JP6240339B2 - ガス分析装置及びガス処理装置 - Google Patents
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- 238000012545 processing Methods 0.000 title claims description 15
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 123
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 31
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 23
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 15
- 230000007704 transition Effects 0.000 claims description 10
- 238000004868 gas analysis Methods 0.000 claims description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 44
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 34
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 33
- 239000013076 target substance Substances 0.000 description 27
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 18
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 11
- 238000005253 cladding Methods 0.000 description 10
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 10
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- 230000008859 change Effects 0.000 description 7
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 7
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 4
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000661 Mercury cadmium telluride Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 108091006149 Electron carriers Proteins 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000001784 detoxification Methods 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 239000005431 greenhouse gas Substances 0.000 description 1
- 239000000383 hazardous chemical Substances 0.000 description 1
- 238000012994 industrial processing Methods 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 1
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 1
- 238000010792 warming Methods 0.000 description 1
- 230000005428 wave function Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S5/00—Semiconductor lasers
- H01S5/02—Structural details or components not essential to laser action
- H01S5/022—Mountings; Housings
- H01S5/0239—Combinations of electrical or optical elements
-
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- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3504—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing gases, e.g. multi-gas analysis
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/39—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using tunable lasers
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- Physics & Mathematics (AREA)
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- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
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- Immunology (AREA)
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- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
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Description
なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に相当し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。
また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
図1は、第1の実施形態に係るガス分析装置を例示する模式図である。
図1に表したように、本実施形態に係るガス分析装置110は、セル部20と、光源部30と、検出部40と、制御部45と、を含む。この例では、筐体10wがさらに設けられており、筐体10w中に、セル部20、光源部30及び検出部40が格納されている。
図2は、第1の実施形態に係るガス分析装置を例示する模式図である。
図2に示すように、ガス分析装置110は、排気処理装置320(例えば除害装置)に取り付けられている。排気処理装置320は、産業処理装置から排出されるガスを処理(例えば除害)する。産業処理装置は、例えば、エッチング装置411及び412などである。ガス分析装置110と排気処理装置320とが、ガス処理装置310に含まれる。
図3は、光源部30の一部を例示する模式図である。
図3に示すように、この例では、第1調整部61として、回折格子65が用いられる。回折格子65(第1調整部61)には、レーザ素子部30aから出射した光が入射する。回折格子65は、レーザ素子部30aと共に、共振器を形成する。回折格子65の角度に応じて、共振器の共振長が変化する。これにより、測定光30Lの波長が、粗く調整できる。
図4は、第2の実施形態に係るガス分析装置の一部を例示する模式図である。
図4に示すように、ガス分析装置120においては、レーザ素子部30aには、第1レーザ素子Ls1、第2レーザ素子Ls2及び第3レーザ素子Ls3が設けられる。第1レーザ素子Ls1は、第1波長の第1光L1を出射する。第2レーザ素子Ls2は、第2波長の第2光L2を出射する。第3レーザ素子Ls3は、第3波長の第3光L3を出射する。これらの光は、測定光30Lに含まれる。
図5は、第2の実施形態に係るガス分析装置の一部を例示する模式図である。
図5に示すように、本実施形態に係るガス分析装置130においても、光源部30にレーザ素子部30a、第1調整部61及び第2調整部62が設けられている。レーザ素子部30aは、第1レーザ素子Ls1、第2レーザ素子Ls2及び第3レーザ素子Ls3を含む。第1レーザ素子Ls1から出射する第1光L1の第1波長は、例えば、約7.9μmである。第2レーザ素子Ls2から出射する第2光L2の第2波長は、例えば約8.5μmである。第3レーザ素子Ls3から出射する第3光L3の第3波長は、例えば、約10.8μmである。実施形態において、これらの波長は任意である。目的とする対象物質50aに応じて適宜定められる。
図6は、第4の実施形態に係るガス分析装置の一部を例示する模式図である。
図6に示すように、本実施形態に係るガス分析装置140においても、光源部30にレーザ素子部30a、第1調整部61及び第2調整部62が設けられている。この例では、レーザ素子部30aは、第1レーザ素子Ls1及び第2レーザ素子Ls2を含む。第3レーザ素子Ls3がさらに設けられても良い。この例でも、第1調整部61として切り替え部66が用いられ、第2調整部62としてレーザ駆動部62rが用いられている。
図7は、第5の実施形態に係るガス分析装置を例示する模式図である。
図7は、本実施形態に係るがガス分析装置における特性を例示するグラフ図である。横軸は波長λであり、縦軸は、検出部40で検出される測定光30Lの強度Intである。この例では、第1物質51がCF4であり、第2物質52がC2F6である。この例では、約8.7μm〜9.0μmの範囲の波長について例示している。
本実施形態は、ガス処理装置に係る。図2に例示したように、ガス処理装置310は、ガス分析装置110と排気処理装置320とを含む。排気処理装置320は、試料気体50をガス分析装置110に供給する。ガス分析装置として、上記の実施形態に係る任意のガス分析装置及びその変形のガス分析装置を用いても良い。本実施形態に係るガス処理装置310は、高精度の分析が可能であり、高精度のガス処理を実施できる。安定したガス処理を連続的に実施できる。
図8は、実施形態に係るガス分析装置の一部を例示する模式図である。
図8に表したように、光源部30(レーザ素子部30a)は、半導体発光素子30aLと、波長制御部30aCと、を有する。後述するように、半導体発光素子30aLは、例えば、複数の量子井戸のサブバンドにおける電子のエネルギー緩和により発光光を放射する。波長制御部30aCは、例えば、発光光の波長を調整して第1光L1と、第2光L2と、を生成する。
図9は、レーザ素子部30aの別の例を示している。
この例においては、第1調整機構として、回折格子71aが用いられる。回折格子71aは、半導体発光素子30aLの光軸31Lxに対して所定の入射角γで交差するXY面内で移動する。回折格子71aは、例えば、ステッピングモータ99及び駆動制御部98により、移動する。回折格子71aと、半導体発光素子30aLの部分反射コート膜PRと、により、外部共振器(EC)が形成される。部分反射コート膜PRから放出された測定光30Lは、セル部20に入射する。
これらの図は、回折格子71aの例を示す模式的平面図である。
図10(a)及び図10(b)に例示したように、回折格子71は、複数の領域を有する。複数の領域において、格子のピッチが異なる。
図11(a)は、模式的斜視図である。図11(b)は、図11(a)のA1−A2線断面図である。図11(c)は、光源部30の動作を例示する模式図である。
この例では、光源部30として、半導体発光素子30aLが用いられる。半導体発光素子30aLとして、レーザが用いられる。この例では、量子カスケードレーザが用いられる。
また、各具体例のいずれか2つ以上の要素を技術的に可能な範囲で組み合わせたものも、本発明の要旨を包含する限り本発明の範囲に含まれる。
Claims (7)
- サブバンド間遷移によるレーザ光を放出する量子カスケードレーザ素子と、外部共振器により前記レーザ光の波長を粗調整する第1調整部と、前記波長を微調整する第2調整部と、を有する光源部と、
フッ化物気体を含む試料気体が導入されるセル部と、
前記セル部に導入された前記フッ化物気体に吸収されたのち前記セル部から出射した前記レーザ光を検出する検出部と、
前記検出部で検出された前記レーザ光の光強度に基づいて前記試料気体中に含まれる前記フッ化物気体の濃度を算出する制御部と、
を備え、
前記レーザ光の前記波長は、前記第1調整部によりフッ化物気体の吸収率のピーク波長の1つの±5%以内の粗調整波長領域をスイープされ、さらに第2調整部によりスイープ後の波長の±10nmの微調整波長領域で前記ピーク波長の1つにチューニングされ、
前記粗調整波長領域には、7.9μm、8.5μmおよび10.8μmのうちの少なくとも1つの波長が含まれる、ガス分析装置。 - 前記光源部は、前記粗調整波長領域が異なる複数のレーザ光を放出する請求項1記載のガス分析装置。
- 前記フッ化物気体の前記ピーク波長の1つに対応する前記粗調整波長領域には、前記フッ化物気体の前記吸収率の波長に対する傾きと、組成の異なるフッ化物気体の吸収率の波長に対する傾きとが逆極性となる波長領域が含まれる、請求項1または2に記載のガス分析装置。
- 前記第1調整部は、前記量子カスケードレーザ素子と共に前記外部共振器を形成する回折格子を含み、
前記第2調整部は、前記量子カスケードレーザ素子の温度または電流を調整するレーザ駆動部を含む、請求項1〜3のいずれか1つに記載のガス分析装置。 - 前記フッ化物気体は、CF4、C2F6、C3F8、C4F8、CHF3、NF3及びSF6の少なくともいずれかを含む請求項1〜4のいずれか1つに記載のガス分析装置。
- 前記試料気体中における前記フッ化物気体の濃度は、500ppm以下である請求項1〜5のいずれか1つに記載のガス分析装置。
- 請求項1〜6のいずれか1つに記載のガス分析装置と、
前記試料気体を前記ガス分析装置に向けて排出する排気処理装置と、
を備えたガス処理装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014192391 | 2014-09-22 | ||
JP2014192391 | 2014-09-22 | ||
PCT/JP2015/057697 WO2016047168A1 (ja) | 2014-09-22 | 2015-03-16 | ガス分析装置及びガス処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2016047168A1 JPWO2016047168A1 (ja) | 2017-04-27 |
JP6240339B2 true JP6240339B2 (ja) | 2017-11-29 |
Family
ID=55580710
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016549967A Active JP6240339B2 (ja) | 2014-09-22 | 2015-03-16 | ガス分析装置及びガス処理装置 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6240339B2 (ja) |
WO (1) | WO2016047168A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10180393B2 (en) * | 2016-04-20 | 2019-01-15 | Cascade Technologies Holdings Limited | Sample cell |
JP6810625B2 (ja) * | 2017-02-07 | 2021-01-06 | 新コスモス電機株式会社 | 光学式ガスセンサおよびガス検知器 |
JP7075862B2 (ja) * | 2017-10-16 | 2022-05-26 | 株式会社堀場製作所 | 分析装置 |
WO2020085236A1 (ja) * | 2018-10-26 | 2020-04-30 | 株式会社フジキン | 濃度測定装置 |
US20230417660A1 (en) * | 2020-12-01 | 2023-12-28 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Gas analysis device and gas analysis method |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6298235A (ja) * | 1985-10-25 | 1987-05-07 | Tokyo Gas Co Ltd | 気体の分布量測定方法 |
JP4312294B2 (ja) * | 1999-03-26 | 2009-08-12 | 独立行政法人科学技術振興機構 | アイソトポマー吸収分光分析装置及びその方法 |
JP3678183B2 (ja) * | 2001-08-30 | 2005-08-03 | 株式会社半導体先端テクノロジーズ | ガス分析方法及びガス分析装置 |
JP2009216385A (ja) * | 2006-05-19 | 2009-09-24 | Toyota Motor Corp | ガス分析装置及びガス分析装置におけるレーザの波長掃引制御方法 |
JP2009128029A (ja) * | 2007-11-20 | 2009-06-11 | Taiyo Nippon Sanso Corp | 排ガス分析装置およびガス処理装置の監視装置 |
JP5314301B2 (ja) * | 2008-03-14 | 2013-10-16 | 三菱重工業株式会社 | ガス濃度計測方法および装置 |
JP5695302B2 (ja) * | 2009-04-03 | 2015-04-01 | 理研計器株式会社 | 複合型マルチパスセルおよびガス測定器 |
JP5494461B2 (ja) * | 2010-12-17 | 2014-05-14 | 富士通株式会社 | 分光分析方法及び分光分析装置 |
JP5775325B2 (ja) * | 2011-02-25 | 2015-09-09 | 浜松ホトニクス株式会社 | 波長可変光源 |
-
2015
- 2015-03-16 WO PCT/JP2015/057697 patent/WO2016047168A1/ja active Application Filing
- 2015-03-16 JP JP2016549967A patent/JP6240339B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2016047168A1 (ja) | 2016-03-31 |
JPWO2016047168A1 (ja) | 2017-04-27 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170428 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6240339 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |