JP6206165B2 - 転写箔用フィルム - Google Patents
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Description
P(β+n(γ−β))/3 ≦ P(β+(n+1)×(γ−β))≦ P(β+n(γ−β))/1.5 ・・・式(1)
(ただし、nは、0〜3までの全ての整数である。)
測定条件:
フィルムの転写層が設けられる側とは反対側の表面を、高精度微細形状測定器(3次元表面粗さ計)(小坂研究所製、ET−4000A)を用いて、下記条件で測定を行い、その測定データから、三次元表面粗さ解析プログラム(小坂研究所製、TDA−22)を用いて、2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求める。
・触針:先端半径0.5(μmR)、径2.0(μm)、ダイヤモンド製
・測定力(針圧):100(μN)
・測定方向:フィルム長手方向
・X測定長さ:0.5(mm)
・X送り速さ(測定速度):0.1(mm/s)
・Y送りピッチ(測定間隔):5(μm)
・Yライン数(測定本数):81(本)
・Z倍率(縦倍率):50000(倍)
・低域カットオフ(うねりカットオフ値):0.25(mm)
・高域カットオフ(粗さカットオフ値):R+W(mm)
(ここで、カットオフ値R+Wとはカットオフしないことを意味する。)
・位相特性(フィルタ方式):2CRノーマル型
・総サンプル点数上限:90601(ポイント)
・極性:ノーマル
・Xピッチ下限:1(μm)
・レベリング(傾斜補正):無し
・基準面積:0.2(mm2)
ピーク高さを0nmから2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求めるとは、0nmを超えて2nm以下、2nmを超えて4nm以下、・・・観測される最大高さの範囲まで、2nm毎の範囲に観測されるピークの数を求めることをあらわす。
P(β+n(γ−β))/3 ≦ P(β+(n+1)×(γ−β))≦ P(β+n(γ−β))/1.5 ・・・式(1)
(ただし、nは、0〜3までの全ての整数である。)
測定条件:
フィルムの転写層が設けられる側とは反対側の表面を、高精度微細形状測定器(3次元表面粗さ計)(小坂研究所製、ET−4000A)を用いて、下記条件で測定を行い、その測定データから、三次元表面粗さ解析プログラム(小坂研究所製、TDA−22)を用いて、2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求める。
・触針:先端半径0.5(μmR)、径2.0(μm)、ダイヤモンド製
・測定力(針圧):100(μN)
・測定方向:フィルム長手方向
・X測定長さ:0.5(mm)
・X送り速さ(測定速度):0.1(mm/s)
・Y送りピッチ(測定間隔):5(μm)
・Yライン数(測定本数):81(本)
・Z倍率(縦倍率):50000(倍)
・低域カットオフ(うねりカットオフ値):0.25(mm)
・高域カットオフ(粗さカットオフ値):R+W(mm)
(ここで、カットオフ値R+Wとはカットオフしないことを意味する。)
・位相特性(フィルタ方式):2CRノーマル型
・総サンプル点数上限:90601(ポイント)
・極性:ノーマル
・Xピッチ下限:1(μm)
・レベリング(傾斜補正):無し
・基準面積:0.2(mm2)
本発明の転写箔用フィルムは、P(β+n(γ−β))/3 ≦ P(β+(n+1)×(γ−β))≦ P(β+n(γ−β))/1.5 の式を満たしている。P(β+(n+1)×(γ−β))がP(β+n(γ−β))/3未満では、表面高さが急に低くなってしまい、表面高さが低い部分が多く、転写された際に表面欠陥が目立ってしまう。また、P(β+(n+1)×(γ−β))がP(β+n(γ−β))/1.5よりも大きくなると、表面高さが高い点が多く、光沢性が低下してしまう。
例えば、n=0とする場合は、
P(β)/3 ≦ P(β+(γ−β))≦ P(β)/1.5となり、
例えば、n=1とする場合は、
P(β+(γ−β))/3 ≦ P(β+2×(γ−β))≦ P(β+(γ−β))/1.5 となる。
下記の測定については10点測定し、その平均値を測定値とした。
フィルムの転写層が設けられる側とは反対側の表面を、高精度微細形状測定器(3次元表面粗さ計)(小坂研究所製、ET−4000A)を用いて、下記条件で測定を行い、その測定データから、三次元表面粗さ解析プログラム(小坂研究所製、TDA−22)を用いて、SRaと2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求めた。
・触針:先端半径0.5(μmR)、径2.0(μm)、ダイヤモンド製
・測定力(針圧):100(μN)
・測定方向:フィルム長手方向
・X測定長さ:0.5(mm)
・X送り速さ(測定速度):0.1(mm/s)
・Y送りピッチ(測定間隔):5(μm)
・Yライン数(測定本数):81(本)
・Z倍率(縦倍率):50000(倍)
・低域カットオフ(うねりカットオフ値):0.25(mm)
・高域カットオフ(粗さカットオフ値):R+W(mm)
(ここで、カットオフ値R+Wとはカットオフしないことを意味する。)
・位相特性(フィルタ方式):2CRノーマル型
・総サンプル点数上限:90601(ポイント)
・極性:ノーマル
・Xピッチ下限:1(μm)
・レベリング(傾斜補正):無し
・基準面積:0.2(mm2)。
マイクロメーター(商品名:μ−mate、ソニー株式会社製)を用い、二軸配向ポリエステルフィルムの厚みを10箇所測定し、平均値を求めた。
フィルムの転写面側に、ブチル化尿素メラミン樹脂とパラトルエンスルホン酸の混合液をグラビアコート法にて塗布し、80℃の温度で硬化させ、離型層を形成した。次に、離型層上に、アクリル系樹脂を用いてグラビアコート法で剥離層を形成し、その上に図柄層として、ビニル樹脂系インキによるメタリック色(アルミニウム顔料20質量%含有)のベタパターンと、黒色(カーボンブラック15質量%含有)の文字パターンをグラビア印刷で形成し、次いで、40℃の温水で洗浄、乾燥し、最後にアクリル系樹脂の接着層をグラビアコート法で形成し転写材を得た。
○:GF≧GM
△:GM−20≦GF<GM
×:GF<GM−20。
(3)の評価方法で得られた転写材から、それぞれA4サイズで5枚ずつサンプリングを行う。転写跡欠点は、ZYGO(ZYGO社、型式NV200)で0.352mm×0.264mmの範囲で2値化を行い、10点の平均を取った。◎と○が合格である。
◎・・・転写跡欠点 4個未満
○・・・転写跡欠点 4個以上、6個未満
△・・・転写跡欠点 6個以上、11個未満
×・・・転写跡欠点 11個以上。
フィルムを幅1000mm、長さ10000mのロールに巻き上げ(スリット速度150m/分)、そのロールのたてしわ、よこしわおよび端面ずれの発生状態を詳細に検査し、次のとおり判定した。○と△が実用上問題ないレベルである。また、巻特性が良レベル以上のものは走行性・ハンドリング性も良好であり、よく相関がある。
○・・・たてしわ、よこしわおよび端面ずれが全くない。
△・・・端面ずれが1mm以内、たてしわ、よこしわはない。
×・・・たてしわあるいはよこしわが、ロール巻き上げ直後または10時間以内に認められるか、端面ずれが1mmを超えるもの。
JIS−H7804(2005)に従い走査電子顕微鏡(SEM)で倍率50000倍にて、樹脂(フィルム)に添加する前の各粒子について、100個ずつ任意に粒子径の測定をし、平均粒子径を求めた値をいう。(粒子が球状でない場合には、最も形状の近い楕円に近似させ、その楕円の(長径+短径)/2にて求める)。
ジカルボン酸成分として、テレフタル酸ジメチル82.5質量部とイソフタル酸ジメチル17.5質量部、グリコール成分としてエチレングリコールを100質量部、触媒として酢酸マグネシウム0.05質量部を反応容器に仕込み、エステル交換反応を行った。続いて、これに反応生成物に三酸化アンチモン0.03質量部とトリメチルフォスフェート0.05質量部を加え、280℃の温度で4時間、反応系を徐々に0.5mmHgまで減圧し重縮合反応を行い、ポリエチレンテレフタレート原料Aを得た。
表1に記載されていること以外は、実施例1と同様にして、ポリエステルフィルムを得た。その後、実施例1と同様にしてポリエステルフィルムロールを得た。これらの特性等を、表1と表2に、製膜条件等を表3に示す。
2 最大のP(a)を与えるa:β(nm)
3 βnmよりも高い範囲に表れ、かつ、P(β)/2以下の値を示す最もβnmに近いa:γ(nm)
4 (γ−β)(nm)
5 最大のP(a)であり、P(β)である。
6 βnmよりも高い範囲に現れ、かつ、P(β)/2以下の値を示す最もβnmに最も近いP(a)
7、8 γから、(γ−β)毎(符号4)を高さ方向にn=2、n=3とした高さに対応するP(a)
Claims (5)
- 転写箔に用いられるフィルムであって、
該フィルムは、転写面に用いられる面を有する層(転写層)と、非転写面を有する層(非転写層)を積層してなるフィルムであり、
転写面に用いられる面とは反対側の非転写面表面を下記条件にて測定を行ったとき、
各々の走査において観測されるピークの高さを求め、
求められた各々のピークの高さについて0nmから2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求め、
2nm刻みのあるピークの高さをaとして、(a−2)〜anmの刻み幅のピーク数をP(a)としてaに対してP(a)をプロットし、
最大のP(a)を与えるaをβnm、
前記βnmよりも高い範囲に表れ、かつ、P(β)/2以下の値を示す最もβnmに最も近いaをγnmとするとき、下記式(1)を満足し、
前記非転写層の層厚みが、0.1μm以上1.5μm以下であり、
前記非転写層が粒子を含有し、その含有量が非転写層を構成する樹脂に対して0.20質量%以上1.00質量%以下であり、
前記粒子が粒子径0.1μm以上0.5μm以下の粒子と、粒子径0.6μm以上1.5μm以下の粒子を併用してなることを特徴とする転写箔用フィルム。
P(β+n(γ−β))/3 ≦ P(β+(n+1)×(γ−β))≦ P(β+n(γ−β))/1.5 ・・・式(1)
(ただし、nは、0〜3までの全ての整数である。)
測定条件:
フィルムの転写層が設けられる側とは反対側の表面を、高精度微細形状測定器(3次元表面粗さ計)(小坂研究所製、ET−4000A)を用いて、下記条件で測定を行い、その測定データから、三次元表面粗さ解析プログラム(小坂研究所製、TDA−22)を用いて、2nm刻みでの頻度(ピーク数)(個)を求める。
・触針:先端半径0.5(μmR)、径2.0(μm)、ダイヤモンド製
・測定力(針圧):100(μN)
・測定方向:フィルム長手方向
・X測定長さ:0.5(mm)
・X送り速さ(測定速度):0.1(mm/s)
・Y送りピッチ(測定間隔):5(μm)
・Yライン数(測定本数):81(本)
・Z倍率(縦倍率):50000(倍)
・低域カットオフ(うねりカットオフ値):0.25(mm)
・高域カットオフ(粗さカットオフ値):R+W(mm)
(ここで、カットオフ値R+Wとはカットオフしないことを意味する。)
・位相特性(フィルタ方式):2CRノーマル型
・総サンプル点数上限:90601(ポイント)
・極性:ノーマル
・Xピッチ下限:1(μm)
・レベリング(傾斜補正):無し
・基準面積:0.2(mm2) - 非転写面表面の中心線表面粗さSRaが、5nm〜20nmであることを特徴とする請求項1記載の転写箔用フィルム。
- P(200)が、5個以下であることを特徴とする請求項1または2記載の転写箔用フィルム。
- P(β)が、100個以上であることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の転写箔用フィルム。
- P(100)が10個以下であることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の転写箔用フィルム。
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