JP6359688B2 - ホースフィルタ設備における加圧ガスベース洗浄プロセスの監視 - Google Patents
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Description
4 ホースフィルタ
6 フィルタチャンバ
8 チャンバセグメント
10 多孔板
12 クリーンガス空間
14 粗ガス空間
16 排ガス入口
18 排ガス出口
20 ダスト収集空間
22 ダスト出口
24 加圧ガスリザーバー
26 ホースフィルタ群
28 圧縮機
30 主加圧ガスライン
32 加圧ガスライン
34 加圧ガスライン
36 弁
38 ベンチュリノズル
40 監視システム
42 制御ユニット
44 貫流センサ
46 ディスプレイ/オペレーティングユニット
48 データライン
50 データメモリ
52 データライン
t 時間
t0 時間点
t1 時間点
t2 時間点
t3 時間点
t4 時間点
t5 時間点
t6 時間点
T 期間
TA 充填期間
Q 貫流
V 貫流特性
Vmax 基準貫流特性
Vmin 基準貫流特性
Claims (14)
- ホースフィルタ設備(2)における加圧ガスベース洗浄プロセスを監視する方法であって、洗浄プロセスにおいて、予め設定された期間(T)中に加圧ガス流の貫流(Q)が決定され、前記加圧ガス流の決定された貫流(Q)を用いて、貫流特性(V)が決定され、かつ前記貫流特性(V)を用いて、前記加圧ガスベース洗浄プロセスが監視される、方法において、
前記貫流特性(V)が前記予め設定された期間(T)において流れた加圧ガス量であることを特徴とする、方法。 - 前記予め設定された期間(T)において流れた前記加圧ガス量は、前記予め設定された期間において流れ案内要素を通り流れた前記加圧ガスの質量または体積であることを特徴とする、請求項1に記載の方法。
- 前記貫流特性(V)が前記貫流(Q)の積分、微分および/またはフーリエ解析によって決定されることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 前記洗浄プロセスは、充填期間(TA)中に少なくとも加圧ガスリザーバー(24)を充填するステップを備え、前記加圧ガスリザーバー(24)が前記加圧ガス流を用いて充填され、前記加圧ガス流の前記貫流(Q)が決定され、かつ前記予め設定された期間(T)が、前記充填期間(TA)内にあることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 監視は、前記決定された貫流特性(V)を少なくとも1つの所定の基準貫流特性(Vmax,Vmin)を比較するステップを含むことを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記監視中に、前記決定された貫流特性(V)が前記基準貫流特性(Vmax,Vmin)に関する所定の条件に合致する場合にエラーメッセージが出されることを特徴とする、請求項5に記載の方法。
- 前記洗浄プロセス中に、少なくとも1つの圧力サージが発生することを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 前記方法は、加圧ガスライン(30,32,34)および/またはホースフィルタ(4)のホースフィルタ設備の欠陥、特に弁(36)の欠陥の検出に用いられ、前記貫流特性(V)は、損傷していないホースフィルタ設備(2)、特に損傷していない弁(36)、損傷していない加圧ガスライン(30,32,34)、および/または損傷していないホースフィルタ(4)を表す少なくとも1つの所定の基準貫流特性(Vmax,Vmin)と比較される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記方法は、複数のこのような洗浄プロセスにおいて実行され、いくつかのこれらの洗浄プロセスにおいて、それぞれこのような貫流特性(V)が決定され、かつ前記貫流特性(V)を用いて、少なくとも1つのトレンドモデルが確立されるトレンド分析が実行される、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
- 前記方法は、加圧ガスライン(30,32,34)および/またはホースフィルタ(4)のホースフィルタ設備の欠陥、特に、弁(36)の欠陥の早期検出に用いられ、前記トレンドモデルを用いて、このようなホースフィルタ設備の欠陥が発生するまで何回の洗浄プロセスを実行することができるかが決定される、請求項9に記載の方法。
- ホースフィルタ設備(2)のための監視システム(40)であって、
加圧ガス流の貫流(Q)を決定するための少なくとも1つの貫流センサ(44)、および加圧ガスベース洗浄プロセスを制御するための制御ユニット(42)を有し、
前記貫流センサ(44)が体積流センサまたは質量流センサであって、かつ前記制御ユニット(42)が請求項1〜10のいずれか一項に記載の方法を実行するように設定されていることを特徴とする、監視システム(40)。 - 複数のホースフィルタ(4)および請求項11に記載の監視システム(40)を有するホースフィルタ設備(2)。
- 少なくとも1つの加圧ガスリザーバー(24)および前記加圧ガスリザーバー(24)に加圧ガスを供給するための少なくとも1つの加圧ガスライン(30,32)によって特徴付けられ、前記監視システム(40)の前記貫流センサ(44)が前記加圧ガスライン(30,32)に配置されている、請求項12に記載のホースフィルタ設備(2)。
- 複数の加圧ガスリザーバー(24)および前記複数の加圧ガスリザーバー(24)に加圧ガスを供給するための主加圧ガスライン(30)によって特徴付けられ、前記監視システム(40)の前記貫流センサ(44)が前記主加圧ガスライン(30)に配置されている、請求項12に記載のホースフィルタ設備(2)。
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