JP6362095B2 - 照明装置、露光装置、調整方法、及び、物品の製造方法 - Google Patents
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Description
前記複数の光源部からの光を重畳した光強度分布を瞳面に形成し、重畳した光で前記被照明面を照明する照明光学系を更に有し、前記反射鏡で反射されて前記被照明面に向かう光の一部を前記ケーブル及び前記冷却ノズルが遮ることにより、前記照明光学系の瞳面における光強度分布において前記ケーブル及び前記冷却ノズルのそれぞれの影が形成され、
前記照明光学系の瞳面における光強度分布において、前記複数の光源部のうち1つの光源部の前記ケーブル及び前記冷却ノズルのそれぞれの影の位置、及び、前記複数の光源部のうちその他の少なくとも1つの光源部の前記ケーブル及び前記冷却ノズルのそれぞれの影の位置が互いにずれていることを特徴とする。
図1に露光装置の概略図を示す。露光装置は、光源装置からの光を用いて、被照明面にあるマスク(レチクル)8を照明し、マスク8のパターンを投影光学系9により基板(ウエハ、ガラスプレート等)10上に投影して露光する。
図11に、第2の実施形態の露光装置の概略図を示す。本実施形態の露光装置は、実施形態1の露光装置とは、計測部500と調整部(制御部600と調整機構700A、700B、700C)とを有する点で異なる。実施形態1と同様の構成については説明を省略する。
本実施形態における露光装置の構成は実施形態2と同様であるため、説明を省略する。なお、本実施形態では、調整方法において実施形態2と異なる。図13に、実施形態3における調整方法のフローチャートを示す。
次に、前述の露光装置を利用した物品(半導体IC素子、液晶表示デバイス、カラーパネル等)の製造方法を説明する。物品は、前述の露光装置を使用して、感光剤が塗布された基板(ウェハ、ガラス基板等)を露光する工程と、その基板(感光剤)を現像する工程と、他の周知の工程と、を経ることにより製造される。他の周知の工程には、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等の加工が含まれる。本物品製造方法によれば、従来よりも高品位の物品を製造することができる。
Claims (16)
- 被照明面を照明する照明装置であって、
ランプと、前記ランプからの光を反射する反射鏡と、前記反射鏡の外側から前記ランプの電極に接続されたケーブルと、前記反射鏡の外側から前記ランプの電極に向かって延び、前記ランプの電極を冷却するための冷却ノズルと、を含む光源部を複数有し、
前記複数の光源部からの光を重畳した光強度分布を瞳面に形成し、重畳した光で前記被照明面を照明する照明光学系を更に有し、
前記反射鏡で反射されて前記被照明面に向かう光の一部を前記ケーブル及び前記冷却ノズルが遮ることにより、前記照明光学系の瞳面における光強度分布において前記ケーブル及び前記冷却ノズルのそれぞれの影が形成され、
前記照明光学系の瞳面における光強度分布において、前記複数の光源部のうち1つの光源部の前記ケーブル及び前記冷却ノズルのそれぞれの影の位置、及び、前記複数の光源部のうちその他の少なくとも1つの光源部の前記ケーブル及び前記冷却ノズルのそれぞれの影の位置が互いにずれていることを特徴とする照明装置。 - 前記複数の光源部のうち1つの光源部による前記影の位置、及び、前記複数の光源部のうちその他の少なくとも1つの光源部による前記影の位置が互いにずれた前記光強度分布を用いて、前記被照明面にあるマスクを照明することを特徴とする請求項1に記載の照明装置。
- 前記照明光学系の瞳面における光強度分布における複数の影の数をnとすると、前記照明光学系の瞳面を360°/nの中心角で分割したn個の部分領域のそれぞれに前記影が存在することを特徴とする請求項1又は2に記載の照明装置。
- 前記照明光学系の瞳面における光強度分布における複数の影の数をnとすると、各々の影の位置は180°/nの中心角以上の間隔でずれていることを特徴とする請求項1乃至3の何れか1項に記載の照明装置。
- 前記照明光学系の瞳面における光強度分布において、それぞれの影の位置は等しい中心角間隔でずれていることを特徴とする請求項1乃至4の何れか1項に記載の照明装置。
- 前記照明光学系の瞳面における光強度分布においてそれぞれの影の位置がずれるように前記影の位置を調整する調整部を含むことを特徴とする請求項1乃至5の何れか1項に記載の照明装置。
- 前記照明光学系の瞳面における光強度分布を計測する計測部と、
前記計測部によって計測された光強度分布に基づいて、前記照明光学系の瞳面における光強度分布における影の位置を調整する調整部と、
を更に有することを特徴とする請求項1乃至6の何れか1項に記載の照明装置。 - 前記調整部は、前記計測部によって計測された光強度分布における影の位置に基づいて、前記影の位置を調整することを特徴とする請求項7に記載の照明装置。
- 前記調整部は、前記照明光学系の瞳面における光強度分布において互いに垂直な2方向における強度差が小さくなるように、前記影の位置を調整することを特徴とする請求項7に記載の照明装置。
- ランプと、前記ランプからの光を反射する反射鏡と、前記反射鏡の外側から前記ランプの電極に接続されたケーブルと、前記反射鏡の外側から前記ランプの電極に向かって延び、前記ランプの電極を冷却するための冷却ノズルと、を有する光源部を複数有し、前記複数の光源部からの光を重畳した光強度分布を瞳面に形成し、重畳した光で被照明面を照明する照明光学系と、を更に有する照明装置の調整方法であって、
前記反射鏡で反射されて前記被照明面に向かう光の一部を前記ケーブル及び前記冷却ノズルが遮ることにより前記照明光学系の瞳面における光強度分布に形成される前記ケーブル及び前記冷却ノズルのそれぞれの影の位置を調整する工程
を有し、
前記照明光学系の瞳面における光強度分布において、前記複数の光源部のうち1つの光源部の前記ケーブル及び前記冷却ノズルのそれぞれの影の位置、及び、前記複数の光源部のうちその他の少なくとも1つの光源部の前記ケーブル及び前記冷却ノズルのそれぞれの影の位置が互いにずれるように、前記影の位置を調整することを特徴とする調整方法。 - 前記照明光学系の瞳面における光強度分布を計測する工程と、
該計測された光強度分布に基づいて前記影の位置を調整する工程と、を有することを特徴とする請求項10に記載の調整方法。 - 前記照明光学系は、前記被照明面にあるマスクを照明し、
前記マスクのパターンの情報に基づいて、前記照明光学系の瞳面における光強度分布における前記影の位置を調整することを特徴とする請求項10又は11に記載の調整方法。 - 前記マスクのパターンの方向の情報を取得する工程と、
前記調整工程において、該取得した前記マスクのパターンの方向の情報に基づいて前記影の位置を調整することを特徴とする請求項12に記載の調整方法。 - 前記マスクのパターンは周期方向が異なる複数の周期パターンを含むことを特徴とする請求項12又は13に記載の調整方法。
- マスクのパターンを基板上に露光する露光装置であって、
被照明面としてのマスクを、照明光学系の瞳面に形成される複数の影を含む光強度分布を用いて照明する、請求項1乃至9の何れか1項に記載の照明装置と、
前記照明装置により照明された前記マスクのパターンを前記基板上に投影する投影光学系と、を有することを特徴とする露光装置。 - 請求項15に記載の露光装置を用いて基板を露光する工程と、
露光された基板を現像する工程と、
現像された基板を加工して物品を製造する工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。
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