JP6336055B2 - 半導体装置、半導体装置の製造方法、電力変換装置、3相モータシステム、自動車、および鉄道車両 - Google Patents
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Description
まず、図4に示すように、n+型の4H−SiC基板101を用意する。n+型のSiC基板101には、n型不純物が導入されている、このn型不純物は、例えば窒素(N)であり、このn型不純物の不純物濃度は、例えば1×1018〜1×1021cm−3の範囲である。また、n+型のSiC基板101はSi面とC面との両面を有するが、n+型のSiC基板101の表面はSi面またはC面のどちらでもよい。
次に、n+型のSiC基板101の裏面(第2主面)から所定の深さ(第6深さ)に至るまで、n+型のSiC基板101の裏面にn+型のドレイン領域103を形成する。n+型のドレイン領域103の不純物濃度は、例えば1×1019〜1×1021cm−3の範囲である。
次に、マスクM4を除去した後、図示は省略するが、SiCエピタキシャル基板104の表面上および裏面上に、例えばプラズマCVD法により炭素(C)膜を堆積する。炭素(C)膜の厚さは、例えば0.03μm程度である。この炭素(C)膜により、SiCエピタキシャル基板104の表面および裏面を被覆した後、SiCエピタキシャル基板104に1500℃以上の温度で2〜3分程度の熱処理を施す。これにより、SiCエピタキシャル基板104にイオン注入した各不純物の活性化を行う。熱処理後は、炭素(C)膜を、例えば酸素プラズマ処理により除去する。
次に、図9(a)〜(c)に示すように、マスクM5を例えば、レジスト膜で形成する。図9(a)は、半導体チップ1の本製造工程での要部上面図である。図9(b)は、図9(a)の線分AA’での要部断面図である。図9(c)は、図9(a)の線分BB’での要部断面図である。マスクM5の厚さは、例えば0.5〜3μm程度である。後の工程においてトレンチ109が形成される領域に開口部分が設けられている。
次に、図10に示すように、マスクM5を除去した後、トレンチ109の内壁を含む第1主面側の表面にゲート絶縁膜110を形成する。ゲート絶縁膜110は、例えば熱CVD法により形成されたSiO2膜からなる。ゲート絶縁膜110の厚さは、例えば0.005〜0.15μm程度である。
次に、図13に示すように、第1主面側の表面上にゲート電極111およびゲート絶縁膜110を覆うように、例えばプラズマCVD法により、層間絶縁膜112を形成する。
Claims (15)
- 第1不純物濃度を有する第1導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の裏面側に形成されている裏面電極と、
前記半導体基板上に形成されている前記第1不純物濃度よりも低い第2不純物濃度の前記第1導電型の第1領域と、
第3不純物濃度を有する前記第1導電型の第2領域と、
前記第1領域と電気的に接続している前記第2不純物濃度よりも高く、および前記第3不純物濃度よりも低い第4不純物濃度の前記第1導電型の第3領域と、
前記第2領域と前記第3領域とに接している、前記第1導電型とは反対の第2導電型の第4領域と、
一端側の側面が前記第2領域と接し、反対側の他端側の側面が前記第3領域と接し、並びに前記第2領域と前記第3領域との間に在る中間部の側面、および底面が前記第4領域と接して、前記第2領域と前記第3領域との間を結び前記半導体基板の主面と平行に延在しているトレンチと、
前記トレンチの内壁に形成されている絶縁膜と、
前記絶縁膜上に形成されているゲート電極と、を有することを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記トレンチに接している前記第3領域の部分と前記半導体基板の間には、前記第4領域が存在することを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記トレンチに接している前記第2領域の部分と前記半導体基板の間には、前記第4領域が存在することを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記ゲート電極の端部と前記半導体基板の間には、前記第4領域が存在することを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置において、
前記半導体基板は炭化珪素を材質としていることを特徴とする半導体装置。 - 請求項1に記載の半導体装置をスイッチング素子として有する電力変換装置。
- 請求項6に記載の電力変換装置で直流電力を交流電力に変換し、3相モータを駆動する3相モータシステム。
- 請求項7に記載の3相モータシステムで車輪を駆動する自動車。
- 請求項7に記載の3相モータシステムで車輪を駆動する鉄道車両。
- 第1導電型の半導体基板と、
前記半導体基板の裏面側に形成されているドレイン電極と、
前記半導体基板上に形成されている第1不純物濃度を有する前記第1導電型のドリフト層と、
第2不純物濃度を有する前記第1導電型のソース領域と、
前記ドリフト層と電気的に接続している前記第1不純物濃度よりも高く、および前記第2不純物濃度よりも低い第3不純物濃度の前記第1導電型の電流拡散層と、
前記ソース領域と前記電流拡散層とに接している、前記第1導電型とは反対の第2導電
型のボディ層と、
一端側の側面が前記ソース領域と接し、反対側の他端側の側面が前記電流拡散層と接し、並びに前記ソース領域と前記電流拡散層との間に在る中間部の側面、および底面が前記ボディ層と接して、前記ソース領域と前記電流拡散層との間を結び前記半導体基板の主面と平行に延在しているトレンチと、
前記トレンチの内壁に形成されているゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成されているゲート電極と、を有することを特徴とする半導体
装置。 - 請求項10に記載の半導体装置において、
前記トレンチに接している前記電流拡散層の部分と前記半導体基板の間には、前記ボディ層が存在することを特徴とする半導体装置。 - 請求項10に記載の半導体装置において、
前記トレンチに接している前記ソース領域の部分と前記半導体基板の間には、前記ボディ層が存在することを特徴とする半導体装置。 - 請求項10に記載の半導体装置において、
前記ゲート電極の端部と前記半導体基板の間には、前記ボディ層が存在することを特徴
とする半導体装置。 - 請求項10に記載の半導体装置において、
前記半導体基板は炭化珪素を材質としていることを特徴とする半導体装置。 - 第1不純物濃度を有する第1導電型のエピタキシャル層が形成されている前記第1導電型の炭化珪素半導体基板を準備し、
前記エピタキシャル層内に第1導電型とは反対の第2導電型の第1領域を第2導電型不純物をイオン注入して形成し、
前記第1領域内に第2不純物濃度を有する前記第1導電型の第2領域を第1導電型不純物をイオン注入して形成し、
前記エピタキシャル層内で、前記第2領域と間隔を空けて前記第1領域を一部に含む領域に、前記第1不純物濃度よりも高く、および前記第2不純物濃度よりも低い第3不純物濃度の前記第1導電型の第3領域を第1導電型不純物をイオン注入して形成し、
前記第1領域上であって前記第2領域と前記第3領域との間を結び前記炭化珪素半導体基板の主面と平行に延在するトレンチを形成し、
前記トレンチの内壁に絶縁膜を形成し、
前記絶縁膜上にゲート電極を形成することを特徴とする半導体装置の製造方法。
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