JP6198561B2 - 有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板及びその製造方法 - Google Patents
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Description
ここで、前記2種以上の金属酸化物は、TiO2、SnO2、Al2O3、MgO、ZrO2、及びZnOのうちから選択されるものであってよい。
また、前記2種以上の金属酸化物は、温度を縦軸とする相図(phase diagram)上における相溶間隙(miscibility gap)内に位置する組成比を有していてよい。
このとき、前記2種以上の金属酸化物は、それぞれ体積分率で少なくとも1%以上含まれていてよい。
さらには、前記金属酸化物薄膜は、有機発光素子の電極と直接接触されていてよい。
このとき、前記金属酸化物薄膜は、有機発光素子の内部光取り出し層として用いられていてよい。
一方、本発明は、屈折率が異なる2種以上の金属酸化物をそれぞれゾル・ゲル溶液にする第1ステップと、前記ゾル・ゲル溶液を混合して混合物にする第2ステップと、前記混合物をベース基板上にコートする第3ステップと、コートされた前記混合物を乾燥する第4ステップ、及び乾燥した前記混合物を焼成して金属酸化物薄膜にする第5ステップと、を含むことを特徴とする有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板の製造方法を提供する。
ここで、前記2種以上の金属酸化物としては、TiO2、SnO2、Al2O3、MgO、ZrO2、及びZnOのうちの2種以上を用いていてよい。
また、前記第2ステップでは、温度を縦軸とする相図(phase diagram)上における相溶間隙(miscibility gap)内に位置する組成比で前記ゾル・ゲル溶液を混合していてよい。
このとき、前記第2ステップでは、それぞれの体積分率が少なくとも1%以上になるように前記ゾル・ゲル溶液を混合していてよい。
さらには、前記第3ステップでは、前記ベース基板上に前記混合物をスピンコートしていてよい。
さらに、本発明によれば、金属酸化物薄膜を単層で形成することで、薄膜にすることができ、その結果、有機発光素子の適用の際にリーク電流が生じる確率を最小化することができる。
また、本発明によれば、金属酸化物薄膜基板を有機発光素子に適用することで、有機発光素子の効率を高めることができ、且つ、有機発光素子を長寿命化することができる。
なお、本発明を説明するにあたって、関連公知機能あるいは構成についての具体的な説明が本発明の要旨を不要に曖昧にし得ると判断される場合、その詳細な説明は省略することにする。
本発明の実施例に係る有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板の製造方法は、先ず、屈折率が異なる2種以上の金属酸化物をゾル・ゲル法にてそれぞれゾル・ゲル溶液にする。このとき、2種以上の金属酸化物には、TiO2、SnO2、Al2O3、MgO、ZrO2、及びZnOのうちの2種以上を選択して用いてよい。
最後に、乾燥した混合物を焼成すれば、ベース基板及びこれにコートされた単層の金属酸化物薄膜からなる金属酸化物薄膜基板が製造される。ここで、混合物に対する焼成は、500℃で、30分間行なえばよい。このようにして製造された金属酸化物薄膜基板は、透過度が80%以上と透明且つ平坦で有機発光素子の内部光取り出し層に用いられる金属酸化物薄膜を備えるようになる。
したがって、本発明の範囲は前述の実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲や特許請求の範囲と均等なものなどによって決められるべきである。
110 ベース基板
120 金属酸化物薄膜
121 第1金属酸化物
122 第2金属酸化物
130 第1電極
140 有機発光層
150 第2電極
Claims (10)
- ベース基板、及び
前記ベース基板上に形成され、屈折率が異なる2種以上の金属酸化物の混合物からなる金属酸化物薄膜、
を含み、前記2種以上の金属酸化物は、温度を縦軸とする相図(phase diagram)上における相溶間隙(miscibility gap)内に位置する組成比を有することを特徴とする有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板。 - 前記2種以上の金属酸化物は、TiO2、SnO2、Al2O3、MgO、ZrO2、及びZnOのうちから選択されることを特徴とする請求項1に記載の有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板。
- 前記2種以上の金属酸化物は、それぞれ体積分率で少なくとも1%以上含まれることを特徴とする請求項1又は2に記載の有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板。
- 前記金属酸化物薄膜は、有機発光素子の電極と直接接触することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板。
- 前記金属酸化物薄膜は、有機発光素子の内部光取り出し層として用いられることを特徴とする請求項4に記載の有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板。
- 屈折率が異なる2種以上の金属酸化物をそれぞれゾル・ゲル溶液にする第1ステップと、
前記ゾル・ゲル溶液を混合して混合物にする第2ステップと、
前記混合物をベース基板上にコートする第3ステップと、
コートされた前記混合物を乾燥する第4ステップ、及び
乾燥した前記混合物を焼成して金属酸化物薄膜にする第5ステップと、
を含むことを特徴とする有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板の製造方法。 - 前記2種以上の金属酸化物としては、TiO2、SnO2、Al2O3、MgO、ZrO2、及びZnOのうちの2種以上を用いることを特徴とする請求項6に記載の有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板の製造方法。
- 前記第2ステップでは、温度を縦軸とする相図(phase diagram)上における相溶間隙(miscibility gap)内に位置する組成比で前記ゾル・ゲル溶液を混合することを特徴とする請求項6又は7に記載の有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板の製造方法。
- 前記第2ステップでは、それぞれの体積分率が少なくとも1%以上になるように前記ゾル・ゲル溶液を混合することを特徴とする請求項8に記載の有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板の製造方法。
- 前記第3ステップでは、前記ベース基板上に前記混合物をスピンコートすることを特徴とする請求項6〜9のいずれか1項に記載の有機発光素子用の金属酸化物薄膜基板の製造方法。
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