間１１をつなぐ開口角度１３を示している。本実施例において、プロセス空間１１は全て同一の開口角度１３を有しており、そのため、プロセス空間１１は全て同じ大きさである。しかし、プロセス空間１１は、異なる開口角度１３を有することができ、したがって、その大きさにおいてもはや同一ではない。さらに、図５には、下方へ拡大する回転式乾燥機星形部材１の円すい部８が示されており、この円すい部は、形成された流動層の流れの鎮静化へ導くものである。

本発明による回転式乾燥機星形部材１の円すい部８及び分離壁９との組立構造の斜視図が、図６において、エアディストリビュータプレート１９及びフレーム２０から成るディストリビュータチャンバ３の取付部材１８上に示されている。取付部材１８は、ディストリビュータチャンバ３内において、タービュランスチャンバ４において配置された本発明による回転式乾燥機星形部材１の下方に配置されている。図６において、ここでは開口部１６、特に開口孔として構成された流入床１０の均等な口径比が良好に視認でき、これら開口孔は、実施すべき調質プロセスにおける固体粒子の最小の大きさに設定されており、したがって製造損失が防止するものである。

図７には、図６に図示された本発明による回転式乾燥機星形部材１と取付部材１８の組立構造の平面図が示されている。図７には、分離壁９、分離壁端部１５、円すい部８及びノズル１７のような上述の技術的な特徴がここでも示されている。さらに、ここでは不変の形態における開口孔としての流入床１０の開口部１６が示されている。

図８には、本発明による回転式乾燥機星形部材１の斜視図が示されている。プロセス空間１１は、分離壁９の上端に、回転式乾燥機星形部材１と共に回転する第１のカバー２１を備えている。このカバー２１は、ここでは分離壁９と気密に結合されている。カバー２１により、プロセス空間１１の高さが分離壁９の高さに対応する。したがって、一方で各プロセス空間１１が他のプロセス空間１１に対して画成されることが達成され、他方で、流動化された固体粒子が流動化装置２への入口から固体粒子入口ユニット６を通って固体粒子出口ユニット７を通る出口までそれぞれプロセス空間１１内においてのみとどまることが達成され、これにより、異なるプロセス空間１１間で横方向の混合が生じない。本実施例においては、カバー２１の上方に、ここでは例示的に回転式乾燥機星形部材１の分離壁と同様の配置を備えた、すなわち回転式乾燥機星形部材１の分離壁９と面一な分離壁２２である、複数の分離壁２２がはめ込まれている。また、プロセス空間１１の分離壁９と同様に、分離壁２２は、上端にカバー２３を備えている。このカバーは、同様に回転式乾燥機星形部材１と共に回転するとともに、少なくとも部分的に分離壁２２と結合されており、これにより、複数のフィルタ空間２４が形成される。本実施例では、プロセス空間１１ごとにカバー２１が２つの開口部を備えており、これら開口部内には、それぞれ例えば金属フィルタ織物又はろ過布織物又はこれに類するものから成るフィルタ２５が配置されており、このフィルタは、プロセス空間１１内へ突出している。フィルタ２５の洗浄は、例えばフィルタ洗浄装置２６によって生成される圧縮空気又はこれに類するものを用いた周期的な空気噴射によってなされる。フィルタ洗浄装置２６には、供給配管２７を介して例えば圧縮空気が供給される。有利には、少なくとも２つのフィルタが設けられており、これにより、プロセスガスが他のフィルタを流れる間に１つのフィルタ２５を洗浄することが可能である。したがって、連続的な流動化プロセスを得ることができる。なぜなら、プロセスガス流と、したがって固体粒子の流動化とをフィルタ２５の洗浄のために中断させる必要がないためである。カバー２３の上方にはプロセスガス制御部２８が図示されており、このプロセスガス制御部は、それぞれ各プロセス空間１１のためのコントロールバタフライバルブ２９又はこれに類するもので構成されているとともに、各コントロールバタフライバルブを制御技術的な入力によって互いに依存して、又は互いに無関係に調整することが可能であり、これにより、確実で障害のない流動化装置２の動作が確保される。しかしながら、コントロールバタフライバルブ２９を、カバー２３へ組み込まれたコントロールバルブで置き換えることもできる。このような場合には、カバーは気密に分離壁２２に結合される必要があり、その結果、各フィルタ空間２４が正確にプロセス空間１１へ割り当てられる。コントロールバタフライバルブ２９あるいはコントロールバルブの位置により、対応するプロセス空間１１を貫流する流動化気体（プロセスガス）の体積流量が決定される。これにより、プロセスガス流を各プロセス空間１１において個々に調整あるいは制御することが可能である。例えば、固体粒子入口ユニット６を通した流動化装置２のプロセス空間１１への流動化された固体粒子の導入時には、変化するプロセスガス流が必要となる。一方、流動化された固体粒子の調質中には不変のプロセスガス流が必要となる。

図９には、流動化装置の空気供給の様々な実施形態が、流動化装置の個々のプロセス空間の断面において示されている。流動化装置のための流入床の古典的な構成（（穿孔され、多孔性の、孔あけされ、焼結されるなどした薄板）に対して、空気分配を流入床の代わりに噴流層原理の応用によって行うことも可能である。このとき、流動化媒体は、適宜に形成された入口隙間、好ましくは周設された入口隙間によってプロセス空間内へ案内される。これにより、目的に合った形状によって非常に幅広な流体力学的な動作範囲と、プロセス空間における粒子運動の適切な影響とが可能である。空気入口を、構造上設定して「固定」されても、また可変及び調整可能にも構成することが可能である。さらに、噴流層を、対称に、又は非対称に構成することも可能である。例えば上方へ拡大するプロセス空間を実現するために、流動化装置のプロセス空間を、垂直な壁又は適宜傾斜した壁によっても内側へ、又は／及び外側へ設定することが可能である。古典的な流動層としても、また噴流層としても設定されたプロセス空間は、可能な全てのノズル形状を有するとともに、プロセス変化全体に対して準備され得る。タービュランスチャンバに統合された噴流層及び流動層の組合せも考え得る。

ここに図示された全ての特徴は、個別にも、また互いの適宜の組合せにおいても本発明に本質的であり得る。

１ 回転式乾燥機星形部材
２ 流動化装置
３ ディストリビュータチャンバ
４ タービュランスチャンバ
５ 外側ジャケット
６ 固体粒子入口ユニット
７ 固体粒子出口ユニット
８ 円すい部
９ 分離壁
１０ 流入床
１１ プロセス空間
１２ 駆動ユニット
１３ 開口角度
１４ 回転方向
１５ 分離壁端部（シール）
１６ 開口部
１７ ノズル
１８ 取付部材
１９ エアディストリビュータプレート
２０ フレーム
２１ カバー
２２ 分離壁
２３ カバー
２４ フィルタ空間
２５ フィルタ
２６ フィルタ洗浄装置
２７ 供給配管
２８ プロセスガス制御部
２９ コントロールバタフライバルブ

Claims (10)

1. ディストリビュータチャンバ（３）と、タービュランスチャンバ（４）と含む流動化装置（２）であって、前記タービュランスチャンバ（４）が、前記ディストリビュータチャンバ（３）の上方に配置されているとともに外側ジャケット（５）を備えており、前記流動化装置（２）が固体粒子入口ユニット（６）及び固体粒子出口ユニット（７）を備えており、前記流動化装置（２）が、前記タービュランスチャンバ（４）を複数のプロセス空間（１１）へセグメント化するための回転式乾燥機星形部材（１）を備えており、該回転式乾燥機星形部材（１）が、回転可能に配置されているとともに、複数の固体粒子を搬送区間に沿って搬送するために複数の分離壁（９）又はこれに類するものを備えており、該分離壁が、前記タービュランスチャンバ（４）を前記プロセス空間（１１）へ分割しており、前記回転式乾燥機星形部材（１）の下方に、流入床（１０）が前記回転式乾燥機星形部材（１）と着脱可能に配置されている、前記流動化装置において、
   前記流入床（１０）が、前記回転式乾燥機星形部材（１）において共に回転可能に配置されていることを特徴とする流動化装置（２）。
2. 前記流入床（１０）の複数の開口部（１６）の大きさが、調質されるべき固体粒子に依存することを特徴とする請求項１記載の流動化装置（２）。
3. 前記開口部（１６）が、調質プロセスにおいて生じる最小の固体粒子に依存する大きさを備えていることを特徴とする請求項２記載の流動化装置（２）。
4. 前記回転式乾燥機星形部材（１）には、少なくとも１つのノズル（１７）又はこれに類するものが配置されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の流動化装置（２）。
5. 搬送区間に沿った固体粒子の搬送のための前記分離壁（９）が、前記タービュランスチャンバ（４）の外側ジャケット（５）に固結されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の流動化装置（２）。
6. 少なくとも１つの前記プロセス空間（１１）が、１つのカバー（２１）及び／又は少なくとも１つのフィルタ（２５）を備えていることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の流動化装置（２）。
7. 少なくとも１つの前記フィルタ（２５）が少なくとも１つの前記カバー（２１）に配置されていることを特徴とする請求項６記載の流動化装置（２）。
8. 少なくとも１つの前記プロセス空間（１１）がプロセスガス制御部（２８）を備えていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の流動化装置（２）。
9. 流動化装置における塊成化、コーティング、成層化、噴霧粒状化又は造粒の目的のための、固体粒子を処理するための方法であって、固体粒子に所定の滞留時間範囲の設定において噴霧される前記方法において、
   タービュランスチャンバ（４）を複数のプロセス空間（１１）へセグメント化するための回転式乾燥機星形部材（１）内において噴霧がなされ、該回転式乾燥機星形部材（１）が、回転可能に配置されているとともに、搬送区間に沿って固体粒子を搬送するために分離壁（９）を備えており、前記回転式乾燥機星形部材（１）の下方に、流入床（１０）が、着脱可能かつ共に回転可能であるように前記回転式乾燥機星形部材（１）に配置されていること、
   前記固体粒子が、全滞留時間中に前記プロセス空間（１１）内にとどまること、及び
   前記滞留時間範囲が、流動化装置（２）における１０％台の累積分布を有する固体粒子と、９０％台の累積分布を有する固体粒子との滞留時間の比として非常に狭く調整され、その結果、前記９０％台の累積分布が、前記１０％台の累積分布の最大で３倍であることを特徴とする方法。
10. 固体粒子を処理するための回転式乾燥機星形部材（１）が、請求項２〜８のいずれか１項に記載の回転式乾燥機星形部材（１）であることを特徴とする請求項９記載の方法。

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