JP6357915B2 - スクライブ装置 - Google Patents

スクライブ装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6357915B2
JP6357915B2 JP2014131721A JP2014131721A JP6357915B2 JP 6357915 B2 JP6357915 B2 JP 6357915B2 JP 2014131721 A JP2014131721 A JP 2014131721A JP 2014131721 A JP2014131721 A JP 2014131721A JP 6357915 B2 JP6357915 B2 JP 6357915B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
chuck
scribe
unit
cutter wheel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014131721A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016007844A (ja
Inventor
直 得永
直 得永
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Original Assignee
Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd filed Critical Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd
Priority to JP2014131721A priority Critical patent/JP6357915B2/ja
Priority to TW104101935A priority patent/TWI643828B/zh
Priority to KR1020150023258A priority patent/KR102304765B1/ko
Priority to CN201510263469.9A priority patent/CN105314836B/zh
Publication of JP2016007844A publication Critical patent/JP2016007844A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6357915B2 publication Critical patent/JP6357915B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B3/00Sharpening cutting edges, e.g. of tools; Accessories therefor, e.g. for holding the tools
    • B24B3/36Sharpening cutting edges, e.g. of tools; Accessories therefor, e.g. for holding the tools of cutting blades
    • B24B3/46Sharpening cutting edges, e.g. of tools; Accessories therefor, e.g. for holding the tools of cutting blades of disc blades
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B28WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
    • B28DWORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
    • B28D1/00Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor
    • B28D1/22Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising
    • B28D1/24Working stone or stone-like materials, e.g. brick, concrete or glass, not provided for elsewhere; Machines, devices, tools therefor by cutting, e.g. incising with cutting discs
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B33/00Severing cooled glass
    • C03B33/10Glass-cutting tools, e.g. scoring tools

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mining & Mineral Resources (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Re-Forming, After-Treatment, Cutting And Transporting Of Glass Products (AREA)
  • Processing Of Stones Or Stones Resemblance Materials (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Clamps And Clips (AREA)

Description

本発明は、ガラス、シリコン、セラミック等の脆性材料からなる基板の表面にスクライブ予定ラインに沿ってブレイク用のスクライブライン(切り溝)を加工するスクライブ装置に関する。特に本発明は、四方の周辺部分に端材領域が形成される脆性材料基板のスクライブ装置に関する。
通常、脆性材料基板(以下、単に「基板」という)から単位基板を切り出すには、図9に示すように、まず基板W’の表面に互いに直交するX方向のスクライブ予定ラインS1並びにY方向のスクライブ予定ラインS2に沿ってスクライブラインを加工し、次の工程でこれらのスクライブラインS1、S2に沿ってブレイクすることによって製品となる単位基板を切り出している。この場合、切り出された単位基板の端面精度を高めるために、基板W’の四辺近傍には端材領域Tが形成されており、ブレイク時に端材領域Tは切り離されて破棄される。
上記スクライブラインS1、S2を形成する方法として、基板の一端部(搬送方向に対して上流側端部)をチャック爪で把持した状態でスクライブユニットに向かって搬送し、当該スクライブユニットによりスクライブラインを形成する手法が、例えば特許文献1等で知られている。
図10(a)は、上記図9で示した基板W’をチャック爪で把持してスクライブユニットに搬送し、スクライブユニットのカッターホイールで基板表面にスクライブラインを形成する一般的な方法を示す説明図である。
基板W’は、水平な姿勢でチャック爪30によって把持され、スクライブユニット31のビーム32に向かって搬送され、ビーム32に取り付けたスクライブヘッド33のカッターホイール34を基板W’表面に押しつけながらX方向に転動させることによって、X方向のスクライブ予定ラインS1に沿ってスクライブラインが加工される。また、Y方向のスクライブ予定ラインS2の加工は、カッターホイール34のホルダ(図示外)を回転させる等してカッターホイール34の転動方向をY方向に変更し、基板W’をチャック爪30で把持してカッターホイール34に向かって移動させることによって行われる。
通常、チャック爪30で基板W’を把持する場合、図10(b)に示すように、チャック代L1には2.5〜3mmが必要である。従来では、端材領域Tの幅L2が10mm程度で形成されており、チャック代に2.5〜3mmを要しても、隣接するX方向のスクライブ予定ラインS1との間には7〜7.5mmが残っているので、チャック爪30に干渉されることなくスクライブすることができる。また、基板搬送方向に沿ったY方向のスクライブ予定ラインS2をスクライブする場合は、チャック爪30をスクライブ予定ラインS2から外れた位置でチャックするように配置することにより、チャック爪30に干渉されることなくスクライブすることができる。また、仮に加工すべきY方向のスクライブ予定ラインS2上にチャック爪30が乗っていても、カッターホイール34の直径は1〜3mmと小さいので、チャック爪30に隣接するX方向のスクライブ予定ラインS1を越えた位置でチャック爪30との接触前に基板送りを止めることにより、Y方向のスクライブ予定ラインS2をスクライブすることができる。
特開2013−249206号公報
ところが近年、製品となる単位基板のコンパクト化や、材料の有効利用のために、端材領域Tの幅を小さくすることが求められており、具体的には3mm程度まで小さくすることが要求されている。しかし、端材領域Tの幅を3mmまで小さくすると、図6(b)に示すように、チャック爪11がこれに隣接するX方向のスクライブ予定ラインS1に干渉し、当該スクライブ予定ラインS1をスクライブすることができない。
そこで本発明は上記課題に鑑み、基板の端材領域の幅がチャック爪の掴み代と略同じ3mm程度まで小さい場合でも、チャック爪に干渉されることなくX方向のスクライブ予定ラインをスクライブすることができるスクライブ装置を提供することを目的とする。
上記課題を解決するために本発明では次のような技術的手段を講じた。すなわち、本発明のスクライブ装置は、基板の上流側端部をチャック爪で把持した状態で下流側のスクライブユニットへ搬送する把持搬送ユニットを備え、前記スクライブユニットが具備するカッターホイールで前記基板の表面に基板搬送方向と直交する方向に延びるスクライブラインを加工するスクライブ装置において、前記チャック爪に隣接するスクライブラインを前記カッターホイールで加工する際に、前記チャック爪による前記基板の把持を解除すると共に、前記チャック爪が前記カッターホイールと干渉しない位置に退避するように形成されている構成とした。
本発明によれば、加工される基板の端材領域がチャック爪の掴み代と略同じ程度の小さな幅で設定されている場合であっても、チャック爪に隣接するX方向のスクライブラインを加工する際には、チャック爪による基板の把持を解除すると共に当該チャック爪をカッターホイールと干渉しない位置に退避させることによって、円滑にスクライブすることができる。
上記発明において、前記スクライブユニットには、前記基板の上面を押さえて前記基板を載置する台盤との間で前記基板を保持する昇降可能な押圧部材を設けた構成とするのがよい。
これにより、チャック爪に隣接するX方向のスクライブラインを加工する際に、チャック爪が基板の把持を解除した後であっても、基板の表面を押圧部材で押さえつけることで基板を安定的に保持することができる。
本発明に係るスクライブ装置の一例を示す全体斜視図。 図1に示すスクライブ装置の側面図。 台盤上でのチャック爪による基板把持状態を示す一部拡大断面図。 把持搬送ユニットのチャック爪の動作説明図。 スクライブユニット部分を示す側面図。 チャック爪による基板把持後のスクライブユニットへの搬送状態を平面視で示す説明図。 ローダによる基板の台盤搬送過程を示す説明図。 チャック爪による干渉回避動作の別の一例を示す説明図。 基板におけるスクライブ予定ラインの従来のレイアウトを示す平面図。 図9の基板スクライブ方法の一例を平面視で示す説明図。
以下において、本発明のスクライブ装置の詳細を、図1〜8を参照して説明する。
本発明においてスクライブされる基板Wは、図6(a)に示すように、互いに直交するX方向のスクライブ予定ラインS1とY方向のスクライブ予定ラインS2によって、六つの単位基板領域W1と、四方周辺の端材領域Tとに区分けされる。本実施例では、この端材領域Tの幅が3mm程度としてある。
本発明のスクライブ装置は、図1、2で示すように、基板搬送方向の上流側から順に配置されたローダAと、把持搬送ユニットBと、スクライブユニットCとから構成される。以下の説明においては、基板搬送方向をY方向とし、基板搬送方向(Y方向)と直交する方向をX方向とする。また、基板搬送方向の上流側を単に上流側といい、基板搬送方向の下流側を単に下流側という。
ローダAは、コンベア1によって送られてきた基板Wをピックアップして下流側の把持搬送ユニットBに移送する吸着搬送部材2を備えている。
吸着搬送部材2は、下面に多数のエア吸引孔を有する吸着板3を備え、吸着板3は流体シリンダなどの昇降機構4により昇降できるように支持部材5に保持されている。また、支持部材5はY方向に延びる支柱6に形成されたレール7に沿って往復移動できるようにしてある。
把持搬送ユニットBは、台盤10上に載置される基板Wの上流側端部をチャック爪11で把持した状態で、基板Wを下流側のスクライブユニットCへ搬送する複数の、本実施例では5個のチャック部材12を備えている。チャック部材12はX方向に延びる共通のフレーム13に保持され、フレーム13はその両端部分でY方向に延びる左右のレール14に沿って往復移動できるように形成されている。
各チャック部材12のチャック爪11は、台盤10に設けられたY方向に延びる溝15に沿って移動できるように配置されている。そして、基板Wをチャック爪11で把持したときには、図3に示すように、基板Wの下面が台盤10の上面に接した状態で台盤10上に載置できるように形成されている。
また、チャック爪11は、図4に詳しく示すように、上部爪片11aと下部爪片11bとからなり、上部爪片11aが枢軸11cを支点として、図4(a)の基板チャック位置から図4(b)の解除位置に回動できるようになっている。この解除位置において、本実施例では、後述するスクライブユニットCのカッターホイール23により、最上流側のX方向のスクライブ予定ラインS1をスクライブする際に、上部爪片11aがカッターホイール23と干渉しない回避姿勢となるべく大きく開くように形成されている。なお、上部爪片11aのチャック並びに解除動作は、流体シリンダ11dによって行われる。
スクライブユニットCは、図5に詳しく示すように、台盤10を跨ぐように配置された門型のビーム20と、このビーム20に設けられたX方向(図5の前後方向)に延びるガイド部材21と、このガイド部材21に設けられたレール21aに沿ってX方向に移動可能に取り付けられたスクライブヘッド22とを備えている。スクライブヘッド22には、下端部にカッターホイール23を有するホルダ24が流体シリンダ等の昇降機構25を介して昇降可能に設けられている。ホルダ24はスクライブヘッド22に対して取付角度が変更できるように取り付けられており、これによりカッターホイール23の刃先の向きをX方向並びにY方向に変更できるようにしてある。
また、スクライブユニットCには、台盤10上に載置される基板Wの上面の一部を押さえて台盤10との間で基板Wを保持する昇降可能な押圧部材26が設けられている。押圧部材26の駆動は流体シリンダ等の駆動機構27により行われる。
なお、図1、2において、上記したローダAの吸着搬送部材2をレール7に沿ってY方向へ往復移動させるための駆動機構、把持搬送ユニットBのフレーム13をレール14に沿ってY方向へ往復移動させるための駆動機構、スクライブユニットCのスクライブヘッド22をレール21aに沿ってX方向へ往復移動させるための駆動機構は、それぞれ図面の複雑化を避けるために図示を省略した。
次に、上記のスクライブ装置の動作について説明する。
図7(a)〜(d)に示すように、コンベア1によって運ばれてきた基板Wは、ローダAの吸着板3でピックアップされてレール7に沿って下流側に移動し、把持搬送ユニットBのフレーム13を乗り越えて台盤10上に受け渡される。
台盤10上に移送された基板Wは、図6(a)に示すように、その上流側一端部の端材領域T部分が把持搬送ユニットBのチャック爪11に把持される。この場合のチャック爪11の掴み代は、端材領域Tの幅と略同じ3mmである。この状態で基板Wは下流側のスクライブユニットCに向かって移動する。そして、基板Wの最下流側(先導端側)のX方向スクライブ予定ラインS1がスクライブユニットCのカッターホイール23の直下に到達したときに、把持搬送ユニットBの基板送りを停止し、カッターホイール23を降下させてこのスクライブ予定ラインに沿って押しつけながらX方向にスクライブする。
このようにしてX方向のスクライブ予定ラインS1を下流側から順次スクライブしていく。しかし、図6(b)に示すように、最上流のX方向スクライブ予定ラインS1を加工する場合は、チャック爪11の掴み代が端材領域Tの幅と略同じであるので、カッターホイール23がチャック爪11と干渉してスクライブすることができない。したがってこの際は、図4(b)に示すように、基板Wを把持するチャック爪11の上部爪片11aを流体シリンダ11dによりカッターホイール23と干渉しない解除姿勢まで回動回避させている。これにより、最上流側のX方向スクライブ予定ラインS1を円滑にスクライブすることができる。
また、この実施例では、チャック爪11が基板Wの把持を解除した位置で、チャック爪11の上部爪片11aが回避姿勢まで回動するので、チャック爪11の基板解除動作と干渉回避動作とをワンアクションで迅速に行うことができる。
なお、最上流のX方向スクライブ予定ラインS1をスクライブする際は、押圧部材27を基板W表面に接する位置まで降下させて、チャック爪11のチャック解除により不安定となった基板Wを台盤10との間で挟着保持するのがよい。
全てのX方向スクライブ予定ラインS1をスクライブした後、Y方向のスクライブ予定ラインS2を加工する際は、カッターホイール23の刃先の向きをY方向に変更し、基板Wを図6(a)の位置に戻してチャック爪11により基板Wを把持してカッターホイール23に向かって移動させて行う。この際、チャック爪11を図6(a)のようにY方向のスクライブ予定ラインS2から外れた位置をチャックするようにしておけば、カッターホイール23がチャック爪11に干渉されることなくスクライブすることができる。
上記実施例では、最上流のX方向スクライブ予定ラインS1を加工する際に、チャック爪11の解除位置で、上部爪片11aを大きく上方に開くことによってカッターホイール23との干渉を回避するようにしたが、図8に示すように、チャック爪11をフレーム13ごと上流側に移動させてカッターホイール23との干渉を回避させるように形成してもよい。
以上、本発明の代表的な実施例について説明したが、本発明は必ずしも上記の実施例構造のみに特定されるものでなく、その目的を達成し、請求の範囲を逸脱しない範囲内で適宜修正、変更することが可能である。
本発明は、ガラス等の脆性材料基板の表面にスクライブラインを加工するスクライブ装置に適用することができる。
A ローダ
B 把持搬送ユニット
C スクライブユニット
S1 X方向のスクライブ予定ライン
S2 Y方向のスクライブ予定ライン
T 端材領域
W 基板
W1 単位基板領域
1 コンベア
3 吸着板
10 台盤
11 チャック爪
11a 上部爪片
11b 下部爪片
12 チャック部材
20 ビーム
23 カッターホイール
26 押圧部材

Claims (3)

  1. 基板の上流側端部をチャック爪で把持した状態で下流側のスクライブユニットへ搬送する把持搬送ユニットを備え、前記スクライブユニットが具備するカッターホイールで前記基板の表面に基板搬送方向と直交する方向に延びるスクライブラインを加工するスクライブ装置において、
    前記チャック爪に隣接するスクライブラインを前記カッターホイールで加工する際に、前記チャック爪による前記基板の把持を解除すると共に、前記チャック爪が前記カッターホイールと干渉しない位置に退避するように形成されており、
    前記スクライブユニットは、前記基板の上面を押さえて前記基板を載置する台盤との間で前記基板を保持する昇降可能な押圧部材を備えているスクライブ装置。
  2. 前記チャック爪が前記基板の把持を解除した際に、その解除位置で前記チャック爪の上部爪片が前記カッターホイールとの干渉を回避する姿勢に回動するように形成されている請求項1に記載のスクライブ装置。
  3. 前記チャック爪が前記基板の把持を解除した際に、前記チャック爪が基板搬送方向の上流側に移動することにより、前記カッターホイールとの干渉を回避するようにした請求項1に記載のスクライブ装置。
JP2014131721A 2014-06-26 2014-06-26 スクライブ装置 Active JP6357915B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014131721A JP6357915B2 (ja) 2014-06-26 2014-06-26 スクライブ装置
TW104101935A TWI643828B (zh) 2014-06-26 2015-01-21 刻劃裝置
KR1020150023258A KR102304765B1 (ko) 2014-06-26 2015-02-16 스크라이브 장치
CN201510263469.9A CN105314836B (zh) 2014-06-26 2015-05-21 刻划装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014131721A JP6357915B2 (ja) 2014-06-26 2014-06-26 スクライブ装置

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016178133A Division JP2017024419A (ja) 2016-09-13 2016-09-13 スクライブ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016007844A JP2016007844A (ja) 2016-01-18
JP6357915B2 true JP6357915B2 (ja) 2018-07-18

Family

ID=55165440

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014131721A Active JP6357915B2 (ja) 2014-06-26 2014-06-26 スクライブ装置

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6357915B2 (ja)
KR (1) KR102304765B1 (ja)
CN (1) CN105314836B (ja)
TW (1) TWI643828B (ja)

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2017127992A1 (en) * 2016-01-25 2017-08-03 L'oreal Packaging and dispensing device for dual content
JP2018094664A (ja) * 2016-12-12 2018-06-21 三星ダイヤモンド工業株式会社 端材除去装置
KR102331075B1 (ko) * 2017-03-17 2021-11-25 주식회사 케이씨텍 기판 처리 장치
KR101970620B1 (ko) * 2017-03-20 2019-08-13 주식회사 케이씨텍 기판 처리 장치
KR101993140B1 (ko) * 2019-02-28 2019-06-26 제일유리 주식회사 유리 절곡장치
CN114406879B (zh) * 2022-01-14 2023-03-21 深圳特斯特半导体设备有限公司 适用于机群式分布的自动化划片机

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3918792B2 (ja) * 2003-09-17 2007-05-23 松下電器産業株式会社 炊飯器
US7770500B2 (en) * 2004-03-15 2010-08-10 Mitsuboshi Diamond Industrial Co., Ltd. Substrate dividing system, substrate manufacturing equipment, substrate scribing method and substrate dividing method
JP5058451B2 (ja) * 2005-06-02 2012-10-24 コーニングジャパン株式会社 板材の分断ユニット、この分断ユニットを有する分断装置、および、この分断装置を有する分断設備
JP4915294B2 (ja) * 2007-06-15 2012-04-11 東芝三菱電機産業システム株式会社 集積型薄膜太陽電池の製造に用いられるガラス基板の分割方法
JP2010052995A (ja) * 2008-08-29 2010-03-11 Mitsuboshi Diamond Industrial Co Ltd マザー基板のスクライブ方法
KR101331067B1 (ko) * 2012-06-01 2013-11-19 한국미쯔보시다이아몬드공업(주) 취성 재료 기판의 수직 공급 로더 컨베이어 장치
KR200482639Y1 (ko) * 2013-02-04 2017-02-16 가부시키가이샤 시라이텍크 박판 셀 패널의 절단장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR20160001605A (ko) 2016-01-06
KR102304765B1 (ko) 2021-09-23
CN105314836A (zh) 2016-02-10
JP2016007844A (ja) 2016-01-18
CN105314836B (zh) 2019-06-18
TWI643828B (zh) 2018-12-11
TW201600480A (zh) 2016-01-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6357914B2 (ja) スクライブ装置
JP6357915B2 (ja) スクライブ装置
CN108147062B (zh) 输送体、输送装置以及划线***
JP6259891B2 (ja) 基板加工装置
TW202013476A (zh) 晶圓分斷裝置、反轉裝置及搬運系統
JP6224350B2 (ja) 加工装置
JP6126396B2 (ja) 基板加工装置
JP2017024419A (ja) スクライブ装置
JP2016007843A (ja) スクライブ装置
JP6330437B2 (ja) ローダ装置、板材搬送方法、及び板材加工システム
JP2005231915A (ja) 板ガラスの割断システム
JP2009253225A (ja) 加工装置
TW201735233A (zh) 治具及使用治具的加工方法
JP2017007858A (ja) ガラス基板の転向方法、及びガラス基板の転向装置
JP2009141231A (ja) フレームクランプ装置
JP5261030B2 (ja) 半導体ウエハの搬送方法
JP2010184319A (ja) 切削方法
JP4856593B2 (ja) マウント装置及びマウント方法
TWI659914B (zh) Substrate processing device
JP7015047B2 (ja) 基板加工装置
JP2017074786A (ja) 基板加工装置
KR102242829B1 (ko) 웨이퍼의 가공 방법
JP2009032867A (ja) 分割装置
TW201929066A (zh) 切削裝置
JP2019004069A (ja) 加工装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170512

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180222

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180327

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180509

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180522

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180604

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6357915

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150