JP6338507B2 - 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 - Google Patents

液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 Download PDF

Info

Publication number
JP6338507B2
JP6338507B2 JP2014212043A JP2014212043A JP6338507B2 JP 6338507 B2 JP6338507 B2 JP 6338507B2 JP 2014212043 A JP2014212043 A JP 2014212043A JP 2014212043 A JP2014212043 A JP 2014212043A JP 6338507 B2 JP6338507 B2 JP 6338507B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
unit
droplet discharge
inspection
droplet
ejection
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2014212043A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2016077966A (ja
Inventor
一仁 宮崎
一仁 宮崎
陽介 三根
陽介 三根
文宏 宮崎
文宏 宮崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokyo Electron Ltd
Original Assignee
Tokyo Electron Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Electron Ltd filed Critical Tokyo Electron Ltd
Priority to JP2014212043A priority Critical patent/JP6338507B2/ja
Priority to KR1020150139667A priority patent/KR102382924B1/ko
Publication of JP2016077966A publication Critical patent/JP2016077966A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6338507B2 publication Critical patent/JP6338507B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Coating Apparatus (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Wood Science & Technology (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)

Description

本発明は、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出装置、当該液滴吐出装置を用いた液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体に関する。
従来、機能液を使用してワークに描画を行う装置として、当該機能液を液滴にして吐出するインクジェット方式の液滴吐出装置が知られている。液滴吐出装置は、例えば有機EL装置、カラーフィルタ、液晶表示装置、プラズマディスプレイ(PDP装置)、電子放出装置(FED装置、SED装置)等の電気光学装置(フラットパネルディスプレイ:FPD)を製造する際など、広く用いられている。
例えば特許文献1には、機能液の液滴を吐出する機能液滴吐出ヘッドと、ワークを搭載するワークステージと、機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、機能液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける検査シートと、検査シートに検査吐出された着弾ドットを画像認識する認識カメラと、を備えた液滴吐出装置が開示されている。検査シートとフラッシングユニットは、ワークステージの移動軸上(主走査方向)において、当該ワークステージ側からこの順で設けられている。また、認識カメラは、機能液滴吐出ヘッドを挟んで主走査方向に一対に設けられている。
また、例えば特許文献2には、機能液の液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、基板を搬送する搬送テーブルと、液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシング回収台と、液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける被検出紙が配置された検査台と、被検出紙に吐出された液滴を撮像する描画検査カメラ装置と、被吐出媒体上の描画状態を検査する描画観測カメラ装置と、を備えたパターン形成装置(液滴吐出装置)が開示されている。検査台とフラッシング回収台は、搬送テーブルの移動軸上(主走査方向)において、当該搬送テーブル側からこの順で設けられている。また、描画検査カメラ装置と描画観測カメラ装置は、液滴吐出ヘッドを挟んで主走査方向に設けられ、且つ、描画検査カメラ装置は検査台側に配置され、描画観測カメラ装置は搬送テーブル側に設けられている。
また、例えば特許文献3には、ワークを主走査方向に移動させながら機能液滴吐出ヘッドを駆動してワークに描画を行なう描画エリアと、当該描画エリアからワークの移動方向に外れて配置され、機能液滴吐出ヘッドの吐出検査を行う検査エリアと、を備えた液滴吐出装置が開示されている。描画エリアには、上記機能液滴吐出ヘッドが設けられている。描画エリアと検査エリアの間には、機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットが主走査方向に移動自在に設けられている。検査エリアには、機能液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける検査シートを搭載したシートユニットと、検査シートへの検査吐出結果を画像認識する画像認識手段と、が設けられている。
特開2010−198028号公報 特開2009−95725号公報 特開2011−88102号公報
特許文献1に記載された液滴吐出装置では、ワークに液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して描画した後、機能液滴吐出ヘッドの吐出性能の検査と、機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出とが行われる。そして、例えば機能液滴吐出ヘッドに対し検査シート側に設けられた認識カメラを用いる場合、先ず、検査シートを認識カメラの下方に移動させて、当該認識カメラを用いて、検査シートに検査吐出された着弾ドットを画像認識する。その後、フラッシングユニットを機能液滴吐出ヘッドの下方に移動させて、当該フラッシングユニットに対して機能液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行う。すなわち、機能液滴吐出ヘッドの吐出性能の検査と機能液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を同時に行うことができず、液滴吐出装置における処理時間が長くなり効率が悪い。
また、特許文献2に記載された液滴吐出装置においても、被検出紙を描画検査カメラ装置に移動させ、当該描画検査カメラ装置を用いて被検出紙に吐出された液滴を撮像した後、フラッシング回収台を液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該フラッシング回収台に対して液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行う必要がある。すなわち、上記した特許文献1と同様に、液滴吐出ヘッドの吐出性能の検査と液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を同時に行うことができず、液滴吐出装置における処理時間が長くなり効率が悪い。
さらに、特許文献3に記載された液滴吐出装置では、検査エリアが描画エリアとは別に設けられているので、例えば描画エリアにおいて機能液滴吐出ヘッドからワークへの描画と検査シートへの検査吐出とを行う場合に比べて、液滴吐出装置の占有面積が大きくなる。
以上のように、液滴吐出装置(パターン形成装置)のレイアウトには改善の余地がある。
本発明は、かかる点に鑑みてなされたものであり、液滴吐出装置における処理効率を向上させつつ、当該液滴吐出装置の占有面積を小さくすることを目的とする。
前記の目的を達成するため、本発明は、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出装置であって、前記ワークに液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、前記ワークを載置するワークステージと、前記ワークステージを介して、前記液滴吐出ヘッドに対し前記ワークを主走査方向に移動させるワーク移動機構と、前記液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、前記液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける吐出検査ユニットと、前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを搭載すると共に、前記ワークステージと同一軌道上において前記主走査方向に前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを移動させるユニット移動機構と、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する吐出検査用撮像部と、前記ワークに吐出された液滴による描画状態を撮像する描画検査用撮像部と、前記ユニット移動機構、前記吐出検査用撮像部、及び前記液滴吐出ヘッドの動作を制御する制御部と、を有し、前記ワークステージ、前記フラッシングユニット、及び前記吐出検査ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、前記吐出検査用撮像部と前記描画検査用撮像部は、前記液滴吐出ヘッドを挟んで前記主走査方向に配置され、且つ、前記吐出検査用撮像部は前記フラッシングユニット側に配置され、前記描画検査用撮像部は前記ワークステージ側に配置され、前記制御部は、前記吐出検査ユニットを前記吐出検査用撮像部の下方に移動させると共に、前記フラッシングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させた後、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを前記吐出検査用撮像部で撮像すると同時に、前記フラッシングユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行うように、前記ユニット移動機構、前記吐出検査用撮像部、及び前記液滴吐出ヘッドを制御することを特徴としている。
本発明によれば、先ず、ワーク移動機構によってワークを液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該ワークに対して液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して描画する(第1の工程)。その後、ユニット移動機構によって吐出検査ユニットを液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該吐出検査ユニットに対して液滴吐出ヘッドから液滴を検査吐出する(第2の工程)。その後、ユニット移動機構によって吐出検査ユニットを吐出検査用撮像部の下方に移動させると共に、フラッシングユニットを液滴吐出ヘッドの下方に移動させた後、吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを吐出検査用撮像部で撮像すると共に、フラッシングユニットに対して液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行う(第3の工程)。かかる場合、第3の工程において、液滴吐出ヘッドの吐出性能の検査と液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を同時に行うことができる。したがって、液滴吐出装置における処理時間を短縮することができ、処理効率を向上させることができる。
しかも、第1の工程〜第3の工程は、液滴吐出装置において液滴吐出ヘッドが設けられた同一のエリアで行われるため、液滴吐出装置の占有面積を小さくすることができる。
前記液滴吐出装置は、前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピングユニットと、前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引する吸引ユニットと、をさらに有し、前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、前記ユニット移動機構に搭載され、前記フラッシングユニット、前記ワイピングユニット、前記吐出検査ユニット、及び前記吸引ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置されていてもよい。
前記液滴吐出ヘッドを複数備えたキャリッジが、前記主走査方向に直交する副走査方向に複数設けられ、前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、それぞれ前記キャリッジの数に合わせて、前記副走査方向に分割して設けられ、前記キャリッジと前記分割されたワイピングユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、前記キャリッジと前記分割された吸引ユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成されていてもよい。
前記ユニット移動機構は、当該ユニット移動機構に搭載されたユニットを昇降させてもよい。
前記機能液は、有機EL層に用いられる有機材料であってもよい。
別な観点による本発明は、液滴吐出装置を用いて、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出方法であって、前記液滴吐出装置は、前記ワークに液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、前記ワークを載置するワークステージと、前記ワークステージを介して、前記液滴吐出ヘッドに対し前記ワークを主走査方向に移動させるワーク移動機構と、前記液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、前記液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける吐出検査ユニットと、前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを搭載すると共に、前記ワークステージと同一軌道上において前記主走査方向に前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを移動させるユニット移動機構と、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する吐出検査用撮像部と、前記ワークに吐出された液滴による描画状態を撮像する描画検査用撮像部と、を有し、前記ワークステージ、前記フラッシングユニット、及び前記吐出検査ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、前記吐出検査用撮像部と前記描画検査用撮像部は、前記液滴吐出ヘッドを挟んで前記主走査方向に配置され、且つ、前記吐出検査用撮像部は前記フラッシングユニット側に配置され、前記描画検査用撮像部は前記ワークステージ側に配置され、前記液滴吐出方法は、前記ワーク移動機構によって前記ワークを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該ワークに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して描画する第1の工程と、その後、前記ユニット移動機構によって前記吐出検査ユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該吐出検査ユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を検査吐出する第2の工程と、その後、前記ユニット移動機構によって前記吐出検査ユニットを前記吐出検査用撮像部の下方に移動させると共に、前記フラッシングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させた後、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを前記吐出検査用撮像部で撮像すると同時に、前記フラッシングユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行う第3の工程と、を有することを特徴としている。
前記液滴吐出装置は、前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピングユニットと、前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引する吸引ユニットと、をさらに有し、前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、前記ユニット移動機構に搭載され、前記フラッシングユニット、前記ワイピングユニット、前記吐出検査ユニット、及び前記吸引ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、前記液滴吐出ヘッドをメンテナンスする際には、前記ユニット移動機構によって前記吸引ユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該吸引ユニットによって前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引した後、前記ユニット移動機構によって前記ワイピングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該ワイピングユニットによって前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭してもよい。
前記液滴吐出ヘッドを複数備えたキャリッジが、前記主走査方向に直交する副走査方向に複数設けられ、前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、それぞれ前記キャリッジの数に合わせて、前記副走査方向に分割して設けられ、前記キャリッジと前記分割されたワイピングユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、前記キャリッジと前記分割された吸引ユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、前記ワイピングユニットによる払拭処理と前記吸引ユニットによる吸引処理は、前記キャリッジ毎に個別に行われてもよい。
前記ユニット移動機構によって、当該ユニット移動機構に搭載されたユニットの高さを調整してもよい。
前記機能液は、有機EL層に用いられる有機材料であってもよい。
また別な観点による本発明によれば、前記液滴吐出方法を液滴吐出装置によって実行させるように、当該液滴吐出装置のコンピュータ上で動作するプログラムが提供される。
さらに別な観点による本発明によれば、前記プログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体が提供される。
本発明によれば、液滴吐出装置における処理効率を向上させつつ、当該液滴吐出装置の占有面積を小さくすることができる。
第1の実施の形態にかかる液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。 第1の実施の形態にかかる液滴吐出装置の構成の概略を示す模式平面図である。 第1の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。 第1の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。 第1の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。 従来の液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。 従来の液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。 従来の液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。 第2の実施の形態にかかる液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。 第2の実施の形態にかかる液滴吐出装置の構成の概略を示す模式平面図である。 第2の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。 第2の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。 従来の液滴吐出装置の構成の概略を示す模式側面図である。 他の実施の形態にかかる液滴吐出装置での処理動作の説明図である。 液滴検査装置を備えた基板処理システムの構成の概略を示す平面図である。 有機発光ダイオードの構成の概略を示す側面図である。 有機発光ダイオードの隔壁の構成の概略を示す平面図である。
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。なお、以下に示す実施の形態によりこの発明が限定されるものではない。
<1.第1の実施の形態>
先ず、本発明の第1の実施の形態に係る液滴吐出装置の構成について、図1及び図2を参照して説明する。図1は、液滴吐出装置1の構成の概略を示す模式側面図である。図2は、液滴吐出装置1の構成の概略を示す模式平面図である。なお、以下においては、ワークWの主走査方向をX軸方向、主走査方向に直交する副走査方向をY軸方向、X軸方向及びY軸方向に直交する鉛直方向をZ軸方向、Z軸方向回りの回動方向をθ方向とする。
液滴吐出装置1は、主走査方向(X軸方向)に延在して、ワークWを主走査方向に移動させるX軸テーブル10と、X軸テーブル10を跨ぐように架け渡され、副走査方向(Y軸方向)に延在する一対のY軸テーブル11、11とを有している。X軸テーブル10の上面には、一対のX軸ガイドレール12、12がX軸向に延伸して設けられ、各X軸ガイドレール12には、X軸リニアモータ(図示せず)が設けられている。各Y軸テーブル11の上面には、Y軸ガイドレール13がY軸方向に延伸して設けられ、当該Y軸ガイドレール13には、Y軸リニアモータ(図示せず)が設けられている。
一対のY軸テーブル11、11には、キャリッジユニット20と撮像ユニット30が設けられている。X軸テーブル10上には、ワークステージ40と、フラッシングユニット50と、吐出検査ユニット60とが設けられている。ワークステージ40、フラッシングユニット50、及び吐出検査ユニット60は、X軸方向にこの順で配置されている。X軸テーブル10の外側(Y軸負方向側)であって、一対のY軸テーブル11、11の間には、メンテナンスユニット80が設けられている。以下、各ユニットについて詳述する。
キャリッジユニット20は、Y軸テーブル11において、複数、例えば10個設けられている。各キャリッジユニット20は、キャリッジプレート21と、キャリッジ回動機構22と、キャリッジ23と、液滴吐出ヘッド24とを有している。
キャリッジプレート21は、Y軸ガイドレール13に取り付けられ、当該Y軸ガイドレール13に設けられたY軸リニアモータによってY軸方向に移動自在になっている。なお、複数のキャリッジプレート21を一体としてY軸方向に移動させることも可能である。
キャリッジプレート21の下面の中央には、キャリッジ回動機構22が設けられ、当該キャリッジ回動機構22の下端部にキャリッジ23が着脱自在に取り付けられている。キャリッジ23は、キャリッジ回動機構22によってθ方向に回動自在になっている。なお、ワークステージ40には、キャリッジ23を撮像するキャリッジアライメントカメラ(図示せず)が設けられている。そして、キャリッジアライメントカメラで撮像された画像に基づいて、キャリッジ回動機構22により、キャリッジ23のθ方向の位置が補正される。
キャリッジ23の下面には、複数の液滴吐出ヘッド24がX軸方向に並べて設けられている。本実施の形態では、例えばX軸方向に3個、Y軸方向に2個、すなわち合計6個の液滴吐出ヘッド24が設けられている。液滴吐出ヘッド24の下面、すなわちノズル面には複数の吐出ノズル(図示せず)が形成され、当該吐出ノズルから機能液の液滴が吐出されるようになっている。
撮像ユニット30は、吐出検査用撮像部としての吐出検査カメラ31と、描画検査用撮像部としての描画検査カメラ32を有している。吐出検査カメラ31と描画検査カメラ32は、キャリッジ23(液滴吐出ヘッド24)を挟んでX軸方向に対向して設けられている。吐出検査カメラ31は、キャリッジ23に対してX軸正方向側、すなわちフラッシングユニット50側に配置されている。描画検査カメラ32は、キャリッジ23に対してX軸負方向側、すなわちワークステージ40側に配置されている。
吐出検査カメラ31は、吐出検査ユニット60の後述する検査シート62に検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する。吐出検査カメラ31は、一対のY軸テーブル11、11のうち、X軸正方向側のY軸テーブル11の側面に設けられたベース33に支持されている。ベース33には吐出検査カメラ31を移動させる移動機構(図示せず)が設けられ、吐出検査カメラ31はY軸方向に移動自在になっている。そして、吐出検査カメラ31のY軸方向に移動する軌跡の直下に、吐出検査ユニット60が案内された際、吐出検査カメラ31は、Y軸方向に移動することにより、吐出検査ユニット60に配置された検査シート62に着弾された液滴を撮影することができる。
描画検査カメラ32は、ワークWに吐出された液滴による描画状態を撮像する。描画検査カメラ32は、一対のY軸テーブル11、11のうち、X軸負方向側のY軸テーブル11の側面に設けられたベース34に支持されている。ベース34には描画検査カメラ32を移動させる移動機構(図示せず)が設けられ、描画検査カメラ32はY軸方向に移動自在になっている。そして、吐出検査カメラ31のY軸方向に移動する軌跡の直下に、ワークステージ40が案内された際、描画検査カメラ32は、Y軸方向に移動することにより、ワークステージ40上のワークWに吐出された液滴によるパターン等の描画状態を撮像する。
ワークステージ40は、例えば真空吸着ステージであり、ワークWを吸着して載置する。ワークステージ40は、当該ワークステージ40の下面側に設けられたステージ回動機構41によって、θ方向に回動自在に支持されている。なお、Y軸テーブル11のX軸負方向側であって、ワークステージ40の上方には、ワークステージ40上のワークWのアライメントマークを撮像するワークアライメントカメラ(図示せず)が設けられている。そして、ワークアライメントカメラで撮像された画像に基づいて、ステージ回動機構41により、ワークステージ40に載置されたワークWのθ方向の位置が補正される。
ワークステージ40とステージ回動機構41は、ステージ回動機構41の下面側に設けられた第1のX軸スライダ42に支持されている。第1のX軸スライダ42は、X軸ガイドレール12に取り付けられ、当該X軸ガイドレール12に設けられたX軸リニアモータによってX軸方向に移動自在になっている。そして、ワークステージ40(ワークW)も、第1のX軸スライダ42によってX軸ガイドレール12に沿ってX軸方向に移動自在になっている。なお、本実施の形態では、第1のX軸スライダ42とX軸ガイドレール12(X軸リニアモータ)が、本発明におけるワーク移動機構を構成している。
フラッシングユニット50は、液滴吐出ヘッド24からの捨て吐出を受けるユニットである。フラッシングユニット50には、複数、例えば10個のフラッシング回収台51がY軸方向に並べて設けられている。このフラッシング回収台51の数は、キャリッジ23の数と同じである。
フラッシング回収台51は、その上面が開口し、フラッシング回収台51が対応するキャリッジ23の直下に案内された際に、キャリッジ23の液滴吐出ヘッド24から液滴が吐出され(フラッシングされ)、その液滴を受け止めて収容するようになっている。すなわち、ワークWに液滴で描画する前にフラッシング動作され、そのフラッシングに基づく液滴をフラッシング回収台51で回収する。
吐出検査ユニット60は、液滴吐出ヘッド24からの検査吐出を受けるユニットである。吐出検査ユニット60には、Y軸方向に延伸する検査台61が設けられている。検査台61の上面には、表面にフィルムコーティングが施された検査シート62が配置されている。検査台61に配置された検査シート62は、検査台61が液滴吐出ヘッド24の直下に案内された際に、液滴吐出ヘッド24から吐出された液滴が着弾されるようになっている。
フラッシングユニット50と吐出検査ユニット60は、第2のX軸スライダ70に搭載されている。第2のX軸スライダ70は、X軸ガイドレール12に取り付けられ、当該X軸ガイドレール12に設けられたX軸リニアモータによってX軸方向に移動自在になっている。そして、フラッシングユニット50と吐出検査ユニット60も、第2のX軸スライダ70によってX軸ガイドレール12に沿ってX軸方向に移動自在になっている。なお、本実施の形態では、第2のX軸スライダ70とX軸ガイドレール12(X軸リニアモータ)が、本発明におけるユニット移動機構を構成している。
メンテナンスユニット80は、液滴吐出ヘッド24のメンテナンスを行い、当該液滴吐出ヘッド24の吐出不良を解消する。メンテナンスユニット80は、ワイピングユニット90と、吸引ユニット100とを有している。ワイピングユニット90と吸引ユニット100は、X軸テーブル10側からこの順でY軸方向に並べて配置されている。また、ワイピングユニット90と吸引ユニット100は、キャリッジ23の下方に位置するように配置されている。
ワイピングユニット90は、液滴吐出ヘッド24において複数の吐出ノズルが形成されたノズル面を払拭するユニットである。ワイピングユニット90は、払拭ローラ91を有している。そして、キャリッジ23がワイピングユニット90の上方に案内された際に、払拭ローラ91がキャリッジ23の液滴吐出ヘッド24のノズル面と接触して、当該ノズル面を払拭する。
吸引ユニット100は、液滴吐出ヘッド24から機能液を吸引するユニットである。吸引ユニット100には、複数、例えば10個の分割吸引ユニット101がY軸方向に並べて設けられている。この分割吸引ユニット101の数は、キャリッジ23の数と同じである。各分割吸引ユニット101は、対応するキャリッジ23の液滴吐出ヘッド24を吸引して、当該液滴吐出ヘッド24の吐出ノズルから機能液を強制的に排出させる。また、各分割吸引ユニット101は、液滴吐出装置1が休止状態であるとき、液滴吐出ヘッド24のノズル面と密着して機能液の乾燥を抑制する。
以上の液滴吐出装置1には、制御部150が設けられている。制御部150は、例えばコンピュータであり、データ格納部(図示せず)を有している。データ格納部には、例えばワークWに吐出される液滴を制御し、当該ワークWに所定のパターンを描画するための描画データ(ビットマップデータ)などが格納されている。また、制御部150は、プログラム格納部(図示せず)を有している。プログラム格納部には、液滴吐出装置1における各種処理を制御するプログラムや、駆動系の動作を制御するプログラムなどが格納されている。
なお、前記データや前記プログラムは、例えばコンピュータ読み取り可能なハードディスク(HD)、フレキシブルディスク(FD)、コンパクトディスク(CD)、マグネットオプティカルデスク(MO)、メモリーカードなどのコンピュータに読み取り可能な記憶媒体に記録されていたものであって、その記憶媒体から制御部150にインストールされたものであってもよい。
次に、以上のように構成された液滴吐出装置1を用いて行われるワーク処理について説明する。以下の説明では、X軸テーブル10上において、Y軸テーブル11よりX軸負方向側のエリアを搬入出エリアA1といい、一対のY軸テーブル11、11間のエリアを処理エリアA2といい、Y軸テーブル11よりX軸正方向側のエリアを待機エリアA3という。また、X軸テーブル10のY軸負方向側であって、一対のY軸テーブル11、11間のエリアをメンテナンスエリアA4という。
先ず、搬入出エリアA1にワークステージ40を配置し、搬送機構(図示せず)により液滴吐出装置1に搬入されたワークWが当該ワークステージ40に載置される。続いて、ワークアライメントカメラによってワークステージ40上のワークWのアライメントマークが撮像される。そして、当該撮像された画像に基づいて、ステージ回動機構41により、ワークステージ40に載置されたワークWのθ方向の位置が補正され、ワークWのアライメントが行われる(ステップS1)。
その後、第1のX軸スライダ42によって、ワークステージ40を搬入出エリアA1から処理エリアA2に移動させる。処理エリアA2では、液滴吐出ヘッド24の下方に移動したワークWに対して、当該液滴吐出ヘッド24から液滴を吐出する。さらに、図3に示すようにワークWの全面が液滴吐出ヘッド24の下方を通過するように、ワークステージ40をさらに待機エリアA3側に移動させる。そして、ワークWをX軸方向に往復動させると共に、キャリッジユニット20を適宜、Y軸方向に移動させて、ワークWに所定のパターンが描画される(ステップS2)。
その後、図4に示すようにワークステージ40を待機エリアA3から搬入出エリアA1に移動させる。このワークステージ40の移動中、描画検査カメラ32を適宜、Y軸方向に移動させて、当該描画検査カメラ32によりワークステージ40上のワークWの全面、すなわちワークWに吐出された液滴によるパターンの描画状態を撮像する。撮像された画像は制御部150に出力され、制御部150では、撮像された画像に基づいて、描画状態の不良、例えば膜ムラ等が検査される。この検査結果において、描画状態が不良と判定された場合、例えば液滴吐出ヘッド24からの液滴の吐出などがフィードバック制御される(ステップS3)。
ワークステージ40が搬入出エリアA1に移動すると、描画処理が終了したワークWが液滴吐出装置1から搬出される。続いて、次のワークWが液滴吐出装置1に搬入され、上述したステップS1のワークWのアライメントが行われる(ステップS4)。
このようにステップS3における描画状態の検査とステップS4におけるワークWの搬入出が行われている間、図4に示すようにワークステージ40の移動と共に、第2のX軸スライダ70によって、フラッシングユニット50と吐出検査ユニット60を待機エリアA3から処理エリアA2に移動させる。処理エリアA2では、吐出検査ユニット60の検査シート62を液滴吐出ヘッド24の下方に配置し、当該検査シート62に対して液滴吐出ヘッド24から液滴を検査吐出する(ステップS5)。
その後、図5に示すようにフラッシングユニット50と吐出検査ユニット60をX軸正方向側に移動させて、吐出検査ユニット60の検査シート62を吐出検査カメラ31の下方に配置すると共に、フラッシングユニット50のフラッシング回収台51を液滴吐出ヘッド24の下方に配置する。
そして、吐出検査カメラ31を適宜、Y軸方向に移動させて、当該吐出検査カメラ31により検査シート62に検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する。撮像された画像は制御部150に出力され、制御部150では、撮像された画像に基づき、液滴吐出ヘッド24における吐出ノズルの吐出不良が検査される。この検査結果において、例えば液滴のノズル抜けと飛行曲がりの吐出不良と判定された場合、メンテナンスユニット80によって液滴吐出ヘッド24のメンテナンスを行われ、具体的には吸引ユニット100による吸引処理とワイピングユニット90による払拭処理が行われる。また、例えば液滴の着弾ドットの径や位置が不良と判定された場合、ビットマップデータが補正され、液滴吐出ヘッド24からの液滴の吐出がフィードバック制御される。
また、このように吐出検査カメラ31よる撮像処理と制御部150による吐出不良検査が行われている際に、フラッシング回収台51に対して液滴吐出ヘッド24から液滴の捨て吐出が行われる(ステップS6)。
以上のように各ワークWに対してステップS1〜S6が行われ、一連のワーク処理が終了する。
また、このようなステップS1〜S6のワークWの通常処理に加えて、適宜、メンテナンスユニット80による液滴吐出ヘッド24のメンテナンスが行われる。
液滴吐出ヘッド24のメンテナンスを行う際には、キャリッジユニット20を処理エリアA2からメンテナンスエリアA4に移動させる。メンテナンスエリアA4では、先ず、各液滴吐出ヘッド24を吸引ユニット100の分割吸引ユニット101の上方にそれぞれ配置し、分割吸引ユニット101によって液滴吐出ヘッド24から機能液を吸引する。
その後、キャリッジユニット20をY軸正方向側に移動させて、液滴吐出ヘッド24をワイピングユニット90の払拭ローラ91の上方に配置する。そして、キャリッジユニット20を移動させながら、払拭ローラ91を液滴吐出ヘッド24のノズル面に接触させて、当該ノズル面を払拭する。
その後、吸引ユニット100による吸引処理とワイピングユニット90による払拭処理が終了したキャリッジユニット20は、メンテナンスエリアA4から処理エリアA2に移動されて、液滴吐出ヘッド24のメンテナンスが終了する。
以上の第1の実施の形態によれば、ステップS5において、検査シート62に対して液滴吐出ヘッド24から液滴を検査吐出した後、ステップS6において、検査シート62に検査吐出された液滴の着弾ドットを吐出検査カメラ31で撮像すると共に、フラッシング回収台51に対して液滴吐出ヘッド24から液滴の捨て吐出を行う。すなわち、ステップS6において、液滴吐出ヘッド24の吐出性能の検査と液滴吐出ヘッド24からの捨て吐出を同時に行うことができるので、液滴吐出装置1における処理時間を短縮することができ、処理効率を向上させることができる。
この点、図6及び図7に示すように、上述した従来の液滴吐出装置500(例えば特許文献1、2)では、フラッシングユニット50と吐出検査ユニット60のX軸方向の配置が本実施の形態と反対であり、すなわち吐出検査ユニット60がフラッシングユニット50に対してワークステージ40側(X軸負方向側)に配置されている。かかる場合、図6に示すように吐出検査カメラ31で検査シート62に検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像した後、図7に示すようにフラッシングユニット50と吐出検査ユニット60をX軸負方向に移動させ、フラッシング回収台51に対して液滴吐出ヘッド24から液滴の捨て吐出を行う。すなわち、従来の液滴吐出装置500では、液滴吐出ヘッド24の吐出性能の検査と液滴吐出ヘッド24からの捨て吐出を同時に行うことができない。したがって、本実施の形態の効果を享受できない。
また、液滴吐出ヘッド24の吐出性能の検査と液滴吐出ヘッド24からの捨て吐出を同時に行うため、図8に示す液滴吐出装置600のように、吐出検査カメラ31と描画検査カメラ32のX軸方向の配置を本実施の形態と反対にすることも考えられる。すなわち、液滴吐出装置600では、描画検査カメラ32を吐出検査カメラ31よりX軸正方向側に配置する。しかしながら、かかる場合、ワークステージ40上のワークWが描画検査カメラ32の下方を完全に通過させる必要があるため、当該ワークステージ40のストロークが本実施の形態より長くなる。したがって、本実施の形態によれば、液滴吐出装置1の占有面積を小さくすることができる。
<2.第2の実施の形態>
次に、本発明の第2の実施の形態に係る液滴吐出装置の構成について、図9及び図10を参照して説明する。なお、上記第1の実施の形態に係る液滴吐出装置1と同じ構成については同じ符号を付して、その詳細な説明を省略する。
上記第1の実施の形態の液滴吐出装置1では、ワイピングユニット90と吸引ユニット100はX軸テーブル10の外側(Y軸負方向側)に設けられていたが、これらワイピングユニット90と吸引ユニット100は、フラッシングユニット50と吐出検査ユニット60と共にX軸テーブル10上に配置され、第2のX軸スライダ70に搭載される。具体的には、第2のX軸スライダ70上において、フラッシングユニット50、ワイピングユニット90、吐出検査ユニット60、及び吸引ユニット100は、ワークステージ40側からX軸方向にこの順で配置されている。
ワイピングユニット90には、複数、例えば10個の払拭ローラ91がY軸方向に並べて設けられている。この払拭ローラ91の数は、キャリッジ23の数と同じである。なお、ワイピングユニット90において1個の払拭ローラ91を設け、当該払拭ローラ91をY軸方向に移動自在に構成してもよい。本第2の実施の形態では、上記第1の実施の形態のようにキャリッジユニット20をワイピングユニット90に対してY軸方向に移動させることができないため、払拭ローラ91を複数設ける、あるいは払拭ローラ91を移動自在に構成する。
かかる場合、液滴吐出ヘッド24のメンテナンスを行う際には、先ず、図11に示すように第2のX軸スライダ70によって、吸引ユニット100を液滴吐出ヘッド24の下方に移動させる。そして、吸引ユニット100の分割吸引ユニット101によって液滴吐出ヘッド24から機能液を吸引する。
その後、図12に示すようにワイピングユニット90を液滴吐出ヘッド24の下方に移動させる。そして、ワイピングユニット90の払拭ローラ91を液滴吐出ヘッド24のノズル面に接触させて、当該ノズル面を払拭する。
以上の第2の実施の形態においても、上記第1の実施の形態と同様の効果を享受できる。加えて、液滴吐出装置1において、上記第1の実施の形態のメンテナンスエリアA4を省略できるので、当該液滴吐出装置1の占有面積をさらに小さくすることができる。
ここで、上述した特許文献1には、図13に示す液滴吐出装置700において、ワイピングユニット90と吸引ユニット100をX軸テーブル10上に設けることが開示されている。しかしながら、X軸テーブル10上において、吐出検査ユニット60、吸引ユニット100、フラッシングユニット50、及びワイピングユニット90は、ワークステージ40側からX軸方向にこの順で配置されている。すなわち、図6及び図7に示した液滴吐出装置500と同様に、フラッシングユニット50と吐出検査ユニット60の配置が、本実施の形態と反対である。そうすると、上述した問題と同様に、液滴吐出ヘッド24の吐出性能の検査と液滴吐出ヘッド24からの捨て吐出を同時に行うことができず、本実施の形態の効果を享受できない。
また、かかる場合でも、図8に示した液滴吐出装置600と同様に、吐出検査カメラ31と描画検査カメラ32のX軸方向の配置を本実施の形態と反対にすることが考えられるが、上述した問題と同様に、ワークステージ40のストロークが本実施の形態より長くなる。
<3.その他の実施の形態>
以上の第2の実施の形態の液滴吐出装置1では、その専有面積を小さくした分、キャリッジ23を交換する際のスペースを確保するのが困難となる場合がある。そこで、図14に示すように吸引ユニット100を用いてキャリッジ23を交換してもよい。具体的には、使用済みのキャリッジ23を載置した吸引ユニット100を処理エリアA2から待機エリアA3まで移動させ、待機エリアA3において、使用済みのキャリッジ23を使用前のキャリッジ23と交換する。そして、使用前のキャリッジ23を載置した吸引ユニット100を待機エリアA3から処理エリアA2まで移動させ、使用前のキャリッジ23をキャリッジ回動機構22に取り付ける。こうしてキャリッジ23を適切に交換することができる。
しかも、図13に示した従来の液滴吐出装置700では、第2のX軸スライダ70上において、吸引ユニット100がフラッシングユニット50及びワイピングユニット90のX軸負方向側に配置されているのに対し、本実施の形態では、吸引ユニット100は最もX軸正方向側に配置されている。そうすると、吸引ユニット100が処理エリアA2と待機エリアA3(キャリッジ23の交換位置)との間で移動する際の、第2のX軸スライダ70のストロークは本実施の形態の方が短くなる。したがって、本実施の形態によれば、液滴吐出装置1の占有面積をさらに小さくすることができる。
なお、かかる場合、吸引ユニット100上のキャリッジ23が他の部材と干渉するのを回避するため、第2のX軸スライダ70は昇降機構(図示せず)によって昇降自在に構成されていてもよい。
以上の第2の実施の形態の液滴吐出装置1では、吸引ユニット100には複数の分割吸引ユニット101が設けられ、ワイピングユニット90には複数の払拭ローラ91が設けられており、すなわち吸引ユニット100とワイピングユニット90は、それぞれキャリッジ23の数に合わせて分割されている。これら複数の分割吸引ユニット101と複数の払拭ローラ91は、それぞれ個別にX軸方向に移動自在に構成されていてもよい。かかる場合、分割吸引ユニット101による液滴吐出ヘッド24の吸引処理と、払拭ローラ91による液滴吐出ヘッド24の払拭処理とが個別に行われる。そうすると、例えば一のキャリッジ23における液滴吐出ヘッド24の吸引処理が終了して、他のキャリッジ23における液滴吐出ヘッド24の吸引処理が終了していない場合でも、当該他のキャリッジ23に対する吸引処理を待つ必要がなく、一のキャリッジ23に対する払拭処理を別途行うことができる。したがって、液滴吐出装置1における処理効率をさらに向上させることができる。
なお、かかる場合、複数のキャリッジ23が個別にX軸方向に移動自在に構成されていてもよく、あるいは複数の払拭ローラ91、複数の分割吸引ユニット101、及び複数のキャリッジ23がそれぞれ個別にX軸方向に移動自在に構成されていてもよい。
<4.液滴吐出装置の適用例>
次に、以上のように構成された液滴吐出装置1の適用例について説明する。図15は、液滴吐出装置1を備えた基板処理システム200の構成の概略を示す説明図である。基板処理システム200では、有機発光ダイオードの有機EL層が形成される。
先ず、有機発光ダイオードの構成の概略及びその製造方法について説明する。図16は、有機発光ダイオード300の構成の概略を示す側面図である。図16に示すように有機発光ダイオード300は、ワークWとしてのガラス基板G上で、陽極(アノード)310及び陰極(カソード)320の間に有機EL層330を挟んだ構造を有している。有機EL層330は、陽極310側から順に、正孔注入層331、正孔輸送層332、発光層333、電子輸送層334及び電子注入層335が積層されて形成されている。
有機発光ダイオード300を製造するに際しては、先ず、ガラス基板G上に陽極310が形成される。陽極310は、たとえば蒸着法を用いて形成される。なお、陽極310には、たとえばITO(Indium Tin Oxide)からなる透明電極が用いられる。
その後、陽極310上に、図17に示すように隔壁340が形成される。隔壁340は、例えばフォトリソグラフィー処理やエッチング処理等を行うことによって所定のパターンにパターニングされる。そして隔壁340には、スリット状の開口部341が行方向(X軸方向)と列方向(Y軸方向)に複数並べて形成されている。この開口部341の内部において、後述するように有機EL層330と陰極320が積層されて画素が形成される。なお、隔壁340には、例えば感光性ポリイミド樹脂が用いられる。
その後、隔壁340の開口部341内において、陽極310上に有機EL層330が形成される。具体的には、陽極310上に正孔注入層331が形成され、正孔注入層331上に正孔輸送層332が形成され、正孔輸送層332上に発光層333が形成され、発光層333上に電子輸送層334が形成され、電子輸送層334上に電子注入層335が形成される。
本実施の形態では、正孔注入層331、正孔輸送層332及び発光層333は、それぞれ基板処理システム200において形成される。すなわち、基板処理システム200では、インクジェット方式による有機材料の塗布処理、有機材料の減圧乾燥処理、有機材料の焼成処理が順次行われて、これら正孔注入層331、正孔輸送層332及び発光層333が形成される。
また電子輸送層334と電子注入層335は、それぞれ例えば蒸着法を用いて形成される。
その後、電子注入層335上に陰極320が形成される。陰極320は、例えば蒸着法を用いて形成される。なお、陰極320には、例えばアルミニウムが用いられる。
このようにして製造された有機発光ダイオード300では、陽極310と陰極320との間に電圧を印可することによって、正孔注入層331で注入された所定数量の正孔が正孔輸送層332を介して発光層333に輸送され、また電子注入層335で注入された所定数量の電子が電子輸送層334を介して発光層333に輸送される。そして、発光層333内で正孔と電子が再結合して励起状態の分子を形成し、当該発光層333が発光する。
次に、図15に示した基板処理システム200について説明する。なお、基板処理システム200で処理されるガラス基板G上には予め陽極310と隔壁340が形成されており、当該基板処理システム200では正孔注入層331、正孔輸送層332及び発光層333が形成される。
基板処理システム200は、複数のガラス基板Gをカセット単位で外部から基板処理システム200に搬入し、カセットCから処理前のガラス基板Gを取り出す搬入ステーション201と、ガラス基板Gに対して所定の処理を施す複数の処理装置を備えた処理ステーション202と、処理後のガラス基板GをカセットC内に収納し、複数のガラス基板Gをカセット単位で基板処理システム200から外部に搬出する搬出ステーション203とを一体に接続した構成を有している。搬入ステーション201、処理ステーション202、搬出ステーション203は、X軸方向にこの順で並べて配置されている。
搬入ステーション201には、カセット載置台210が設けられている。カセット載置台210は、複数のカセットCをY軸方向に一列に載置自在になっている。すなわち、搬入ステーション201は、複数のガラス基板Gを保有可能に構成されている。
搬入ステーション201には、Y軸方向に延伸する搬送路211上を移動可能な基板搬送体212が設けられている。基板搬送体212は、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、カセットCと処理ステーション202との間でガラス基板Gを搬送できる。なお、基板搬送体212は、例えばガラス基板Gを吸着保持して搬送する。
処理ステーション202には、正孔注入層331を形成する正孔注入層形成部220と、正孔輸送層332を形成する正孔輸送層形成部221と、発光層333を形成する発光層形成部222とが、搬入ステーション201側からX軸方向にこの順で並べて配置されている。
正孔注入層形成部220には、第1の基板搬送領域230と、第2の基板搬送領域231と、第3の基板搬送領域232とが、搬入ステーション201側からX軸方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域230、231、232はX軸方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域230、231、232にはガラス基板Gを搬送する基板搬送装置(図示せず)が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域230、231、232に隣接して設けられる各装置にガラス基板Gを搬送できる。
搬入ステーション201と第1の基板搬送領域230との間には、ガラス基板Gを受け渡すためのトランジション装置233が設けられている。同様に第1の基板搬送領域230と第2の基板搬送領域231との間、及び第2の基板搬送領域231と第3の基板搬送領域232との間にも、それぞれトランジション装置234、235が設けられている。
第1の基板搬送領域230のY軸方向正方向側には、ガラス基板G(陽極310)上に正孔注入層331を形成するための有機材料を塗布する塗布装置240が設けられている。塗布装置240は、液滴吐出装置1と同様の構成を有し、塗布装置240では、インクジェット方式でガラス基板G上の所定の位置、すなわち隔壁340の開口部341の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、正孔注入層331を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。
第1の基板搬送領域230のY軸方向負方向側には、複数のガラス基板Gを一時的に収容するバッファ装置241が設けられている。
第2の基板搬送領域231のY軸方向正方向側とY軸方向負方向側には、塗布装置240で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置242が複数積層されて、全部で例えば5つ設けられている。減圧乾燥装置242は、例えばターボ分子ポンプ(図示せず)を有し、当該ターボ分子ポンプによって内部雰囲気を例えば1Pa以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。
第3の基板搬送領域232のY軸方向正方向側には、減圧乾燥装置242で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置243が複数、例えば20段に積層されて設けられている。熱処理装置243は、その内部にガラス基板Gを載置する熱板(図示せず)を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。
第3の基板搬送領域232のY軸方向負方向側には、熱処理装置243で熱処理されたガラス基板Gを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置244が複数設けられている。
なお、正孔注入層形成部220において、これら塗布装置240、バッファ装置241、減圧乾燥装置242、熱処理装置243及び温度調節装置244の数や配置は、任意に選択できる。
正孔輸送層形成部221には、第1の基板搬送領域250と、第2の基板搬送領域251と、第3の基板搬送領域252とが、正孔注入層形成部220側からX軸方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域250、251、252はX軸方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域250、251、252には、ガラス基板Gを搬送する基板搬送装置(図示せず)が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域250、251、252に隣接して設けられる各装置にガラス基板Gを搬送できる。
なお、第3の基板搬送領域252には後述する熱処理装置263及び温度調節装置264が隣接されて設けられており、これら各装置263、264の内部は低酸素且つ低露点雰囲気に維持される。このため、第3の基板搬送領域252においても、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。以下の説明において、低酸素雰囲気とは大気よりも酸素濃度が低い雰囲気、例えば酸素濃度が10ppm以下の雰囲気をいい、また低露点雰囲気とは大気よりも露点温度が低い雰囲気、例えば露点温度が−10℃以下の雰囲気をいう。そして、かかる低酸素且つ低露点雰囲気として、例えば窒素ガス等の不活性ガスが用いられる。
正孔注入層形成部220と第1の基板搬送領域250との間、及び第1の基板搬送領域250と第2の基板搬送領域251との間には、それぞれガラス基板Gを受け渡すためのトランジション装置253、254が設けられている。第2の基板搬送領域251と第3の基板搬送領域252の間には、ガラス基板Gを一時的に収容可能なロードロック装置255が設けられている。ロードロック装置255は、内部雰囲気を切り替え可能、すなわち大気雰囲気と低酸素且つ低露点雰囲気に切り替え可能に構成されている。
第1の基板搬送領域250のY軸方向正方向側には、ガラス基板G(正孔注入層331)上に正孔輸送層332を形成するための有機材料を塗布する、液滴吐出装置としての塗布装置260が設けられている。塗布装置260は、液滴吐出装置1と同様の構成を有し、塗布装置260では、インクジェット方式でガラス基板G上の所定の位置、すなわち隔壁340の開口部341の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、正孔輸送層332を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。
第1の基板搬送領域250のY軸方向負方向側には、複数のガラス基板Gを一時的に収容するバッファ装置261が設けられている。
第2の基板搬送領域251のY軸方向正方向側とY軸方向負方向側には、塗布装置260で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置262が複数積層されて、全部で例えば5つ設けられている。減圧乾燥装置262は、例えばターボ分子ポンプ(図示せず)を有し、その内部雰囲気を例えば1Pa以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。
第3の基板搬送領域252のY軸方向正方向側には、減圧乾燥装置262で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置263が複数、例えば20段に積層されて設けられている。熱処理装置263は、その内部にガラス基板Gを載置する熱板(図示せず)を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。また、熱処理装置263の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
第3の基板搬送領域252のY軸方向負方向側には、熱処理装置263で熱処理されたガラス基板Gを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置264が複数設けられている。温度調節装置264の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
なお、正孔輸送層形成部221において、これら塗布装置260、バッファ装置261、減圧乾燥装置262、熱処理装置263及び温度調節装置264の数や配置は、任意に選択できる。
発光層形成部222には、第1の基板搬送領域270と、第2の基板搬送領域271と、第3の基板搬送領域272とが、正孔輸送層形成部221側からX軸方向にこの順で並べて配置されている。各基板搬送領域270、271、272はX軸方向に延伸して設けられ、当該基板搬送領域270、271、272には、ガラス基板Gを搬送する基板搬送装置(図示せず)が設けられている。基板搬送装置は、水平方向、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、これら基板搬送領域270、271、272に隣接して設けられる各装置にガラス基板Gを搬送できる。
なお、第3の基板搬送領域272には後述する熱処理装置283及び温度調節装置284が隣接されて設けられており、これら各装置283、284の内部は低酸素且つ低露点雰囲気に維持される。このため、第3の基板搬送領域272においても、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
正孔輸送層形成部221と第1の基板搬送領域270との間、及び第1の基板搬送領域270と第2の基板搬送領域271との間には、それぞれガラス基板Gを受け渡すためのトランジション装置273、274が設けられている。第2の基板搬送領域271と第3の基板搬送領域272の間、及び第3の基板搬送領域272と搬出ステーション203との間には、それぞれガラス基板Gを一時的に収容可能なロードロック装置275、276が設けられている。ロードロック装置275、276は、内部雰囲気を切り替え可能、すなわち大気雰囲気と低酸素且つ低露点雰囲気に切り替え可能に構成されている。
第1の基板搬送領域270のY軸方向正方向側には、ガラス基板G(正孔輸送層332)上に発光層333を形成するための有機材料を塗布する、液滴吐出装置としての塗布装置280が例えば2つ設けられている。塗布装置280は、液滴吐出装置1と同様の構成を有し、塗布装置280では、インクジェット方式でガラス基板G上の所定の位置、すなわち隔壁340の開口部341の内部に有機材料が塗布される。なお、本実施の形態の有機材料は、発光層333を形成するための所定の材料を有機溶媒に溶解させた溶液である。
第1の基板搬送領域270のY軸方向負方向側には、複数のガラス基板Gを一時的に収容するバッファ装置281が設けられている。
第2の基板搬送領域271のY軸方向正方向側とY軸方向負方向側には、塗布装置280で塗布された有機材料を減圧乾燥する減圧乾燥装置282が複数積層されて、全部で例えば5つ設けられている。減圧乾燥装置282は、例えばターボ分子ポンプ(図示せず)を有し、その内部雰囲気を例えば1Pa以下まで減圧して、有機材料を乾燥するように構成されている。
第3の基板搬送領域272のY軸方向正方向側には、減圧乾燥装置282で乾燥された有機材料を熱処理して焼成する熱処理装置283が複数、例えば20段に積層されて設けられている。熱処理装置283は、その内部にガラス基板Gを載置する熱板(図示せず)を有し、当該熱板によって有機材料を焼成するように構成されている。また、熱処理装置283の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
第3の基板搬送領域272のY軸方向負方向側には、熱処理装置283で熱処理されたガラス基板Gを所定の温度、例えば常温に調節する温度調節装置284が複数設けられている。温度調節装置284の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。
なお、発光層形成部222において、これら塗布装置280、バッファ装置281、減圧乾燥装置282、熱処理装置283及び温度調節装置284の数や配置は、任意に選択できる。
搬出ステーション203には、カセット載置台290が設けられている。カセット載置台290は、複数のカセットCをY軸方向に一列に載置自在になっている。すなわち、搬出ステーション203は、複数のガラス基板Gを保有可能に構成されている。
搬出ステーション203には、Y軸方向に延伸する搬送路291上を移動可能な基板搬送体292が設けられている。基板搬送体292は、鉛直方向及び鉛直周りにも移動自在であり、カセットCと処理ステーション202との間でガラス基板Gを搬送できる。なお、基板搬送体292は、例えばガラス基板Gを吸着保持して搬送する。
また、搬出ステーション203の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されているのが好ましい。
以上の基板処理システム200には、上述した制御部150が設けられている。したがって、塗布装置240、260、280は、制御部150によって制御される。但し、この制御部150のプログラム格納部(図示せず)には、塗布装置240、260、280を制御するためのプログラムに加えて、基板処理システム200におけるガラス基板Gの処理を制御するプログラムも格納されている。
次に、以上のように構成された基板処理システム200を用いて行われるガラス基板Gの処理方法について説明する。
先ず、複数のガラス基板Gを収容したカセットCが、搬入ステーション201に搬入され、カセット載置台210上に載置される。その後、基板搬送体212によって、カセット載置台210上のカセットCからガラス基板Gが順次取り出される。
カセットCから取り出されたガラス基板Gは、基板搬送体212によって正孔注入層形成部220のトランジション装置233に搬送され、さらに第1の基板搬送領域230を介して塗布装置240に搬送される。そして塗布装置240では、インクジェット方式でガラス基板G(陽極310)上の所定の位置、すなわち隔壁340の開口部341の内部に、正孔注入層331用の有機材料が塗布される。この塗布装置240における処理は、上述したステップS1〜S6と同様の処理である。
一方、塗布装置240での塗布処理が終了したガラス基板Gは、第1の基板搬送領域230を介してトランジション装置234に搬送され、さらに第2の基板搬送領域231を介して減圧乾燥装置242に搬送される。そして減圧乾燥装置242では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板G上に塗布された有機材料が乾燥される。
次にガラス基板Gは、第2の基板搬送領域231を介してトランジション装置235に搬送され、さらに第3の基板搬送領域232を介して熱処理装置243に搬送される。そして熱処理装置243では、熱板上に載置されたガラス基板Gが所定の温度、例えば280℃に加熱され、当該ガラス基板Gの有機材料が焼成される。
次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域232を介して温度調節装置244に搬送される。そして温度調節装置244では、ガラス基板Gが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板G(陽極310)上に正孔注入層331が形成される。
次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域232を介して正孔輸送層形成部221のトランジション装置253に搬送され、さらに第1の基板搬送領域250を介して塗布装置260に搬送される。そして塗布装置260では、インクジェット方式でガラス基板G(正孔注入層331)上に、正孔輸送層332用の有機材料が塗布される。この塗布装置260における処理は、上述したステップS1〜S6と同様の処理である。
次にガラス基板Gは、第1の基板搬送領域250を介してトランジション装置254に搬送され、さらに第2の基板搬送領域251を介して減圧乾燥装置262に搬送される。そして減圧乾燥装置262では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板G上に塗布された有機材料が乾燥される。
次にガラス基板Gは、第2の基板搬送領域251を介してロードロック装置255に搬送される。ロードロック装置255にガラス基板Gが搬入されると、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に切り替えられる。その後、ロードロック装置255の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された第3の基板搬送領域252の内部とが連通させられる。
次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域252を介して熱処理装置263に搬送される。この熱処理装置263の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして熱処理装置263では、熱板上に載置されたガラス基板Gが所定の温度、例えば200℃に加熱され、当該ガラス基板Gの有機材料が焼成される。
次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域252を介して温度調節装置264に搬送される。この温度調節装置264の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして温度調節装置264では、ガラス基板Gが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板G(正孔注入層331)上に正孔輸送層332が形成される。
次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域252を介して発光層形成部222のトランジション装置273に搬送され、さらに第1の基板搬送領域270を介して塗布装置280に搬送される。そして塗布装置280では、インクジェット方式でガラス基板G(正孔輸送層332)上に、発光層333用の有機材料が塗布される。この塗布装置280における処理は、上述したステップS1〜S6と同様の処理である。
次にガラス基板Gは、第1の基板搬送領域270を介してトランジション装置274に搬送され、さらに第2の基板搬送領域271を介して減圧乾燥装置282に搬送される。そして減圧乾燥装置282では、その内部雰囲気が減圧され、ガラス基板G上に塗布された有機材料が乾燥される。
次にガラス基板Gは、第2の基板搬送領域271を介してロードロック装置275に搬送される。ロードロック装置275にガラス基板Gが搬入されると、その内部が低酸素且つ低露点雰囲気に切り替えられる。その後、ロードロック装置275の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された第3の基板搬送領域272の内部とが連通させられる。
次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域272を介して熱処理装置283に搬送される。この熱処理装置283の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして熱処理装置283では、熱板上に載置されたガラス基板Gが所定の温度、例えば260℃に加熱され、当該ガラス基板Gの有機材料が焼成される。
次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域272を介して温度調節装置284に搬送される。この温度調節装置284の内部も低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして温度調節装置284では、ガラス基板Gが所定の温度、例えば常温に温度調節される。こうして、ガラス基板G(正孔輸送層332)上に発光層333が形成される。
次にガラス基板Gは、第3の基板搬送領域272を介してロードロック装置276に搬送される。このロードロック装置276の内部は、低酸素且つ低露点雰囲気に維持されている。そして、ロードロック装置276の内部と、同様に低酸素且つ低露点雰囲気に維持された搬出ステーション203の内部とが連通させられる。
次にガラス基板Gは、搬出ステーション203の基板搬送体292によってカセット載置台290上の所定のカセットCに搬送される。こうして、基板処理システム200における一連のガラス基板Gの処理が終了する。
以上の実施の形態においても、上述した第1の実施の形態と第2の実施の形態と同様の効果を享受できる。
なお、以上の実施の形態の基板処理システム200のレイアウトは、図15に示したレイアウトに限定されず、任意に設定できる。
また、以上の実施の形態の基板処理システム200では、正孔注入層331、正孔輸送層332及び発光層333を形成したが、同様に有機発光ダイオード300の他の電子輸送層334と電子注入層335も形成するようにしてもよい。すなわち、電子輸送層334と電子注入層335に用いられる有機材料に応じて、当該電子輸送層334と電子注入層335は、それぞれインクジェット方式による有機材料の塗布処理、有機材料の減圧乾燥処理、有機材料の焼成処理を行ってガラス基板G上に形成される。そして、これら電子輸送層334と電子注入層335の塗布処理においても、液滴吐出装置1を用いてもよい。
また、液滴吐出装置1の適用例として、有機発光ダイオード300の有機EL層330を形成する基板処理システム200を説明したが、液滴吐出装置1の適用例はこれに限定されない。例えばカラーフィルタ、液晶表示装置、プラズマディスプレイ(PDP装置)、電子放出装置(FED装置、SED装置)等の電気光学装置(フラットパネルディスプレイ:FPD)を製造する際にも液滴吐出装置1を適用してもよい。また、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成、及び光拡散体形成等を製造する際にも液滴吐出装置1を適用してもよい。
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明はかかる例に限定されない。当業者であれば、特許請求の範囲に記載された思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、それらについても当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
1 液滴吐出装置
10 X軸テーブル
11 Y軸テーブル
12 X軸ガイドレール
13 Y軸ガイドレール
20 キャリッジユニット
23 キャリッジ
24 液滴吐出ヘッド
30 撮像ユニット
31 吐出検査カメラ
32 描画検査カメラ
40 ワークステージ
42 第1のX軸スライダ
50 フラッシングユニット
51 フラッシング回収台
60 吐出検査ユニット
62 検査シート
70 第2のX軸スライダ
80 メンテナンスユニット
90 ワイピングユニット
91 払拭ローラ
100 吸引ユニット
101 分割吸引ユニット
150 制御部
200 基板処理システム
240、260、280 塗布装置
300 有機発光ダイオード
330 有機EL層
331 正孔注入層
332 正孔輸送層
333 発光層
334 電子輸送層
335 電子注入層
G ガラス基板
W ワーク

Claims (12)

  1. ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出装置であって、
    前記ワークに液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
    前記ワークを載置するワークステージと、
    前記ワークステージを介して、前記液滴吐出ヘッドに対し前記ワークを主走査方向に移動させるワーク移動機構と、
    前記液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、
    前記液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける吐出検査ユニットと、
    前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを搭載すると共に、前記ワークステージと同一軌道上において前記主走査方向に前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを移動させるユニット移動機構と、
    前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する吐出検査用撮像部と、
    前記ワークに吐出された液滴による描画状態を撮像する描画検査用撮像部と
    前記ユニット移動機構、前記吐出検査用撮像部、及び前記液滴吐出ヘッドの動作を制御する制御部と、を有し、
    前記ワークステージ、前記フラッシングユニット、及び前記吐出検査ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、
    前記吐出検査用撮像部と前記描画検査用撮像部は、前記液滴吐出ヘッドを挟んで前記主走査方向に配置され、且つ、前記吐出検査用撮像部は前記フラッシングユニット側に配置され、前記描画検査用撮像部は前記ワークステージ側に配置され
    前記制御部は、前記吐出検査ユニットを前記吐出検査用撮像部の下方に移動させると共に、前記フラッシングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させた後、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを前記吐出検査用撮像部で撮像すると同時に、前記フラッシングユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行うように、前記ユニット移動機構、前記吐出検査用撮像部、及び前記液滴吐出ヘッドを制御することを特徴とする、液滴吐出装置。
  2. 前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピングユニットと、
    前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引する吸引ユニットと、をさらに有し、
    前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、前記ユニット移動機構に搭載され、
    前記フラッシングユニット、前記ワイピングユニット、前記吐出検査ユニット、及び前記吸引ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置されていることを特徴とする、請求項1に記載の液滴吐出装置。
  3. 前記液滴吐出ヘッドを複数備えたキャリッジが、前記主走査方向に直交する副走査方向に複数設けられ、
    前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、それぞれ前記キャリッジの数に合わせて、前記副走査方向に分割して設けられ、
    前記キャリッジと前記分割されたワイピングユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、
    前記キャリッジと前記分割された吸引ユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成されていることを特徴とする、請求項2に記載の液滴吐出装置。
  4. 前記ユニット移動機構は、当該ユニット移動機構に搭載されたユニットを昇降させることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の液滴吐出装置。
  5. 前記機能液は、有機EL層に用いられる有機材料であることを特徴とする、請求項1〜4のいずれか一項に記載の液滴吐出装置。
  6. 液滴吐出装置を用いて、ワークに機能液の液滴を吐出して描画する液滴吐出方法であって、
    前記液滴吐出装置は、
    前記ワークに液滴を吐出する液滴吐出ヘッドと、
    前記ワークを載置するワークステージと、
    前記ワークステージを介して、前記液滴吐出ヘッドに対し前記ワークを主走査方向に移動させるワーク移動機構と、
    前記液滴吐出ヘッドからの捨て吐出を受けるフラッシングユニットと、
    前記液滴吐出ヘッドからの検査吐出を受ける吐出検査ユニットと、
    前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを搭載すると共に、前記ワークステージと同一軌道上において前記主走査方向に前記フラッシングユニットと前記吐出検査ユニットを移動させるユニット移動機構と、
    前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを撮像する吐出検査用撮像部と、
    前記ワークに吐出された液滴による描画状態を撮像する描画検査用撮像部と、を有し、
    前記ワークステージ、前記フラッシングユニット、及び前記吐出検査ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、
    前記吐出検査用撮像部と前記描画検査用撮像部は、前記液滴吐出ヘッドを挟んで前記主走査方向に配置され、且つ、前記吐出検査用撮像部は前記フラッシングユニット側に配置され、前記描画検査用撮像部は前記ワークステージ側に配置され、
    前記液滴吐出方法は、
    前記ワーク移動機構によって前記ワークを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該ワークに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を吐出して描画する第1の工程と、
    その後、前記ユニット移動機構によって前記吐出検査ユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該吐出検査ユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴を検査吐出する第2の工程と、
    その後、前記ユニット移動機構によって前記吐出検査ユニットを前記吐出検査用撮像部の下方に移動させると共に、前記フラッシングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させた後、前記吐出検査ユニットに検査吐出された液滴の着弾ドットを前記吐出検査用撮像部で撮像すると同時に、前記フラッシングユニットに対して前記液滴吐出ヘッドから液滴の捨て吐出を行う第3の工程と、を有することを特徴とする、液滴吐出方法。
  7. 前記液滴吐出装置は、
    前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭するワイピングユニットと、
    前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引する吸引ユニットと、をさらに有し、
    前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、前記ユニット移動機構に搭載され、
    前記フラッシングユニット、前記ワイピングユニット、前記吐出検査ユニット、及び前記吸引ユニットは、前記主走査方向にこの順で配置され、
    前記液滴吐出ヘッドをメンテナンスする際には、
    前記ユニット移動機構によって前記吸引ユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該吸引ユニットによって前記液滴吐出ヘッドから機能液を吸引した後、
    前記ユニット移動機構によって前記ワイピングユニットを前記液滴吐出ヘッドの下方に移動させ、当該ワイピングユニットによって前記液滴吐出ヘッドのノズル面を払拭することを特徴とする、請求項6に記載の液滴吐出方法。
  8. 前記液滴吐出ヘッドを複数備えたキャリッジが、前記主走査方向に直交する副走査方向に複数設けられ、
    前記ワイピングユニットと前記吸引ユニットは、それぞれ前記キャリッジの数に合わせて、前記副走査方向に分割して設けられ、
    前記キャリッジと前記分割されたワイピングユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、
    前記キャリッジと前記分割された吸引ユニットは、前記主走査方向に相対的に移動自在に構成され、
    前記ワイピングユニットによる払拭処理と前記吸引ユニットによる吸引処理は、前記キャリッジ毎に個別に行われることを特徴とする、請求項7に記載の液滴吐出方法。
  9. 前記ユニット移動機構によって、当該ユニット移動機構に搭載されたユニットの高さを調整することを特徴とする、請求項6〜8のいずれか一項に記載の液滴吐出方法。
  10. 前記機能液は、有機EL層に用いられる有機材料であることを特徴とする、請求項6〜9のいずれか一項に記載の液滴吐出方法。
  11. 請求項6〜10のいずれか一項に記載の液滴吐出方法を液滴吐出装置によって実行させるように、当該液滴吐出装置のコンピュータ上で動作するプログラム。
  12. 請求項11に記載のプログラムを格納した読み取り可能なコンピュータ記憶媒体。
JP2014212043A 2014-10-16 2014-10-16 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 Active JP6338507B2 (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014212043A JP6338507B2 (ja) 2014-10-16 2014-10-16 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
KR1020150139667A KR102382924B1 (ko) 2014-10-16 2015-10-05 액적 토출 장치, 액적 토출 방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014212043A JP6338507B2 (ja) 2014-10-16 2014-10-16 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016077966A JP2016077966A (ja) 2016-05-16
JP6338507B2 true JP6338507B2 (ja) 2018-06-06

Family

ID=55919314

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2014212043A Active JP6338507B2 (ja) 2014-10-16 2014-10-16 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP6338507B2 (ja)
KR (1) KR102382924B1 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230156036A (ko) 2021-03-17 2023-11-13 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤 감압 건조 장치 및 감압 건조 방법

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6774803B2 (ja) * 2016-07-14 2020-10-28 東京エレクトロン株式会社 液滴吐出装置及び吐出検査方法
JP6804249B2 (ja) * 2016-09-23 2020-12-23 東京エレクトロン株式会社 塗布装置、塗布方法、および有機elディスプレイ
JP6804250B2 (ja) 2016-09-23 2020-12-23 東京エレクトロン株式会社 減圧乾燥装置、および減圧乾燥方法
JP6918461B2 (ja) * 2016-09-23 2021-08-11 東京エレクトロン株式会社 減圧乾燥システム、および減圧乾燥方法
JP2018049805A (ja) * 2016-09-23 2018-03-29 東京エレクトロン株式会社 塗布装置、塗布方法、および有機elディスプレイ
JP6925143B2 (ja) * 2017-03-07 2021-08-25 東京エレクトロン株式会社 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
CN108816641B (zh) * 2018-06-30 2024-05-14 浙江浙能科技环保集团股份有限公司 一种钙钛矿太阳能电池中钙钛矿吸光层的涂布工艺及装置
CN112566730A (zh) * 2018-08-22 2021-03-26 东京毅力科创株式会社 绘制装置和绘制方法
JP7257760B2 (ja) * 2018-09-12 2023-04-14 東京エレクトロン株式会社 描画装置および描画方法
CN109530167B (zh) * 2018-09-29 2021-01-15 领益智造科技(东莞)有限公司 一种用于凹型空间点胶后的胶量检测装置
KR102134273B1 (ko) * 2019-06-11 2020-07-15 세메스 주식회사 잉크젯 프린팅 시스템
CN111112018A (zh) * 2019-12-10 2020-05-08 廊坊中电熊猫晶体科技有限公司 一种直插式石英晶体谐振器点胶装置及使用方法
CN110947581B (zh) * 2019-12-17 2021-08-31 肇庆市启铭电子科技有限公司 一种电子元器件加工用单工位循环式点胶装置
JP2023156645A (ja) * 2022-04-13 2023-10-25 東京エレクトロン株式会社 液滴吐出装置、液滴吐出方法および記憶媒体

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002127390A (ja) * 2000-10-20 2002-05-08 Konica Corp インクジェットプリンター及びインク吐出回復方法並びにインクジェットプリンターの製造方法
JP4967741B2 (ja) * 2007-03-23 2012-07-04 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置および電気光学装置の製造方法
JP2009006212A (ja) * 2007-06-26 2009-01-15 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法および電気光学装置
JP5131450B2 (ja) * 2007-10-15 2013-01-30 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出量調整方法及びパターン形成装置
JP2010082489A (ja) * 2008-09-29 2010-04-15 Seiko Epson Corp フラッシング受容装置およびこれを備えた液滴吐出装置
JP5428754B2 (ja) 2009-10-26 2014-02-26 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置および液滴吐出装置の制御方法
US8376512B2 (en) * 2009-10-26 2013-02-19 Seiko Epson Corporation Droplet discharge device and method for controlling droplet discharge device
JP2011181701A (ja) * 2010-03-01 2011-09-15 Seiko Epson Corp 導体パターンの形成方法、配線基板、液滴吐出装置およびプログラム
JP5359973B2 (ja) 2010-04-02 2013-12-04 セイコーエプソン株式会社 液滴吐出装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230156036A (ko) 2021-03-17 2023-11-13 파나소닉 아이피 매니지먼트 가부시키가이샤 감압 건조 장치 및 감압 건조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
JP2016077966A (ja) 2016-05-16
KR20160045012A (ko) 2016-04-26
KR102382924B1 (ko) 2022-04-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6338507B2 (ja) 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
JP6576124B2 (ja) 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
TWI750339B (zh) 液滴吐出裝置、液滴吐出方法及電腦記憶媒體
JP6846943B2 (ja) 塗布装置、および塗布方法
JP2008100138A (ja) 液滴吐出装置、電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器
KR102022764B1 (ko) 액적 토출 장치 및 토출 검사 방법
CN107179287B (zh) 液滴检查装置和液滴检查方法
JP2018030054A (ja) 液滴吐出装置及び液滴吐出条件補正方法
KR102523325B1 (ko) 도포 장치 및 도포 방법
CN107464877B (zh) 检查装置、检查方法和功能液排出装置
KR102514229B1 (ko) 액적 검사 장치, 액적 검사 방법 및 컴퓨터 기억 매체
JP2016080474A (ja) 液滴検査装置、液滴検査方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
KR102599572B1 (ko) 액적 토출 장치, 액적 토출 방법, 프로그램 및 컴퓨터 기억 매체
JP4207541B2 (ja) ワーク搬送テーブル、ワーク搬送装置、液滴吐出装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器
JP6532778B2 (ja) 液滴吐出装置、液滴吐出方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体
WO2022172762A1 (ja) 液滴吐出装置及び液滴吐出方法
WO2023199749A1 (ja) 液滴吐出装置、液滴吐出方法および記憶媒体
JP2023009394A (ja) 液滴吐出装置及び液滴吐出方法
JP6987206B2 (ja) 塗布装置、および塗布方法
JP2023172594A (ja) 基板搬送装置、基板搬送方法および記憶媒体
JP3928456B2 (ja) 液滴吐出装置とその液状材料充填方法、およびデバイス製造装置とデバイス製造方法並びにデバイス
KR20240066088A (ko) 액적 토출 시스템, 액적 토출 방법 및 액적 토출 장치
JP2004172317A (ja) ワーク位置決め装置、ワーク位置決め方法、液滴吐出装置、電気光学装置、電気光学装置の製造方法および電子機器
CN115138501A (zh) 液滴释放装置和液滴释放方法
JP2011156482A (ja) 液体塗布装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161228

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170810

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20170919

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171114

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180417

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180508

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6338507

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250