JP6369204B2 - 嫌気性処理装置 - Google Patents
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Description
図1、図2は、本実施形態にかかる嫌気性処理装置100を説明するための図であり、図1は、嫌気性処理装置100の斜視図を示し、図2は、図1のII−II線のXZ断面図を示す。本実施形態の図1、図2では、垂直に交わるX軸、Y軸、Z軸(鉛直方向)を図示の通り定義している。また、理解を容易にするために、図1中、反応槽を透明で、液面(液体と気体の界面)を破線で、グラニュール層GLの界面を一点鎖線で示す。さらに、図1、図2中、グラニュールを黒丸で、ガスを白丸で示し、図2中、液(被処理液、処理後液)をグレーの塗りつぶしで示す。
上記実施形態では、嫌気性処理装置100が引き抜き部180を備える構成について説明した。しかし、引き抜き部180に代えて、ガス排出口162を通じて排出されたガスの一部を、気固液分離部150の下方から導入するガス導入部を備えるとしてもよい。
100 嫌気性処理装置
110 反応槽
120 被処理液導入部
130 越流部
150(150a〜150e) 気固液分離部
152 フィルタ部
162 ガス排出口
180 引き抜き部
200 嫌気性処理装置
Claims (3)
- 嫌気性生物によって被処理物を分解する嫌気性処理装置であって、
嫌気性生物のグラニュールで構成されるグラニュール層を収容し、少なくとも該グラニュール層で前記被処理物を、ガスおよび該被処理物の分子量より分子量の小さい炭素化合物に分解させる反応槽と、
前記反応槽における前記グラニュール層の下部、または、該グラニュール層の下方から、前記被処理物を含む被処理液を導入する被処理液導入部と、
前記反応槽における前記グラニュール層の上方に設けられ、該グラニュール層で処理された被処理液である処理後液が越流する越流部と、
前記グラニュール層から前記越流部に向かう前記処理後液の上昇経路上に、該処理後液の上昇を邪魔するように配され、複数の孔が形成されたフィルタ部を有し、該処理後液とともに上昇した、ガスとグラニュールとの集合体である浮上グラニュールを、該ガスと該グラニュールとに分離させ、該ガスを堰き止めて一時的に貯留する気固液分離部と、
前記気固液分離部に貯留された前記ガスを外部に排出するガス排出口と、
前記気固液分離部内に滞留した、前記被処理液または前記処理後液を引き抜く引き抜き部と、
を備え、
前記フィルタ部は、鉛直方向に対して傾斜しており、
前記フィルタ部の孔の孔径は、前記ガスおよび前記グラニュールを通過不可能または通過困難とし、前記被処理物を通過可能または通過容易とする大きさであることを特徴とする嫌気性処理装置。 - 前記ガスおよび前記グラニュールを通過不可能または通過困難とし、前記被処理物を通過可能または通過容易とする大きさは、0.02mm〜2mmのうち、予め設定された大きさであることを特徴とする請求項1に記載の嫌気性処理装置。
- 前記ガス排出口を通じて排出されたガスを、前記気固液分離部の下方から導入するガス導入部をさらに備えたことを特徴とする請求項1または2に記載の嫌気性処理装置。
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