JP6272255B2 - 炭化珪素半導体装置および炭化珪素半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
<構成>
以下、本実施形態に関する炭化珪素半導体装置の構成および当該炭化珪素半導体装置の製造方法について説明する。
続いて、図1から図3に示された炭化珪素半導体装置の製造方法について、図4から図16を参照しつつ順に説明する。
以下では、上記実施形態で説明された構成と同様の構成については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略する。
以下では、上記各実施形態で説明された構成と同様の構成については同じ符号を付して図示し、その詳細な説明については適宜省略する。
以下に、上記の実施形態による効果を例示する。
上記実施形態では、各構成要素の材質、材料、寸法、形状、相対的配置関係または実施の条件などについても記載している場合があるが、これらはすべての局面において例示であって、本明細書に記載されたものに限られることはない。よって、例示されていない無数の変形例が、本技術の範囲内において想定される。たとえば、少なくとも1つの構成要素を変形する場合、追加する場合または省略する場合、さらには、少なくとも1つの実施形態における少なくとも1つの構成要素を抽出し、他の実施形態の構成要素と組み合わせる場合が含まれる。
Claims (12)
- p型の炭化珪素半導体層と、
前記炭化珪素半導体層の表面上にオーミック接触して形成されるオーミック電極とを備え、
前記オーミック電極は、
前記炭化珪素半導体層と接触して形成され、かつ、アルミニウムと珪素とを含みチタニウムを含まない珪素合金層と、
前記珪素合金層と接触して形成され、かつ、アルミニウムとチタニウムとを含むチタニウム合金層とを備える、
炭化珪素半導体装置。 - 前記珪素合金層の厚みが、前記チタニウム合金層の厚みよりも厚い、
請求項1に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記珪素合金層の厚みが、前記チタニウム合金層の厚みの1.5倍以上である、
請求項2に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記炭化珪素半導体層の前記表面とは反対側の面である反対表面上に形成される、n型の炭化珪素エピタキシャル層と、
前記炭化珪素エピタキシャル層の、前記炭化珪素半導体層と接触する側とは反対側の表層に互いに離間して形成される、複数のp型のベース領域と、
各前記ベース領域の表層に形成される、n型のソース領域と、
各前記ソース領域と前記炭化珪素エピタキシャル層とに挟まれた各前記ベース領域の表面上に、ゲート絶縁膜を介して形成されるゲート電極と、
各前記ベース領域の表面上と、各前記ソース領域の表面上とを亘って形成されるソース電極とをさらに備える、
請求項1から請求項3のうちのいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。 - 前記炭化珪素半導体層の前記表面とは反対側の面である反対表面上に形成される、n型の炭化珪素エピタキシャル層と、
前記炭化珪素エピタキシャル層の、前記炭化珪素半導体層と接触する側とは反対側の面である反対表面上に形成される、n型の炭化珪素半導体基板と、
前記炭化珪素半導体基板の、前記炭化珪素エピタキシャル層と接触する側とは反対側の面である反対表面上にオーミック接触して形成される電極層とをさらに備える、
請求項1から請求項3のうちのいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置。 - p型の炭化珪素半導体層を形成し、
前記炭化珪素半導体層の表面上にアルミニウム層を形成し、
前記アルミニウム層の表面上にチタニウム層を形成し、
アニール処理によって、前記炭化珪素半導体層と接触し、かつ、アルミニウムと珪素とを含みチタニウムを含まない珪素合金層と、前記珪素合金層と接触し、かつ、アルミニウムとチタニウムとを含むチタニウム合金層とを形成する、
炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記アニール処理が、
前記チタニウム層にレーザー光を照射し、前記珪素合金層と、前記チタニウム合金層とを形成する処理である、
請求項6に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記チタニウム層に照射される前記レーザー光のエネルギーが、1.6J/cm2よりも大きい、
請求項7に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記炭化珪素半導体層の前記表面とは反対側の面である反対表面上に、n型の炭化珪素エピタキシャル層を形成し、
前記炭化珪素エピタキシャル層の、前記炭化珪素半導体層と接触する側とは反対側の表層に、互いに離間するp型のベース領域を複数形成し、
各前記ベース領域の表層に、n型のソース領域を形成し、
各前記ソース領域と前記炭化珪素エピタキシャル層とに挟まれた各前記ベース領域の表面上に、ゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成し、
各前記ベース領域の表面上と、各前記ソース領域の表面上とを亘って、ソース電極を形成する、
請求項6から請求項8のうちのいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記炭化珪素半導体層が、n型の炭化珪素半導体基板からのエピタキシャル成長によって形成される層であり、
前記炭化珪素半導体基板が、前記炭化珪素半導体層の表面上に前記アルミニウム層を形成する前に除去される、
請求項9に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記炭化珪素半導体層は、n型の炭化珪素エピタキシャル層の表面上に形成され、
前記炭化珪素エピタキシャル層は、n型の炭化珪素半導体基板の表面上に形成され、
前記炭化珪素半導体基板の、前記炭化珪素エピタキシャル層と接触する側とは反対側の面である反対表面上に、オーミック接触する電極層を形成する、
請求項6から請求項8のうちのいずれか1項に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。 - 前記炭化珪素半導体基板の前記反対表面が、当該反対表面上に前記電極層を形成する前に少なくとも一部除去される、
請求項11に記載の炭化珪素半導体装置の製造方法。
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