JP6192635B2 - 硬化性樹脂組成物及びその製造方法、高熱伝導性樹脂組成物及び高熱伝導性積層基板 - Google Patents
硬化性樹脂組成物及びその製造方法、高熱伝導性樹脂組成物及び高熱伝導性積層基板 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6192635B2 JP6192635B2 JP2014508061A JP2014508061A JP6192635B2 JP 6192635 B2 JP6192635 B2 JP 6192635B2 JP 2014508061 A JP2014508061 A JP 2014508061A JP 2014508061 A JP2014508061 A JP 2014508061A JP 6192635 B2 JP6192635 B2 JP 6192635B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin composition
- compound
- group
- acidic phosphate
- curable resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/28—Nitrogen-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K5/00—Heat-transfer, heat-exchange or heat-storage materials, e.g. refrigerants; Materials for the production of heat or cold by chemical reactions other than by combustion
- C09K5/08—Materials not undergoing a change of physical state when used
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/02—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule
- C08G59/04—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof
- C08G59/06—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols
- C08G59/08—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule of polyhydroxy compounds with epihalohydrins or precursors thereof of polyhydric phenols from phenol-aldehyde condensates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/4007—Curing agents not provided for by the groups C08G59/42 - C08G59/66
- C08G59/4014—Nitrogen containing compounds
- C08G59/4042—Imines; Imides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/42—Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof
- C08G59/4284—Polycarboxylic acids; Anhydrides, halides or low molecular weight esters thereof together with other curing agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/49—Phosphorus-containing compounds
- C08K5/51—Phosphorus bound to oxygen
- C08K5/52—Phosphorus bound to oxygen only
- C08K5/521—Esters of phosphoric acids, e.g. of H3PO4
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J163/00—Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J5/00—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/12—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates
- H01L23/14—Mountings, e.g. non-detachable insulating substrates characterised by the material or its electrical properties
- H01L23/145—Organic substrates, e.g. plastic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/373—Cooling facilitated by selection of materials for the device or materials for thermal expansion adaptation, e.g. carbon
- H01L23/3737—Organic materials with or without a thermoconductive filler
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/28—Nitrogen-containing compounds
- C08K2003/282—Binary compounds of nitrogen with aluminium
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31511—Of epoxy ether
- Y10T428/31515—As intermediate layer
- Y10T428/31522—Next to metal
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
Description
R1:炭素数4〜20の飽和または不飽和ヒドロカルビル基
R2:炭素数1〜20の飽和ヒドロカルビレン基
R3:炭素数2または3の飽和ヒドロカルビレン基
R4:炭素数1〜8の飽和または不飽和ヒドロカルビレン基
k:0〜20の整数
l:0〜20の整数
m:0〜20の整数
n:1または2
であって、
R1が複数存在する場合には、複数のR1は同一でも異なっていてもよく、
R2が複数存在する場合には、複数のR2は同一でも異なっていてもよく、
R3が複数存在する場合には、複数のR3は同一でも異なっていてもよく、
R4が複数存在する場合には、複数のR4は同一でも異なっていてもよく、
k個の−COR2O−基、l個の−R3O−基、及びm個の−COR4COO−基がなす順序は任意であり、
n=2の場合、2個のR1O(COR2O)k(R3O)l(COR4COO)m基は同一でも異なっていてもよい。)
本発明の第3の態様は、本発明の第1の態様に係る硬化性樹脂組成物を硬化させることにより得られる、高熱伝導性樹脂組成物である。
本発明の第4の態様は、金属箔、本発明の第3の態様に係る高熱伝導性樹脂組成物、および、金属基板または高熱伝導性セラミックス基板がこの順に積層されている、高熱伝導性積層基板である。
本発明の第5の態様は、金属箔と、金属基板または高熱伝導性セラミックス基板とを、本発明の第1の態様に係る硬化性樹脂組成物を介して積層する工程と、該硬化性樹脂組成物を硬化させる工程とをこの順に有する、高熱伝導性積層基板の製造方法である。
本発明の第1の態様に係る硬化性樹脂組成物、及び、該硬化性樹脂組成物を硬化させることで得られる本発明の第3の態様に係る高熱伝導性樹脂組成物は、電子材料用として広範な用途を有し、特に、本発明の第4の態様に係る高熱伝導性積層基板の絶縁性接着層を得るにあたって有用である。本発明の第4の態様に係る高熱伝導性積層基板は、低コストで製造でき、且つ高められた熱伝導率を有するので、LED素子用の回路基板や低出力パワー半導体用の回路基板として好ましく採用できる。該高熱伝導性積層基板は、本発明の第5の態様に係る製造方法によって好ましく製造できる。
本明細書において、「平均粒子径」とは、レーザー回折法によって測定される体積分布の中間値を与える球相当径(体積平均値D50)を意味するものとする。レーザー回折法による粒子の体積分布の測定は、日機装株式会社製マイクロトラックを用いて好ましく行うことができる。
本発明の第1の態様に係る硬化性樹脂組成物について説明する。
(窒化アルミニウム粒子)
本発明の硬化性樹脂組成物における窒化アルミニウム粒子としては、公知の窒化アルミニウム粒子を特に制限なく採用できる。その製法も特に制限されるものではなく、直接窒化法であってもよく、還元窒化法であってもよい。窒化アルミニウム粒子の平均粒子径は特に制限されるものではなく、例えば10nm〜100μmの平均粒子径を有する窒化アルミニウム粒子を採用できる。
好ましい一態様として、平均粒子径の異なる窒化アルミニウム粒子を混合して用いる態様を例示できる。例えば窒化アルミニウム粒子の全量に対して、平均粒子径10〜100μmの窒化アルミニウム粒子を30〜80質量%、平均粒子径1μm以上10μm未満の窒化アルミニウム粒子を10〜60質量%、及び平均粒子径100nm以上1μm未満の窒化アルミニウム粒子を3〜30質量%の割合で含む混合粒子によれば、硬化性樹脂組成物の粘度をより低く抑える事ができるので、硬化性樹脂組成物中の窒化アルミニウム粒子の充填量をさらに高めることが可能になる。
なお硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる高熱伝導性樹脂組成物に高い耐水性が要求される場合には、窒化アルミニウム粒子の平均粒子径が100nm〜100μmであることが好ましい。
また上記同様、好ましい一態様として、平均粒子径の異なるセラミックス粒子を混合して用いる態様を例示できる。なお本明細書において「セラミックス粒子」とは、「窒化アルミニウム粒子以外の」と規定しない限り、窒化アルミニウム粒子をも包含する概念である。例えばセラミックス粒子の全量に対して、(1)平均粒子径10〜100μmのセラミックス粒子を30〜80質量%、(2)平均粒子径1μm以上10μm未満のセラミックス粒子を10〜60質量%、及び(3)平均粒子径100nm以上1μm未満のセラミックス粒子を3〜30質量%の割合で含む混合粒子(ただし上記(1)(2)及び(3)のセラミックス粒子のうち1つ以上が窒化アルミニウム粒子を含有するセラミックス粒子である。)によれば、硬化性樹脂組成物の粘度をより低く抑える事ができるので、硬化性樹脂組成物中のセラミックス粒子の充填量をさらに高めることが可能になる。
なお本明細書において、ある粒子の「総表面積」とは、該粒子のBET法による比表面積(BET比表面積)(m2/g)に、該粒子の総質量(g)を乗じた値を意味するものとする。
本発明の硬化性樹脂組成物におけるエポキシ樹脂としては、公知のエポキシ樹脂を特に制限なく採用できる。その具体例としては、ビスフェノールA型またはビスフェノールF型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂やクレゾールノボラック型エポキシ樹脂等の多官能エポキシ樹脂、ビスフェノールA型またはビスフェノールF型エポキシ樹脂に多官能エポキシ樹脂を加えたもの、が挙げられる。
本発明の硬化性樹脂組成物における硬化剤としては、エポキシ樹脂の硬化剤として公知の硬化剤を特に制限なく採用できる。その具体例としては、アミン;ポリアミド;イミダゾール;酸無水物;潜在性硬化剤と呼ばれる三フッ化ホウ素−アミン錯体;ジシアンジアミド;有機酸ヒドラジド;フェノールノボラック樹脂、ビスフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂等のフェノール性水酸基を1分子中に2個以上有する化合物;並びに、ジフェニルヨードニウムヘキサフロロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフロロホスフェート等の光硬化剤、が挙げられる。これらの中でも、アミン、イミダゾール、酸無水物が好ましい。
上記イミダゾールの具体例としては、2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテート、エポキシイミダゾールアダクト等が挙げられる。
上記酸無水物の具体例としては、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビストリメリテート、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルブテニルテトラヒドロ無水フタル酸、ドデセニル無水コハク酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、メチルシクロヘキセンジカルボン酸無水物、アルキルスチレン−無水マレイン酸共重合体、クロレンド酸無水物、ポリアゼライン酸無水物等が挙げられる。
本発明の硬化性樹脂組成物における酸性リン酸エステルは、下記一般式(1)で表される構造を有する。
R1:炭素数4〜20の飽和または不飽和ヒドロカルビル基
R2:炭素数1〜20の飽和ヒドロカルビレン基
R3:炭素数2または3の飽和ヒドロカルビレン基
R4:炭素数1〜8の飽和または不飽和ヒドロカルビレン基
k:0〜20の整数
l:0〜20の整数
m:0〜20の整数
n:1または2
であって、
R1が複数存在する場合には、複数のR1は同一でも異なっていてもよく、
R2が複数存在する場合には、複数のR2は同一でも異なっていてもよく、
R3が複数存在する場合には、複数のR3は同一でも異なっていてもよく、
R4が複数存在する場合には、複数のR4は同一でも異なっていてもよく、
k個の−COR2O−基、l個の−R3O−基、及びm個の−COR4COO−基がなす順序は任意であり、
n=2の場合、2個のR1O(COR2O)k(R3O)l(COR4COO)m基は同一でも異なっていてもよい。)
R1:炭素数4〜20の飽和または不飽和ヒドロカルビル基
R3:炭素数2または3の飽和ヒドロカルビレン基
l:0〜20の整数
n:1または2
であって、
R1が複数存在する場合には、複数のR1は同一でも異なっていてもよく、
R3が複数存在する場合には、複数のR3は同一でも異なっていてもよい。)
式(2)中、nは1又は2である。
(1)R1がオクチル基、lが0であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(2)R1がオクチル基、lが1、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(3)R1がオクチル基、lが2、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(4)R1がデシル基、lが0であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(5)R1がデシル基、lが1、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(6)R1がデシル基、lが2、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(7)R1がデシル基、lが3、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(8)R1がウンデシル基、lが0であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(9)R1がウンデシル基、lが1、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(10)R1がウンデシル基、lが2、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(11)R1がウンデシル基、lが3、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(12)R1がウンデシル基、lが4、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(13)R1がウンデシル基、lが5、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(14)R1がウンデシル基、lが6、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(15)R1がウンデシル基、lが7、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(16)R1がウンデシル基、lが8、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(17)R1がウンデシル基、lが9、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(18)R1がウンデシル基、lが10、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(19)R1がドデシル基、lが0であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(20)R1がドデシル基、lが1、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(21)R1がドデシル基、lが2、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(22)R1がドデシル基、lが3、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(23)R1がドデシル基、lが4、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(24)R1がドデシル基、lが5、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(25)R1がドデシル基、lが6、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(26)R1がドデシル基、lが7、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(27)R1がドデシル基、lが8、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(28)R1がドデシル基、lが9、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(29)R1がドデシル基、lが10、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(30)R1がオクチルデシル基、lが0であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(31)R1がオクチルデシル基、lが1、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(32)R1がオクチルデシル基、lが2、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(33)R1がオクチルデシル基、lが3、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(34)R1がオクチルデシル基、lが4、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(35)R1がオクチルデシル基、lが5、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(36)R1がオクチルデシル基、lが6、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(37)R1がオクチルデシル基、lが7、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(38)R1がオクチルデシル基、lが8、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(39)R1がオクチルデシル基、lが9、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(40)R1がオクチルデシル基、lが10、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(41)R1がヘキシル基、lが0、nが1である化合物と、
R1がヘキシル基、lが0、nが2である化合物と、
R1がヘプチル基、lが0、nが1である化合物と、
R1がヘプチル基、lが0、nが2である化合物と、
R1がオクチル基、lが0、nが1である化合物と、
R1がオクチル基、lが0、nが2である化合物と、
R1がノニル基、lが0、nが1である化合物と、
R1がノニル基、lが0、nが2である化合物と、
R1がデシル基、lが0、nが1である化合物と、
R1がデシル基、lが0、nが2である化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(42)上記(41)の酸性リン酸エステル中、n=2の化合物においては2個のR1のうち一方が該化合物について指定された基(例えば「R1がデシル基、lが0、nが2である化合物」においてはデシル基が指定されている。)であり、他方がヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、又はデシル基である、酸性リン酸エステル;
(43)R1がヘキシル基、lが1、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がヘキシル基、lが1、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がヘプチル基、lが1、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がヘプチル基、lが1、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がオクチル基、lが1、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がオクチル基、lが1、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がノニル基、lが1、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がノニル基、lが1、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がデシル基、lが1、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がデシル基、lが1、R3がエチレン基、nが2である化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(44)上記(43)の酸性リン酸エステル中、n=2の化合物においては2個のR1のうち一方が該化合物について指定された基(例えば「R1がデシル基、lが1、R3がエチレン基、nが2である化合物」においてはデシル基が指定されている。)であり、他方がヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、又はデシル基である、酸性リン酸エステル;
(45)R1がヘキシル基、lが2、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がヘキシル基、lが2、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がヘプチル基、lが2、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がヘプチル基、lが2、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がオクチル基、lが2、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がオクチル基、lが2、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がノニル基、lが2、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がノニル基、lが2、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がデシル基、lが2、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がデシル基、lが2、R3がエチレン基、nが2である化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(46)上記(45)の酸性リン酸エステル中、n=2の化合物においては2個のR1のうち一方が該化合物について指定された基(例えば「R1がデシル基、lが2、R3がエチレン基、nが2である化合物」においてはデシル基が指定されている。)であり、他方がヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、又はデシル基である、酸性リン酸エステル;
(47)R1がヘキシル基、lが3、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がヘキシル基、lが3、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がヘプチル基、lが3、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がヘプチル基、lが3、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がオクチル基、lが3、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がオクチル基、lが3、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がノニル基、lが3、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がノニル基、lが3、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がデシル基、lが3、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がデシル基、lが3、R3がエチレン基、nが2である化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(48)上記(47)の酸性リン酸エステル中、n=2の化合物においては2個のR1のうち一方が該化合物について指定された基(例えば「R1がデシル基、lが3、R3がエチレン基、nが2である化合物」においてはデシル基が指定されている。)であり、他方がヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、又はデシル基である、酸性リン酸エステル;
(49)R1がヘキシル基、lが4、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がヘキシル基、lが4、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がヘプチル基、lが4、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がヘプチル基、lが4、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がオクチル基、lが4、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がオクチル基、lが4、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がノニル基、lが4、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がノニル基、lが4、R3がエチレン基、nが2である化合物と、
R1がデシル基、lが4、R3がエチレン基、nが1である化合物と、
R1がデシル基、lが4、R3がエチレン基、nが2である化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(50)上記(49)の酸性リン酸エステル中、n=2の化合物においては2個のR1のうち一方が該化合物について指定された基(例えば「R1がデシル基、lが3、R3がエチレン基、nが2である化合物」においてはデシル基が指定されている。)であり、他方がヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、又はデシル基である、酸性リン酸エステル;
等を挙げることができる。
(5)R1がデシル基、lが1、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(6)R1がデシル基、lが2、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(7)R1がデシル基、lが3、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(8)R1がウンデシル基、lが0であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(9)R1がウンデシル基、lが1、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(10)R1がウンデシル基、lが2、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(11)R1がウンデシル基、lが3、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(12)R1がウンデシル基、lが4、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(13)R1がウンデシル基、lが5、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(14)R1がウンデシル基、lが6、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(15)R1がウンデシル基、lが7、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(16)R1がウンデシル基、lが8、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(17)R1がウンデシル基、lが9、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(18)R1がウンデシル基、lが10、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(19)R1がドデシル基、lが0であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(20)R1がドデシル基、lが1、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(21)R1がドデシル基、lが2、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(22)R1がドデシル基、lが3、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(23)R1がドデシル基、lが4、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(24)R1がドデシル基、lが5、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(25)R1がドデシル基、lが6、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(26)R1がドデシル基、lが7、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(27)R1がドデシル基、lが8、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(28)R1がドデシル基、lが9、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
(29)R1がドデシル基、lが10、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル;
等を例示できる。
(7)R1がトリデシル基、lが3、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−410:東邦化学社製);
(14)R1がトリデシル基、lが6、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−610:東邦化学社製);
(18)R1がトリデシル基、lが10、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−710:東邦化学社製);
(32)R1がオクチルデシル基、lが2、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル(フォスファノールRL−310:東邦化学社製);
(50)R1がヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、及びデシル基の混合物であり、lが4であり、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物とのとの混合物である酸性リン酸エステル(フォスファノールRA−600:東邦化学社製);
(19a)R1がドデシル基、lが0、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステルであって、n=1の化合物の含有量(mol)がn=2の化合物の含有量(mol)より多い混合物である酸性リン酸エステル(フォスファノールML−200:東邦化学社製);
(21)R1がドデシル基、lが2、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル(フォスファノールML−220:東邦化学社製);
(23)R1がドデシル基、lが4、R3がエチレン基であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステル(フォスファノールML−240:東邦化学社製);
(19b)R1がドデシル基、lが0であり、n=1の化合物とn=2の化合物との混合物である酸性リン酸エステルであって、n=1の化合物の含有量(mol)とn=2の化合物の含有量(mol)とがほぼ等しい混合物である酸性リン酸エステル(フォスファノールGF−199:東邦化学社製);
等を例示できる。
本発明の硬化性樹脂組成物中の窒化アルミニウム粒子の含有量は特に限定されるものではない。ただし、硬化性樹脂組成物を硬化させて得られる高熱伝導性樹脂組成物の熱伝導率をより高める観点から、窒化アルミニウム粒子の含有量は、エポキシ樹脂、硬化剤、および酸性リン酸エステルの合計量100質量部に対して好ましくは50質量部以上であり、より好ましくは100質量部以上であり、最も好ましくは200質量部以上である。また硬化性樹脂組成物の粘度、流動性、及び作業性の観点からは、900質量部以下であることが好ましく、600質量部以下であることがより好ましい。
本発明の硬化性樹脂組成物は、必要に応じて上記以外の成分を含有してもよい。そのような成分としては、ヘキシルイソシアネート、オクチルイソシアネート、デシルイソシアネート、ドデシルイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等の単官能または多官能イソシアネート化合物;フェノール、アルコール、オキシム等のブロック剤により前記単官能または多官能イソシアネート化合物の末端を保護されたブロックイソシアネート化合物;カルボジイミド化合物;ウレタン化合物;アセチルアセトンアルミニウム等のルイス酸化合物を例示できる。これらの中でもルイス酸化合物は、本発明の硬化性樹脂組成物のポットライフ延長に有効である。これらの成分の添加量は、エポキシ樹脂100質量部に対して通常50質量部以下であり、好ましくは40質量部以下である。含有量が上記上限値を超える場合には、エポキシ樹脂の物性が低下し、例えば積層基板の接着強度が低下する等の虞がある。
本発明の第2の態様に係る硬化性樹脂組成物の製造方法について説明する。
本発明の硬化性樹脂組成物は、窒化アルミニウム粒子、エポキシ樹脂、硬化剤、および上記一般式(1)で表される酸性リン酸エステルを混合することにより、製造することができる。硬化性樹脂組成物の各成分を混合する順序は特に限定されるものではない。ただし、
(a)窒化アルミニウム粒子及び上記一般式(1)で表される酸性リン酸エステルのみを予め混合した後に、上記一般式(1)で表される酸性リン酸エステルを含まないその他の成分(エポキシ樹脂や硬化剤)との混合を行った場合;及び、
(b)窒化アルミニウム粒子を、上記一般式(1)で表される酸性リン酸エステルで表面処理された粒子とした後に、上記一般式(1)で表される酸性リン酸エステルを含まないその他の成分(エポキシ樹脂や硬化剤)との混合を行った場合
には、硬化後の樹脂組成物に高い熱伝導性を付与する効果が劣ったものとなる。よって上記(a)及び(b)以外の順序で混合を行うことが好ましい。この理由は完全に解明されてはいないものの、予め窒化アルミニウム粒子と酸性リン酸エステルとを接触させると、窒化アルミニウム粒子表面の酸性リン酸エステルの側鎖が収縮してしまい、窒化アルミニウム粒子とエポキシ樹脂との親和性が劣化するためであると考えられる。言い換えれば、上記(a)又は(b)の混合順序によって製造された硬化性樹脂組成物においては、「窒化アルミニウム粒子、エポキシ樹脂、硬化剤、および上記一般式(1)で表される酸性リン酸エステルが相互に混合されている」とはいえない。
工程S11の後、混合すべき全ての材料の混合が完了している場合(判断工程S12で肯定判断がなされた場合)には、製造方法S1は終了する。工程S11の後、混合すべき未混合の材料(例えばエポキシ樹脂の残部や硬化剤等。)が存在する場合(判断工程S12で否定判断がなされた場合)には、工程S11で得られた混合物と、当該混合すべき未混合の材料とを混合する(工程S13)。
工程S33を逐次的に行う場合には、図4のフローチャートS4に示すように、酸性リン酸エステルと、エポキシ樹脂の全量または一部とを混合し(工程S41);該工程S41で得られた混合物と、窒化アルミニウム粒子とを混合し(工程S42);該工程S42で得られた混合物と、エポキシ樹脂の残部とを混合し(工程S43);最後に、工程S43で得られた混合物と硬化剤(塩基性硬化剤)とを混合する(工程S44)、という順序を好ましく採用できる。
また、窒化アルミニウム粒子を混合する工程の後、すなわち図3のフローチャートS3においてはS32とS33との間、図4のフローチャートS4においてはS42とS43との間において、養生(aging)と呼ばれる加熱下での保存処理を行う態様も好ましく採用できる。養生工程における一般的な加熱温度は40〜100℃であり、一般的な加熱時間は1〜72時間である。
なお混合すべき成分がいずれも常温で固体である等の場合には、加温することにより溶融状態で混合してもよい。また固体成分を溶媒に溶解させた状態で混合してもよく、その後必要であれば溶媒を乾燥除去してもよい。
本発明の第3の態様に係る高熱伝導性樹脂組成物について説明する。
本発明の第1の態様に係る硬化性樹脂組成物を硬化させることにより、本発明の第3の態様に係る高熱伝導性樹脂組成物を得ることができる。エポキシ樹脂の硬化には、大別して加熱硬化と光等のエネルギー照射による光硬化との二種類があり、用途に応じて適宜選択することができる。ただし積層基板の製造においては加熱硬化が一般的である。加熱硬化の場合の加熱温度は通常120℃〜220℃であり、好ましくは140℃〜200℃である。
本発明の第4の態様に係る高熱伝導性積層基板について説明する。
本発明の第1の態様に係る硬化性樹脂組成物は、樹脂接着剤として用いることができる。例えば、図5に示すように、金属基板または高熱伝導性セラミックス基板1(以下、単に「基板1」と略記することがある。)と、回路形成のための金属箔2とを、本発明の硬化性樹脂組成物3を介して積層する。その後、硬化性樹脂組成物3を硬化させることにより、図6に示すように、金属箔2、硬化性樹脂組成物3の硬化体である高熱伝導性樹脂組成物層4、および、金属基板または高熱伝導性セラミックス基板1が上記順に積層されている、高熱伝導性積層基板10(以下、「積層基板10」と略記することがある。)を製造できる。
本発明の積層基板10における基板1が金属基板である場合、該金属基板としては、一般に放熱基板として使用される金属基板を特に制限なく用いることができる。好ましい金属基板の材質としては、銅、アルミニウム、銅−タングステン合金、銅−モリブデン合金、及び、SiCにアルミニウムを含浸させたAl−SiC等を例示できる。
本発明の積層基板10における基板1が高熱伝導性セラミックス基板である場合、該高熱伝導性セラミックス基板は、半導体素子からの発生する熱を放出するために十分な熱伝導率を有するセラミックス基板であり、好ましくは30W/m・K以上、より好ましくは70W/m・K以上の熱伝導率を有するセラミックス基板である。本発明において使用可能な高熱伝導性セラミックス基板の具体例としては、窒化アルミニウム基板、窒化珪素基板、アルミナ基板等を挙げることができる。中でも、特に高い放熱性を要求される場合には、窒化アルミニウム基板または窒化珪素基板を用いる事が特に好ましい。
本発明の積層基板10における金属箔2としては、金箔、銀箔、銅箔、アルミ箔など、公知の金属箔を特に制限なく採用できる。ただし、電気伝導率およびコストの観点から、銅箔が好適に使用される。銅箔の厚さは特に限定されないが、一般的には5〜105μm、好ましくは8〜35μmである。銅箔の製法は特に限定されないが、一般的に使用される銅箔は圧延銅箔または電解銅箔である。
本発明の積層基板10における高熱伝導性樹脂組成物層4の厚さは特に限定されるものではなく、絶縁性、接着力、耐久性等を考慮して当業者が適宜決定することができる。基板1が金属基板である場合には、高熱伝導性樹脂組成物層4に絶縁層としての特性が要求されるため、高熱伝導性樹脂組成物層4の厚さは通常20〜300μmであり、好ましくは40〜250μmであり、より好ましくは50〜200μmである。高熱伝導性樹脂組成物層4の厚さが上記下限値未満の場合、絶縁性が低下する虞がある。高熱伝導性樹脂組成物層4の厚さが上記上限値を超える場合、積層基板10の熱伝導率が低下する虞がある。一方、基板1が高熱伝導性セラミックス基板である場合には、界面での熱抵抗を低減する観点から、高熱伝導性樹脂組成物層4の厚さは好ましくは1〜20μmであり、より好ましくは2〜10μmである。
本発明における高熱伝導性積層基板10の熱伝導率は、金属箔2の厚さにより基板全体の熱伝導率が大きく変化するので、金属箔2のない状態で評価する事が望ましい。基板1及び高熱伝導性樹脂組成物層4からなる複合層5(図6参照。以下、単に「複合層5」と略記することがある。)の熱伝導率は、各層の熱伝導率及び厚さの関係を表す下記式(3):
d1:複合層5の厚さ
d2:高熱伝導性樹脂組成物層4の厚さ
d3:金属基板または高熱伝導性セラミックス基板1の厚さ
λ1:複合層5の熱伝導率
λ2:高熱伝導性樹脂組成物層4の熱伝導率
λ3:金属基板または高熱伝導性セラミックス基板1の熱伝導率
である。)
本発明の第5の態様に係る高熱伝導性積層基板の製造方法について説明する。
本発明の高熱伝導性積層基板10を製造するプロセスとしては、例えば金属ベース基板等の積層基板の製造プロセスとして公知のプロセスを特に制限なく採用することができる。具体的には、例えば図7のフローチャートS10に示すように、基板1の表面に本発明の硬化性樹脂組成物を塗布し(工程S101)、金属箔2と基板1とを圧着し(工程S102及び図5)、その後、加熱することによって硬化性樹脂組成物3からなる樹脂層を硬化させる(工程S103及び図6)、という方法を挙げることができる。
工程S101において、もし硬化性樹脂組成物の粘度が高い場合には、図8のフローチャートS11に示すように、溶媒に硬化性樹脂組成物を溶解した溶液を塗布することができる(工程S111)。その場合、硬化性樹脂組成物の溶液を塗布した後、金属箔2を圧着する前に溶媒を乾燥除去する(工程S112)。工程S112における加熱温度は硬化性樹脂組成物の組成により適宜決定することができる。ただし一般的には120℃〜220℃であり、好ましくは140℃〜200℃である。その後は上記製造方法S10同様に、金属箔2と基板1とを圧着し(工程S113及び図5)、加熱することによって硬化性樹脂組成物3からなる樹脂層を硬化させる(工程S114及び図6)ことにより、高熱伝導性積層基板10を製造することができる。
また、これらの接着促進成分を硬化性樹脂組成物に含有させる代わりに、該接着促進成分を基板1の表面、および/または、金属箔2の表面に塗布し、その後に該接着促進成分と硬化性樹脂組成物とを接触させてもよい。例えば図10のフローチャートS13に示すように、接着促進成分を溶媒で希釈することによってプライマー溶液を調製し(工程S131)、該プライマー溶液をスプレー、スピン、ディッピング等により基板1の表面および/または金属箔2の表面に塗布し(工程S132)、塗布したプライマー溶液を乾燥させて溶媒を除去する(工程S133)。その後、基板1の表面または金属箔2の表面に本発明の硬化性樹脂組成物を塗布することにより硬化性樹脂組成物3の層を形成し(工程S134)、金属箔2を基板1に圧着し(工程S135)、加熱することによって硬化性樹脂組成物3の層を硬化させる(工程S136)ことにより、本発明の高熱伝導性積層基板10を製造できる。なおプライマー溶液は溶媒および接着促進成分の他に、エポキシ樹脂や硬化剤を含んでいてもよい。
特に、基板1がアルミニウム基板、アルミナ基板または窒化アルミニウム基板である場合には、接着促進成分として有機酸性リン酸エステル化合物またはホスホン酸化合物を用い、そのプライマー溶液を基板1の表面に塗布することが好ましい。
(1)硬化性樹脂組成物の粘度
得られた硬化性樹脂組成物について、動的粘弾性測定装置(STRESS TECH:セイコー電子工業社製)を用い、直径20mmのパラレルプレート、ギャップ幅1.00mm、測定温度25℃、周波数=0.1Hz、定常応力=1000Paにて、測定開始から120秒後の粘度を求めた。
得られた硬化性樹脂組成物をトルエンまたは2−メトキシエタノールにて適度な粘度に希釈後、バーコーター(PI−1210:テスター産業社製)を用いて離型PETフィルム上に製膜し、180℃での硬化後、PETフィルムを剥がした。硬化後の膜の厚さは約200〜300μmであった。これら試料の熱伝導率を迅速熱伝導率計(QTM−500:京都電子工業社製)にて測定した。レファレンスには、厚さ2cm、長さ15cm、幅6cmの、石英ガラス、シリコーンゴム、及びジルコニアを用いた。
得られた高熱伝導性積層基板を切断し、走査型電子顕微鏡(JSM−5300:JEOL社製)を用いて倍率100倍、500倍、又は2000倍にて断面の観察を行い、同一視野中で等間隔に採った10点で高熱伝導性樹脂組成物層の厚さを測定し、その相加平均を高熱伝導性樹脂組成物の厚さとした。なお、高熱伝導性樹脂組成物層の厚さが100μm以上の試料を倍率100倍にて測定し、高熱伝導性樹脂組成物層の厚さが10μm以上100μm未満の試料を倍率500倍にて測定し、高熱伝導性樹脂組成物層の厚さが10μm未満の試料を倍率2000倍にて測定した。
得られた高熱伝導性積層基板の銅箔表面にニッケルメッキ、及び続けて金メッキを行った後、表面にニッケルメッキを施したφ1.1mmの42アロイネイルヘッドピンを上記金メッキの表面にPb−Snハンダにてハンダ付けし、該ネイルヘッドピンを10mm/分の速度で垂直方向に引っ張り、該ネイルヘッドピンが剥がれた時の最大引っ張り強さを接合強度(MPa)とした。
得られた高熱伝導性積層基板を温度20℃、湿度85%の雰囲気中で24時間コンディショニングした後、基板の厚さ方向に1kVの交流電圧を1分間印加した。このとき絶縁層が破壊されたものを不合格、そうでなかったものを合格とした。
本発明の第1の態様に係る硬化性樹脂組成物を製造した実施例、及び、硬化性樹脂組成物の製造を試みた比較例である。
(実施例1)
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(JER1004:三菱化学社製)5g、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(YDCN703:東都化成社製)5g、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト(2PZCN−PW:四国化成社製)0.2g、酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−410:東邦化学社製)0.1gを混合して均一溶液とした。この溶液におよび窒化アルミニウム粒子(グレードH、BET比表面積2.6m2/g:トクヤマ社製)35gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)2gに酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−610:東邦化学社製)0.3gを溶解し、窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)45gと混練した。この混合物に、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)8gと2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2gの均一混合物を加え、更に混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールRA−600:東邦化学社製)0.2gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)40gを加えて混練した。
窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)1kg、酸性リン酸エステル(フォスファノールRA−600:東邦化学社製)5gおよび水1kgを加熱して均一溶液とした後、超音波分散機(GSD600HAT:ギンセン社製)にて流量0.5L/分にて3回処理を行なった後、スプレードライヤー(R−100、プリス社製)にて入り口温度200℃にて乾燥後、80℃にて15時間真空乾燥した。得られた粒子を耐水性窒化アルミニウム粒子Cとした。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EXA−4850−150:DIC社製)1gに酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−710:東邦化学社製)0.35gを溶解し、窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)20gおよび球状アルミナ粒子(DAW−45、BET比表面積0.2m2/g:電気化学社製)30gと混練した。この混合物にビスフェノールA型エポキシ樹脂(EXA−4850−150:DIC社製)9gと2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2gの均一混合物を加え、更に混練した。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EXA−4850−150:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールRA−600:東邦化学社製)0.25gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)25gを加えて混練した。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EXA−4850−150:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールRA−600:東邦化学社製)0.25gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードF、BET比表面積3.4m2/g:トクヤマ社製)30gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)7.7g、ポリアミン硬化剤(JERキュア113:三菱化学社製)2.3g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールGF−199:東邦化学社製)0.3gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードUM、BET比表面積1.1m2/g:東洋アルミニウム社製)35gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)5g、酸無水物(B−570:DIC社製)5g、促進剤としてN,N−ジメチルベンジルアミン(和光純薬社製)0.8g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールML−200:東邦化学社製)0.1gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードJD、BET比表面積2.2m2/g:東洋アルミニウム社製)40gを加えて混練した。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(EXA−4850−150:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールML−200:東邦化学社製)0.1gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードJD:東洋アルミニウム社製)30g並びに窒化ホウ素(HCPL、BET比表面積7m2/g:モメンティブ社製)を加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、酸無水物(B−570:DIC社製)5g、促進剤としてN,N−ジメチルベンジルアミン(和光純薬社製)0.8g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールBH−650:東邦化学社製)0.1gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードJD:東洋アルミニウム社製)40gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、オクチルイソシアネート(和光純薬社製)0.5g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−610:東邦化学社製)0.22gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)30gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)8g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、カルボジイミド(カルボジライトV−05:日清紡社製)2g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−610:東邦化学社製)0.25gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)40gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、アセチルアセトンアルミニウム(東京化成社製)0.1g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−610:東邦化学社製)0.22gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)40gを加えて混練した。
実施例2及び13の硬化性樹脂組成物を40℃にて48時間放置し、保存安定性の加速試験を行ったところ、実施例2の硬化性樹脂組成物は硬化したが、実施例13の硬化性樹脂組成物は硬化しなかった。この原因は明らかではないが、おそらく窒化アルミニウム表面に強力なルイス塩基点が存在し、エポキシ樹脂の安定性に負の影響を与えていたために実施例2の硬化性樹脂組成物は硬化したが、実施例13の硬化性樹脂組成物においては、この塩基点がルイス酸であるアセチルアセトンアルミニウムにより中和されたため硬化しなかったと推察している。
窒化アルミニウム粒子(粒子径1.1μm、BET比表面積1.6m2:トクヤマ社試作品)1kg、リン酸アルミニウム溶液(100L、Al2O3/8.5%、P2O5/33.0%:多木化学社製)4.0g、ラウリルリン酸エステル(ML−200:東邦化学社製)3.0gおよび水1kgを加熱して均一溶液とした後、超音波分散機(GSD600HAT:ギンセン社製)にて流量0.5L/分にて3回処理を行なった後、スプレードライヤー(R−100、プリス社製)にて入り口温度200℃にて乾燥後、80℃にて15時間真空乾燥した。得られた粒子を窒化アルミニウム粒子Aとした。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)2gに酸性リン酸エステル(フォスファノールRA−600:東邦化学社製)0.25gを溶解し、窒化アルミニウム粒子A45gと混練した。この混合物にビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)8gと2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2gの均一溶液を加え、更に混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)2gに酸性リン酸エステル(フォスファノールRA−600:東邦化学社製)0.25gを溶解し、窒化アルミニウム粒子A30g並びに窒化アルミニウム粒子B20gと混練した。この混合物を40℃にて8時間保存後、ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)8gと2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2gの均一混合物を加え、更に混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−610:東邦化学社製)0.07gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社試作品)30gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−610:東邦化学社製)0.03gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)25g並びにアルミナ粒子(AKP−20、BET比表面積5m2/g:住友化学社製)25gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−610:東邦化学社製)0.03gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)12g並びに窒化ホウ素粒子(HCPL、BET比表面積7m2/g、モメンティブ社製)を加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性リン酸エステル(BYK−W9010:ビックケミー・ジャパン社製)0.25gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)40gを加えて混練した。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(JER1004:三菱化学社製)5g、o−クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(YDCN703:東都化成社製)5g、および1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト(2PZCN−PW:四国化成社製)0.2gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)35gを加えて練和した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性リン酸エステル(モノイソプロピルリン酸とジイソプロピルリン酸の混合物、A−3:SC有機化学社製)0.25gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)40gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、およびラウリン酸(東京化成社製)0.25gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)40gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、およびテトラエチレングリコールラウリルエーテル(ペグノールL−4:東邦化学社製)0.25gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)40gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−610:東邦化学社製)0.25gを混合して均一溶液とした。この溶液にアルミナ粒子(AKP−20、BET比表面積5m2/g:住友化学社製)40gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、およびエチルカルビトール(東京化成社製)0.25gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)40gを加えて混練した。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性基を持たないリン酸エステル(〔(CH3)2C6H3O〕2P(O)OC6H4OP(O)〔OC6H3(CH3)2〕2、PX−200:大八化学社製)0.03gを混合して均一溶液とした。この溶液に窒化アルミニウム粒子(グレードH:トクヤマ社製)12g並びに窒化ホウ素粒子(HCPL、BET比表面積7m2/gモメンティブ社製)を加えて混練した。
本発明の第4の態様に係る高熱伝導性積層基板を製造した実施例、及び、高熱伝導性積層基板の製造を試みた比較例である。
(実施例21)
厚さ18μmの電解銅箔(JTC:JX日鉱日石金属社製)に実施例9の硬化性樹脂組成物を薄く塗布し、その塗布面にアルミニウム基板(A1050、厚さ1mm、熱伝導率225W/m・K:大河内金属社製)を置いた後、180℃にて3時間真空プレスして高熱伝導性積層基板を得た。
ビスフェノールF型エポキシ樹脂(EXA−830CRP:DIC社製)10g、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ:四国化成社製)0.2g、および酸性リン酸エステル(フォスファノールRS−610:東邦化学社製)10gおよびトルエン100gを混合してプライマー溶液とした。アルミニウム基板(A1050、厚さ1mm:大河内金属社製)にこのプライマー溶液をスピンコートした後、120℃にて1時間乾燥した。厚さ35μmの圧延銅箔(HPF−ST35−X:日立電線社製)に実施例14の硬化性樹脂組成物を薄く塗布し、その面に上記アルミニウム基板のプライマー塗布面を置いた後、180℃にて3時間真空プレスして高熱伝導性積層基板を得た。
厚さ12μmの電解銅箔(JTC:JX日鉱日石金属社製)に実施例16の硬化性樹脂組成物を薄く塗布し、その塗布面にアルミニウム基板(A1050、厚さ0.5mm:大河内金属社製)を置いた後、180℃にて3時間真空プレスして高熱伝導性積層基板を得た。
厚さ12μmの電解銅箔(JTC:JX日鉱日石金属社製)に実施例3の硬化性樹脂組成物を薄く塗布し、その塗布面に窒化アルミニウム基板(厚さ0.64mm、熱伝導率170W/m・K:TDパワーマテリアル社製)を置いた後、180℃にて3時間真空プレスして高熱伝導性積層基板を得た。
厚さ9μmの電解銅箔(JTC:JX日鉱日石金属社製)に実施例8の硬化性樹脂組成物を薄く塗布し、その塗布面に窒化アルミニウム基板(厚さ1mm:TDパワーマテリアル社製)を置いた後、180℃にて3時間真空プレスして高熱伝導性積層基板を得た。
厚さ18μmの電解銅箔(JTC:JX日鉱日石金属社製)に実施例13の硬化性樹脂組成物を薄く塗布し、その塗布面に窒化アルミニウム基板(厚さ1mm:TDパワーマテリアル社製)を置いた後、180℃にて3時間真空プレスして高熱伝導性積層基板を得た。
厚さ18μmの電解銅箔(JTC:JX日鉱日石金属社製)に実施例14の硬化性樹脂組成物を薄く塗布し、その塗布面にアルミニウム基板(A1050、厚さ1mm:大河内金属社製)を置いた後、180℃にて3時間真空プレスして高熱伝導性積層基板を得た。
厚さ18μmの電解銅箔(JTC:JX日鉱日石金属社製)に実施例4の硬化性樹脂組成物を薄く塗布し、その塗布面に窒化アルミニウム基板(厚さ1mm:TDパワーマテリアル社製)を置いた後、180℃にて3時間真空プレスして高熱伝導性積層基板を得た。
厚さ18μmの電解銅箔(JTC:JX日鉱日石金属社製)に比較例5の硬化性樹脂組成物を薄く塗布し、その塗布面にアルミニウム基板(A1050、厚さ1mm:大河内金属社製)を置いた後、180℃にて3時間真空プレスして積層基板を得た。
厚さ35μmの電解銅箔(JTC:JX日鉱日石金属社製)に比較例5の硬化性樹脂組成物を薄く塗布し、その塗布面に窒化アルミニウム基板(厚さ1mm:TDパワーマテリアル社製)を置いた後、180℃にて3時間真空プレスして積層基板を得た。
厚さ12μmの電解銅箔(JTC:JX日鉱日石金属社製)に比較例4の硬化性樹脂組成物を薄く塗布し、その塗布面に窒化アルミニウム基板(厚さ1mm:TDパワーマテリアル社製)を置いた後、180℃にて3時間真空プレスして積層基板を得た。
2 金属箔
3 硬化性樹脂組成物
4 高熱伝導性樹脂組成物層
5 複合層
10 高熱伝導性積層基板 (積層基板)
Claims (8)
- 窒化アルミニウム粒子、
エポキシ樹脂、
硬化剤、および
下記一般式(2)で表される酸性リン酸エステル
を含有する硬化性樹脂組成物であって、
該硬化性樹脂組成物においては、前記窒化アルミニウム粒子、前記エポキシ樹脂、前記硬化剤、および下記一般式(2)で表される酸性リン酸エステルが相互に混合されている(ただし、(a)前記窒化アルミニウム粒子及び前記酸性リン酸エステルのみを予め混合した後に、前記酸性リン酸エステルを含まないその他の成分との混合を行った場合;並びに、(b)前記窒化アルミニウム粒子を、前記酸性リン酸エステルで表面処理された粒子とした後に、前記酸性リン酸エステルを含まないその他の成分との混合を行った場合を除く。)ことを特徴とする、硬化性樹脂組成物。
R1:炭素数4〜20の飽和または不飽和ヒドロカルビル基
R3:炭素数2または3の飽和ヒドロカルビレン基
l:0〜20の整数
n:1または2
であって、
R1が複数存在する場合には、複数のR1は同一でも異なっていてもよく、
R3が複数存在する場合には、複数のR3は同一でも異なっていてもよい。) - 窒化アルミニウム粒子、エポキシ樹脂、硬化剤、および下記一般式(2)で表される酸性リン酸エステルを相互に混合する工程(ただし、(a)前記窒化アルミニウム粒子及び前記酸性リン酸エステルのみを予め混合した後に、前記酸性リン酸エステルを含まないその他の成分との混合を行う場合;並びに、(b)前記窒化アルミニウム粒子を、前記酸性リン酸エステルで表面処理された粒子とした後に、前記酸性リン酸エステルを含まないその他の成分との混合を行う場合を除く。)を有することを特徴とする、硬化性樹脂組成物の製造方法。
R1:炭素数4〜20の飽和または不飽和ヒドロカルビル基
R3:炭素数2または3の飽和ヒドロカルビレン基
l:0〜20の整数
n:1または2
であって、
R1が複数存在する場合には、複数のR1は同一でも異なっていてもよく、
R3が複数存在する場合には、複数のR3は同一でも異なっていてもよい。) - 前記混合する工程が、
前記窒化アルミニウム粒子を、前記エポキシ樹脂の全部又は一部と前記酸性リン酸エステルとを含む混合物と混合する工程
を有する、請求項2に記載の硬化性樹脂組成物の製造方法。 - 前記混合する工程が、
(i)前記酸性リン酸エステルと前記エポキシ樹脂とを混合する工程、及び、
(ii)前記(i)の工程で得られた混合物と、前記窒化アルミニウム粒子と、前記硬化剤とを混合する工程
を有する、請求項2又は3に記載の硬化性樹脂組成物の製造方法。 - 前記混合する工程が、
(i)前記酸性リン酸エステルと、前記エポキシ樹脂の一部とを混合する工程、
(ii)前記(i)の工程で得られた混合物と、前記窒化アルミニウム粒子とを混合する工程、及び、
(iii)前記(ii)の工程で得られた混合物と、前記エポキシ樹脂の残部と、前記硬化剤とを混合する工程
を有し、
前記硬化剤が塩基性硬化剤である、
請求項2又は3に記載の硬化性樹脂組成物の製造方法。 - 請求項1に記載の硬化性樹脂組成物を硬化させることにより得られる、高熱伝導性樹脂組成物。
- 金属箔、
請求項6に記載の高熱伝導性樹脂組成物、および
金属基板または高熱伝導性セラミックス基板
が上記順に積層されている、高熱伝導性積層基板。 - 金属箔と、金属基板または高熱伝導性セラミックス基板とを、請求項1に記載の硬化性樹脂組成物を介して積層する工程と、
該硬化性樹脂組成物を硬化させる工程と
を上記順に有することを特徴とする、高熱伝導性積層基板の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012081300 | 2012-03-30 | ||
JP2012081300 | 2012-03-30 | ||
PCT/JP2013/059384 WO2013147086A1 (ja) | 2012-03-30 | 2013-03-28 | 硬化性樹脂組成物及びその製造方法、高熱伝導性樹脂組成物及び高熱伝導性積層基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2013147086A1 JPWO2013147086A1 (ja) | 2015-12-14 |
JP6192635B2 true JP6192635B2 (ja) | 2017-09-06 |
Family
ID=49260329
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014508061A Active JP6192635B2 (ja) | 2012-03-30 | 2013-03-28 | 硬化性樹脂組成物及びその製造方法、高熱伝導性樹脂組成物及び高熱伝導性積層基板 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20150079401A1 (ja) |
EP (1) | EP2832792A4 (ja) |
JP (1) | JP6192635B2 (ja) |
KR (1) | KR20140148372A (ja) |
CN (1) | CN104204084B (ja) |
TW (1) | TWI572635B (ja) |
WO (1) | WO2013147086A1 (ja) |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2957601A4 (en) * | 2013-02-13 | 2016-09-21 | Tokuyama Corp | RESIN COMPOSITION AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, AND HIGHLY CONDUCTIVE RESIN MOLDED MOLDED ARTICLE |
TWI468482B (zh) * | 2013-06-19 | 2015-01-11 | Polytronics Technology Corp | 黏合材料 |
JP6161464B2 (ja) * | 2013-08-08 | 2017-07-12 | 株式会社Adeka | 一液型硬化性樹脂組成物 |
JP6169466B2 (ja) * | 2013-10-04 | 2017-07-26 | 株式会社トクヤマ | 表面修飾粒子 |
JP2015229763A (ja) * | 2014-06-06 | 2015-12-21 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 樹脂組成物、プリプレグ、金属張積層板、プリント配線板 |
CN104198079A (zh) * | 2014-07-30 | 2014-12-10 | 肇庆爱晟电子科技有限公司 | 一种高精度高可靠快速响应热敏芯片及其制作方法 |
JP6789495B2 (ja) * | 2015-10-07 | 2020-11-25 | 昭和電工マテリアルズ株式会社 | アンダーフィル用樹脂組成物、電子部品装置及び電子部品装置の製造方法 |
WO2017131005A1 (ja) * | 2016-01-26 | 2017-08-03 | 富士フイルム株式会社 | 表面修飾無機物およびその製造方法、樹脂組成物、熱伝導材料、ならびにデバイス |
JP6815914B2 (ja) * | 2017-03-24 | 2021-01-20 | トヨタ自動車株式会社 | 金属積層構造体 |
US10943631B2 (en) * | 2017-09-04 | 2021-03-09 | Tdk Corporation | Spin current magnetization reversing element, magnetoresistance effect element, magnetic memory, and magnetic device |
WO2019068529A1 (en) * | 2017-10-06 | 2019-04-11 | Basf Se | DISPERSIBLE POLYISOCYANATES IN WATER |
JP7304161B2 (ja) * | 2019-01-23 | 2023-07-06 | デンカ株式会社 | 絶縁性樹脂組成物、絶縁性樹脂硬化体、積層体及び回路基板 |
CN113348193B (zh) * | 2019-02-01 | 2023-08-18 | 富士胶片株式会社 | 导热材料形成用组合物、导热材料 |
CN114364738A (zh) * | 2019-11-08 | 2022-04-15 | 电化株式会社 | 绝缘性树脂组合物、绝缘性树脂固化物、层合体及电路基板 |
WO2021090630A1 (ja) * | 2019-11-08 | 2021-05-14 | デンカ株式会社 | 絶縁性樹脂組成物、絶縁性樹脂硬化体、積層体及び回路基板 |
KR20210108221A (ko) * | 2020-02-25 | 2021-09-02 | 현대자동차주식회사 | 양면 냉각형 파워모듈 |
KR102295682B1 (ko) * | 2021-04-14 | 2021-08-30 | 레이져라이팅(주) | 질화알루미늄을 포함하는 방열 도료 조성물 및 이를 이용한 엘이디(led) 조명등기구 |
Family Cites Families (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1169352A (en) * | 1965-10-13 | 1969-11-05 | Laporte Titanium Ltd | Improvements in and relating to the Treatment of Pigments |
US4111909A (en) * | 1977-04-11 | 1978-09-05 | Celanese Polymer Specialties Company | Controlled reactivity epoxy resin compositions |
US4123420A (en) * | 1977-10-28 | 1978-10-31 | Unitika Ltd. | Aromatic copolyester composition containing phosphorus compounds |
DE2946549A1 (de) * | 1979-11-17 | 1981-05-27 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Neuartige tio(pfeil abwaerts)2(pfeil abwaerts) -pigmente mit guter dispergierbarkeit, verfahren zu ihrer herstellung un verwendung |
JPS61194091A (ja) * | 1985-02-21 | 1986-08-28 | Dainichi Seika Kogyo Kk | リン酸エステル系顔料分散剤 |
GB8521131D0 (en) * | 1985-08-23 | 1985-10-02 | English Clays Lovering Pochin | Aqueous suspensions of mixtures |
JPH09181423A (ja) | 1990-04-16 | 1997-07-11 | Denki Kagaku Kogyo Kk | セラミックス回路基板 |
JPH06172618A (ja) * | 1992-12-10 | 1994-06-21 | Denki Kagaku Kogyo Kk | エポキシ樹脂組成物及びプリント基板 |
JP2754322B2 (ja) * | 1993-10-01 | 1998-05-20 | 竹本油脂株式会社 | ポリマーモルタル又はポリマーコンクリートへの流動性付与方法 |
JP3312723B2 (ja) | 1996-10-09 | 2002-08-12 | 松下電器産業株式会社 | 熱伝導シート状物とその製造方法及びそれを用いた熱伝導基板とその製造方法 |
JP3190282B2 (ja) | 1997-04-02 | 2001-07-23 | 電気化学工業株式会社 | 回路基板の製造方法 |
JP3850098B2 (ja) * | 1997-05-08 | 2006-11-29 | 住友ベークライト株式会社 | エポキシ樹脂組成物 |
JPH10330626A (ja) * | 1997-06-03 | 1998-12-15 | Teijin Seiki Co Ltd | 光造形用樹脂組成物 |
JP3714506B2 (ja) * | 1997-06-17 | 2005-11-09 | 三井化学株式会社 | 優れた耐水性を有する高熱伝導性樹脂組成物 |
FR2780409B1 (fr) * | 1998-06-30 | 2001-07-13 | Omya Sa | Procede pour traiter une charge minerale par un phosphate, charge minerale ainsi traitee, mousses de polyurethanne et polyurethannes composites utilisant cette charge, objets moules ou non les contenant |
US6248204B1 (en) * | 1999-05-14 | 2001-06-19 | Loctite Corporation | Two part, reinforced, room temperature curable thermosetting epoxy resin compositions with improved adhesive strength and fracture toughness |
JP2002322372A (ja) * | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Denki Kagaku Kogyo Kk | 樹脂組成物およびそれを用いた金属ベース回路基板 |
DE60214093T2 (de) * | 2001-07-12 | 2007-10-04 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Epoxidharzzusammensetzung, daraus hergestellter gehärteter Gegenstand, neues Epoxidharz, neue Phenolverbindung, und Verfahren zu deren Herstellung |
JP3751271B2 (ja) * | 2002-08-15 | 2006-03-01 | 電気化学工業株式会社 | 回路基板用樹脂組成物とそれを用いた金属ベース回路基板 |
KR100702566B1 (ko) * | 2003-04-07 | 2007-04-04 | 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 | 밀봉용 에폭시 수지 성형 재료 및 반도체 장치 |
KR101197524B1 (ko) * | 2004-02-27 | 2012-11-09 | 도레이 카부시키가이샤 | 탄소섬유강화 복합재료용 에폭시수지 조성물, 프리프레그,일체화 성형품, 섬유강화 복합재료판, 및 전기/전자기기용케이싱 |
JP2005320479A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Kyocera Chemical Corp | 液状エポキシ樹脂組成物 |
JP4391326B2 (ja) | 2004-06-18 | 2009-12-24 | パナソニック株式会社 | 熱硬化性樹脂シートの切断加工方法 |
JP4017645B2 (ja) * | 2005-12-22 | 2007-12-05 | 横浜ゴム株式会社 | 湿気硬化性樹脂組成物 |
JP5040247B2 (ja) * | 2006-10-06 | 2012-10-03 | 東レ株式会社 | 半導体用接着組成物、それを用いた半導体装置および半導体装置の製造方法 |
WO2008105480A1 (ja) * | 2007-03-01 | 2008-09-04 | Ajinomoto Co., Inc. | 金属膜転写用フィルム、金属膜の転写方法及び回路基板の製造方法 |
JP5229787B2 (ja) * | 2008-01-15 | 2013-07-03 | 株式会社明電舎 | 絶縁性高分子材料組成物 |
TWI350716B (en) * | 2008-12-29 | 2011-10-11 | Nanya Plastics Corp | High thermal conductivity, halogen-free flame-retardent resin composition and its pre-impregnated and coating materials for printed circuit boards |
JP5792054B2 (ja) * | 2011-12-27 | 2015-10-07 | 株式会社ダイセル | 硬化性組成物及びその硬化物 |
-
2013
- 2013-03-28 US US14/387,494 patent/US20150079401A1/en not_active Abandoned
- 2013-03-28 WO PCT/JP2013/059384 patent/WO2013147086A1/ja active Application Filing
- 2013-03-28 EP EP13767287.9A patent/EP2832792A4/en not_active Withdrawn
- 2013-03-28 JP JP2014508061A patent/JP6192635B2/ja active Active
- 2013-03-28 KR KR20147023817A patent/KR20140148372A/ko not_active Application Discontinuation
- 2013-03-28 CN CN201380017342.8A patent/CN104204084B/zh active Active
- 2013-03-29 TW TW102111556A patent/TWI572635B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPWO2013147086A1 (ja) | 2015-12-14 |
CN104204084B (zh) | 2016-11-16 |
WO2013147086A1 (ja) | 2013-10-03 |
KR20140148372A (ko) | 2014-12-31 |
EP2832792A1 (en) | 2015-02-04 |
EP2832792A4 (en) | 2015-11-18 |
TW201343709A (zh) | 2013-11-01 |
CN104204084A (zh) | 2014-12-10 |
TWI572635B (zh) | 2017-03-01 |
US20150079401A1 (en) | 2015-03-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6192635B2 (ja) | 硬化性樹脂組成物及びその製造方法、高熱伝導性樹脂組成物及び高熱伝導性積層基板 | |
KR102051272B1 (ko) | 다층 수지 시트, 수지 시트 적층체, 다층 수지 시트 경화물 및 그 제조 방법, 금속박이 형성된 다층 수지 시트, 그리고 반도체 장치 | |
CN107406742B (zh) | 膜状接合剂用组合物、膜状接合剂及制造方法、使用膜状接合剂的半导体封装及制造方法 | |
JP2018138634A (ja) | 樹脂組成物および該樹脂組成物を用いた半導体装置 | |
WO2017014238A1 (ja) | 熱伝導性樹脂組成物、熱伝導性シートおよび半導体装置 | |
WO2016060088A1 (ja) | 半導体デバイス用層間充填剤組成物及び半導体デバイスの製造法 | |
CN105960709B (zh) | 导热片和半导体装置 | |
JP2016027142A (ja) | 熱伝導性シート、熱伝導性シートの硬化物および半導体装置 | |
JP5622267B2 (ja) | 接着剤樹脂組成物、その硬化物、及び接着剤フィルム | |
JP6508384B2 (ja) | 熱伝導性シートおよび半導体装置 | |
JP2018039992A (ja) | 樹脂組成物および該樹脂組成物を用いた三次元積層型半導体装置 | |
CN106133900B (zh) | 导热片和半导体装置 | |
JP2012216836A (ja) | 三次元集積回路積層体 | |
JP2013038094A (ja) | 銅箔付き熱伝導性絶縁基板 | |
JP2012216837A (ja) | 三次元集積回路積層体 | |
JP6281663B2 (ja) | パワーモジュール用基板、パワーモジュール用回路基板およびパワーモジュール | |
JP2005281509A (ja) | 硬化性樹脂組成物及びそれを用いた金属ベース回路基板 | |
TW202142596A (zh) | 絕緣膜、金屬基材基板及金屬基材基板之製造方法 | |
JP2012212864A (ja) | 接続構造体の製造方法及び接続構造体 | |
TW202033708A (zh) | 半導體用接著劑、半導體裝置的製造方法及半導體裝置 | |
WO2016056655A1 (ja) | 半導体デバイスの製造法 | |
KR102403966B1 (ko) | 고방열 igbt 전력 반도체 패키지 및 제조 방법 | |
WO2022176448A1 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物、パワーモジュール用基板およびパワーモジュール | |
WO2023002789A1 (ja) | 熱硬化性樹脂組成物、パワーモジュール用基板、プリント配線基板および放熱シート | |
JP2020167408A (ja) | ヒートシンク付き絶縁回路基板の製造方法、及び、絶縁回路基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160105 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161101 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170523 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170712 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170801 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170808 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6192635 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |