JP6243927B2 - リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
[001] 本出願は、2013年2月8日に出願されその全体が参照することにより本明細書に組み込まれる米国特許仮出願第61/762,654号の利益を主張する。
αは、適用された加重関数である。一般的には、αは0から1の値の間で連続的に変動し得る。一実施形態では、加重関数αはオブジェクトの位置の関数として決定される。そのような実施形態では、加重関数αの実際の(すなわち、所与の位置の)値は、オブジェクトの位置を表す位置信号を含むフィードバック信号110から決定され得る。代替的には、セットポイント100はαの実際の値を決定するための入力として使用され得る。そのため、一実施形態では、加重係数αは、加重信号120に基づき、加重信号120はオブジェクトの実際の位置を表し得るか(そのため、フィードバック信号110から導き出される)あるいは、例えばセットポイント100によって表されるオブジェクトの所望の位置を表し得る。
一実施形態では、セットポイント100から(入力信号105を得るために)減算され得るフィードバック信号110は、プロセスPの第1位置測定構成から取得されるオブジェクトの位置を表す第1位置信号及び第2位置測定構成から取得されるオブジェクトの位置を表す第2位置信号を有し得、従って第1及び第2位置信号は、セットポイント100からの減算の後で各第1及び第2コントローラに各第1及び第2入力信号として提供され得る。そのため、そのような実施形態では、各コントローラには特定の位置測定構成から取得した自身の入力信号が提供される。
位置測定システム、すなわち上述のエンコーダ−格子構成によって、本発明は以下のように有益に適用可能である。
そのため、本発明の一実施形態によると、位置制御システムの位置測定システムは例えば上述のようなエンコーダベースの配置を有する第1位置測定構成及び干渉計ベースの配置を有する第2位置測定構成を有し得る。あり得る用途としては、エンコーダベースの構成は例えば専用コントローラを使用した正確な位置決めが適用される露光領域において適用可能である一方で、例えば基板が測定ステーションから露光ステーションへ移動される際に覆われる領域である搬送領域においては、干渉計ベースの構成が、両方の測定構成の位置フィードバック信号を処理するように適応されたより頑強なコントローラと組み合わされて使用される。
Claims (14)
- 第1稼働領域におけるオブジェクトの位置を決定する第1位置測定構成及び第2稼働領域における前記オブジェクトの位置を決定する第2位置測定構成を備える位置測定システムと、
前記オブジェクトの位置を制御する制御ユニットであって、前記制御ユニットは前記第1稼働領域における前記オブジェクトの位置を制御する第1コントローラ及び前記第2稼働領域における前記オブジェクトの位置を制御する第2コントローラを備え、前記第1及び第2コントローラは前記オブジェクトの位置を表す入力信号をそれぞれ第1及び第2制御信号に変換する、制御ユニットと、を備え、
前記制御ユニットは、前記第1及び第2稼働領域の重なり合う領域における前記オブジェクトの前記位置を制御する組み合わせられた制御信号を決定し、前記組み合わせられた制御信号は、前記第1及び第2制御信号に対して連続加重関数を適用することにより取得される、
位置制御システム。 - 前記加重関数は、前記オブジェクトの前記位置又は前記オブジェクトのセットポイントの関数である、請求項1に記載の位置制御システム。
- 前記第1コントローラは、前記第1位置測定構成の位置信号を含む入力信号に基づき前記第1制御信号を決定する、請求項1に記載の位置制御システム。
- 前記入力信号は、前記第1位置測定構成の位置信号を含む第1入力信号及び前記第2位置測定構成の位置信号を含む第2位置信号に対して前記連続加重関数を適用することにより取得される、請求項1又は2に記載の位置制御システム。
- 前記位置測定システムは、2Dエンコーダターゲットと、前記2Dエンコーダターゲットと協働する複数のエンコーダヘッドと、を含むエンコーダベースの位置測定システムを備え、
前記入力信号は、前記複数のエンコーダヘッドの受信した位置信号に基づく、請求項1〜4のいずれか一項に記載の位置制御システム。 - 前記第1コントローラは、前記第1稼働領域における前記オブジェクトの位置を制御し、前記第2コントローラは、前記第1及び第2稼働領域の両方における前記オブジェクトの位置を制御する、請求項1に記載の位置制御システム。
- 前記複数のエンコーダヘッドは、前記第1稼働領域において前記2Dエンコーダターゲットと協働する4つのエンコーダヘッドと、前記第2稼働領域において前記2Dエンコーダターゲットと協働する4つのエンコーダヘッドの3つのエンコーダヘッドのサブセットと、を備える、請求項5又は6に記載の位置制御システム。
- 前記入力信号は、前記第1位置測定構成から取得した前記オブジェクトの位置を表す第1位置信号を含む第1入力信号及び前記第2位置測定構成から取得した前記オブジェクトの位置を表す第2位置信号を含む第2入力信号を含み、前記第1及び第2入力信号は前記第1及び第2コントローラのそれぞれに提供される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の位置制御システム。
- 前記入力信号は、前記第1位置測定構成から取得した前記オブジェクトの位置を表す第1位置信号を含む第1入力信号及び前記第1信号と前記第2位置測定構成から取得した前記オブジェクトの位置を表す第2位置信号に前記連続加重関数を適用することにより取得した加重位置信号を含む第2入力信号を含む入力信号であって、前記第1及び第2入力信号はそれぞれ前記第1及び第2コントローラに提供される、請求項1〜7のいずれか一項に記載の位置制御システム。
- 放射ビームを調節する照明システムと、
パターニングデバイスを支持するサポートであって、前記パターニングデバイスはパターン形成された放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを付与することができる、サポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基板のターゲット部分上に前記パターン形成された放射ビームを投影する投影システムと、
請求項1〜9のいずれか一項に記載の位置制御システムと、を備え、
前記オブジェクトは、前記サポート又は前記基板テーブルを備える、
リソグラフィ装置。 - 放射ビームを調節する照明システムと、
パターニングデバイスを支持するサポートであって、前記パターニングデバイスはパターン形成された放射ビームを形成するために前記放射ビームの断面にパターンを付与することができる、サポートと、
基板を保持する基板テーブルと、
前記基盤のターゲット部位上に前記パターン形成された放射ビームを投影する投影システムと、
前記基板テーブルの位置を制御する位置制御システムであって、前記位置制御システムは、
第1稼働領域において前記基板テーブルの位置を決定する第1位置測定構成及び第2稼働領域において前記基板テーブルの位置を決定する第2位置測定構成を備える位置測定システムと、
前記基盤テーブルの位置を制御する制御ユニットであって、前記制御ユニットは前記第1稼働領域における前記オブジェクトの位置を制御する第1コントローラ及び前記第2稼働領域における前記オブジェクトの位置を制御する第2コントローラを備え、前記第1及び第2コントローラは前記基盤テーブルの位置を表す入力信号をそれぞれ第1及び第2制御信号に変換する、制御ユニットと、を備える位置制御システムと、を備え、
前記制御ユニットは、前記第1及び第2稼働領域の重なり合う領域における前記オブジェクトの前記位値を制御する組み合わせられた制御信号を決定し、前記組み合わせられた制御信号は前記第1及び前記第2制御信号に連続加重関数を適用することにより取得される、
リソグラフィ装置。 - 前記第1位置測定構成は、エンコーダベースの位置測定構成を備え、前記第2位置測定構成は、干渉計ベースの位置測定構成を備える、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- 前記位置測定システムは、前記基盤テーブルに設けられた2Dエンコーダターゲットと、前記2Dエンコーダターゲットと協働するための前記装置の実質的に静止したフレームに設けられる複数のエンコーダヘッドと、を含むエンコーダベースの位置測定システムを備え、前記入力信号は前記複数のエンコーダヘッドの受信した位置信号に基づく、請求項11に記載のリソグラフィ装置。
- パターン形成された放射ビームを基板上に投影することを含むデバイス製造方法であって、
前記基盤の位置決めは請求項10〜13のいずれか一項に記載のリソグラフィ装置を使用して実施される、デバイス製造方法。
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